JPH08315431A - 光ディスク原盤の現像方法及び現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 内外周における現像むらを生じにくく、均質
性の高いプリフォーマットパターンを形成可能な光ディ
スク原盤の現像装置及び現像方法を提供する。 【構成】 光ディスク原盤１の回転部１１と、光ディス
ク原盤１のフォトレジスト層２に現像液を供給する現像
液供給ノズル１４と、現像後のフォトレジスト層を洗浄
する純水供給ノズル１５とから光ディスク原盤の現像装
置を構成する。現像液供給ノズルは、軸線方向に複数個
のノズル孔１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・・・・が開
設された筒状に形成され、いる。前記回転部の上方に旋
回可能に配置される。現像時、この現像液供給ノズル
を、光ディスク原盤と平行な平面内で、光ディスク原盤
の回転中心を通る直線に対して傾斜して配置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、露光済みの光ディスク
原盤を現像して、光ディスクに転写される微細な凹凸状
のプリフォーマットパターンを形成する光ディスク原盤
の現像装置及び現像方法に係り、特に、現像液供給ノズ
ルの構成及び配置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク基板は、光ディスク原盤より
複製される。光ディスク原盤は、平滑なガラス板上にフ
ォトレジスト層を形成したものであって、原盤露光装置
に装着され、プリフォーマット信号で強度変調されたレ
ーザビームがフォトレジスト層に照射されて、露光済み
原盤となる。次いで、この露光済み原盤に現像処理が施
され、露光部分が選択的に除去されて、光ディスクに形
成しようとする凹凸状のプリフォーマットパターンを有
する現像済み原盤となる。光ディスク基板は、この現像
済み原盤から作製されるスタンパと呼称される金型をマ
スタとして複製される。

【０００３】従来より、露光済み原盤の現像装置として
は、図３及び図４に示すように、光ディスク原盤１の回
転部１１と、該回転部１１の上方に旋回可能に配置さ
れ、軸線方向に配列された複数個のノズル孔１２ａ，１
２ｂ，１２ｃ，・・・・・から現像液１３を光ディスク
原盤１のフォトレジスト層２に向けて吐出する筒状の現
像液供給ノズル１４と、同じく前記回転部１１の上方に
旋回可能に配置され、純水をフォトレジスト層２に向け
て吐出する純水供給ノズル１５と、回転部１１の周囲の
設けられた排水受け１６とを備えたものが用いられてい
る。回転部１１は、露光済み原盤１を載置するターンテ
ーブル２１と、ターンテーブル２１を回転駆動するモー
タ２２と、露光済み原盤１をターンテーブル２１に吸着
するための真空吸引装置２３とからなる。

【０００４】現像液供給ノズル１４は、図３に示すよう
に、回転部１１に取り付けられた露光済み原盤１と平行
に配置されており、露光済み原盤１と対向する部分に複
数個のノズル孔１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・・・が
開設されている。一方、純水供給ノズル１５としては、
現像液供給ノズル１４と同様に、筒状に形成され、その
軸線方向の露光済み原盤１と対向する部分に複数個のノ
ズル孔が開設されたものが好ましいが、必ずしもかかる
構造のものに限定されるものではなく、必要とする水量
の純水を、フォトレジスト層２に向けて吐出できれば足
りる。

【０００５】露光済み原盤１の現像処理に際しては、ま
ず、現像液供給ノズル１４及び純水供給ノズル１５を退
避した状態で、フォトレジスト層２を上向きにして、タ
ーンテーブル２１上に露光済み原盤１を装着する。次い
で、現像液供給ノズル１４を退避位置から旋回し、図４
に示すように、現像液供給ノズル１４の軸線方向を、露
光済み原盤１の回転中心Ｏを通る直線Ｌ−Ｌ´に合致さ
せる。モータ２２を起動し、回転数が安定した段階で、
ノズル孔１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・・・よりフォ
トレジスト層２に向けて現像液１３を吐出し、フォトレ
ジスト層２の全面に現像液１３を広げて、フォトレジス
ト層２を現像する。現像終了後は、現像液供給ノズル１
４を原位置に退避させると共に、純水供給ノズル１５を
退避位置から露光済み原盤１の上方位置まで旋回する。
そして、純水供給ノズル１５のノズル孔よりフォトレジ
スト層２に向けて純水を吐出し、現像済み原盤１を水洗
する。水洗終了後、モータ２２の回転数を上昇してフォ
トレジスト層２に付着した純水を振り切り、所望とする
現像済み原盤１を得る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが、前記の装置
及び方法で露光済み原盤の現像処理を行うと、露光済み
原盤１の内周部では現像が速やかに行われるが、外周部
に至るにしたがって現像の進行が緩慢になり、内外周で
現像を一様に進行させることが困難である。このため、
内周部における現像度を基準として現像液の供給を停止
すると、外周部が現像不足となって、設計値よりも寸法
（大きさ及び深さ）が小さなプリフォーマットパターン
が形成され、反対に、外周部における現像度を基準とし
て現像処理を終了すると、内周部が現像過多となって、
設計値よりも寸法が大きなプリフォーマットパターンが
形成される。

【０００７】光ディスクからの再生信号レベルは、再生
用光の強度及び光スポットの大きさが一定の場合、プリ
フォーマットパターンの寸法に応じて変動するので、現
像むらによって内外周に均質性の高いプリフォーマット
パターンを形成できないと、再生信号レベルの変動が大
きくなって、再生エラーが生じやすくなるため、回路構
成が複雑な記録再生装置が必要になる等の不都合を生じ
る。

【０００８】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたものであって、その目的は、内外周における現像
むらを生じにくく、均質性の高いプリフォーマットパタ
ーンを形成可能な光ディスク原盤の現像装置及び現像方
法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記の目的を
達成するため、現像装置に関しては、光ディスク原盤の
回転部と、該回転部の上方に旋回可能に配置され、軸線
方向に配列された複数個のノズル孔から現像液を光ディ
スク原盤のフォトレジスト層に向けて吐出する筒状の現
像液供給ノズルを備えた光ディスク原盤の現像装置にお
いて、前記フォトレジスト層に現像液を供給する際、前
記現像液供給ノズルを、前記光ディスク原盤と平行な平
面内で、前記光ディスク原盤の回転中心を通る直線に対
して傾斜して配置する構成とした。

【００１０】一方、現像方法に関しては、露光済みの光
ディスク原盤を回転駆動しつつ、当該光ディスク原盤の
フォトレジスト層に現像液を供給して、これを現像処理
し、光ディスク原盤の表面に露光パターンに対応する微
細な凹凸状のプリフォーマットパターンを形成する工程
を含む光ディスク原盤の現像方法において、前記フォト
レジスト層に現像液を供給する際、複数個のノズル孔が
軸線方向に配列された筒状の現像液供給ノズルを、前記
光ディスク原盤と平行な平面内で、前記光ディスク原盤
の回転中心を通る直線に対して傾斜して配置し、前記フ
ォトレジスト層と対向に向けられた前記ノズル孔より前
記フォトレジスト層に現像液を吐出するという構成にし
た。

【００１１】

【作用】現像液供給ノズルより回転する光ディスク原盤
のフォトレジスト層に現像液を供給すると、フォトレジ
スト層に付着した現像液は、遠心力によって、光ディス
ク原盤の半径方向に移動する。

【００１２】したがって、従来装置のように、現像処理
時に現像液供給ノズル１４の軸線方向を露光済み原盤１
の回転中心Ｏを通る直線Ｌ−Ｌ´に合致させると、当該
ノズル１４に開設されたノズル孔１２ａ，１２ｂ，１２
ｃ，・・・・・が光ディスク原盤の半径方向に配列され
るため、光ディスク原盤のより内周側に位置するノズル
孔から吐出された現像液１３が光ディスク原盤のより外
周側に位置するノズル孔から吐出された現像液１３と混
合される。その混合の割合は、光ディスク原盤の外周側
に至るほど、内周側のノズル孔から吐出され、遠心力に
よって外周側に移動してきた現像液の割合が相対的に多
くなる。内周側のノズル孔から吐出され、遠心力によっ
て外周側に移動してきた現像液は、吐出及びその後の移
動の過程で現像が進行するため、例えばｐＨ値が低下す
るなど、現像液としての活性が低下している。このた
め、この活性が低下した現像液の混合割合が高くなる外
周領域に至るほど、現像不足になりやすい。

【００１３】現像処理時に、現像液供給ノズル１４を、
光ディスク原盤の回転中心を通る直線に対して傾斜して
配置すると、光ディスク原盤１の回転中心Ｏと各ノズル
孔１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・・・とを結ぶ直線の
向きが夫々異なるため、各ノズル孔１２ａ，１２ｂ，１
２ｃ，・・・・・からフォトレジスト層上に供給された
現像液の遠心力によって移動する方向が区々になり、内
周側のノズル孔から吐出された現像液１３が外周側のノ
ズル孔から吐出された現像液１３と混合されにくくな
る。よって、フォトレジスト層には活性が高い現像液が
連続的に供給されるので、光ディスク原盤１の内外周に
おけるフォトレジスト層の現像が均質になり、均質性の
高いプリフォーマットパターンを形成できる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の一実施例を、図１及び図２を
参照しつつ説明する。図１は光ディスク原盤に対する現
像液供給ノズルの配置の第１例を示す平面図であり、図
２は光ディスク原盤に対する現像液供給ノズルの配置の
第２例を示す平面図である。これらの図において、前出
の図３及び図４と対応する部分には、それと同一の符号
が表示されている。

【００１５】図１の現像装置は、現像時、すなわち現像
液供給ノズル１４から光ディスク原盤１のフォトレジス
ト層２に現像液１３を供給する際に、現像液供給ノズル
１４の先端部が、光ディスク原盤１の回転中心Ｏを通る
直線Ｌ−Ｌ´よりも光ディスク原盤１の回転方向の上流
側に偏った位置に配置され、基端部が、前記直線Ｌ−Ｌ
´よりも光ディスク原盤１の回転方向の下流側に偏った
位置に配置されるようになっている。これに対して、図
２の現像装置は、現像時に、現像液供給ノズル１４の先
端部が、光ディスク原盤１の回転中心Ｏを通る直線Ｌ−
Ｌ´よりも光ディスク原盤１の回転方向の下流側に偏っ
た位置に配置され、基端部が、前記直線Ｌ−Ｌ´よりも
光ディスク原盤１の回転方向の上流側に偏った位置に配
置されるようになっている。その他の構成については、
図３及び図４に示した従来装置と同じであるので、重複
を避けるために説明を省略する。

【００１６】図１の現像装置は、図示しない現像液供給
装置から現像液供給ノズル１４に現像液を供給すると、
現像液供給ノズル１４の軸線方向に沿って一列に開設さ
れたノズル孔１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・・・から
現像液が、ほぼ同時に光ディスク原盤１のフォトレジス
ト層２に向けて吐出するされる。ノズル孔１２ａから吐
出された現像液は、光ディスク原盤１の遠心力により、
光ディスク原盤１の回転中心Ｏと光ディスク原盤１上の
ノズル孔１２ａに対向する部分とをつなぐ線分ａの方向
に供給された現像液が移動し、以下同様に、ノズル孔１
２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，・・・・から吐出された現像液
１３は、光ディスク原盤１の回転中心Ｏと光ディスク原
盤１上のノズル孔１２ｂ，１２ｃ，１２ｄ，・・・・に
対向する部分とをつなぐ線分ｂ，ｃ，ｄ，・・・・・の
方向に現像液が移動する。

【００１７】かように、各ノズル孔１２ａ，１２ｂ，１
２ｃ，・・・・・からフォトレジスト層２上に供給され
る現像液１３の移動方向が互いに異なる方向になると、
より内周側のノズル孔から供給された現像液とより外周
側のノズル孔から供給された現像液とが混合されにくく
なり、ノズル孔１２ａと１２ｂとの間、ノズル孔１２ｂ
と１２ｃとの間、ノズル孔１２ｃと１２ｄとの間、・・
・・・は、夫々のノズル孔から供給された新鮮な活性の
高い現像液で現像されることになる。よって、フォトレ
ジスト層２の全域が、ほぼ均等に現像され、現像むらに
起因する不都合を回避できる。

【００１８】図２の装置も、各ノズル孔１２ａ，１２
ｂ，１２ｃ，・・・・・からフォトレジスト層２に供給
された現像液１３が、遠心力によって互いに異なる方向
に振り切られ、内周側のノズル孔から供給された現像液
と外周側のノズル孔から供給された現像液とが混合され
にくくなるので、図１の装置とほぼ同様の効果を期待で
きる。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
フォトレジスト層に現像液を供給する際に、複数個のノ
ズル孔が軸線方向に配列された筒状の現像液供給ノズル
を、光ディスク原盤と平行な平面内で、光ディスク原盤
の回転中心を通る直線に対して傾斜して配置するように
したので、内周側のノズル孔から供給された現像液と外
周側のノズル孔から供給された現像液とが混合されにく
くなり、フォトレジスト層の全域を、ほぼ均等に現像す
ることができる。よって、現像むらに起因する不都合、
すなわち再生信号レベルの変動が大きくなって再生エラ
ーが生じやすくなるといった不都合や、回路構成が複雑
な記録再生装置が必要になるといった不都合を回避でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係る現像装置の要部平面図であ
る。

【図２】第２実施例に係る現像装置の要部平面図であ
る。

【図３】従来例に係る現像装置の側面方向から見た一部
断面図である。

【図４】従来例に係る現像装置の要部平面図である。

【符号の説明】

１ 光ディスク原盤 ２ フォトレジスト層 １１ 回転部 １２ａ，１２ｂ，１２ｃ，・・・ ノズル孔 １３ 現像液 １４ 現像液供給ノズル １５ 純水供給ノズル １６ 排水受け ２１ ターンテーブル ２２ モータ ２３ 真空吸引装置

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 露光済みの光ディスク原盤を回転駆動し
   つつ、当該光ディスク原盤のフォトレジスト層に現像液
   を供給して、これを現像処理し、光ディスク原盤の表面
   に露光パターンに対応する微細な凹凸状のプリフォーマ
   ットパターンを形成する工程を含む光ディスク原盤の現
   像方法において、前記フォトレジスト層に現像液を供給
   する際、複数個のノズル孔が軸線方向に配列された筒状
   の現像液供給ノズルを、前記ディスク原盤と平行な平面
   内で、前記ディスク原盤の回転中心を通る直線に対して
   傾斜して配置し、前記フォトレジスト層と対向に向けら
   れた前記ノズル孔より前記フォトレジスト層に現像液を
   吐出することを特徴とする光ディスク原盤の現像方法。
2. 【請求項２】 光ディスク原盤の回転部と、該回転部の
   上方に旋回可能に配置され、軸線方向に配列された複数
   個のノズル孔から現像液を光ディスク原盤のフォトレジ
   スト層に向けて吐出する筒状の現像液供給ノズルを備え
   た光ディスク原盤の現像装置において、前記フォトレジ
   スト層に現像液を供給する際、前記現像液供給ノズル
   を、前記光ディスク原盤と平行な平面内で、前記光ディ
   スク原盤の回転中心を通る直線に対して傾斜して配置す
   ることを特徴とする光ディスク原盤の現像装置。