JPH08328251A - 水性感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 現在商業的に使用されている溶剤型の感光性
樹脂組成物と同等又はそれ以上の、十分に満足のいくレ
ジスト性能を有した、希アルカリ水溶液で現像可能な水
性の感光性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 本発明に係る水性の感光性樹脂組成物
は、 (a)カルボキシル基を含有する高分子化合物の水性エ
マルジョン; (b)光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物;及び (c)活性光照射により遊離ラジカルを発生し得る光重
合開始剤; を必須成分として含有し;(a)成分の高分子化合物の
重量平均分子量が1,000から50,000の範囲内
であり、その酸価が40〜140mg−KOH/gの範
囲内であり、且つそのガラス転移温度が50〜200℃
の範囲内であることを特徴とする。
樹脂組成物と同等又はそれ以上の、十分に満足のいくレ
ジスト性能を有した、希アルカリ水溶液で現像可能な水
性の感光性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 本発明に係る水性の感光性樹脂組成物
は、 (a)カルボキシル基を含有する高分子化合物の水性エ
マルジョン; (b)光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物;及び (c)活性光照射により遊離ラジカルを発生し得る光重
合開始剤; を必須成分として含有し;(a)成分の高分子化合物の
重量平均分子量が1,000から50,000の範囲内
であり、その酸価が40〜140mg−KOH/gの範
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の範囲内であることを特徴とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は有機溶剤を含有しな
い感光性樹脂組成物の製造方法に関するものである。さ
らに詳しくは、水分散液の形態の感光性樹脂組成物に関
するものである。
い感光性樹脂組成物の製造方法に関するものである。さ
らに詳しくは、水分散液の形態の感光性樹脂組成物に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】プリント基板の製造、加工等の分野にお
いて、エッチング、メッキ等の基材の化学的、電気化学
的加工の際に使用されるレジスト材料として感光性樹脂
溶液やドライフィルムを用いることが広く行われてい
る。有機溶剤による環境問題、健康問題を鑑み、露光後
の現像工程では、近年、現像液として従来の有機溶媒に
代えて希アルカリ水溶液を用いるようになっている。し
かし感光性樹脂自体は未だに溶媒として有機溶剤を含有
している場合が多く、コーティング時や乾燥時に有機溶
媒の揮発による作業環境の問題がある。このため、最近
ではさらに感光性樹脂それ自身を水性化することが検討
され始めている。
いて、エッチング、メッキ等の基材の化学的、電気化学
的加工の際に使用されるレジスト材料として感光性樹脂
溶液やドライフィルムを用いることが広く行われてい
る。有機溶剤による環境問題、健康問題を鑑み、露光後
の現像工程では、近年、現像液として従来の有機溶媒に
代えて希アルカリ水溶液を用いるようになっている。し
かし感光性樹脂自体は未だに溶媒として有機溶剤を含有
している場合が多く、コーティング時や乾燥時に有機溶
媒の揮発による作業環境の問題がある。このため、最近
ではさらに感光性樹脂それ自身を水性化することが検討
され始めている。
【0003】特開昭54−164119号公報において
は、水分散性のラテックスと水可溶性乃至水分散性の不
飽和化合物とから構成される感光性樹脂組成物が提案さ
れている。また、水分散性のラテックスと水不溶性の不
飽和化合物とから構成される水性の感光性樹脂組成物に
ついては、Y. C. ChiouらによってMRL Bull. Res. Dev.
Vol.2, No.2(1988)p.13-17に記載されている。しか
し、この方法によって調製された組成物は、銅基板に対
してぬれ特性が悪く、塗むらやはじきがあり均一なコー
ティング被膜を得ることが困難であると、ヨーロッパ特
許出願第0546768A1に報告されている。
は、水分散性のラテックスと水可溶性乃至水分散性の不
飽和化合物とから構成される感光性樹脂組成物が提案さ
れている。また、水分散性のラテックスと水不溶性の不
飽和化合物とから構成される水性の感光性樹脂組成物に
ついては、Y. C. ChiouらによってMRL Bull. Res. Dev.
Vol.2, No.2(1988)p.13-17に記載されている。しか
し、この方法によって調製された組成物は、銅基板に対
してぬれ特性が悪く、塗むらやはじきがあり均一なコー
ティング被膜を得ることが困難であると、ヨーロッパ特
許出願第0546768A1に報告されている。
【0004】水分散性のラテックスと水不溶性の不飽和
化合物とから構成される水性の感光性樹脂組成物のコー
ティング特性や安定性を改善する有効な手段としては、
水分散性のラテックスを塩基で部分中和することによっ
て増粘させ且つ安定化させるという方法が、米国特許第
5,045,435号において開示されている。即ち、
かかる方法においては、カルボキシル化(メタ)アクリ
レートラテックスの酸の一部を、アミン類、無機アルカ
リ等で中和することによって、組成物の安定化及びコー
ティング時のレオロジーの調製を行っている。また、ヨ
ーロッパ特許出願第0546768A1には、アンモニ
アやアミン類によって高度に中和することにより水溶化
されたカルボン酸含有高分子を配合することによって、
組成物の安定化及びコーティング時のレオロジーの調整
を行う方法が開示されている。このような方法によれ
ば、安定で且つ適切なレオロジー特性をもった組成物を
得ることができる。しかし、本発明者らがこれらの開示
された方法に従って調製した水性感光性樹脂組成物のレ
ジスト特性を評価したところでは、現在商業的に使用さ
れている有機溶剤型の感光性樹脂組成物に比べて明らか
に劣っており、満足の行くものではなかった。即ち、従
来の方法によって調製した水性の感光性樹脂組成物を、
銅基板上にコーティングし、乾燥することによって得ら
れる被膜を、引き続いて露光し、露光被膜を希アルカリ
水溶液で現像すると、その未硬化部位については、洗い
だし速度が遅く、ライン間の洗い出しが残るという問題
があった。この問題は、特に100μm以下の線間にお
いて顕著であった。また、硬化部位については、洗いだ
し中に硬化部位が膨潤、破損したり、洗いだし中に硬化
部位が剥離する等の問題があり、その結果として、現像
時の広いラテチュードを得るのが困難であった。
化合物とから構成される水性の感光性樹脂組成物のコー
ティング特性や安定性を改善する有効な手段としては、
水分散性のラテックスを塩基で部分中和することによっ
て増粘させ且つ安定化させるという方法が、米国特許第
5,045,435号において開示されている。即ち、
かかる方法においては、カルボキシル化(メタ)アクリ
レートラテックスの酸の一部を、アミン類、無機アルカ
リ等で中和することによって、組成物の安定化及びコー
ティング時のレオロジーの調製を行っている。また、ヨ
ーロッパ特許出願第0546768A1には、アンモニ
アやアミン類によって高度に中和することにより水溶化
されたカルボン酸含有高分子を配合することによって、
組成物の安定化及びコーティング時のレオロジーの調整
を行う方法が開示されている。このような方法によれ
ば、安定で且つ適切なレオロジー特性をもった組成物を
得ることができる。しかし、本発明者らがこれらの開示
された方法に従って調製した水性感光性樹脂組成物のレ
ジスト特性を評価したところでは、現在商業的に使用さ
れている有機溶剤型の感光性樹脂組成物に比べて明らか
に劣っており、満足の行くものではなかった。即ち、従
来の方法によって調製した水性の感光性樹脂組成物を、
銅基板上にコーティングし、乾燥することによって得ら
れる被膜を、引き続いて露光し、露光被膜を希アルカリ
水溶液で現像すると、その未硬化部位については、洗い
だし速度が遅く、ライン間の洗い出しが残るという問題
があった。この問題は、特に100μm以下の線間にお
いて顕著であった。また、硬化部位については、洗いだ
し中に硬化部位が膨潤、破損したり、洗いだし中に硬化
部位が剥離する等の問題があり、その結果として、現像
時の広いラテチュードを得るのが困難であった。
【0005】現在既知の方法によって製造される水性の
感光性樹脂組成物においては、コーティング時のレオロ
ジー特性や組成物の安定性などに関してはほぼ満足のい
くものが得られているが、レジスト特性に関しては既存
の溶剤型のレジスト材料と比べて明らかに劣っており、
したがって、水性の感光性樹脂組成物を用いたレジスト
材料は実用化されていないのが現状である。
感光性樹脂組成物においては、コーティング時のレオロ
ジー特性や組成物の安定性などに関してはほぼ満足のい
くものが得られているが、レジスト特性に関しては既存
の溶剤型のレジスト材料と比べて明らかに劣っており、
したがって、水性の感光性樹脂組成物を用いたレジスト
材料は実用化されていないのが現状である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような従来の水性の感光性樹脂組成物の問題点を解消
して、現在商業的に使用されている溶剤型の感光性樹脂
組成物と同等又はそれ以上の、十分に満足のいくレジス
ト性能を有した水性の感光性樹脂組成物を提供すること
である。他の目的は、直接銅張り積層板にコーティング
し、乾燥してコーティング被膜を形成させた際に、室温
においてベタツキがなく、アートワークを直接に接触さ
せることができる被膜を得ることができる、水性の感光
性樹脂組成物を提供することである。
のような従来の水性の感光性樹脂組成物の問題点を解消
して、現在商業的に使用されている溶剤型の感光性樹脂
組成物と同等又はそれ以上の、十分に満足のいくレジス
ト性能を有した水性の感光性樹脂組成物を提供すること
である。他の目的は、直接銅張り積層板にコーティング
し、乾燥してコーティング被膜を形成させた際に、室温
においてベタツキがなく、アートワークを直接に接触さ
せることができる被膜を得ることができる、水性の感光
性樹脂組成物を提供することである。
【0007】本発明者らは、上記のような特性を有する
水性の感光性樹脂組成物を開発すべく鋭意研究を重ねた
結果、(a)比較的低分子量で且つ低酸価の高分子化合
物の水性エマルジョン、(b)光重合性不飽和化合物、
及び(c)光開始剤を必須成分として含み、必要に応じ
て更に(d)接着促進剤を配合した水性樹脂組成物が、
優れたレジスト特性を示すことを見出し、本発明を完成
した。
水性の感光性樹脂組成物を開発すべく鋭意研究を重ねた
結果、(a)比較的低分子量で且つ低酸価の高分子化合
物の水性エマルジョン、(b)光重合性不飽和化合物、
及び(c)光開始剤を必須成分として含み、必要に応じ
て更に(d)接着促進剤を配合した水性樹脂組成物が、
優れたレジスト特性を示すことを見出し、本発明を完成
した。
【0008】本発明の組成物が優れたレジスト性能を示
す理由としては、(a)成分として以下に説明するよう
な比較的分子量の小さい高分子化合物の水性エマルジョ
ンを用いることによって、組成物から得られる被膜の希
アルカリ水溶液に対する溶解速度が早くなり、そのため
に、上記に説明したような、未硬化部位について洗い出
し速度が遅く、ライン間の洗い出しが残るといった問題
が解決され、また同時に、硬化部位が膨潤するという問
題も見られなくなるということが挙げられる。しかし、
このような低い分子量の高分子化合物の水性エマルジョ
ンを用いた場合には、洗い出し中に硬化部位が急速に剥
離したり、硬化部位の厚みが減少するという新たな問題
が生じてくる場合がある。特に、(a)成分の高分子化
合物の酸価が高い場合にはこれらの問題が顕著に現れ
る。このため、本発明組成物の(a)成分としては、酸
価の低い高分子化合物の水性エマルジョンを用いること
が必要である。高分子化合物の酸価が低い場合には、洗
い出し中に硬化部位が急速に剥離したり、硬化部位の厚
みが減少することが少ないことが見いだされた。また、
本発明組成物の(a)成分として酸価の低い高分子化合
物の水性エマルジョンを用いても、硬化部位の剥離傾向
がなお残る場合には、更に、本発明組成物の、必要に応
じて用いられる(d)成分である接着促進剤を配合する
ことによって、これをほぼ完全に防止することができる
ことも見いだした。
す理由としては、(a)成分として以下に説明するよう
な比較的分子量の小さい高分子化合物の水性エマルジョ
ンを用いることによって、組成物から得られる被膜の希
アルカリ水溶液に対する溶解速度が早くなり、そのため
に、上記に説明したような、未硬化部位について洗い出
し速度が遅く、ライン間の洗い出しが残るといった問題
が解決され、また同時に、硬化部位が膨潤するという問
題も見られなくなるということが挙げられる。しかし、
このような低い分子量の高分子化合物の水性エマルジョ
ンを用いた場合には、洗い出し中に硬化部位が急速に剥
離したり、硬化部位の厚みが減少するという新たな問題
が生じてくる場合がある。特に、(a)成分の高分子化
合物の酸価が高い場合にはこれらの問題が顕著に現れ
る。このため、本発明組成物の(a)成分としては、酸
価の低い高分子化合物の水性エマルジョンを用いること
が必要である。高分子化合物の酸価が低い場合には、洗
い出し中に硬化部位が急速に剥離したり、硬化部位の厚
みが減少することが少ないことが見いだされた。また、
本発明組成物の(a)成分として酸価の低い高分子化合
物の水性エマルジョンを用いても、硬化部位の剥離傾向
がなお残る場合には、更に、本発明組成物の、必要に応
じて用いられる(d)成分である接着促進剤を配合する
ことによって、これをほぼ完全に防止することができる
ことも見いだした。
【0009】特定の接着促進剤を感光性樹脂組成物に配
合すると、銅基板と光硬化されたレジスト部分との接着
が改善されるということは以前から知られていた(特公
昭50−9177号公報参照)。このような接着促進剤
は、従来、溶媒型の感光性樹脂や、特にラミネート接着
のために本質的に接着に問題のあったドライフィルムな
どに配合して、水性メッキ溶液でアンダーカットされる
のを防止するために用いられていた。しかし、本発明に
おいては、特定の分子量、酸価、およびガラス転移温度
をもった水性エマルジョンからなる水性の感光性樹脂組
成物に、接着促進剤を配合することが、現像時における
硬化部位の剥離の防止に有効であることが見出された。
合すると、銅基板と光硬化されたレジスト部分との接着
が改善されるということは以前から知られていた(特公
昭50−9177号公報参照)。このような接着促進剤
は、従来、溶媒型の感光性樹脂や、特にラミネート接着
のために本質的に接着に問題のあったドライフィルムな
どに配合して、水性メッキ溶液でアンダーカットされる
のを防止するために用いられていた。しかし、本発明に
おいては、特定の分子量、酸価、およびガラス転移温度
をもった水性エマルジョンからなる水性の感光性樹脂組
成物に、接着促進剤を配合することが、現像時における
硬化部位の剥離の防止に有効であることが見出された。
【0010】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、 (a)カルボキシル基を含有する高分子化合物の水性エ
マルジョン; (b)光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物;及び (c)活性光照射により遊離ラジカルを発生し得る光重
合開始剤; を必須成分として含有し;所望の場合には(d)接着促
進剤を更に配合した水性の感光性樹脂組成物において、
(a)成分の高分子化合物の重量平均分子量が1,00
0から50,000の範囲内であり、その酸価が40〜
140mg−KOH/gの範囲内であり、且つそのガラ
ス転移温度が50〜200℃の範囲内であることを特徴
とするものである、希アルカリ水溶液で現像可能な水性
感光性樹脂組成物に関する。
マルジョン; (b)光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物;及び (c)活性光照射により遊離ラジカルを発生し得る光重
合開始剤; を必須成分として含有し;所望の場合には(d)接着促
進剤を更に配合した水性の感光性樹脂組成物において、
(a)成分の高分子化合物の重量平均分子量が1,00
0から50,000の範囲内であり、その酸価が40〜
140mg−KOH/gの範囲内であり、且つそのガラ
ス転移温度が50〜200℃の範囲内であることを特徴
とするものである、希アルカリ水溶液で現像可能な水性
感光性樹脂組成物に関する。
【0011】本発明の組成物における(a)成分は、カ
ルボキシル基を有する単量体(以下、「A成分」とい
う)と、それと共重合可能なカルボキシル基を有さない
単量体(以下、「B成分」という)とを共重合すること
によって調製することができる。
ルボキシル基を有する単量体(以下、「A成分」とい
う)と、それと共重合可能なカルボキシル基を有さない
単量体(以下、「B成分」という)とを共重合すること
によって調製することができる。
【0012】本発明組成物の(a)成分を調製するため
に用いられるA成分としては、アクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、ケイ皮酸等
や、水酸基を有するアクリル酸エステルやメタクリル酸
エステル類に酸無水物を付加させた化合物などを挙げる
ことができる。特に、アクリル酸及びメタクリル酸が好
ましい。またこれらの単量体は2種類以上を混合して用
いてもよい。
に用いられるA成分としては、アクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸、イタコン酸、クロトン酸、ケイ皮酸等
や、水酸基を有するアクリル酸エステルやメタクリル酸
エステル類に酸無水物を付加させた化合物などを挙げる
ことができる。特に、アクリル酸及びメタクリル酸が好
ましい。またこれらの単量体は2種類以上を混合して用
いてもよい。
【0013】また、B成分としては、エステルの炭素数
が1から10までのアクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類、特に好ましくはアクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、イソボ
ルニルメタクリレート;水酸基を有するものとしては、
アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプ
ロピル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸
ヒドロキシプロピルなど;また、フェニル基を有するも
のとしては、アクリル酸フェノキシエチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジルなどが挙げられる。ま
た、酢酸ビニル、α−メチルスチレン、スチレン、ビニ
ルトルエン、アクリルアミド、アクリロニトリル、ブタ
ジエン等の公知の重合性単量体を用いることも可能であ
る。B成分の単量体としては1種類のものを用いること
ができるが、通常は2種類以上の単量体を混合して用い
ることにより、得られる高分子化合物のガラス転移温度
や親水性/疎水性バランスを調整することが好ましい。
が1から10までのアクリル酸エステル類、メタクリル
酸エステル類、特に好ましくはアクリル酸メチル、アク
リル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、イソボ
ルニルメタクリレート;水酸基を有するものとしては、
アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキシプ
ロピル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸
ヒドロキシプロピルなど;また、フェニル基を有するも
のとしては、アクリル酸フェノキシエチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジルなどが挙げられる。ま
た、酢酸ビニル、α−メチルスチレン、スチレン、ビニ
ルトルエン、アクリルアミド、アクリロニトリル、ブタ
ジエン等の公知の重合性単量体を用いることも可能であ
る。B成分の単量体としては1種類のものを用いること
ができるが、通常は2種類以上の単量体を混合して用い
ることにより、得られる高分子化合物のガラス転移温度
や親水性/疎水性バランスを調整することが好ましい。
【0014】本発明の組成物における(a)成分の高分
子化合物の分子量は、重量平均分子量において50,0
00以下である必要がある。分子量がこの値を超える
と、組成物によって形成される被膜の現像時に、現像速
度が遅くなったり、ライン間の洗い出しが残ったり、硬
化部位が膨潤して脱落したり、あるいは乾燥後にエッジ
が不明瞭になるなどといった問題が生じ、その結果、現
像のラティチュードが狭くなる。これらの問題は、同時
に高分子化合物のガラス転移温度や酸価とも関係してお
り、以下に規定する範囲内においてガラス転移温度や酸
価を自由に選択したい場合は、高分子化合物の重量平均
分子量は更に小さくなくてはならない。その意味におい
て、より好ましい該高分子化合物の重量平均分子量は2
0,000以下である。
子化合物の分子量は、重量平均分子量において50,0
00以下である必要がある。分子量がこの値を超える
と、組成物によって形成される被膜の現像時に、現像速
度が遅くなったり、ライン間の洗い出しが残ったり、硬
化部位が膨潤して脱落したり、あるいは乾燥後にエッジ
が不明瞭になるなどといった問題が生じ、その結果、現
像のラティチュードが狭くなる。これらの問題は、同時
に高分子化合物のガラス転移温度や酸価とも関係してお
り、以下に規定する範囲内においてガラス転移温度や酸
価を自由に選択したい場合は、高分子化合物の重量平均
分子量は更に小さくなくてはならない。その意味におい
て、より好ましい該高分子化合物の重量平均分子量は2
0,000以下である。
【0015】本発明の組成物における(a)成分の高分
子化合物の酸価は、高分子化合物を調製するために用い
られるA成分の共重合比を調節することによって調節す
ることができるが、その酸価は40〜140mg−KO
H/gの範囲内にあることが重要である。高分子化合物
の酸価が40mg−KOH/g未満の場合は、たとえそ
の重量平均分子量を十分に低くしても、希アルカリ水溶
液を用いた現像処理を行うことが困難であり、また、酸
価が140mg−KOH/gを超える場合には、現像時
に硬化部位が急速に剥離したり、あるいは硬化部位の厚
み減少率が大きくなるといった不都合が生じる。
子化合物の酸価は、高分子化合物を調製するために用い
られるA成分の共重合比を調節することによって調節す
ることができるが、その酸価は40〜140mg−KO
H/gの範囲内にあることが重要である。高分子化合物
の酸価が40mg−KOH/g未満の場合は、たとえそ
の重量平均分子量を十分に低くしても、希アルカリ水溶
液を用いた現像処理を行うことが困難であり、また、酸
価が140mg−KOH/gを超える場合には、現像時
に硬化部位が急速に剥離したり、あるいは硬化部位の厚
み減少率が大きくなるといった不都合が生じる。
【0016】本発明組成物の(a)成分の高分子化合物
のガラス転移温度は、高分子化合物を調製するために用
いられるB成分の組み合わせを適宜選択することによっ
て調節することができる。例えば、高分子化合物のガラ
ス転移温度を低くしたいときには、低いガラス転移温度
を与える単量体、例えば、エチルアクリレートやブチル
アクリレートをB成分の一部として用いればよい。逆に
高分子化合物のガラス転移温度を高くしたいときには、
高いガラス転移温度を与える単量体、例えばイソボルニ
ルメタクリレートやアクリルアミド等をB成分の一部と
して用いればよい。このようにして調節されたガラス転
移温度は、フォックス(Fox)の式(ブリテン・オブ・ア
メリカン・フィジクス・ソサエティ,1,3,123頁
(1956))によって算出することができる。このよ
うにして算出される本発明の(a)成分の高分子化合物
のガラス転移温度は、50〜200℃の範囲内であるこ
とが好ましい。高分子化合物のガラス転移温度が50℃
以下の場合には、レジスト溶液として基板に塗布、乾燥
した後もべとつきが残り、アートワークを密着して露光
する際に不都合である。また高分子化合物のガラス転移
温度が200℃を超えると、レジスト溶液として基板に
塗布、乾燥した後、均一なフィルムを得ることが困難で
ある。
のガラス転移温度は、高分子化合物を調製するために用
いられるB成分の組み合わせを適宜選択することによっ
て調節することができる。例えば、高分子化合物のガラ
ス転移温度を低くしたいときには、低いガラス転移温度
を与える単量体、例えば、エチルアクリレートやブチル
アクリレートをB成分の一部として用いればよい。逆に
高分子化合物のガラス転移温度を高くしたいときには、
高いガラス転移温度を与える単量体、例えばイソボルニ
ルメタクリレートやアクリルアミド等をB成分の一部と
して用いればよい。このようにして調節されたガラス転
移温度は、フォックス(Fox)の式(ブリテン・オブ・ア
メリカン・フィジクス・ソサエティ,1,3,123頁
(1956))によって算出することができる。このよ
うにして算出される本発明の(a)成分の高分子化合物
のガラス転移温度は、50〜200℃の範囲内であるこ
とが好ましい。高分子化合物のガラス転移温度が50℃
以下の場合には、レジスト溶液として基板に塗布、乾燥
した後もべとつきが残り、アートワークを密着して露光
する際に不都合である。また高分子化合物のガラス転移
温度が200℃を超えると、レジスト溶液として基板に
塗布、乾燥した後、均一なフィルムを得ることが困難で
ある。
【0017】本発明組成物における(a)成分である高
分子化合物の水性エマルジョンは、選択された単量体を
乳化重合法又は懸濁重合法で重合することによって、直
接調製することができる。あるいは、まず高分子化合物
を溶液の形態で調製し、これを、界面活性剤の存在下に
おいて強制撹拌して乳化した後、脱溶媒することによっ
て調製することもできる。しかしながら、乳化重合法に
よって高分子化合物の水性エマルジョンを直接調製する
方法が経済的に最も好ましい。本発明の(a)成分を調
製するための乳化重合は当該技術において公知の方法で
行なうことができる。しかしながら、本発明の組成物に
おける(a)成分として好ましい1,000〜50,0
00の範囲の重量平均分子量をもつ高分子化合物の水性
エマルジョンを得るためには、無機系あるいは有機系の
連鎖移動剤を重合において用いることが好ましい。
分子化合物の水性エマルジョンは、選択された単量体を
乳化重合法又は懸濁重合法で重合することによって、直
接調製することができる。あるいは、まず高分子化合物
を溶液の形態で調製し、これを、界面活性剤の存在下に
おいて強制撹拌して乳化した後、脱溶媒することによっ
て調製することもできる。しかしながら、乳化重合法に
よって高分子化合物の水性エマルジョンを直接調製する
方法が経済的に最も好ましい。本発明の(a)成分を調
製するための乳化重合は当該技術において公知の方法で
行なうことができる。しかしながら、本発明の組成物に
おける(a)成分として好ましい1,000〜50,0
00の範囲の重量平均分子量をもつ高分子化合物の水性
エマルジョンを得るためには、無機系あるいは有機系の
連鎖移動剤を重合において用いることが好ましい。
【0018】有機系の連鎖移動剤としては、tert−ドデ
カンチオール、1−ドデカンチオール等の公知の連鎖移
動剤をこの目的で用いることができるが、更に効率良く
分子量を低下させることのできる連鎖移動剤を使用する
ことが好ましい。そのためには、(a)成分の高分子化
合物と極性の近似した連鎖移動剤を用いることが有利で
ある。この意味において、R.F.Fedorsのポリマー・エン
ジニアリング・サイエンス,14,147頁(197
4)により提案された方法で計算される溶解度パラメー
ター(SP値)が9以上であるチオール類を連鎖移動剤
として使用することが好ましい。このような連鎖移動剤
としては、例えばチオグリコール酸や、そのメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、メトキシブチル又は2−エチ
ルヘキシルエステル類、ブタンジオールビスチオグリコ
レート、エチレングリコールビスチオグリコレートなど
のチオグリコール酸誘導体、3−メルカプトプロピオン
酸及びその誘導体などが特に好ましい。また、これらの
連鎖移動剤の添加量は、単量体の総量に対して0.1〜
10重量%の範囲内で選ぶことができる。
カンチオール、1−ドデカンチオール等の公知の連鎖移
動剤をこの目的で用いることができるが、更に効率良く
分子量を低下させることのできる連鎖移動剤を使用する
ことが好ましい。そのためには、(a)成分の高分子化
合物と極性の近似した連鎖移動剤を用いることが有利で
ある。この意味において、R.F.Fedorsのポリマー・エン
ジニアリング・サイエンス,14,147頁(197
4)により提案された方法で計算される溶解度パラメー
ター(SP値)が9以上であるチオール類を連鎖移動剤
として使用することが好ましい。このような連鎖移動剤
としては、例えばチオグリコール酸や、そのメチル、エ
チル、プロピル、ブチル、メトキシブチル又は2−エチ
ルヘキシルエステル類、ブタンジオールビスチオグリコ
レート、エチレングリコールビスチオグリコレートなど
のチオグリコール酸誘導体、3−メルカプトプロピオン
酸及びその誘導体などが特に好ましい。また、これらの
連鎖移動剤の添加量は、単量体の総量に対して0.1〜
10重量%の範囲内で選ぶことができる。
【0019】乳化重合において用いられる界面活性剤と
しては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩、ナフタリンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテルサルフェート等のアニオン
性界面活性剤、あるいは、これらのアニオン性界面活性
剤と、ポリエチレングリコールエーテル、ポリオキシエ
チレンソルビタンエステル等のノニオン性界面活性剤と
の混合物が用いられる。乳化重合において一般的に用い
られているドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムと
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルとの組み合
わせが好都合である。界面活性剤の使用量は、単量体の
総量に対して1〜8重量%の範囲内がよい。特に2〜6
重量%が好ましい。アニオン性界面活性剤とノニオン性
界面活性剤とを混合して用いる場合のこれらの混合比率
は特に制限はないが、ノニオン性界面活性剤の量がアニ
オン性界面活性剤と同等か又はそれ以下である方が、得
られる水性エマルジョンの安定性が優れているために好
ましい。
しては、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸
塩、ナフタリンスルホン酸ホルマリン縮合物、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテルサルフェート等のアニオン
性界面活性剤、あるいは、これらのアニオン性界面活性
剤と、ポリエチレングリコールエーテル、ポリオキシエ
チレンソルビタンエステル等のノニオン性界面活性剤と
の混合物が用いられる。乳化重合において一般的に用い
られているドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウムと
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルとの組み合
わせが好都合である。界面活性剤の使用量は、単量体の
総量に対して1〜8重量%の範囲内がよい。特に2〜6
重量%が好ましい。アニオン性界面活性剤とノニオン性
界面活性剤とを混合して用いる場合のこれらの混合比率
は特に制限はないが、ノニオン性界面活性剤の量がアニ
オン性界面活性剤と同等か又はそれ以下である方が、得
られる水性エマルジョンの安定性が優れているために好
ましい。
【0020】本発明の(a)成分として用いられる水性
エマルジョンの固形分含有量は25重量%〜60重量%
の範囲内が好ましい。特に35〜50重量%の範囲内が
好都合である。この値が25重量%未満であると、最終
組成物の固形分濃度も低くなるために、乾燥に時間がか
かり、粘度が低くなるために、コーティングの際に不利
になる。一方、この値が60重量%を超えると、乾燥が
早すぎたり、粘度が高くなりすぎたり、また水性エマル
ジョン自身やその組成物の安定性が悪くなったりする恐
れがある。
エマルジョンの固形分含有量は25重量%〜60重量%
の範囲内が好ましい。特に35〜50重量%の範囲内が
好都合である。この値が25重量%未満であると、最終
組成物の固形分濃度も低くなるために、乾燥に時間がか
かり、粘度が低くなるために、コーティングの際に不利
になる。一方、この値が60重量%を超えると、乾燥が
早すぎたり、粘度が高くなりすぎたり、また水性エマル
ジョン自身やその組成物の安定性が悪くなったりする恐
れがある。
【0021】本発明の(b)成分、即ち光重合可能なエ
チレン性不飽和結合を有する化合物としては、単官能性
化合物、2官能性化合物、あるいは多官能性化合物の1
種類あるいは数種類の混合物を用いることができる。し
かし、組成物を硬化させる際に架橋密度を高めることが
必要であるため、2官能以上の多官能性化合物を主成分
として、単官能性化合物は多くは配合しないことが望ま
しい。また、エッチング後、不要になったレジストを除
去する工程において、苛性ソーダなどによる剥離性を向
上させる目的で、カルボキシル基を有する単量体を、
(b)成分中に更に少量混合してもよい。この目的に好
都合な単量体は、(a)成分の調製に用いるA成分とし
て前記したものと同じでも良いし、あるいは水酸基を有
するアクリル酸エステル類やメタクリル酸エステル類に
酸無水物を付加させた化合物を用いてもよい。
チレン性不飽和結合を有する化合物としては、単官能性
化合物、2官能性化合物、あるいは多官能性化合物の1
種類あるいは数種類の混合物を用いることができる。し
かし、組成物を硬化させる際に架橋密度を高めることが
必要であるため、2官能以上の多官能性化合物を主成分
として、単官能性化合物は多くは配合しないことが望ま
しい。また、エッチング後、不要になったレジストを除
去する工程において、苛性ソーダなどによる剥離性を向
上させる目的で、カルボキシル基を有する単量体を、
(b)成分中に更に少量混合してもよい。この目的に好
都合な単量体は、(a)成分の調製に用いるA成分とし
て前記したものと同じでも良いし、あるいは水酸基を有
するアクリル酸エステル類やメタクリル酸エステル類に
酸無水物を付加させた化合物を用いてもよい。
【0022】本発明の(b)成分として用いるのに好ま
しい2官能化合物の例としては、エチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジア
クリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピ
レングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、プロピレンオキサイド変
性ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、エチレンオキサイド変
性ビスフェノールAジアクリレート、プロピレンオキサ
イド変性ビスフェノールAジアクリレート、グリセリン
ジグリシジルエーテルジアクリレート、及び上記アクリ
レートに対応するメタクリレート類を挙げることができ
る。
しい2官能化合物の例としては、エチレングリコールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジア
クリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピ
レングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート、エチレンオキサイド変性ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、プロピレンオキサイド変
性ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールジアクリレート、エチレンオキサイド変
性ビスフェノールAジアクリレート、プロピレンオキサ
イド変性ビスフェノールAジアクリレート、グリセリン
ジグリシジルエーテルジアクリレート、及び上記アクリ
レートに対応するメタクリレート類を挙げることができ
る。
【0023】本発明の(b)成分として用いるのに好ま
しい多官能化合物の例としては、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、及びそれらのエチレ
ンオキサイド変性又はプロピレンオキサイド変性アクリ
レート類、並びに上記アクリレートに対応するメタクリ
レート類を挙げることができる。
しい多官能化合物の例としては、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、及びそれらのエチレ
ンオキサイド変性又はプロピレンオキサイド変性アクリ
レート類、並びに上記アクリレートに対応するメタクリ
レート類を挙げることができる。
【0024】更に本発明の(b)成分として用いること
のできる単官能性化合物の例としては、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、N−ビニルピロリドン、アクロイルモルホリン、
メトキシテトラエチレングリコールアクリレート、メト
キシポリエチレングリコールアクリレート、N,N−ジ
メチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、
N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−
ジメチルアミノプロピルアクリレート、メラミンアクリ
レート、又は上記アクリレートに対応するメタクリレー
ト類、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
イソボルニルアクリレート、及び上記アクリレートに対
応するメタクリレート類を挙げることができる。
のできる単官能性化合物の例としては、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、N−ビニルピロリドン、アクロイルモルホリン、
メトキシテトラエチレングリコールアクリレート、メト
キシポリエチレングリコールアクリレート、N,N−ジ
メチルアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、
N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−
ジメチルアミノプロピルアクリレート、メラミンアクリ
レート、又は上記アクリレートに対応するメタクリレー
ト類、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
イソボルニルアクリレート、及び上記アクリレートに対
応するメタクリレート類を挙げることができる。
【0025】本発明組成物における(a)成分の高分子
化合物は、(b)成分の光重合可能なエチレン性不飽和
化合物に対して相溶性が良いことが必要である。これら
の成分間の相溶性が良くないときは、(b)成分が
(a)成分の水性エマルジョン粒子に吸収されないた
め、長期間安定な組成物を得られないばかりか、組成物
を銅基板にコーティングして乾燥した後、透明で均一な
被膜を得ることができなかったり、(b)成分であるエ
チレン性不飽和化合物が被膜からブリーディングすると
いった問題が生じる。これは、被膜を顕微鏡下で観察す
ることにより簡単に見極められる。(a)成分の(b)
成分に対する相溶性が良くない場合には、必要に応じて
(a)成分の高分子化合物の調製において用いられるB
成分の一部として、スチレン、ヒドロキシアクリレー
ト、ヒドロキシメタクリレート、フェノキシアクリレー
ト、2−ヒドロキシフェノキシプロピルアクリレート等
を用いて、高分子化合物の親水性/疎水性バランスを調
節することによって、B成分に対する相溶性を調整する
ことができる。
化合物は、(b)成分の光重合可能なエチレン性不飽和
化合物に対して相溶性が良いことが必要である。これら
の成分間の相溶性が良くないときは、(b)成分が
(a)成分の水性エマルジョン粒子に吸収されないた
め、長期間安定な組成物を得られないばかりか、組成物
を銅基板にコーティングして乾燥した後、透明で均一な
被膜を得ることができなかったり、(b)成分であるエ
チレン性不飽和化合物が被膜からブリーディングすると
いった問題が生じる。これは、被膜を顕微鏡下で観察す
ることにより簡単に見極められる。(a)成分の(b)
成分に対する相溶性が良くない場合には、必要に応じて
(a)成分の高分子化合物の調製において用いられるB
成分の一部として、スチレン、ヒドロキシアクリレー
ト、ヒドロキシメタクリレート、フェノキシアクリレー
ト、2−ヒドロキシフェノキシプロピルアクリレート等
を用いて、高分子化合物の親水性/疎水性バランスを調
節することによって、B成分に対する相溶性を調整する
ことができる。
【0026】本発明組成物の(c)成分、即ち活性光照
射により遊離ラジカルを発生し得る光重合開始剤として
は、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアント
ラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベン
ズアントラキノンのようなキノン類、ベンゾイン、ピバ
ロイン、アシロインエーテルなどのようなα−ケタルド
ニルアルコール類、エーテル類、α−フェニルベンゾイ
ン、α,α’−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェ
ノン、4,4’−ビスジアルキルアミノベンゾフェノン
等のケトン類、チオキサントン誘導体、2,4,5−ト
リアリールイミダゾリル2量体などを挙げることができ
る。これらは単独もしくは2種類以上を混合して用いる
ことができる。また、(c)成分の配合量は、単量体の
総量に対して1〜50重量%の範囲内で選ばれる。
射により遊離ラジカルを発生し得る光重合開始剤として
は、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアント
ラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベン
ズアントラキノンのようなキノン類、ベンゾイン、ピバ
ロイン、アシロインエーテルなどのようなα−ケタルド
ニルアルコール類、エーテル類、α−フェニルベンゾイ
ン、α,α’−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェ
ノン、4,4’−ビスジアルキルアミノベンゾフェノン
等のケトン類、チオキサントン誘導体、2,4,5−ト
リアリールイミダゾリル2量体などを挙げることができ
る。これらは単独もしくは2種類以上を混合して用いる
ことができる。また、(c)成分の配合量は、単量体の
総量に対して1〜50重量%の範囲内で選ばれる。
【0027】本発明組成物において所望により用いられ
る(d)成分、即ち接着促進剤としては、窒素原子もし
くは硫黄原子を少なくとも2個以上含む複素環式化合
物、あるいは窒素原子と硫黄原子とを少なくとも2個以
上含む複素環式化合物を用いることができる。特に、ベ
ンゾトリアゾール及びその誘導体が好ましい。本発明組
成物において(d)成分を用いる場合にはその添加量
は、組成物の固形分に対して、0.01〜3重量%、好
ましくは0.05〜0.5重量%の範囲内である。
る(d)成分、即ち接着促進剤としては、窒素原子もし
くは硫黄原子を少なくとも2個以上含む複素環式化合
物、あるいは窒素原子と硫黄原子とを少なくとも2個以
上含む複素環式化合物を用いることができる。特に、ベ
ンゾトリアゾール及びその誘導体が好ましい。本発明組
成物において(d)成分を用いる場合にはその添加量
は、組成物の固形分に対して、0.01〜3重量%、好
ましくは0.05〜0.5重量%の範囲内である。
【0028】本発明の感光性樹脂組成物には、保存中に
重合反応が起こることを防止するために、公知の重合禁
止剤を、(b)成分に対して50〜2000ppmの範
囲で添加するのが好ましい。これらの重合禁止剤の例と
しては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ
ーテル、ピロガロール、2,6−ジターシャリーブチル
−4−メチルフェノール、フェノチアジン等が挙げられ
る。また、これらの重合禁止剤は、本発明の(b)成分
を構成する化合物中に、通常200〜400ppm程度
含有されて商業的に市販されていることが多く、その場
合には、予め(b)成分中に含まれている量を合わせて
上記の範囲内になればよい。
重合反応が起こることを防止するために、公知の重合禁
止剤を、(b)成分に対して50〜2000ppmの範
囲で添加するのが好ましい。これらの重合禁止剤の例と
しては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ
ーテル、ピロガロール、2,6−ジターシャリーブチル
−4−メチルフェノール、フェノチアジン等が挙げられ
る。また、これらの重合禁止剤は、本発明の(b)成分
を構成する化合物中に、通常200〜400ppm程度
含有されて商業的に市販されていることが多く、その場
合には、予め(b)成分中に含まれている量を合わせて
上記の範囲内になればよい。
【0029】本発明の感光性樹脂組成物には更に必要に
応じて、硫酸バリウム、酸化ケイ素、タルク、クレー、
炭酸カルシウムなどの公知の充填剤、ロイコ染料、フタ
ロシアニングリーン、カーボンブラックなどの公知慣用
の着色剤、酸化チタンなどの隠蔽剤、レベリング剤、消
泡剤、粘度調整剤、レオロジーモディファイヤー等を添
加することができる。
応じて、硫酸バリウム、酸化ケイ素、タルク、クレー、
炭酸カルシウムなどの公知の充填剤、ロイコ染料、フタ
ロシアニングリーン、カーボンブラックなどの公知慣用
の着色剤、酸化チタンなどの隠蔽剤、レベリング剤、消
泡剤、粘度調整剤、レオロジーモディファイヤー等を添
加することができる。
【0030】(調製方法)本発明にかかる水性の感光性
樹脂組成物は、予め、(b)成分中に、(c)成分及び
所望の場合には(d)成分を60℃以下の温度で溶解さ
せた後、温度を室温まで下げて単量体前混合物として調
製しておき、次にこの単量体前混合物を、(a)成分の
水性エマルジョン中に均一に分散させ、引き続いて単量
体前混合物を水性エマルジョン中の粒子内に吸収させる
ことによって調製することができる。このように、水性
エマルジョン粒子中に単量体前混合物を吸収させること
が、安定で均一な水性の感光性樹脂組成物を得るために
は好ましい。単量体前混合物が完全に水性エマルジョン
粒子に吸収されたかどうかを確かめるためには、組成物
を適当な基板にコーティングして80℃前後にて乾燥さ
せたときに、均一な被膜が得られるかどうかを見るのが
最も簡単な方法である。吸収が十分に行われていない場
合には、均一な被膜が得られず、単量体の油滴が顕微鏡
下で観察される。
樹脂組成物は、予め、(b)成分中に、(c)成分及び
所望の場合には(d)成分を60℃以下の温度で溶解さ
せた後、温度を室温まで下げて単量体前混合物として調
製しておき、次にこの単量体前混合物を、(a)成分の
水性エマルジョン中に均一に分散させ、引き続いて単量
体前混合物を水性エマルジョン中の粒子内に吸収させる
ことによって調製することができる。このように、水性
エマルジョン粒子中に単量体前混合物を吸収させること
が、安定で均一な水性の感光性樹脂組成物を得るために
は好ましい。単量体前混合物が完全に水性エマルジョン
粒子に吸収されたかどうかを確かめるためには、組成物
を適当な基板にコーティングして80℃前後にて乾燥さ
せたときに、均一な被膜が得られるかどうかを見るのが
最も簡単な方法である。吸収が十分に行われていない場
合には、均一な被膜が得られず、単量体の油滴が顕微鏡
下で観察される。
【0031】本発明の水性の感光性樹脂組成物の具体的
な調製方法を下記に示す。なお、同様に単量体前混合物
を水性エマルジョン中の粒子内に吸収させることができ
るのであれば、下記に示す方法の改良型や、それらを組
み合わせた方法や、更に新たに考案される方法を用いて
もよい。
な調製方法を下記に示す。なお、同様に単量体前混合物
を水性エマルジョン中の粒子内に吸収させることができ
るのであれば、下記に示す方法の改良型や、それらを組
み合わせた方法や、更に新たに考案される方法を用いて
もよい。
【0032】(1)界面活性剤を使う方法 この方法は、界面活性剤を用いることにより、単量体前
混合物を(a)成分の水性エマルジョン中に均一に分散
させるという方法であり、比較的穏やかな撹拌条件で分
散させることができるので、水性エマルジョン粒子の破
壊を招く恐れがないし、また分散された粒子が細かくな
るため、引き続いて単量体前混合物を水性エマルジョン
中の粒子内に比較的速やかに吸収させることができると
いう利点を有する。本方法においては、(a)成分の水
性エマルジョン中に予め含まれている界面活性剤は、分
散のためには有効でなく、新たに界面活性剤を加える必
要がある。新たに加える界面活性剤の添加量は、単量体
の総量に対する重量比で0.1%〜15%の範囲内であ
ればよい。界面活性剤は、予め単量体前混合物中に溶解
させておいてもよいし、また、予め(a)成分である水
性エマルジョン中に溶解させておいてもよいし、あるい
は、単量体前混合物と一緒に水性エマルジョンに添加し
てもよい。
混合物を(a)成分の水性エマルジョン中に均一に分散
させるという方法であり、比較的穏やかな撹拌条件で分
散させることができるので、水性エマルジョン粒子の破
壊を招く恐れがないし、また分散された粒子が細かくな
るため、引き続いて単量体前混合物を水性エマルジョン
中の粒子内に比較的速やかに吸収させることができると
いう利点を有する。本方法においては、(a)成分の水
性エマルジョン中に予め含まれている界面活性剤は、分
散のためには有効でなく、新たに界面活性剤を加える必
要がある。新たに加える界面活性剤の添加量は、単量体
の総量に対する重量比で0.1%〜15%の範囲内であ
ればよい。界面活性剤は、予め単量体前混合物中に溶解
させておいてもよいし、また、予め(a)成分である水
性エマルジョン中に溶解させておいてもよいし、あるい
は、単量体前混合物と一緒に水性エマルジョンに添加し
てもよい。
【0033】(2)超音波を使う方法 この方法は、界面活性剤を使わずに、単量体前混合物と
(a)成分の水性エマルジョンとを直接混合し、この混
合物に超音波を照射することによって、単量体前混合物
を水性エマルジョン中に分散させ、引き続いて吸収させ
る方法である。本方法においては、(a)成分の水性エ
マルジョンのカルボキシル基は少なくとも5mg−KO
H/g相当分以上が塩基によって中和されていることが
望ましい。このように水性エマルジョンのカルボキシル
基の一部を中和することによって水性エマルジョンが安
定化され、超音波の衝撃によって水性エマルジョンが凝
集する恐れを低減することができる。
(a)成分の水性エマルジョンとを直接混合し、この混
合物に超音波を照射することによって、単量体前混合物
を水性エマルジョン中に分散させ、引き続いて吸収させ
る方法である。本方法においては、(a)成分の水性エ
マルジョンのカルボキシル基は少なくとも5mg−KO
H/g相当分以上が塩基によって中和されていることが
望ましい。このように水性エマルジョンのカルボキシル
基の一部を中和することによって水性エマルジョンが安
定化され、超音波の衝撃によって水性エマルジョンが凝
集する恐れを低減することができる。
【0034】(3)中和高分子を使う方法 この方法は、下記に説明するように、予め(a)成分の
水性エマルジョンの一部を高度に中和して水溶液として
おき、この水溶液をもって界面活性剤と同等の作用をさ
せることにより、単量体前混合物を(a)成分の水性エ
マルジョン中に均一に分散させ、引き続いて吸収させる
という方法である。
水性エマルジョンの一部を高度に中和して水溶液として
おき、この水溶液をもって界面活性剤と同等の作用をさ
せることにより、単量体前混合物を(a)成分の水性エ
マルジョン中に均一に分散させ、引き続いて吸収させる
という方法である。
【0035】本発明組成物の(a)成分中の固形分であ
る高分子化合物と(b)成分の不飽和結合を有する化合
物との重量比は、9:1から5:5の範囲内が好まし
い。高分子化合物の比率が9:1より多いと不飽和結合
を有する化合物による十分な架橋が得られず、優れた解
像度が得られない。また、高分子化合物の微粒子が融着
して均一な被膜を作るためにも、その比率が9:1より
少ないことが好ましい。また、高分子化合物の比率が
5:5より少ないと、得られる被膜がベタつき、アート
ワークを直接被膜に接触させることができなくなるので
好ましくない。
る高分子化合物と(b)成分の不飽和結合を有する化合
物との重量比は、9:1から5:5の範囲内が好まし
い。高分子化合物の比率が9:1より多いと不飽和結合
を有する化合物による十分な架橋が得られず、優れた解
像度が得られない。また、高分子化合物の微粒子が融着
して均一な被膜を作るためにも、その比率が9:1より
少ないことが好ましい。また、高分子化合物の比率が
5:5より少ないと、得られる被膜がベタつき、アート
ワークを直接被膜に接触させることができなくなるので
好ましくない。
【0036】(水性エマルジョンの中和)本発明組成物
の(a)成分のカルボキシル基を含有する高分子化合物
の水性エマルジョンは、無機塩基あるいは有機塩基でそ
のカルボキシル基の一部を中和することが望ましい。こ
の目的で用いることのできる好ましい無機塩基は、アル
カリ金属塩類、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどである。また、有機塩基として
は、アンモニア、三級アミン類、例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、ジメチルエタノールアミンなど
が挙げられる。また、2種類以上の塩基を混合して用い
ることもできる。
の(a)成分のカルボキシル基を含有する高分子化合物
の水性エマルジョンは、無機塩基あるいは有機塩基でそ
のカルボキシル基の一部を中和することが望ましい。こ
の目的で用いることのできる好ましい無機塩基は、アル
カリ金属塩類、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどである。また、有機塩基として
は、アンモニア、三級アミン類、例えばトリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、ジメチルエタノールアミンなど
が挙げられる。また、2種類以上の塩基を混合して用い
ることもできる。
【0037】高分子化合物のカルボキシル基の一部を中
和することの第1の利点は、乾燥後の被膜のベタつきや
ブロッキングが起こりにくくなることである。第2の利
点は、カルボキシル基の一部がアニオン化することによ
り、該水性エマルジョンが安定化され、且つ該組成物が
同時に安定化されることである。第3の利点は、中和に
より該水性エマルジョンの粘度が上昇するので、コーテ
ィングに適切な粘度に調節することが可能なことであ
る。また、はじきなどの問題も改善される。第4の利点
は、中和により水性エマルジョンのpHが酸性側から中
性付近に近づくため、酸性条件下では不安定な添加物
を、本発明の組成物に配合することができるようになる
ということである。
和することの第1の利点は、乾燥後の被膜のベタつきや
ブロッキングが起こりにくくなることである。第2の利
点は、カルボキシル基の一部がアニオン化することによ
り、該水性エマルジョンが安定化され、且つ該組成物が
同時に安定化されることである。第3の利点は、中和に
より該水性エマルジョンの粘度が上昇するので、コーテ
ィングに適切な粘度に調節することが可能なことであ
る。また、はじきなどの問題も改善される。第4の利点
は、中和により水性エマルジョンのpHが酸性側から中
性付近に近づくため、酸性条件下では不安定な添加物
を、本発明の組成物に配合することができるようになる
ということである。
【0038】水性エマルジョンの高分子化合物を中和す
ることなしに本発明を実施することも可能であるが、上
記のように中和の利点は大きいので、中和を行うことが
好ましい。中和量は、高分子化合物のカルボキシル基の
5〜100mg−KOH/g相当分を中和することが適
当である。中和量が5mg−KOH/g未満だと上記の
利点がほとんど得られないし、また100mg−KOH
/gを超えると水性エマルジョンが水溶化して、(b)
成分を水性エマルジョンの粒子中に吸収させることがで
きなくなるし、また(b)成分との相溶性も悪くなり、
均一な被膜が得られなくなるおそれがある。
ることなしに本発明を実施することも可能であるが、上
記のように中和の利点は大きいので、中和を行うことが
好ましい。中和量は、高分子化合物のカルボキシル基の
5〜100mg−KOH/g相当分を中和することが適
当である。中和量が5mg−KOH/g未満だと上記の
利点がほとんど得られないし、また100mg−KOH
/gを超えると水性エマルジョンが水溶化して、(b)
成分を水性エマルジョンの粒子中に吸収させることがで
きなくなるし、また(b)成分との相溶性も悪くなり、
均一な被膜が得られなくなるおそれがある。
【0039】
【発明の効果】本発明にかかる感光性樹脂組成物は、有
機溶剤を一切用いることがないため、有機溶剤飛散に起
因する問題を全く生じることがなく、且つ、従来の溶媒
型のエッチングレジストと同等もしくはそれ以上のラテ
チュードを有する組成物を提供する。したがって、本発
明によれば、従来の水性の感光性樹脂組成物の問題点を
解消して、現在商業的に使用されている溶剤型の感光性
樹脂組成物と同等又はそれ以上の、十分に満足のいくレ
ジスト性能を有した水性の感光性樹脂組成物を提供する
ことができる。かかる本発明の感光性樹脂組成物は、直
接銅張り積層板にコーティングし、乾燥してコーティン
グ被膜を形成させると、室温においてベタつきがなく、
アートワークを直接に接触させることができる被膜を得
ることができる。
機溶剤を一切用いることがないため、有機溶剤飛散に起
因する問題を全く生じることがなく、且つ、従来の溶媒
型のエッチングレジストと同等もしくはそれ以上のラテ
チュードを有する組成物を提供する。したがって、本発
明によれば、従来の水性の感光性樹脂組成物の問題点を
解消して、現在商業的に使用されている溶剤型の感光性
樹脂組成物と同等又はそれ以上の、十分に満足のいくレ
ジスト性能を有した水性の感光性樹脂組成物を提供する
ことができる。かかる本発明の感光性樹脂組成物は、直
接銅張り積層板にコーティングし、乾燥してコーティン
グ被膜を形成させると、室温においてベタつきがなく、
アートワークを直接に接触させることができる被膜を得
ることができる。
【0040】
【実施例】以下本発明を実施例によって更に詳細に説明
するが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。
するが、本発明はこれらによって限定されるものではな
い。
【0041】(合成例1)乳化重合による水性エマルジ
ョン1の調製 撹拌装置、温度計、還流管と滴下漏斗を取付けた500
mlのセパラブルフラスコに、表1に示す配合割合で、
脱イオン水を入れ、次に、界面活性剤を入れて溶解させ
た。フラスコの温度を75℃に上昇させた後、単量体混
合物の1/10量を同フラスコに仕込んだ。しばらくし
てフラスコに仕込んだ単量体混合物が均一に乳化、分散
した後、重合開始剤のAPS溶液を加えた。反応熱によ
り反応混合物の温度は約80℃に上昇した。その後、残
りの9/10量の単量体混合物を、約2時間かけて、チ
ューブポンプを用いて一定速度で添加した。その後、更
に同じ温度で2時間撹拌を続けた後、室温に冷却した。
100メッシュのフィルターを通して、固形分約40重
量%の乳白色の水性エマルジョン溶液を得た。これを水
性エマルジョン1とした。
ョン1の調製 撹拌装置、温度計、還流管と滴下漏斗を取付けた500
mlのセパラブルフラスコに、表1に示す配合割合で、
脱イオン水を入れ、次に、界面活性剤を入れて溶解させ
た。フラスコの温度を75℃に上昇させた後、単量体混
合物の1/10量を同フラスコに仕込んだ。しばらくし
てフラスコに仕込んだ単量体混合物が均一に乳化、分散
した後、重合開始剤のAPS溶液を加えた。反応熱によ
り反応混合物の温度は約80℃に上昇した。その後、残
りの9/10量の単量体混合物を、約2時間かけて、チ
ューブポンプを用いて一定速度で添加した。その後、更
に同じ温度で2時間撹拌を続けた後、室温に冷却した。
100メッシュのフィルターを通して、固形分約40重
量%の乳白色の水性エマルジョン溶液を得た。これを水
性エマルジョン1とした。
【0042】
【表1】 (合成例2)乳化重合による水性エマルジョン2〜7の
調製 合成例1と同様な方法で、連鎖移動剤やメタクリル酸の
量を変化させたり、あるいは用いる単量体の組合せを変
化させることによって、種々の特性をもつ水性エマルジ
ョンを、それぞれ固形分含有量が40%になるように調
製した。ここでは、連鎖移動剤の量とメタクリル酸の配
合比とを変化させることによって、分子量と酸価の異な
る水性エマルジョン2〜4を、単量体成分としてアクリ
ル酸エチルを除外することによって、より高いガラス転
移温度を有する水性エマルジョン5を、また、単量体成
分としてアクリル酸エチルを除外し、メタクリル酸2−
エチルヘキシル又はメタクリル酸ブチルを加えることに
よって、より低いガラス転移温度を有する水性エマルジ
ョン6及び7を、それぞれ調製した。
調製 合成例1と同様な方法で、連鎖移動剤やメタクリル酸の
量を変化させたり、あるいは用いる単量体の組合せを変
化させることによって、種々の特性をもつ水性エマルジ
ョンを、それぞれ固形分含有量が40%になるように調
製した。ここでは、連鎖移動剤の量とメタクリル酸の配
合比とを変化させることによって、分子量と酸価の異な
る水性エマルジョン2〜4を、単量体成分としてアクリ
ル酸エチルを除外することによって、より高いガラス転
移温度を有する水性エマルジョン5を、また、単量体成
分としてアクリル酸エチルを除外し、メタクリル酸2−
エチルヘキシル又はメタクリル酸ブチルを加えることに
よって、より低いガラス転移温度を有する水性エマルジ
ョン6及び7を、それぞれ調製した。
【0043】(合成例3)乳化重合による水性エマルジ
ョンR1〜R3の調製 合成例1と同様な方法で、ごく少量の連鎖移動剤を用い
て、重量平均分子量の大きい水性エマルジョンR1(酸
価の低いもの)及びR2(酸価の高いもの)を、また、
連鎖移動剤の量を増やして、重量平均分子量の小さな水
性エマルジョンR3(酸価の高いもの)を、それぞれ固
形分含有量が40重量%になるように調製した。これら
を比較例として用いた。
ョンR1〜R3の調製 合成例1と同様な方法で、ごく少量の連鎖移動剤を用い
て、重量平均分子量の大きい水性エマルジョンR1(酸
価の低いもの)及びR2(酸価の高いもの)を、また、
連鎖移動剤の量を増やして、重量平均分子量の小さな水
性エマルジョンR3(酸価の高いもの)を、それぞれ固
形分含有量が40重量%になるように調製した。これら
を比較例として用いた。
【0044】以上のとおり調製した水性エマルジョンの
重量平均分子量を、ゲル透過クロマトグラフィー(GP
C)の測定によって、ポリエチレンオキサイド換算で求
めた。以上の結果をまとめて表2に記す。
重量平均分子量を、ゲル透過クロマトグラフィー(GP
C)の測定によって、ポリエチレンオキサイド換算で求
めた。以上の結果をまとめて表2に記す。
【0045】
【表2】 (単量体前混合物1と2の調製)表3に示す各成分を、
示されている重量比で混合し、50℃で約30分間加温
して完全に溶解させた後、室温に冷却した。均一な薄紫
色の溶液が得られた。それぞれをベンゾトリアゾール
(接着促進剤)を含まない単量体前混合物1と、ベンゾ
トリアゾールを含む単量体前混合物2とし、水性の感光
性樹脂組成物の調製に用いた。
示されている重量比で混合し、50℃で約30分間加温
して完全に溶解させた後、室温に冷却した。均一な薄紫
色の溶液が得られた。それぞれをベンゾトリアゾール
(接着促進剤)を含まない単量体前混合物1と、ベンゾ
トリアゾールを含む単量体前混合物2とし、水性の感光
性樹脂組成物の調製に用いた。
【0046】
【表3】 (実施例1)30mgの水酸化リチウム1水和物を1.
5gの脱イオン水に溶解して中和用の水溶液を調製し
た。つぎに、合成例1で得られた水性エマルジョン1の
10グラムを磁気スタラーで撹拌させながら、水酸化リ
チウム水溶液を水性エマルジョンに滴下した。10mg
−KOH/g(20当量%)に相当するカルボキシル基
が中和された中和水性エマルジョンを得た。引き続い
て、この中和水性エマルジョンに2.51gの前記の単
量体前混合物1を加え、数分間撹拌した後、市販の超音
波洗浄器を用いて、15分間超音波を照射した。40℃
で1時間加温した後、再び15分間超音波を照射した。
均一で安定な水性の感光性樹脂組成物を得た。この組成
物を基板上にコーティングした後、80℃で乾燥させる
と透明で光沢のある被膜が得られた。また、組成物は室
温で1週間放置した後も、単量体の分離等は認められな
かった。表4にその組成比率を示す。
5gの脱イオン水に溶解して中和用の水溶液を調製し
た。つぎに、合成例1で得られた水性エマルジョン1の
10グラムを磁気スタラーで撹拌させながら、水酸化リ
チウム水溶液を水性エマルジョンに滴下した。10mg
−KOH/g(20当量%)に相当するカルボキシル基
が中和された中和水性エマルジョンを得た。引き続い
て、この中和水性エマルジョンに2.51gの前記の単
量体前混合物1を加え、数分間撹拌した後、市販の超音
波洗浄器を用いて、15分間超音波を照射した。40℃
で1時間加温した後、再び15分間超音波を照射した。
均一で安定な水性の感光性樹脂組成物を得た。この組成
物を基板上にコーティングした後、80℃で乾燥させる
と透明で光沢のある被膜が得られた。また、組成物は室
温で1週間放置した後も、単量体の分離等は認められな
かった。表4にその組成比率を示す。
【0047】
【表4】 このようにして得られた水性の感光性樹脂組成物を、予
め化学洗浄してその表面を清浄にしておいた銅張り積層
板の上に、26番のワイヤーロッドを用いてコーティン
グした。これを80℃のオーブン中で5分間乾燥させ
た。透明で光沢のある均一な約20μmの厚みを有した
被膜を得た。この被膜の表面はベタツキがなく全くドラ
イであった。次に、この基板に、異なった透過率を段階
的に有するステップタブレット(コダックステップタブ
レットNo.2、濃度ステップ0.15、濃度領域0.
05〜3.05)と30μmまでの線画像を有する解像
力チャートを直接接触させて、市販の紫外線露光機を用
いて減圧下に160mJ/cm2の紫外線を照射した。
その後、基板を25℃に調整した1%の炭酸ナトリウム
水溶液中に浸漬し、水溶液を撹拌しながら現像した。未
露光部が洗い流される最低現像時間(以下、ブレークポ
イントと言う)と、ステップタブレットを通して硬化さ
せた部位が剥離もしくは膨潤し始める現像時間を測定し
た。その比をラテチュードとして求めた。また、現像の
前後で、ステップタブレットを通して硬化させた部位の
厚みを測定し、現像により減少した厚みを厚み減少率と
して求めた。
め化学洗浄してその表面を清浄にしておいた銅張り積層
板の上に、26番のワイヤーロッドを用いてコーティン
グした。これを80℃のオーブン中で5分間乾燥させ
た。透明で光沢のある均一な約20μmの厚みを有した
被膜を得た。この被膜の表面はベタツキがなく全くドラ
イであった。次に、この基板に、異なった透過率を段階
的に有するステップタブレット(コダックステップタブ
レットNo.2、濃度ステップ0.15、濃度領域0.
05〜3.05)と30μmまでの線画像を有する解像
力チャートを直接接触させて、市販の紫外線露光機を用
いて減圧下に160mJ/cm2の紫外線を照射した。
その後、基板を25℃に調整した1%の炭酸ナトリウム
水溶液中に浸漬し、水溶液を撹拌しながら現像した。未
露光部が洗い流される最低現像時間(以下、ブレークポ
イントと言う)と、ステップタブレットを通して硬化さ
せた部位が剥離もしくは膨潤し始める現像時間を測定し
た。その比をラテチュードとして求めた。また、現像の
前後で、ステップタブレットを通して硬化させた部位の
厚みを測定し、現像により減少した厚みを厚み減少率と
して求めた。
【0048】即ち、 ラテチュード=(ステップタブレットの1〜6段を通し
て硬化させた部位のうちどれかが剥離もしくは膨潤し始
める現像時間)/(ブレークポイント); 厚み減少率=((現像前の硬化部位の厚み)−(現像後の
硬化部位の厚み))/(現像前の硬化部位の厚み)×1
00; である。
て硬化させた部位のうちどれかが剥離もしくは膨潤し始
める現像時間)/(ブレークポイント); 厚み減少率=((現像前の硬化部位の厚み)−(現像後の
硬化部位の厚み))/(現像前の硬化部位の厚み)×1
00; である。
【0049】ブレークポイントは25秒と早く、ステッ
プタブレットの9段までが硬化した。また、そのラテチ
ュードは6.3倍と優れていた。30μmの線幅が30
μmの間隔でもって5本配置されている線画像における
線間の洗いだしも良く、30μmのラインアンドスペー
スが良好に現像できた。更に、ステップタブレットの2
段において測定した厚み減少率は0%であった。
プタブレットの9段までが硬化した。また、そのラテチ
ュードは6.3倍と優れていた。30μmの線幅が30
μmの間隔でもって5本配置されている線画像における
線間の洗いだしも良く、30μmのラインアンドスペー
スが良好に現像できた。更に、ステップタブレットの2
段において測定した厚み減少率は0%であった。
【0050】(実施例2〜4)酸価と分子量がそれぞれ
異なっている水性エマルジョン2〜4を用いて、実施例
1と同様の方法で、20当量%に相当するカルボキシル
基を中和して、中和水性エマルジョンを得た。引き続い
て、実施例1と全く同様にして、均一で安定な水性の感
光性樹脂組成物を得た。次に、これらの組成物のブレー
クポイントとラテチュード及び厚み減少率を評価した。
ブレークポイントは47秒以下、ラテチュードは4倍以
上、厚み減少率は20%以下と、それぞれ良好な結果を
得た。
異なっている水性エマルジョン2〜4を用いて、実施例
1と同様の方法で、20当量%に相当するカルボキシル
基を中和して、中和水性エマルジョンを得た。引き続い
て、実施例1と全く同様にして、均一で安定な水性の感
光性樹脂組成物を得た。次に、これらの組成物のブレー
クポイントとラテチュード及び厚み減少率を評価した。
ブレークポイントは47秒以下、ラテチュードは4倍以
上、厚み減少率は20%以下と、それぞれ良好な結果を
得た。
【0051】(実施例5〜7)ガラス転移温度が異なっ
ている水性エマルジョン5〜7を用いて、それらの高分
子化合物のカルボキシル基の20当量%に相当する部分
を水酸化リチウムによって中和した後、実施例1と同様
の手順で均一で安定な水性の感光性樹脂組成物を得た。
次に、これらの組成物のブレークポイントとラテチュー
ド及び厚み減少率を評価した。ブレークポイント、ラテ
チュード、厚み減少率ともに、それぞれ良好な結果を得
た。
ている水性エマルジョン5〜7を用いて、それらの高分
子化合物のカルボキシル基の20当量%に相当する部分
を水酸化リチウムによって中和した後、実施例1と同様
の手順で均一で安定な水性の感光性樹脂組成物を得た。
次に、これらの組成物のブレークポイントとラテチュー
ド及び厚み減少率を評価した。ブレークポイント、ラテ
チュード、厚み減少率ともに、それぞれ良好な結果を得
た。
【0052】(実施例8及び9)単量体前混合物2を用
いた以外は実施例1と同様にして、水性エマルジョン2
及び4を用いて水性の感光性樹脂組成物を調製し、それ
らのブレークポイントとラテチュード及び厚み減少率を
評価した。ブレークポイントと厚み減少率は、単量体前
混合物1を用いた実施例2及び4とほぼ同等であった。
しかし、それらのラテチュードは、ベンゾトリアゾール
の添加によって更に広くなることが分かった。
いた以外は実施例1と同様にして、水性エマルジョン2
及び4を用いて水性の感光性樹脂組成物を調製し、それ
らのブレークポイントとラテチュード及び厚み減少率を
評価した。ブレークポイントと厚み減少率は、単量体前
混合物1を用いた実施例2及び4とほぼ同等であった。
しかし、それらのラテチュードは、ベンゾトリアゾール
の添加によって更に広くなることが分かった。
【0053】以上の実施例の結果を表5に要約する。
【0054】
【表5】 (比較例1)合成例3で得られた、重量平均分子量が6
5,000で酸価が72mg−KOH/gの高分子化合
物からなる水性エマルジョンR1の20当量%を水酸化
リチウムで中和した後、実施例1と同様にして水性の感
光性樹脂組成物を調製し、そのブレークポイントとラテ
チュードを評価した。ブレークポイントは300秒以上
であり、洗い出すことそのものが困難であった。酸価が
低い場合は、高分子化合物の重量平均分子量が65,0
00では洗い出しができないことが分かった。
5,000で酸価が72mg−KOH/gの高分子化合
物からなる水性エマルジョンR1の20当量%を水酸化
リチウムで中和した後、実施例1と同様にして水性の感
光性樹脂組成物を調製し、そのブレークポイントとラテ
チュードを評価した。ブレークポイントは300秒以上
であり、洗い出すことそのものが困難であった。酸価が
低い場合は、高分子化合物の重量平均分子量が65,0
00では洗い出しができないことが分かった。
【0055】(比較例2)合成例3で得られた、重量平
均分子量が65,000で酸価が160mg−KOH/
gの高分子化合物からなる水性エマルジョンR2の20
当量%を水酸化リチウムで中和した後、実施例1と同様
にして水性の感光性樹脂組成物を調製し、そのブレーク
ポイントとラテチュードを評価した。ブレークポイント
は82秒で実用に適するものであったが、ラテチュード
は1.1と狭く、ブレークポイント後、すぐに硬化部位
が膨潤し始めた。重量平均分子量が大きく酸価が高い場
合には、洗い出しは可能であるが、硬化部位が膨潤し易
いために、ラテチュードが狭く、実用性に乏しいことが
分かった。
均分子量が65,000で酸価が160mg−KOH/
gの高分子化合物からなる水性エマルジョンR2の20
当量%を水酸化リチウムで中和した後、実施例1と同様
にして水性の感光性樹脂組成物を調製し、そのブレーク
ポイントとラテチュードを評価した。ブレークポイント
は82秒で実用に適するものであったが、ラテチュード
は1.1と狭く、ブレークポイント後、すぐに硬化部位
が膨潤し始めた。重量平均分子量が大きく酸価が高い場
合には、洗い出しは可能であるが、硬化部位が膨潤し易
いために、ラテチュードが狭く、実用性に乏しいことが
分かった。
【0056】(比較例3)合成例3で得られた、重量平
均分子量が5,000と小さく、酸価が160mg−K
OH/gの高分子化合物からなる水性エマルジョンR3
の20当量%を水酸化リチウムで中和した後、実施例1
と同様にして水性の感光性樹脂組成物を調製し、そのブ
レークポイントとラテチュードを評価した。ブレークポ
イントは24秒と早かったが、ブレークポイント後、し
ばらくして硬化部位が剥離により失われた。このため、
ラテチュードは2.8とやや狭いものであった。重量平
均分子量が小さく酸価が高い場合には、硬化部位が剥離
し易いためにラテチュードが狭く、実用性に乏しいこと
が分かった。また、厚み減少率も48%と大きいもので
あった。
均分子量が5,000と小さく、酸価が160mg−K
OH/gの高分子化合物からなる水性エマルジョンR3
の20当量%を水酸化リチウムで中和した後、実施例1
と同様にして水性の感光性樹脂組成物を調製し、そのブ
レークポイントとラテチュードを評価した。ブレークポ
イントは24秒と早かったが、ブレークポイント後、し
ばらくして硬化部位が剥離により失われた。このため、
ラテチュードは2.8とやや狭いものであった。重量平
均分子量が小さく酸価が高い場合には、硬化部位が剥離
し易いためにラテチュードが狭く、実用性に乏しいこと
が分かった。また、厚み減少率も48%と大きいもので
あった。
【0057】以上の比較例の結果を表6に要約する。
【0058】
【表6】 (参考例1)モンサント社より市販されているスチレン
/マレイン酸共重合体(スクリプセット550)4g
と、単量体前混合物1の2.51gとを、プロピレング
リコールメチルエーテルアセテート8g中に溶解し、溶
媒型の感光性樹脂組成物を得た。これを実施例1と同様
の方法で評価した。ブレークポイント、ラテチュード共
に、現在市販されている溶媒型の感光性樹脂組成物と同
程度であった。溶媒型であれば分子量が高くても実用性
のあることが明らかになった。
/マレイン酸共重合体(スクリプセット550)4g
と、単量体前混合物1の2.51gとを、プロピレング
リコールメチルエーテルアセテート8g中に溶解し、溶
媒型の感光性樹脂組成物を得た。これを実施例1と同様
の方法で評価した。ブレークポイント、ラテチュード共
に、現在市販されている溶媒型の感光性樹脂組成物と同
程度であった。溶媒型であれば分子量が高くても実用性
のあることが明らかになった。
【0059】(参考例2)単量体前混合物2を用いて、
参考例1と全く同様に溶媒型の感光性樹脂組成物を調製
した。ブレークポイント、ラテチュード共に参考例1と
ほぼ同じであった。従来技術から調製される溶媒型の感
光性樹脂組成物では、ベンゾトリアゾールの添加によっ
てそのラテチュードが改善されないことがわかった。
参考例1と全く同様に溶媒型の感光性樹脂組成物を調製
した。ブレークポイント、ラテチュード共に参考例1と
ほぼ同じであった。従来技術から調製される溶媒型の感
光性樹脂組成物では、ベンゾトリアゾールの添加によっ
てそのラテチュードが改善されないことがわかった。
【0060】以上の参考例の結果を表7に要約する。
【0061】
【表7】 (実施例10)水性エマルジョン2を用い、ベンゾトリ
アゾールに代えて同量のベンゾトリアゾール誘導体:B
T−LX(城北化学工業(株)社製)を配合した単量体
前混合物を用いた以外は、実施例1と同様にして水性の
感光性樹脂組成物を調製し、そのブレークポイントとラ
テチュードを評価した。ベンゾトリアゾール誘導体でも
同等の効果が得られることがわかった。
アゾールに代えて同量のベンゾトリアゾール誘導体:B
T−LX(城北化学工業(株)社製)を配合した単量体
前混合物を用いた以外は、実施例1と同様にして水性の
感光性樹脂組成物を調製し、そのブレークポイントとラ
テチュードを評価した。ベンゾトリアゾール誘導体でも
同等の効果が得られることがわかった。
【0062】実施例10の結果を表8に要約する。
【0063】
【表8】 (実施例11)600mgの水酸化リチウム1水和物を
20gの脱イオン水に溶解して、カルボキシル基中和用
の水溶液を調製した。次に、水性エマルジョン3の25
gを撹拌しながら、水性エマルジョン中に水酸化リチウ
ム水溶液を滴下した。80当量%に相当するカルボキシ
ル基が中和され、水性エマルジョンの粒子は溶解し、透
明で高粘度の水溶液を得た。引き続いて、この水溶液に
25.1gの前記の単量体前混合物1を加えた後、この
混合物をホモジナイザーを用いて撹拌し、均一に乳化、
分散させた。次に、水性エマルジョン3の75gとこの
分散液とを混合し、羽付の撹拌棒を用いて、200rp
mの回転速度で30分間撹拌した。平均で20当量%に
相当するカルボキシル基が中和された、均一で安定な水
性の感光性樹脂組成物を得た。これを、予め化学洗浄し
てその表面を清浄にしておいた銅張り積層板の上に、ロ
ールコーターを用いてコーティングした。これを80℃
のオーブン中で5分間乾燥させた。透明で光沢のある均
一な約12μmの厚みを有する被膜を得た。この被膜の
表面はベタつきがなくドライであった。次に、この基板
にステップタブレットと30μmまでの線画像を有する
解像力チャートを直接接触させて、市販の紫外線露光機
を用いて減圧下で160mJ/cm2の紫外線を照射し
た。その後、25℃に調整した1%の炭酸ナトリウム水
溶液を60秒間スプレーして現像した。ステップタブレ
ットの7段までが硬化した。また、30μmのラインア
ンドスペースが良好に現像できた。
20gの脱イオン水に溶解して、カルボキシル基中和用
の水溶液を調製した。次に、水性エマルジョン3の25
gを撹拌しながら、水性エマルジョン中に水酸化リチウ
ム水溶液を滴下した。80当量%に相当するカルボキシ
ル基が中和され、水性エマルジョンの粒子は溶解し、透
明で高粘度の水溶液を得た。引き続いて、この水溶液に
25.1gの前記の単量体前混合物1を加えた後、この
混合物をホモジナイザーを用いて撹拌し、均一に乳化、
分散させた。次に、水性エマルジョン3の75gとこの
分散液とを混合し、羽付の撹拌棒を用いて、200rp
mの回転速度で30分間撹拌した。平均で20当量%に
相当するカルボキシル基が中和された、均一で安定な水
性の感光性樹脂組成物を得た。これを、予め化学洗浄し
てその表面を清浄にしておいた銅張り積層板の上に、ロ
ールコーターを用いてコーティングした。これを80℃
のオーブン中で5分間乾燥させた。透明で光沢のある均
一な約12μmの厚みを有する被膜を得た。この被膜の
表面はベタつきがなくドライであった。次に、この基板
にステップタブレットと30μmまでの線画像を有する
解像力チャートを直接接触させて、市販の紫外線露光機
を用いて減圧下で160mJ/cm2の紫外線を照射し
た。その後、25℃に調整した1%の炭酸ナトリウム水
溶液を60秒間スプレーして現像した。ステップタブレ
ットの7段までが硬化した。また、30μmのラインア
ンドスペースが良好に現像できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 33/02 LHR C08L 33/02 LHR 101/08 LTB 101/08 LTB G03F 7/004 501 G03F 7/004 501 C5 7/027 502 7/027 502 C1-2 7/085 7/085 C3-4 H05K 3/06 H05K 3/06 H 3/18 7511−4E 3/18 D (72)発明者 西郷 剛 神奈川県厚木市戸室145−4 (72)発明者 ジョン・スコット・ハロック アメリカ合衆国メリーランド州21042、エ リコット市、キングズブリッジ・ロード 10324 (72)発明者 アラン・フレデリック・ベックネル アメリカ合衆国メリーランド州21043、エ リコット市、トゥレイル・ヴィユー・ドラ イブ 8549
Claims (10)
- 【請求項1】 (a)カルボキシル基を含有する高分子
化合物の水性エマルジョン; (b)光重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物;及び (c)活性光照射により遊離ラジカルを発生し得る光重
合開始剤; を必須成分として含有し;(a)成分の高分子化合物の
重量平均分子量が1,000から50,000の範囲内
であり、その酸価が40〜140mg−KOH/gの範
囲内であり、且つそのガラス転移温度が50〜200℃
の範囲内であることを特徴とするものである、希アルカ
リ水溶液で現像可能な水性の感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 (a)成分の水性エマルジョンのカルボ
ン酸の5〜100mg−KOH/g相当分があらかじめ
塩基で中和されていることを特徴とする希アルカリ水溶
液で現像可能な請求項1に記載の水性の感光性樹脂組成
物。 - 【請求項3】 更に、(d)接着促進剤が配合されてい
ることを特徴とする請求項1に記載の希アルカリ水溶液
で現像可能な水性の感光性樹脂組成物。 - 【請求項4】 更に、(d)接着促進剤が配合されてい
ることを特徴とする請求項2に記載の希アルカリ水溶液
で現像可能な水性の感光性樹脂組成物。 - 【請求項5】 (a)成分の水性エマルジョンが、連鎖
移動剤の存在下での乳化重合によって調製されるもので
ある請求項1〜4のいずれかに記載の希アルカリ水溶液
で現像可能な水性の感光性樹脂組成物。 - 【請求項6】 (a)成分の水性エマルジョンが、溶解
度パラメーター(SP値)が9.0以上である連鎖移動
剤の存在下での乳化重合によって調製されるものである
請求項5に記載の希アルカリ水溶液で現像可能な水性の
感光性樹脂組成物。 - 【請求項7】 (a)成分の水性エマルジョンが、チオ
グリコール酸、3−メルカプトプロピオン酸及びそれら
のエステル類を連鎖移動剤として用いた乳化重合によっ
て調製されるものである請求項6に記載の希アルカリ水
溶液で現像可能な水性の感光性樹脂組成物。 - 【請求項8】 (a)成分の水性エマルジョン中の高分
子化合物の酸成分がアクリル酸もしくはメタクリル酸で
あって、他の共重合成分がメタクリル酸エステル、アク
リル酸エステル、スチレン、ビニルエステルから選ばれ
るものである請求項5に記載の希アルカリ水溶液で現像
可能な水性の感光性樹脂組成物。 - 【請求項9】 (d)成分の接着促進剤がベンゾトリア
ゾール又はその誘導体である請求項3又は4に記載の希
アルカリ水溶液で現像可能な水性の感光性樹脂組成物。 - 【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載の希ア
ルカリ水溶液で現像可能な水性の感光性樹脂組成物を用
いて製造されたプリント配線板。
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|---|---|---|---|---|
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| JP2013040325A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | 成形材料 |
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6136507A (en) * | 1998-03-12 | 2000-10-24 | Goo Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and photoresist ink for manufacturing printed wiring boards |
| US6322952B1 (en) | 1998-03-12 | 2001-11-27 | Goo Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and photoresist ink for manufacturing printed wiring boards |
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| JP2013040325A (ja) * | 2011-07-20 | 2013-02-28 | Nippon Shokubai Co Ltd | 成形材料 |
| JP2013234271A (ja) * | 2012-04-09 | 2013-11-21 | Nippon Shokubai Co Ltd | 被膜形成用材料 |
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