JPH0834232B2 - 基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送方法

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JPH0834232B2
JPH0834232B2 JP60206402A JP20640285A JPH0834232B2 JP H0834232 B2 JPH0834232 B2 JP H0834232B2 JP 60206402 A JP60206402 A JP 60206402A JP 20640285 A JP20640285 A JP 20640285A JP H0834232 B2 JPH0834232 B2 JP H0834232B2
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JP
Japan
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substrate
lifter
wafer
substrates
autoloader
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JP60206402A
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秋一 伊藤
勉 半野
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は被搬送物を収納するカセットからイオン打込
み装置等の処理装置に前記被搬送物を装着かつその逆の
回収も行ない得るオートローダを使用した基板搬送方法
に関する。
〔発明の背景〕
従来のオートローダは、第２図に示すように駆動部の
モータ３により、それに接続された機構部のボールねじ
４の上下運動と駆動部のベルト５の動きでウエハカセッ
ト１からウエハカセット２を順次取り出し、その後モー
タ３及びボールねじ４によってウエハ２がイオン打込み
装置６に装着されるというものである。また以上の逆の
ウエハをウエハカセットに回収する動作も行う。
本オートローダでは、ウエハ搬送上にカバーはしてあ
るがボールねじ４があり、ウエハ上に異物落下の可能性
があるという欠点があった。
また、本オートローダは非常に大型でオートローダが
故障した場合、オートローダが障害となり、作業者の手
動での作業も困難となる。
なお、イオン打込み装置及びウエハのオートローダは
電子材料別冊1984年版「超LSI製造・試験装置」昭和58
年11月15日工業調査会発行頁81〜86に紹介されている。
更に、従来のホトレジ塗布工程では、異物の存在がそ
のままパターンに転写され、不良となるが、イオン打込
み工程では、ある程度の異物が存在しても、イオン打込
み後アニール工程を行なうことにより不純物が拡散し、
異物の存在により不純物が打込まれなかった部分も濃度
の薄い不純物領域となる程度であった。この為、イオン
打込工程ではそれ程異物に対する対策に注意が払われて
いなかった。
〔発明の目的〕
本発明の一つの目的は、ウエハ上への異物付着を低減
する事である。
本発明の他の目的はオートローダをコンパクト化し、
オートローダが故障しても、作業者の手動での作業の障
害とならずにイオン打込み装置を稼働する事ができるよ
うにすることにある。
〔発明の概要〕
本発明の一実施例によればウエハ２を最上位置とする
ウエハを搬送する駆動系が提供されウエハ上への異物落
下が低減された。
〔発明の実施例〕
第１図に本発明に用いるオートローダ７の側面図を示
す。
本発明の基板搬送系は、クリーンルーム内にある、オ
ートローダ、複数の収納カセット、基板リフター及び基
板搬送部が、基板処理装置の一方側のみに配置されてい
る。まず、オートローダ７上にウエハ２の入ったウエハ
カセット１を複数個載せる。その後、特定のウエハカセ
ット１から順次指定するウエハ２が、上下及び面内移動
機能を有するウエハリフター９により運ばれ、上昇し、
この位置で、回転機能を有するウエハ搬送部８にウエハ
２の受け渡しが行われる。
この後、ウエハ搬送部８によってウエハ２がイオン打
込み装置６に装着される。
第１図に示すように、これらの動作をとおして、被搬
送物は、搬送部の駆動部及びそれに接続された機構部よ
り上方の位置にある。
ウエハ２の回収は上記と逆の動作を行う。
〔発明の効果〕
1.被搬送物上方に搬送部の駆動部及びそれに接続された
機構部がないため、被搬送物の上側表面上への異物落下
の低減がはかれ、歩留が向上する。
2.コンパクト化が図られ、オートローダが故障した場合
にも作業者が、イオン打込み装置を停止する事なく、作
業ができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に用いるイオン打込み装置用オートロー
ダ、第２図は従来のイオン打込み装置用オートローダを
示す側面図である。 １……ウエハカセット、２……ウエハ、３……モータ、
４……ボールねじ、５……ベルト、６……イオン打込み
装置、７……オートローダ、８……ウエハ搬送部、９…
…ウエハリフター。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】オートローダは、基板搬送部と基板リフタ
    ーとを有し、かつ、複数の収納カセットが載置され、そ
    して、基板処理装置に対向して配置されるものであり、
    複数の収納カセットと基板リフターと基板搬送部と基板
    処理装置とは、この順に位置しており、基板リフター
    は、上下および前後方向に駆動するものであって、収納
    カセットの中から基板を順次取り出したり、または、収
    納カセットの中に基板を順次入れたり、そして、収納カ
    セット外にあって、かつ、上昇した位置において、基板
    搬送部との間で基板を受け渡しするものであり、基板搬
    送部は、回転駆動するものであって、基板処理装置の中
    から基板を順次取り出したり、または、基板処理装置の
    中に基板を順次入れたり、そして、基板リフターが収納
    カセット外にあって、かつ、上昇した位置において、基
    板リフターとの間で基板を受け渡しするものであり、基
    板の表面は、基板リフターを駆動する機構部および基板
    搬送部を駆動する機構部より上方に位置していることを
    特徴とする基板搬送方法。
  2. 【請求項２】前記処理装置がイオン打込み装置であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の基板搬送方
    法。
JP60206402A 1985-09-20 1985-09-20 基板搬送方法 Expired - Lifetime JPH0834232B2 (ja)

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JPS6267832A JPS6267832A (ja) 1987-03-27
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JPS564244A (en) * 1979-06-25 1981-01-17 Hitachi Ltd Continuous vacuum treatment device for wafer
JPS5847704A (ja) * 1981-09-11 1983-03-19 Hitachi Ltd ウエハ着脱搬送装置

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