JPS6267832A - 基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送方法

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Publication number
JPS6267832A
JPS6267832A JP20640285A JP20640285A JPS6267832A JP S6267832 A JPS6267832 A JP S6267832A JP 20640285 A JP20640285 A JP 20640285A JP 20640285 A JP20640285 A JP 20640285A JP S6267832 A JPS6267832 A JP S6267832A
Authority
JP
Japan
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wafer
autoloader
ion implantation
wafers
transport method
Prior art date
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Application number
JP20640285A
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English (en)
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JPH0834232B2 (ja
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Shuichi Ito
伊藤 秋一
Tsutomu Hanno
勉 半野
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はウェハカセットからウェハをイオン打込み装置
に装着かつその逆の回収も行うオートローダに関する。
〔発明の背景〕
従来のオートローダは、第2図に示すようにモ〜り3に
よりボールねじ4の上下動作とベルト5の動きでウェハ
カセット1からウェハ2を順次取り出し、その後モータ
3及びボールねじ4によってウェハ2がイオン打込み装
fit6に装着されるというものである。また以上の逆
のウェハをウェハカセットに回収する動作も行う。
本オートローダでは、ウェハ搬送上にカバーはしである
がボールねじ4があり、ウェハ上に異物落下の可能性が
あるという欠点があった。
また、本オートローダは非常に大型でオートローダが故
障した場合、オートローダが障害となり、作業者の手動
での作業も困難となる。
なお、イオン打込み装置及びウェハのオートローダは電
子材料別冊1984年版「超LSI製造・試験装置」昭
和58年11月15日工業調査会発行頁81〜86に紹
介されている。
〔発明の目的〕
本発明の一つの目的は、ウェハ上への異物付着を低減す
る事である。
本発明の他の目的はオートローダをコンパクト化し、オ
ートローダが故障しても1作業者の手動での作業の障害
とならずにイオン打込み装置を稼動する事ができるよう
にすることにある。
〔発明の概要〕
本発明の一実施例によればウェハ2を最上位置とするウ
ェハを搬送する駆動系が提供されウェハ上への異物落下
が低減された。
(発明の実施例〕 第1図に本発明によるオートローダ7の側面図を示す。
まず、オートローダ7にウェハ2の入ったウェハカセッ
ト1を載せる。その後、ウェハカセット1から順次ウェ
ハ2がウェハリフター9のところに運ばれ、上昇し、こ
の位置で、ウェハ搬送部8にウェハ2の受は渡しが行わ
れる。
この後、ウェハ搬送部8によってウェハ2がイオン打込
み装置6に装着される。
ウェハ2の回収は上記と逆の動作を行う。
〔発明の効果〕
1、ウェハ上部に駆動部がないため、ウェハ表面上への
異物落下の低減がはかれ1歩留が向上する。
2、コンパクト化が図られ、オートローダが故障した場
合にも作業者が、イオン打込み装置を停止する事なく、
作業ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるイオン打込み装置用オートローダ
、第2図は従来のイオン打込み装置用オートローダを示
す側面図である。 1・・・ウェハカセット、2・・・ウェハ、3・・・モ
ータ、4・・・ボールねじ、5・・・ベルト、6・・・
イオン打込み装置、7・・・オートローダ、8・・・ウ
ェハ搬送部、9・・・ウェハリフター。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェハカセット上下降機能とウェハを最上位置にするウ
    ェハ搬送部とを組合せたことを特徴とするイオン打込み
    装置用オートローダ。
JP60206402A 1985-09-20 1985-09-20 基板搬送方法 Expired - Lifetime JPH0834232B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0642645U (ja) * 1992-11-17 1994-06-07 有限会社コンペックス 仕切板

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS564244A (en) * 1979-06-25 1981-01-17 Hitachi Ltd Continuous vacuum treatment device for wafer
JPS5847704A (ja) * 1981-09-11 1983-03-19 Hitachi Ltd ウエハ着脱搬送装置

Patent Citations (2)

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JPH0642645U (ja) * 1992-11-17 1994-06-07 有限会社コンペックス 仕切板

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