JPH083764A - 金装飾品及びその製造方法 - Google Patents
金装飾品及びその製造方法Info
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- JPH083764A JPH083764A JP15954494A JP15954494A JPH083764A JP H083764 A JPH083764 A JP H083764A JP 15954494 A JP15954494 A JP 15954494A JP 15954494 A JP15954494 A JP 15954494A JP H083764 A JPH083764 A JP H083764A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 金により形成された模様の損傷がなく，外観
の良好な金装飾品及びその製造方法を提供すること。 【構成】 装飾基材６の表面に，金により模様５が形成
されている。模様５は，ＳｉＯ2 等の保護層１により被
覆されている。保護層１は，模様５の表面だけでなく，
模様５を形成した装飾基材６の装飾面６０を被覆してい
てもよい。保護層１の厚みは，０．０１μｍ〜１０μｍ
であることが好ましい。装飾基材６は，例えば，陶磁
器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又はホーローのいず
れかである。保護層１の形成は，模様５が形成された装
飾面６０に，テトラアルキルシリケートの加水分解物を
塗布し，熱処理を施すことにより行うことができる。
の良好な金装飾品及びその製造方法を提供すること。 【構成】 装飾基材６の表面に，金により模様５が形成
されている。模様５は，ＳｉＯ2 等の保護層１により被
覆されている。保護層１は，模様５の表面だけでなく，
模様５を形成した装飾基材６の装飾面６０を被覆してい
てもよい。保護層１の厚みは，０．０１μｍ〜１０μｍ
であることが好ましい。装飾基材６は，例えば，陶磁
器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又はホーローのいず
れかである。保護層１の形成は，模様５が形成された装
飾面６０に，テトラアルキルシリケートの加水分解物を
塗布し，熱処理を施すことにより行うことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，陶磁器，ガラス，結晶
化ガラス等の装飾基材の表面に，金により模様が形成さ
れた金装飾品及びその製造方法に関する。
化ガラス等の装飾基材の表面に，金により模様が形成さ
れた金装飾品及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又
はホーローなどの表面には，様々な模様が施されている
ことが多い。この模様の中には，金絵付け，金を含むラ
スター彩，メッキ等，金を主成分としたものが多い。か
かる金装飾が施された金装飾品は，金独特の美しい光沢
があり，そのため，特に装飾性が高く，珍重される。
はホーローなどの表面には，様々な模様が施されている
ことが多い。この模様の中には，金絵付け，金を含むラ
スター彩，メッキ等，金を主成分としたものが多い。か
かる金装飾が施された金装飾品は，金独特の美しい光沢
があり，そのため，特に装飾性が高く，珍重される。
【０００３】
【解決しようとする課題】しかしながら，上記従来の金
装飾品においては，模様を金により形成している。この
金は，Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王水，又はＨＮＯ3 ，ＨＩ
Ｏ3 ，ＭｎＯ2 ，Ｈ2 Ｏ2 等の酸化剤を含むＨＣｌに溶
ける性質がある。そのため，金装飾品が，例えば，洗浄
の作業中に，上記の溶液と接触した場合には，模様を損
ない，金装飾品の外観が悪くなるおそれがある。本発明
はかかる従来の問題点に鑑み，金により形成された模様
の損傷がなく，外観の良好な金装飾品及びその製造方法
を提供しようとするものである。
装飾品においては，模様を金により形成している。この
金は，Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王水，又はＨＮＯ3 ，ＨＩ
Ｏ3 ，ＭｎＯ2 ，Ｈ2 Ｏ2 等の酸化剤を含むＨＣｌに溶
ける性質がある。そのため，金装飾品が，例えば，洗浄
の作業中に，上記の溶液と接触した場合には，模様を損
ない，金装飾品の外観が悪くなるおそれがある。本発明
はかかる従来の問題点に鑑み，金により形成された模様
の損傷がなく，外観の良好な金装飾品及びその製造方法
を提供しようとするものである。
【０００４】
【課題の解決手段】本発明は，装飾基材の表面に，金に
より模様が形成された金装飾品において，上記模様の表
面は，ＳｉＯ2 からなる保護層により被覆されているこ
とを特徴とする金装飾品にある。
より模様が形成された金装飾品において，上記模様の表
面は，ＳｉＯ2 からなる保護層により被覆されているこ
とを特徴とする金装飾品にある。
【０００５】本発明において最も注目すべきことは，金
により形成された模様が，ＳｉＯ2よりなる保護層によ
り被覆されていることであることである。
により形成された模様が，ＳｉＯ2よりなる保護層によ
り被覆されていることであることである。
【０００６】保護層の厚みは，０．０１μｍ〜１０μｍ
であることが好ましい。０．０１μｍ未満の場合には，
Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王水，又は酸化剤を含むＨＣｌに
より，模様を形成する金が侵食され，模様を損なうおそ
れがある。一方，１０μｍを越える場合には，保護層に
ひびわれが生じ，模様の外観を損なうおそれがある。さ
らに好ましくは，上記と同様の理由により，０．１μｍ
〜２μｍがよい。保護層は，金により形成された模様だ
けでなく，模様を形成した装飾基材の装飾面を被覆して
いてもよい。保護層は，装飾面における模様の周辺部だ
けを部分的に被覆していてもよいし，装飾面全体を被覆
していてもよい。
であることが好ましい。０．０１μｍ未満の場合には，
Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王水，又は酸化剤を含むＨＣｌに
より，模様を形成する金が侵食され，模様を損なうおそ
れがある。一方，１０μｍを越える場合には，保護層に
ひびわれが生じ，模様の外観を損なうおそれがある。さ
らに好ましくは，上記と同様の理由により，０．１μｍ
〜２μｍがよい。保護層は，金により形成された模様だ
けでなく，模様を形成した装飾基材の装飾面を被覆して
いてもよい。保護層は，装飾面における模様の周辺部だ
けを部分的に被覆していてもよいし，装飾面全体を被覆
していてもよい。
【０００７】また，保護層としては，上記ＳｉＯ2 の他
に，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＴｉＯ2 ，又はＺｒＯ2 のいずれかの
酸化物を用いることもできる。上記装飾基材は，例え
ば，陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又はホーロ
ーのいずれかである。上記金属としては，ステンレス，
クロム，ニッケル等を用いることができる。上記装飾面
には，金よりなる模様の他に，金を含まない模様が形成
されていてもよい。ＳｉＯ2 からなる保護層が，これら
の模様を被覆することにより，模様の損傷を防止するこ
とができる。
に，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＴｉＯ2 ，又はＺｒＯ2 のいずれかの
酸化物を用いることもできる。上記装飾基材は，例え
ば，陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又はホーロ
ーのいずれかである。上記金属としては，ステンレス，
クロム，ニッケル等を用いることができる。上記装飾面
には，金よりなる模様の他に，金を含まない模様が形成
されていてもよい。ＳｉＯ2 からなる保護層が，これら
の模様を被覆することにより，模様の損傷を防止するこ
とができる。
【０００８】次に，上記保護層としてＳｉＯ2 を用いた
金装飾品の製造方法としては，例えば，装飾基材の表面
に，金により模様を形成し，次いで，上記模様の表面
に，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4 （Ｒはアルキル基を意味す
る。以下同様。）であらわされるテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物を塗布し，熱処理を施すことにより，
上記模様の表面をＳｉＯ2 の保護層により被覆すること
を特徴とする金装飾品の製造方法がある。
金装飾品の製造方法としては，例えば，装飾基材の表面
に，金により模様を形成し，次いで，上記模様の表面
に，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4 （Ｒはアルキル基を意味す
る。以下同様。）であらわされるテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物を塗布し，熱処理を施すことにより，
上記模様の表面をＳｉＯ2 の保護層により被覆すること
を特徴とする金装飾品の製造方法がある。
【０００９】上記製造方法において最も注目すべきこと
は，金により形成された模様の表面に，テトラアルキル
シリケートの加水分解物を塗布し，熱処理を施して，Ｓ
ｉＯ2 の保護層を形成することである。上記テトラアル
キルシリケートは，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4 で表され，ま
た，該一般式中のＲ（アルキル基）は，例えばメチル
基，エチル基，プロピル基，及びブチル基のグループか
ら選ばれる１種又は２種以上である。上記一般式におい
て，１つのＳｉに結合している４つのＲは，すべて同一
のアルキル基であってもよい。また，互いに異なるアル
キル基であってもよい。
は，金により形成された模様の表面に，テトラアルキル
シリケートの加水分解物を塗布し，熱処理を施して，Ｓ
ｉＯ2 の保護層を形成することである。上記テトラアル
キルシリケートは，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4 で表され，ま
た，該一般式中のＲ（アルキル基）は，例えばメチル
基，エチル基，プロピル基，及びブチル基のグループか
ら選ばれる１種又は２種以上である。上記一般式におい
て，１つのＳｉに結合している４つのＲは，すべて同一
のアルキル基であってもよい。また，互いに異なるアル
キル基であってもよい。
【００１０】上記テトラアルキルシリケートの加水分解
物の調製は，一般的な加水分解法により行うことができ
る。その一例として，テトラアルキルシリケートとアル
コールと硝酸水溶液とを混合することにより，加水分解
反応を行う方法がある。上記テトラアルキルシリケート
の加水分解物の塗布厚みは，０．０１μｍ〜１０μｍで
あることが好ましい。０．０１μｍ未満の場合には，Ｃ
ｌ2 水，Ｂｒ2水，王水，又は酸化剤を含むＨＣｌによ
り，模様を構成する金が侵食され，模様を損なうおそれ
がある。一方，１０μｍを越える場合には，塗布層にひ
びわれが生じて模様の外観を損なうおそれがある。
物の調製は，一般的な加水分解法により行うことができ
る。その一例として，テトラアルキルシリケートとアル
コールと硝酸水溶液とを混合することにより，加水分解
反応を行う方法がある。上記テトラアルキルシリケート
の加水分解物の塗布厚みは，０．０１μｍ〜１０μｍで
あることが好ましい。０．０１μｍ未満の場合には，Ｃ
ｌ2 水，Ｂｒ2水，王水，又は酸化剤を含むＨＣｌによ
り，模様を構成する金が侵食され，模様を損なうおそれ
がある。一方，１０μｍを越える場合には，塗布層にひ
びわれが生じて模様の外観を損なうおそれがある。
【００１１】上記加水分解物は，上記模様の表面だけで
なく，模様を形成した装飾基材の装飾面の表面に塗布す
ることもできる。その後，これらを熱処理することによ
り，装飾基材の装飾面の表面にＳｉＯ2 からなる保護層
が形成される。上記加水分解物の塗布は，例えば，ディ
ッピング，スプレー，スピンコーティング，刷毛塗り
等，一般的な方法により行うことができる。
なく，模様を形成した装飾基材の装飾面の表面に塗布す
ることもできる。その後，これらを熱処理することによ
り，装飾基材の装飾面の表面にＳｉＯ2 からなる保護層
が形成される。上記加水分解物の塗布は，例えば，ディ
ッピング，スプレー，スピンコーティング，刷毛塗り
等，一般的な方法により行うことができる。
【００１２】上記塗布工程の後は，加水分解物に熱処理
を施す。熱処理は，装飾基材，金，テトラアルキルシリ
ケートの種類に合わせて，適当な温度で行う。その温度
は，一般的に，１００〜１４００℃であることが好まし
い。１００℃未満の場合には，熱処理効果が得られず，
ＳｉＯ2 の保護膜の形成が困難となる。一方，１４００
℃を越える場合には，テトラアルキルシリケートの加水
分解物が装飾基材と反応するおそれがある。
を施す。熱処理は，装飾基材，金，テトラアルキルシリ
ケートの種類に合わせて，適当な温度で行う。その温度
は，一般的に，１００〜１４００℃であることが好まし
い。１００℃未満の場合には，熱処理効果が得られず，
ＳｉＯ2 の保護膜の形成が困難となる。一方，１４００
℃を越える場合には，テトラアルキルシリケートの加水
分解物が装飾基材と反応するおそれがある。
【００１３】上記模様は，金を含む，ラスター彩又は絵
の具を，装飾基材に塗布するか，或いはメッキを施すこ
とにより，形成することができる。上記模様が形成され
る装飾基材としては，上記と同様のものを用いることが
できる。
の具を，装飾基材に塗布するか，或いはメッキを施すこ
とにより，形成することができる。上記模様が形成され
る装飾基材としては，上記と同様のものを用いることが
できる。
【００１４】
【作用及び効果】本発明の金装飾品においては，金によ
り形成された模様は，保護層により被覆されている。該
保護層は，ＳｉＯ2 であり，Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王
水，又はＨＮＯ3 ，ＨＩＯ3 ，ＭｎＯ2 ，Ｈ2 Ｏ2 等の
酸化剤を含むＨＣｌに溶けにくいものである。そのた
め，ＳｉＯ2 の保護層が，金よりなる模様を被覆するこ
とにより，金の溶出を抑制することができる。それ故，
模様の色落ち，剥離等の損傷がない。そのため，金装飾
品が，例えば，洗浄の作業中に，上記の溶液と接触して
も，模様は損傷せず，金装飾品の外観も良好に維持する
ことができる。
り形成された模様は，保護層により被覆されている。該
保護層は，ＳｉＯ2 であり，Ｃｌ2 水，Ｂｒ2 水，王
水，又はＨＮＯ3 ，ＨＩＯ3 ，ＭｎＯ2 ，Ｈ2 Ｏ2 等の
酸化剤を含むＨＣｌに溶けにくいものである。そのた
め，ＳｉＯ2 の保護層が，金よりなる模様を被覆するこ
とにより，金の溶出を抑制することができる。それ故，
模様の色落ち，剥離等の損傷がない。そのため，金装飾
品が，例えば，洗浄の作業中に，上記の溶液と接触して
も，模様は損傷せず，金装飾品の外観も良好に維持する
ことができる。
【００１５】また，ＳｉＯ2 の保護層は透明で，可視光
及び赤外光に対して，透光性が高い。そのため，模様
が，保護層を通じて鮮明に見える。また，保護層は，赤
外透過特性を有する装飾基材に使用しても赤外透過特性
を妨げない。そのため，ＳｉＯ2 の保護層を有する装飾
基材をハロゲンヒータ，ラジュントヒータ等のトッププ
レートとして用いても，それらのエネルギー効率を低下
させることはない。
及び赤外光に対して，透光性が高い。そのため，模様
が，保護層を通じて鮮明に見える。また，保護層は，赤
外透過特性を有する装飾基材に使用しても赤外透過特性
を妨げない。そのため，ＳｉＯ2 の保護層を有する装飾
基材をハロゲンヒータ，ラジュントヒータ等のトッププ
レートとして用いても，それらのエネルギー効率を低下
させることはない。
【００１６】更に，ＳｉＯ2 は１４００℃の高温にも耐
えることができ，耐熱強度が高い。そのため，この保護
層により被覆された金は，高温での溶融が抑制される。
それ故，高温下での模様の変形を防止することができ
る。また，ＳｉＯ2 の鉛筆硬度は２Ｈ〜５Ｈであるた
め，金装飾品の耐摩耗性も向上する。
えることができ，耐熱強度が高い。そのため，この保護
層により被覆された金は，高温での溶融が抑制される。
それ故，高温下での模様の変形を防止することができ
る。また，ＳｉＯ2 の鉛筆硬度は２Ｈ〜５Ｈであるた
め，金装飾品の耐摩耗性も向上する。
【００１７】また，本発明の金装飾品の製造方法におい
ては，模様が形成された装飾面に，ＳｉＯ2 の保護層を
形成している。かかる保護層は，上記のＣｌ2 水等の溶
液により損傷を受けない。そのため，金により形成され
た模様の損傷がなく，外観の良好な金装飾品を製造する
ことができる。
ては，模様が形成された装飾面に，ＳｉＯ2 の保護層を
形成している。かかる保護層は，上記のＣｌ2 水等の溶
液により損傷を受けない。そのため，金により形成され
た模様の損傷がなく，外観の良好な金装飾品を製造する
ことができる。
【００１８】本発明によれば，金により形成された模様
の損傷がなく，強度に優れ，外観の良好な金装飾品及び
その製造方法を提供することができる。
の損傷がなく，強度に優れ，外観の良好な金装飾品及び
その製造方法を提供することができる。
【００１９】
実施例１ 本発明の実施例にかかる金装飾品について，図１を用い
て説明する。本例の金装飾品７は，図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成されてい
る。模様５は，ＳｉＯ2 からなる保護層１により被覆さ
れている。また，保護層１は，模様５だけでなく，模様
が形成された装飾基材６の装飾面６０全体も被覆してい
る。保護層１の厚みは，０．１μｍである。装飾基材６
は結晶化ガラスである。
て説明する。本例の金装飾品７は，図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成されてい
る。模様５は，ＳｉＯ2 からなる保護層１により被覆さ
れている。また，保護層１は，模様５だけでなく，模様
が形成された装飾基材６の装飾面６０全体も被覆してい
る。保護層１の厚みは，０．１μｍである。装飾基材６
は結晶化ガラスである。
【００２０】次に，上記金装飾品７の製造方法について
説明する。まず，装飾基材６としての結晶化ガラスの表
面に，金を３重量％含むラスター彩を刷毛塗りし，８４
０℃，１０分間焼成して，模様５を形成する。一方，テ
トラアルキルシリケートにメチルアルコールと硝酸水溶
液とを加えて，攪拌し，加水分解反応を行う。次いで，
この加水分解溶液に，イソプロピルアルコールを加え，
テトラアルキルシリケートの加水分解物の溶液を調製す
る。
説明する。まず，装飾基材６としての結晶化ガラスの表
面に，金を３重量％含むラスター彩を刷毛塗りし，８４
０℃，１０分間焼成して，模様５を形成する。一方，テ
トラアルキルシリケートにメチルアルコールと硝酸水溶
液とを加えて，攪拌し，加水分解反応を行う。次いで，
この加水分解溶液に，イソプロピルアルコールを加え，
テトラアルキルシリケートの加水分解物の溶液を調製す
る。
【００２１】次いで，装飾基材６における，模様５が形
成された装飾面６０の全面に，上記の加水分解物溶液
を，０．１μｍの厚みに刷毛塗りする。次いで，これら
を８４０℃，１０分間熱処理して，ＳｉＯ2 の保護層１
を形成する。これにより，上記金装飾品７が得られる。
保護層１の鉛筆硬度は４Ｈであった。
成された装飾面６０の全面に，上記の加水分解物溶液
を，０．１μｍの厚みに刷毛塗りする。次いで，これら
を８４０℃，１０分間熱処理して，ＳｉＯ2 の保護層１
を形成する。これにより，上記金装飾品７が得られる。
保護層１の鉛筆硬度は４Ｈであった。
【００２２】実施例２ 本実施例において，金装飾品７は，図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．５μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシリ
ケートの加水分解物溶液を，０．５μｍの厚みに刷毛塗
りする以外は，実施例１と同様である。実施例２におけ
る保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．５μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシリ
ケートの加水分解物溶液を，０．５μｍの厚みに刷毛塗
りする以外は，実施例１と同様である。実施例２におけ
る保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。
【００２３】実施例３ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は１．０μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシリ
ケートの加水分解物溶液を，１．０μｍの厚みに刷毛塗
りする以外は，実施例１と同様である。実施例３におけ
る保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は１．０μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシリ
ケートの加水分解物溶液を，１．０μｍの厚みに刷毛塗
りする以外は，実施例１と同様である。実施例３におけ
る保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。
【００２４】実施例４ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成されてい
る。模様５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，Ｓ
ｉＯ2 からなる保護層１により被覆されている。保護層
１の厚みは２μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスで
ある。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様
５が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシ
リケートの加水分解物溶液を，２μｍの厚みに刷毛塗り
する以外は，実施例１と同様である。実施例４における
保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成されてい
る。模様５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，Ｓ
ｉＯ2 からなる保護層１により被覆されている。保護層
１の厚みは２μｍであり，装飾基材６は結晶化ガラスで
ある。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様
５が形成された装飾面６０の全面に，テトラアルキルシ
リケートの加水分解物溶液を，２μｍの厚みに刷毛塗り
する以外は，実施例１と同様である。実施例４における
保護層１の鉛筆強度は４Ｈであった。
【００２５】実施例５ 本実施例において，金装飾品７は，図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．１μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物溶液を０．１μｍの厚みに刷毛塗りす
ること，及び装飾基材６がボーンチャイナであること以
外は，実施例１と同様である。実施例５における保護層
１の鉛筆強度は４Ｈであった。
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．１μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物溶液を０．１μｍの厚みに刷毛塗りす
ること，及び装飾基材６がボーンチャイナであること以
外は，実施例１と同様である。実施例５における保護層
１の鉛筆強度は４Ｈであった。
【００２６】実施例６ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．５μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物溶液を０．５μｍの厚みに刷毛塗りす
ること，及び装飾基材６がボーンチャイナであること以
外は，実施例１と同様である。実施例６における保護層
１の鉛筆強度は４Ｈであった。
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は０．５μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナであ
る。本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５
が形成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケ
ートの加水分解物溶液を０．５μｍの厚みに刷毛塗りす
ること，及び装飾基材６がボーンチャイナであること以
外は，実施例１と同様である。実施例６における保護層
１の鉛筆強度は４Ｈであった。
【００２７】実施例７ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は１μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナである。
本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５が形
成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケート
の加水分解物溶液を１μｍの厚みに刷毛塗りすること，
及び装飾基材６がボーンチャイナであること以外は，実
施例１と同様である。実施例７における保護層１の鉛筆
強度は４Ｈであった。
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなる保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は１μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナである。
本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５が形
成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケート
の加水分解物溶液を１μｍの厚みに刷毛塗りすること，
及び装飾基材６がボーンチャイナであること以外は，実
施例１と同様である。実施例７における保護層１の鉛筆
強度は４Ｈであった。
【００２８】実施例８ 本実施例においては，金装飾品７は図１に示すごとく，
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなく保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は２μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナである。
本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５が形
成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケート
の加水分解物溶液を２μｍの厚みに刷毛塗りすること，
及び装飾基材６がボーンチャイナであること以外は，実
施例１と同様である。実施例８における保護層１の鉛筆
強度は４Ｈであった。
装飾基材６の表面に，金により模様５が形成され，模様
５および装飾基材６の装飾面６０の全体は，ＳｉＯ2 か
らなく保護層１により被覆されている。保護層１の厚み
は２μｍであり，装飾基材６はボーンチャイナである。
本実施例における金装飾品７の製造方法は，模様５が形
成された装飾面６０の全面にテトラアルキルシリケート
の加水分解物溶液を２μｍの厚みに刷毛塗りすること，
及び装飾基材６がボーンチャイナであること以外は，実
施例１と同様である。実施例８における保護層１の鉛筆
強度は４Ｈであった。
【００２９】実施例９ 本例においては，実施例１〜実施例８の金装飾品の曝露
試験を行った。試験は，５０容量％のＨＣｌ水溶液，Ｎ
ａＣｌＯ溶液（残留塩素６重量％），Ｃｌ2 ガスの中
に，それぞれ上記金装飾品を曝した。曝露時間は，すべ
て３０分間である。
試験を行った。試験は，５０容量％のＨＣｌ水溶液，Ｎ
ａＣｌＯ溶液（残留塩素６重量％），Ｃｌ2 ガスの中
に，それぞれ上記金装飾品を曝した。曝露時間は，すべ
て３０分間である。
【００３０】また，比較のために，ＳｉＯ2 の保護層の
ない金装飾品（比較例１，２）を作製し，これについて
も同様に試験を行った。比較例１の装飾基材は結晶化ガ
ラス，比較例２の装飾基材はボーンチャイナである。比
較例１，及び比較例２とも，装飾基材６の表面に，金３
重量％を含むラスター彩を刷毛塗りし，８４０℃で１０
分間焼成して模様を形成したものを用いた。
ない金装飾品（比較例１，２）を作製し，これについて
も同様に試験を行った。比較例１の装飾基材は結晶化ガ
ラス，比較例２の装飾基材はボーンチャイナである。比
較例１，及び比較例２とも，装飾基材６の表面に，金３
重量％を含むラスター彩を刷毛塗りし，８４０℃で１０
分間焼成して模様を形成したものを用いた。
【００３１】上記の結果を表１に示した。表１より知ら
れるように，本実施例１〜８にかかる金装飾品は，いず
れの曝露環境下でも，模様の変化，損傷，変色はなかっ
た。また，金装飾品の外観も良好であった。
れるように，本実施例１〜８にかかる金装飾品は，いず
れの曝露環境下でも，模様の変化，損傷，変色はなかっ
た。また，金装飾品の外観も良好であった。
【００３２】これに対し，比較例１，２としての金装飾
品については，ＨＣｌ溶液では，溶液から蒸発するＨＣ
ｌ蒸気で，模様の色が脱色した。また，ＮａＣｌＯ溶液
中，又はＣｌ2 ガス中でも，模様の色が変色した。この
ことから，ＳｉＯ2 の保護層により，金よりなる模様を
被覆することにより，金の溶出を抑制することができ，
模様の損傷を防止することができることがわかる。
品については，ＨＣｌ溶液では，溶液から蒸発するＨＣ
ｌ蒸気で，模様の色が脱色した。また，ＮａＣｌＯ溶液
中，又はＣｌ2 ガス中でも，模様の色が変色した。この
ことから，ＳｉＯ2 の保護層により，金よりなる模様を
被覆することにより，金の溶出を抑制することができ，
模様の損傷を防止することができることがわかる。
【００３３】
【表１】
【００３４】実施例１０ 本例においては，実施例１〜実施例８の金装飾品の摩耗
試験をおこなった。試験は，市販の砂消ゴムを用い，５
８０ｇの力で上記金装飾品をそれぞれこすることでおこ
なった。また，比較のために，ＳｉＯ2 の保護層のない
金装飾品（比較例１，２）を，実施例９と同様の方法で
作成したものを用いた。比較例１の装飾基材は結晶化ガ
ラス，比較例２の装飾基材はボーンチャイナである。そ
の結果を表２に示す。
試験をおこなった。試験は，市販の砂消ゴムを用い，５
８０ｇの力で上記金装飾品をそれぞれこすることでおこ
なった。また，比較のために，ＳｉＯ2 の保護層のない
金装飾品（比較例１，２）を，実施例９と同様の方法で
作成したものを用いた。比較例１の装飾基材は結晶化ガ
ラス，比較例２の装飾基材はボーンチャイナである。そ
の結果を表２に示す。
【００３５】その結果，表２に示すように，本発明にか
かる金装飾品（実施例１〜８）は，ＳｉＯ2 の保護層の
ない金装飾品（比較例１，２）にくらべ，２倍以上の摩
耗強度があることがわかった。このことから，ＳｉＯ2
の保護層を用い，金よりなる模様を被覆することで，金
装飾品の摩耗強度も向上することがわかる。
かる金装飾品（実施例１〜８）は，ＳｉＯ2 の保護層の
ない金装飾品（比較例１，２）にくらべ，２倍以上の摩
耗強度があることがわかった。このことから，ＳｉＯ2
の保護層を用い，金よりなる模様を被覆することで，金
装飾品の摩耗強度も向上することがわかる。
【００３６】
【表２】
【００３７】実施例１１ 本例の金装飾品においては，図２に示すごとく，金から
なる模様５の表面にだけＳｉＯ2 からなる保護層１１が
被覆している。装飾基材６は，結晶化ガラスおよびボー
ンチャイナの２種類を用意した。上記金装飾品７１を製
造するに当たっては，まず，実施例１と同様に装飾基材
６に金からなる模様５を形成する。また，テトラアルキ
ルシリケートの加水分解物の溶液を調製する。
なる模様５の表面にだけＳｉＯ2 からなる保護層１１が
被覆している。装飾基材６は，結晶化ガラスおよびボー
ンチャイナの２種類を用意した。上記金装飾品７１を製
造するに当たっては，まず，実施例１と同様に装飾基材
６に金からなる模様５を形成する。また，テトラアルキ
ルシリケートの加水分解物の溶液を調製する。
【００３８】次いで，模様と同形状の開口部を有するマ
スクパターンを装飾基材６における模様５が形成された
装飾面６０上に配置する。次に，このマスクパターンの
開口部から上記加水分解物の溶液を模様５に塗布する。
塗布厚みはそれぞれ０．１μｍ，０．５μｍ，１μｍ，
２μｍである。次に，これらに８４０℃，１０分間熱処
理を施して，ＳｉＯ2 の保護層１１を形成する。これに
より，上記金装飾品７１が得られる。その他は，実施例
１と同様である。
スクパターンを装飾基材６における模様５が形成された
装飾面６０上に配置する。次に，このマスクパターンの
開口部から上記加水分解物の溶液を模様５に塗布する。
塗布厚みはそれぞれ０．１μｍ，０．５μｍ，１μｍ，
２μｍである。次に，これらに８４０℃，１０分間熱処
理を施して，ＳｉＯ2 の保護層１１を形成する。これに
より，上記金装飾品７１が得られる。その他は，実施例
１と同様である。
【００３９】本例の金装飾品７１について実施例１と同
様の曝露試験を行ったところ，いずれの曝露環境下で
も，模様の変化，損傷，変色はなかった。保護層１１の
鉛筆硬度は４Ｈであった。金装飾品の外観も良好であっ
た。
様の曝露試験を行ったところ，いずれの曝露環境下で
も，模様の変化，損傷，変色はなかった。保護層１１の
鉛筆硬度は４Ｈであった。金装飾品の外観も良好であっ
た。
【図１】実施例１〜８の金装飾品の説明図。
【図２】実施例１０の金装飾品の説明図。
１，１１．．．保護層，５．．．模様，
６０．．．装飾面，６．．．装飾基材，
７，７１．．．金装飾品，
６０．．．装飾面，６．．．装飾基材，
７，７１．．．金装飾品，
Claims (9)
- 【請求項１】 装飾基材の表面に，金により模様が形成
された金装飾品において，上記模様の表面は，ＳｉＯ2
からなる保護層により被覆されていることを特徴とする
金装飾品。 - 【請求項２】 請求項１において，上記保護層の厚み
は，０．０１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする金
装飾品。 - 【請求項３】 請求項１又は２において，上記保護層
は，上記模様の表面だけでなく，模様を形成した装飾基
材の装飾面を被覆していることを特徴とする装飾基材。 - 【請求項４】 請求項１，２，又は３において，上記装
飾基材は，陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金属，又は
ホーローのいずれかであることを特徴とする金装飾品。 - 【請求項５】 装飾基材の表面に，金により模様を形成
し，次いで，上記模様の表面に，一般式Ｓｉ（ＯＲ）4
（Ｒはアルキル基を意味する。以下同様。）であらわさ
れるテトラアルキルシリケートの加水分解物を塗布し，
熱処理を施すことにより，上記模様の表面をＳｉＯ2 の
保護層により被覆することを特徴とする金装飾品の製造
方法。 - 【請求項６】 請求項５において，上記一般式Ｓｉ（Ｏ
Ｒ）4 中のアルキル基（Ｒ）は，メチル基，エチル基，
プロピル基，及びブチル基のグループから選ばれる１種
又は２種以上であることを特徴とする金装飾品の製造方
法。 - 【請求項７】 請求項５，又は６において，上記テトラ
アルキルシリケートの加水分解物の塗布厚みは，０．０
１μｍ〜１０μｍであることを特徴とする金装飾品の製
造方法。 - 【請求項８】 請求項５，６，又は７において，上記加
水分解物は，上記模様の表面だけでなく，模様を形成し
た装飾基材の装飾面の表面に塗布することを特徴とする
金装飾品の製造方法。 - 【請求項９】 請求項５〜８のいずれか１項において，
上記装飾基材は，陶磁器，ガラス，結晶化ガラス，金
属，又はホーローのいずれかであることを特徴とする金
装飾品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15954494A JPH083764A (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 金装飾品及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15954494A JPH083764A (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 金装飾品及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083764A true JPH083764A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=15696078
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15954494A Pending JPH083764A (ja) | 1994-06-17 | 1994-06-17 | 金装飾品及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083764A (ja) |
-
1994
- 1994-06-17 JP JP15954494A patent/JPH083764A/ja active Pending
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