JPH083913A - 人工芝施設 - Google Patents
人工芝施設Info
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- JPH083913A JPH083913A JP15658194A JP15658194A JPH083913A JP H083913 A JPH083913 A JP H083913A JP 15658194 A JP15658194 A JP 15658194A JP 15658194 A JP15658194 A JP 15658194A JP H083913 A JPH083913 A JP H083913A
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- Japan
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- artificial turf
- slip
- underlayer
- static friction
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 人工芝を置き敷きする場合に、その下地層に
対する人工芝のずれや伸びが経時的に多くなることのな
い人工芝施設を提供する。 【構成】 下地層１上に人工芝２を置き敷きしてなる人
工芝施設において、下地層１の表面と置き敷きされる人
工芝２の裏面との静摩擦係数が０．７９以上になるよう
に、少なくとも一方の面に滑り止め加工を施す。
対する人工芝のずれや伸びが経時的に多くなることのな
い人工芝施設を提供する。 【構成】 下地層１上に人工芝２を置き敷きしてなる人
工芝施設において、下地層１の表面と置き敷きされる人
工芝２の裏面との静摩擦係数が０．７９以上になるよう
に、少なくとも一方の面に滑り止め加工を施す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は多目的に使用される人工
芝施設に関し、さらに詳しく言えば、下地層上に人工芝
を置き敷きしてなる球技場や競技場などに好適な人工芝
施設に関するものである。
芝施設に関し、さらに詳しく言えば、下地層上に人工芝
を置き敷きしてなる球技場や競技場などに好適な人工芝
施設に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】種々のスポーツやその他の用途に使用さ
れる多目的の人工芝施設がある。この種の施設では、図
１に示されているように、下地層１の上に人工芝２を単
に置いただけの、いわゆる置き敷き工法が一般的に採用
されている。なお、砂入りの場合には、置き敷きした後
に人工芝２の各パイル間に目砂３が充填され、その重み
により人工芝２が押さえられる。この置き敷き工法によ
れば、人工芝２が傷んだ場合の補修が簡単であるため、
補修工期も短く、補修費用も安く済むという利点があ
る。
れる多目的の人工芝施設がある。この種の施設では、図
１に示されているように、下地層１の上に人工芝２を単
に置いただけの、いわゆる置き敷き工法が一般的に採用
されている。なお、砂入りの場合には、置き敷きした後
に人工芝２の各パイル間に目砂３が充填され、その重み
により人工芝２が押さえられる。この置き敷き工法によ
れば、人工芝２が傷んだ場合の補修が簡単であるため、
補修工期も短く、補修費用も安く済むという利点があ
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、置き敷
きであるが故に人工芝２にずれが生じ易いという問題が
ある。もっとも、下地層１がアスファルトコンクリート
によって形成されている場合には、その表層のアスファ
ルトの粘着力によりずれは生じにくい。特に、温度が上
昇してくると下地表面が軟化し、わずかではあるが人工
芝２の基布がその下地表面に跡として残るため、あえて
滑り止め加工を施さなくとも人工芝２のずれはより生じ
難くなる。
きであるが故に人工芝２にずれが生じ易いという問題が
ある。もっとも、下地層１がアスファルトコンクリート
によって形成されている場合には、その表層のアスファ
ルトの粘着力によりずれは生じにくい。特に、温度が上
昇してくると下地表面が軟化し、わずかではあるが人工
芝２の基布がその下地表面に跡として残るため、あえて
滑り止め加工を施さなくとも人工芝２のずれはより生じ
難くなる。
【０００４】これに対して、下地層１の表面をセメント
モルタル仕上げした場合、特に金鏝仕上げの場合、下地
表面にアクリル系ペイントを塗布した場合、下地表面に
カーペット系敷物を敷設した場合、また、下地表面がゴ
ムチップ系、ウレタン系、ＥＶＡ系、ＣＲゴム系もしく
はアクリルウレタン系などの全天候型スポーツサーフェ
スなどによって形成されている場合などには、これらの
下地層１の上に人工芝２を置き敷きすると、ずれや伸び
の発生が経時的に多くなる。
モルタル仕上げした場合、特に金鏝仕上げの場合、下地
表面にアクリル系ペイントを塗布した場合、下地表面に
カーペット系敷物を敷設した場合、また、下地表面がゴ
ムチップ系、ウレタン系、ＥＶＡ系、ＣＲゴム系もしく
はアクリルウレタン系などの全天候型スポーツサーフェ
スなどによって形成されている場合などには、これらの
下地層１の上に人工芝２を置き敷きすると、ずれや伸び
の発生が経時的に多くなる。
【０００５】そこで、下地層１がアスファルトコンクリ
ートの場合と、それ以外の上記種々の材質からなる場合
とで、その下地表面の静摩擦係数を測定してみると、ず
れが生じない前者の場合には下地表面の静摩擦係数は
０．７９以上あり、ずれが生じる後者の場合には０．７
９未満であることが分かった。
ートの場合と、それ以外の上記種々の材質からなる場合
とで、その下地表面の静摩擦係数を測定してみると、ず
れが生じない前者の場合には下地表面の静摩擦係数は
０．７９以上あり、ずれが生じる後者の場合には０．７
９未満であることが分かった。
【０００６】このように、人工芝２のずれは下地表面の
静摩擦係数に依存するが、この静摩擦係数は経時的にも
変化する。特に、全天候型スポーツサーフェスにおいて
は、プレーヤの運動より下地表面の摩耗が他の施設の下
地表面よりも早く進行する。そこで、既存のスポーツサ
ーフェス上に新たに砂入り人工芝を置き敷きする場合、
摩耗している既存のスポーツサーフェスと人工芝との静
摩擦係数を０．７９以上に確保することは困難であっ
た。
静摩擦係数に依存するが、この静摩擦係数は経時的にも
変化する。特に、全天候型スポーツサーフェスにおいて
は、プレーヤの運動より下地表面の摩耗が他の施設の下
地表面よりも早く進行する。そこで、既存のスポーツサ
ーフェス上に新たに砂入り人工芝を置き敷きする場合、
摩耗している既存のスポーツサーフェスと人工芝との静
摩擦係数を０．７９以上に確保することは困難であっ
た。
【０００７】本発明は、このような認識に基づいてなさ
れたもので、その目的は、人工芝を置き敷きするにあた
って、人工芝のずれや伸びが経時的に多くなることのな
い人工芝施設を提供することにある。
れたもので、その目的は、人工芝を置き敷きするにあた
って、人工芝のずれや伸びが経時的に多くなることのな
い人工芝施設を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、アスファルトコンクリート下地以外の
下地層上に人工芝を置き敷きしてなる人工芝施設におい
て、下地層の表面と同表面上に置き敷きされる人工芝の
裏面との間の静摩擦係数が０．７９以上となるように、
少なくともいずれか一方の面に滑り止め加工が施されて
いることを特徴としている。
め、この発明は、アスファルトコンクリート下地以外の
下地層上に人工芝を置き敷きしてなる人工芝施設におい
て、下地層の表面と同表面上に置き敷きされる人工芝の
裏面との間の静摩擦係数が０．７９以上となるように、
少なくともいずれか一方の面に滑り止め加工が施されて
いることを特徴としている。
【０００９】この場合、滑り止め加工としては、滑り止
めのための細粒を混入した樹脂の塗布、下地層の表面に
凹凸を形成する、もしくは下地層の表面に粘着剤を散布
する、のいずれでもよい。また、人工芝の裏面に滑り止
め材を塗布してもよい。
めのための細粒を混入した樹脂の塗布、下地層の表面に
凹凸を形成する、もしくは下地層の表面に粘着剤を散布
する、のいずれでもよい。また、人工芝の裏面に滑り止
め材を塗布してもよい。
【００１０】
【作用】上記の滑り止め加工によれば、下地表面と人工
芝裏面との間の静摩擦係数を０．７９以上に設定するこ
とができる。これにより、経時的に下地表面が滑らかに
なったとしても、下地層全体を改修することなく、人工
芝のずれや伸びを抑えることができる。
芝裏面との間の静摩擦係数を０．７９以上に設定するこ
とができる。これにより、経時的に下地表面が滑らかに
なったとしても、下地層全体を改修することなく、人工
芝のずれや伸びを抑えることができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
人工芝施設の構造自体は上述の図１の従来例と相違しな
いので、その構成は同図を参照されたい。なお、各例に
おいて、静摩擦係数は下地層上に３０ｃｍ×３０ｃｍの
砂入り人工芝を置き、これを引張ることによって測定し
た。すなわち、砂入り人工芝の重量をＷ、引張りに要す
る力をＦとしたとき、Ｆ／Ｗが静摩擦係数となる。 《実施例１》下地層１をコンクリートで形成した後、そ
の下地表面に下記の組成からなる滑り止め材をレーキを
用いて厚さ０．３〜１ｍｍに塗布した。
人工芝施設の構造自体は上述の図１の従来例と相違しな
いので、その構成は同図を参照されたい。なお、各例に
おいて、静摩擦係数は下地層上に３０ｃｍ×３０ｃｍの
砂入り人工芝を置き、これを引張ることによって測定し
た。すなわち、砂入り人工芝の重量をＷ、引張りに要す
る力をＦとしたとき、Ｆ／Ｗが静摩擦係数となる。 《実施例１》下地層１をコンクリートで形成した後、そ
の下地表面に下記の組成からなる滑り止め材をレーキを
用いて厚さ０．３〜１ｍｍに塗布した。
【００１２】 アスファルトエマルジョン １００重量部 硅砂５号 １００重量部 セメント １０重量部 この下地表面の静摩擦係数を測定したところ、０．８０
であった。 〈比較例１〉実施例１と同じく、下地層１をコンクリー
トで形成した。そして、そのままの状態で下地表面の静
摩擦係数を測定したところ、０．７６であった。 《実施例２》下地層１として、透水性ゴムチップ製テニ
スコートを形成し、その表面に下記の組成からなる滑り
止め材をエアスプレーで厚さ０．１〜０．２ｍｍに塗布
した。
であった。 〈比較例１〉実施例１と同じく、下地層１をコンクリー
トで形成した。そして、そのままの状態で下地表面の静
摩擦係数を測定したところ、０．７６であった。 《実施例２》下地層１として、透水性ゴムチップ製テニ
スコートを形成し、その表面に下記の組成からなる滑り
止め材をエアスプレーで厚さ０．１〜０．２ｍｍに塗布
した。
【００１３】 一液性ウレタン樹脂 １００重量部 キシレン １５重量部 発泡ウレタン細粒（骨材） ３重量部 この下地表面の静摩擦係数を測定したところ、０．８１
であった。 〈比較例２〉実施例２で用いた透水性ゴムチップ製テニ
スコートに滑り止め加工を施すことなく、その下地表面
の静摩擦係数を測定したところ、０．７８に留まった。 《実施例３》下地層１として実施例２と同様の透水性ゴ
ムチップ製テニスコートを使用し、その下地表面をメッ
シュ＃４０のエメリー紙で研磨した。この下地表面の静
摩擦係数は０．８０であった。 〈比較例３〉これに対して、透水性ゴムチップ製テニス
コートに滑り止め加工を施さない場合の静摩擦係数は、
比較例２と同じく０．７８であった。 《実施例４》下地層１として、全天候ウレタンスポーツ
サーフェスを形成し、その下地表面をメッシュ＃４０の
エメリー紙を使用してフロアーサンダーで研磨した。静
摩擦係数を測定したところ、０．８１であった。 〈比較例４〉実施例４で用いた透水性ゴムチップ製テニ
スコートに滑り止め加工を施すことなく、その下地表面
の静摩擦係数を測定したところ、０．７８であった。 《実施例５》下地層１として、ニードルパンチカーペッ
トを使用した。その表面に粘着剤（株式会社タイルメン
ト社製のアクリルエマルジョン樹脂ＣＰ６Ｎ）を厚さ
０．３ｍｍに散布した。これによれば、１．０以上の静
摩擦係数が得られた。 〈比較例５〉一方、実施例５のニードルパンチカーペッ
トの表面加工を施さない場合の静摩擦係数は０．７８で
あった。 《実施例６》下地層１をコンクリートで形成し、その下
地表面にダイヤモンドカッターで３００ｍｍ間隔で幅２
〜３ｍｍ、深さ５ｍｍの筋を切り込んだ。このときの下
地表面の静摩擦係数は０。７９であった。 〈比較例６〉コンクリート下地層１の滑り止め加工を施
さない場合の静摩擦係数は、比較例１と同じく０．７６
であった。 《実施例７》下地層１をコンクリートで形成し、これに
対して人工芝２裏面のバッキング材ラテックスの表面に
硅砂８号を散布した。散布は人工芝製造時のラテックス
塗布工程で未乾燥状態のラテックスへ硅砂を散布した
後、乾燥させた。このときの静摩擦係数は０．８０であ
った。 〈比較例７〉これに対して、コンクリート下地表面の静
摩擦係数は、比較例１および６と同様に０．７６であっ
た。
であった。 〈比較例２〉実施例２で用いた透水性ゴムチップ製テニ
スコートに滑り止め加工を施すことなく、その下地表面
の静摩擦係数を測定したところ、０．７８に留まった。 《実施例３》下地層１として実施例２と同様の透水性ゴ
ムチップ製テニスコートを使用し、その下地表面をメッ
シュ＃４０のエメリー紙で研磨した。この下地表面の静
摩擦係数は０．８０であった。 〈比較例３〉これに対して、透水性ゴムチップ製テニス
コートに滑り止め加工を施さない場合の静摩擦係数は、
比較例２と同じく０．７８であった。 《実施例４》下地層１として、全天候ウレタンスポーツ
サーフェスを形成し、その下地表面をメッシュ＃４０の
エメリー紙を使用してフロアーサンダーで研磨した。静
摩擦係数を測定したところ、０．８１であった。 〈比較例４〉実施例４で用いた透水性ゴムチップ製テニ
スコートに滑り止め加工を施すことなく、その下地表面
の静摩擦係数を測定したところ、０．７８であった。 《実施例５》下地層１として、ニードルパンチカーペッ
トを使用した。その表面に粘着剤（株式会社タイルメン
ト社製のアクリルエマルジョン樹脂ＣＰ６Ｎ）を厚さ
０．３ｍｍに散布した。これによれば、１．０以上の静
摩擦係数が得られた。 〈比較例５〉一方、実施例５のニードルパンチカーペッ
トの表面加工を施さない場合の静摩擦係数は０．７８で
あった。 《実施例６》下地層１をコンクリートで形成し、その下
地表面にダイヤモンドカッターで３００ｍｍ間隔で幅２
〜３ｍｍ、深さ５ｍｍの筋を切り込んだ。このときの下
地表面の静摩擦係数は０。７９であった。 〈比較例６〉コンクリート下地層１の滑り止め加工を施
さない場合の静摩擦係数は、比較例１と同じく０．７６
であった。 《実施例７》下地層１をコンクリートで形成し、これに
対して人工芝２裏面のバッキング材ラテックスの表面に
硅砂８号を散布した。散布は人工芝製造時のラテックス
塗布工程で未乾燥状態のラテックスへ硅砂を散布した
後、乾燥させた。このときの静摩擦係数は０．８０であ
った。 〈比較例７〉これに対して、コンクリート下地表面の静
摩擦係数は、比較例１および６と同様に０．７６であっ
た。
【００１４】上記実施例のように、下地層１の表面もし
くは人工芝２の裏面に、滑り止め加工を施すことによ
り、両者の静摩擦係数を０．７９以上とすることがで
き、これにより下地層１に対する人工芝２のずれが最小
限に抑えられる。
くは人工芝２の裏面に、滑り止め加工を施すことによ
り、両者の静摩擦係数を０．７９以上とすることがで
き、これにより下地層１に対する人工芝２のずれが最小
限に抑えられる。
【００１５】このような滑り止め加工（ノンスリップ加
工）としては、実施例１，２に示したように、エマルジ
ョン系樹脂、溶剤系樹脂、無溶剤系樹脂、セメント系樹
脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂、エポキシ系樹脂、合成ゴム系樹脂、アスファルト
樹脂系やこれらの混合物に、砕石や天然砂などの硅砂、
鉱物細粒、煉瓦やセラミックの粒、ゴムや合成樹脂の
粒、ガラス玉やバルーン、木くず、胡桃くずなどの植物
の粒、貝殻や骨などの粒、あるいは金属の粒などのノン
スリップ材を混入したものを下地に塗布すればよい。
工）としては、実施例１，２に示したように、エマルジ
ョン系樹脂、溶剤系樹脂、無溶剤系樹脂、セメント系樹
脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂、エポキシ系樹脂、合成ゴム系樹脂、アスファルト
樹脂系やこれらの混合物に、砕石や天然砂などの硅砂、
鉱物細粒、煉瓦やセラミックの粒、ゴムや合成樹脂の
粒、ガラス玉やバルーン、木くず、胡桃くずなどの植物
の粒、貝殻や骨などの粒、あるいは金属の粒などのノン
スリップ材を混入したものを下地に塗布すればよい。
【００１６】これらのノンスリップ材は、樹脂中に混入
するだけでなく、下地に樹脂を塗布した後、散布しても
よい。塗布は、たとえばローラー刷毛やスプレーを使用
すれば均一かつ簡単に塗布することができるが、特にこ
の方法に限定されるわけではない。
するだけでなく、下地に樹脂を塗布した後、散布しても
よい。塗布は、たとえばローラー刷毛やスプレーを使用
すれば均一かつ簡単に塗布することができるが、特にこ
の方法に限定されるわけではない。
【００１７】この滑り止め加工は、必ずしも下地層１と
人工芝２間の全面にわたって行う必要はなく、使用状態
に応じて、必要箇所に適宜施すだけでもよい。例えば、
テニスコートにおいては、プレーヤーが最もよく動くベ
ースライン付近のみに滑り止め加工を施すようにしても
よい。
人工芝２間の全面にわたって行う必要はなく、使用状態
に応じて、必要箇所に適宜施すだけでもよい。例えば、
テニスコートにおいては、プレーヤーが最もよく動くベ
ースライン付近のみに滑り止め加工を施すようにしても
よい。
【００１８】また、滑り止め加工としては、実施例３の
ように下地表面をサンダー掛けしたり、実施例４のよう
にポリッシャー研磨して細かな凹凸を形成したり、実施
例５のように粘着剤を散布したり、実施例６のようにダ
イヤモンドカッターなどでカッティングして溝を形成し
たり、実施例７のように人工芝の裏面にノンスリップ剤
と塗布するといった方法が採用される。なお、参考まで
に上記各実施例および各比較例の比較結果を表１に示
す。
ように下地表面をサンダー掛けしたり、実施例４のよう
にポリッシャー研磨して細かな凹凸を形成したり、実施
例５のように粘着剤を散布したり、実施例６のようにダ
イヤモンドカッターなどでカッティングして溝を形成し
たり、実施例７のように人工芝の裏面にノンスリップ剤
と塗布するといった方法が採用される。なお、参考まで
に上記各実施例および各比較例の比較結果を表１に示
す。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
下地層と人工芝との間の静摩擦係数を０．７９以上に形
成することにより、人工芝のずれや伸びを抑制できる置
き敷き式の人工芝施設を提供することができる。
下地層と人工芝との間の静摩擦係数を０．７９以上に形
成することにより、人工芝のずれや伸びを抑制できる置
き敷き式の人工芝施設を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来例および本発明の実施例に係る人工芝施設
の人工芝敷設部分の断面図。
の人工芝敷設部分の断面図。
１ 下地層 ２ 人工芝 ３ 目砂
Claims (5)
- 【請求項１】 アスファルトコンクリート下地以外の下
地層上に人工芝を置き敷きしてなる人工芝施設におい
て、上記人工芝が置き敷きされる上記下地層の表面と同
人工芝の裏面との間の静摩擦係数が０．７９以上になる
ように、少なくとも一方の面に滑り止め加工が施されて
いることを特徴とする人工芝施設。 - 【請求項２】 上記滑り止め加工が、滑り止めのための
細粒を混入した樹脂の塗布により行なわれることを特徴
とする請求項１に記載の人工芝施設。 - 【請求項３】 上記滑り止め加工が、上記下地層の表面
に凹凸を形成することにより行なわれることを特徴とす
る請求項１に記載の人工芝施設。 - 【請求項４】 上記滑り止め加工が、上記下地層の表面
に粘着剤を散布することにより行なわれることを特徴と
する請求項１に記載の人工芝施設。 - 【請求項５】 上記滑り止め加工が、上記人工芝の裏面
に滑り止め材を塗布することにより行なわれることを特
徴とする請求項１に記載の人工芝施設。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6156581A JP2920594B2 (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 人工芝施設 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6156581A JP2920594B2 (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 人工芝施設 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083913A true JPH083913A (ja) | 1996-01-09 |
| JP2920594B2 JP2920594B2 (ja) | 1999-07-19 |
Family
ID=15630896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6156581A Expired - Fee Related JP2920594B2 (ja) | 1994-06-15 | 1994-06-15 | 人工芝施設 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2920594B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101756950B1 (ko) * | 2016-10-13 | 2017-07-11 | 최은희 | 물빠짐이 없는 패드 일체형 배수판 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5687504U (ja) * | 1979-12-11 | 1981-07-13 | ||
| JPH0212927U (ja) * | 1988-07-11 | 1990-01-26 |
-
1994
- 1994-06-15 JP JP6156581A patent/JP2920594B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5687504U (ja) * | 1979-12-11 | 1981-07-13 | ||
| JPH0212927U (ja) * | 1988-07-11 | 1990-01-26 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2920594B2 (ja) | 1999-07-19 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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