JPH0841204A - 硬化性組成物 - Google Patents
硬化性組成物Info
- Publication number
- JPH0841204A JPH0841204A JP2182695A JP2182695A JPH0841204A JP H0841204 A JPH0841204 A JP H0841204A JP 2182695 A JP2182695 A JP 2182695A JP 2182695 A JP2182695 A JP 2182695A JP H0841204 A JPH0841204 A JP H0841204A
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- Japan
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- group
- curable composition
- solution
- dianhydride
- organosilane
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記成分（Ａ）および（Ｂ）を含有すること
を特徴とする硬化性組成物。 （Ａ）アミノ基を有するアルコキシシランを加水分解せ
しめて得られるオルガノシランおよび／または該オルガ
ノシランの縮合物と多価カルボン酸無水物とを反応させ
て得られる化合物。 （Ｂ）アルコキシシラン、該アルコキシシランを加水分
解せしめて得られるオルガノシランおよび該オルガノシ
ランの縮合物の群から選ばれる少なくとも一種の化合
物。 【効果】 塗布むらやクラックが無くかつ鉛筆硬度も十
分高い保護膜が形成でき、しかも保存安定性に優れる硬
化性組成物を得ることができる。
を特徴とする硬化性組成物。 （Ａ）アミノ基を有するアルコキシシランを加水分解せ
しめて得られるオルガノシランおよび／または該オルガ
ノシランの縮合物と多価カルボン酸無水物とを反応させ
て得られる化合物。 （Ｂ）アルコキシシラン、該アルコキシシランを加水分
解せしめて得られるオルガノシランおよび該オルガノシ
ランの縮合物の群から選ばれる少なくとも一種の化合
物。 【効果】 塗布むらやクラックが無くかつ鉛筆硬度も十
分高い保護膜が形成でき、しかも保存安定性に優れる硬
化性組成物を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、硬化性組成物に関する
ものであり、さらに詳しくは、カラーフィルターの保護
膜、平坦化膜などの作製に好適に用いられる硬化性組成
物に関するものである。
ものであり、さらに詳しくは、カラーフィルターの保護
膜、平坦化膜などの作製に好適に用いられる硬化性組成
物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、パソコン、ワープロ、計器、カラ
ーテレビなどに応用が可能なカラー液晶表示素子が注目
されている。カラー液晶表示素子の一般的な基本構成の
一例としては、基板上にカラーフィルター、ＩＴＯなど
からなる透明電極、配向膜、液晶を順に配置するものが
知られている。
ーテレビなどに応用が可能なカラー液晶表示素子が注目
されている。カラー液晶表示素子の一般的な基本構成の
一例としては、基板上にカラーフィルター、ＩＴＯなど
からなる透明電極、配向膜、液晶を順に配置するものが
知られている。
【０００３】この基本構成においては、カラー液晶表示
素子としての機能を低下させる幾つかの問題点を指摘す
ることができる。まずカラーフィルターに用いられてい
る顔料や染料に含まれるナトリウムなどの金属イオンな
どが液晶中に染み出す恐れがある。また基板に金属イオ
ンなどを含むガラスを用いた場合も、同様な現象が起こ
る。またＩＴＯなどからなる透明電極においてパターン
加工が必要な場合、カラーフィルター上にＩＴＯなどの
蒸着膜やスパッタ膜を形成後、フォトリソグラフィを用
い膜をエッチングすることになるが、このとき下層のカ
ラーフィルターの段差のために良好なパターン加工が不
可能となる。またカラーフィルターの段差は、上下電極
間距離の不均一を生じさせる。さらに蒸着膜やスパッタ
膜形成の際にカラーフィルターがダメージをうけること
も考えられる。
素子としての機能を低下させる幾つかの問題点を指摘す
ることができる。まずカラーフィルターに用いられてい
る顔料や染料に含まれるナトリウムなどの金属イオンな
どが液晶中に染み出す恐れがある。また基板に金属イオ
ンなどを含むガラスを用いた場合も、同様な現象が起こ
る。またＩＴＯなどからなる透明電極においてパターン
加工が必要な場合、カラーフィルター上にＩＴＯなどの
蒸着膜やスパッタ膜を形成後、フォトリソグラフィを用
い膜をエッチングすることになるが、このとき下層のカ
ラーフィルターの段差のために良好なパターン加工が不
可能となる。またカラーフィルターの段差は、上下電極
間距離の不均一を生じさせる。さらに蒸着膜やスパッタ
膜形成の際にカラーフィルターがダメージをうけること
も考えられる。
【０００４】そこでこれらの対策として、カラーフィル
ターやガラス基板上に保護膜を形成する方法が取られて
きた。従来、保護膜としては、シロキサンポリマ系の膜
（例えば特開昭６３−２４１０７６号、特開平３−１２
６６１２号、特開平３−１８８１７９号公報記載）やケ
イ素含有ポリイミド（例えば特開昭６１−１０３９２
７、特開昭６３−２９１９２２号公報記載）などが提案
されている。さらにこれらの保護膜を改良したシロキサ
ン系ポリマとケイ素含有ポリイミドからなる硬化性組成
物が特開昭６３−２９１９２４号公報において提案され
ている。しかしながらこの硬化性組成物は、カラーフィ
ルターなどの保護膜形成用塗布液としての保存安定性に
問題があり、保存時に大きな粘度上昇が生じるという問
題がある。
ターやガラス基板上に保護膜を形成する方法が取られて
きた。従来、保護膜としては、シロキサンポリマ系の膜
（例えば特開昭６３−２４１０７６号、特開平３−１２
６６１２号、特開平３−１８８１７９号公報記載）やケ
イ素含有ポリイミド（例えば特開昭６１−１０３９２
７、特開昭６３−２９１９２２号公報記載）などが提案
されている。さらにこれらの保護膜を改良したシロキサ
ン系ポリマとケイ素含有ポリイミドからなる硬化性組成
物が特開昭６３−２９１９２４号公報において提案され
ている。しかしながらこの硬化性組成物は、カラーフィ
ルターなどの保護膜形成用塗布液としての保存安定性に
問題があり、保存時に大きな粘度上昇が生じるという問
題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的とする
ところは、保存安定性の優れた硬化性組成物を提供する
ことにある。
技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的とする
ところは、保存安定性の優れた硬化性組成物を提供する
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は下
記成分（Ａ）および（Ｂ）を含有することを特徴とする
硬化性組成物により達成される。
記成分（Ａ）および（Ｂ）を含有することを特徴とする
硬化性組成物により達成される。
【０００７】（Ａ）アミノ基を有するアルコキシシラン
を加水分解せしめて得られるオルガノシランおよび／ま
たは該オルガノシランの縮合物と多価カルボン酸無水物
とを反応させて得られる化合物。
を加水分解せしめて得られるオルガノシランおよび／ま
たは該オルガノシランの縮合物と多価カルボン酸無水物
とを反応させて得られる化合物。
【０００８】（Ｂ）アルコキシシラン、該アルコキシシ
ランを加水分解せしめて得られるオルガノシランおよび
該オルガノシランの縮合物の群から選ばれる少なくとも
一種の化合物。
ランを加水分解せしめて得られるオルガノシランおよび
該オルガノシランの縮合物の群から選ばれる少なくとも
一種の化合物。
【０００９】
【００１０】成分（Ａ）について説明する。
【００１１】アミノ基を有するアルコキシシランとして
は、一般式Ｒn Ｓｉ（ＯＲ´）4-nで表されるアミノ基
を有するアルコキシシランを挙げることができる。
は、一般式Ｒn Ｓｉ（ＯＲ´）4-nで表されるアミノ基
を有するアルコキシシランを挙げることができる。
【００１２】式中のＲ、Ｒ´は水素または有機基を示
す。有機基としては、アルキル基、アリル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基、フルオロアルキル基
などを挙げることができる。より具体的な例としてはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル
基、ビニル基、、アリル基、イソプロペニル基、エチニ
ル基、２−プロピニル基、３，３，３−トリフロロプロ
ピル基、γ−グリシドキシプロピル基、メタクリル基、
γ−メタクリルオキシプロピル基、フェニル基、トリル
基などが挙げられる。
す。有機基としては、アルキル基、アリル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基、フルオロアルキル基
などを挙げることができる。より具体的な例としてはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル
基、ビニル基、、アリル基、イソプロペニル基、エチニ
ル基、２−プロピニル基、３，３，３−トリフロロプロ
ピル基、γ−グリシドキシプロピル基、メタクリル基、
γ−メタクリルオキシプロピル基、フェニル基、トリル
基などが挙げられる。
【００１３】ただし、Ｒのうち少なくとも一つは一級ア
ミノ基および／または２級アミノ基を含む基である。一
級アミノ基を含む基としては、γ−アミノプロピル基、
アミノエチル基、ｐ−アミノフェニル基、ｍ−アミノフ
ェニル基、ｏ−アミノフェニル基などが挙げられる。二
級アミノ基を含む基としては、Ｎ−フェニル−γ−アミ
ノプロピル基、Ｎ−メチル−γ−アミノプロピル基、Ｎ
−エチル−γ−アミノプロピル基などが挙げられる。こ
れらの一級アミノ基および／または二級アミノ基を含む
基の中で好ましいものは、γ−アミノプロピル基、ｐ−
アミノフェニル基などである。
ミノ基および／または２級アミノ基を含む基である。一
級アミノ基を含む基としては、γ−アミノプロピル基、
アミノエチル基、ｐ−アミノフェニル基、ｍ−アミノフ
ェニル基、ｏ−アミノフェニル基などが挙げられる。二
級アミノ基を含む基としては、Ｎ−フェニル−γ−アミ
ノプロピル基、Ｎ−メチル−γ−アミノプロピル基、Ｎ
−エチル−γ−アミノプロピル基などが挙げられる。こ
れらの一級アミノ基および／または二級アミノ基を含む
基の中で好ましいものは、γ−アミノプロピル基、ｐ−
アミノフェニル基などである。
【００１４】Ｒ、Ｒ´は同一でもよいし、異なっていて
もよい。ｎ個のＲは同一でもよいし、異なっていてもよ
い。（４−ｎ）個のＯＲ´基は同一でもよいし、異なっ
ていてもよい。ｎは１〜３の数である。
もよい。ｎ個のＲは同一でもよいし、異なっていてもよ
い。（４−ｎ）個のＯＲ´基は同一でもよいし、異なっ
ていてもよい。ｎは１〜３の数である。
【００１５】このような一般式Ｒn Ｓｉ（ＯＲ´）4-n
で表されるアミノ基を有するアルコキシシランの具体的
な例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−
アミノプロピルジメチルエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルエチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルジ
エチルエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、γ−
アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルジエチルメトキシシラン、γ−アミノプロピルエ
チルメトキシエトキシシラン、γ−アミノプロピルエチ
ルメチルエトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルメ
チルメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエ
チル）γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルγ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリ
メトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラ
ン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−
アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフ
ェニルエチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルエ
チルジエトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフェニル）プ
ロピルトリメトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフェニ
ル）エチルトリメトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフェ
ニル）メチルトリメトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフ
ェニル）プロピルトリエトキシシラン、γ−（ｐ−アミ
ノフェニル）エチルトリエトキシシラン、γ−（ｐ−ア
ミノフェニル）メチルトリエトキシシランなどを挙げる
ことができる。これらの中で好ましいものはγ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルエチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニ
ルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキ
シシランなどである。特に好ましいものは、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランな
どＲのうちの一つがγ−アミノプロピル基のものであ
る。これらのアミノ基を有するアルコキシシランは単独
または二種以上組み合わせて用いることができる。
で表されるアミノ基を有するアルコキシシランの具体的
な例としては、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−
アミノプロピルジメチルエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルエチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルジ
エチルエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルジメチルメトキシシラン、γ−
アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルジエチルメトキシシラン、γ−アミノプロピルエ
チルメトキシエトキシシラン、γ−アミノプロピルエチ
ルメチルエトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルメ
チルメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエ
チル）γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ
−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルγ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリ
メトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラ
ン、ｐ−アミノフェニルメチルジメトキシシラン、ｐ−
アミノフェニルメチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフ
ェニルエチルジメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルエ
チルジエトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフェニル）プ
ロピルトリメトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフェニ
ル）エチルトリメトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフェ
ニル）メチルトリメトキシシラン、γ−（ｐ−アミノフ
ェニル）プロピルトリエトキシシラン、γ−（ｐ−アミ
ノフェニル）エチルトリエトキシシラン、γ−（ｐ−ア
ミノフェニル）メチルトリエトキシシランなどを挙げる
ことができる。これらの中で好ましいものはγ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−アミノプロピルエチルジメトキシシラン、γ−アミ
ノプロピルエチルジエトキシシラン、ｐ−アミノフェニ
ルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキ
シシランなどである。特に好ましいものは、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシ
シラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシランな
どＲのうちの一つがγ−アミノプロピル基のものであ
る。これらのアミノ基を有するアルコキシシランは単独
または二種以上組み合わせて用いることができる。
【００１６】本発明におけるアルコキシシランを加水分
解せしめて得られるオルガノシランとは、前述のような
アルコキシシラン中または該アルコキシシランを溶媒に
溶解させたものの中に、水を添加しアルコキシ基を実質
的に完全に加水分解反応させることによって得られるオ
ルガノシランをいう。また、オルガノシランの縮合物と
は、オルガノシランが複数個脱水縮合反応したものをい
う。ここで、該アルコキシシランに前記一般式で表され
るアルコキシシラン以外のアルコキシシランを混合する
こともできる。
解せしめて得られるオルガノシランとは、前述のような
アルコキシシラン中または該アルコキシシランを溶媒に
溶解させたものの中に、水を添加しアルコキシ基を実質
的に完全に加水分解反応させることによって得られるオ
ルガノシランをいう。また、オルガノシランの縮合物と
は、オルガノシランが複数個脱水縮合反応したものをい
う。ここで、該アルコキシシランに前記一般式で表され
るアルコキシシラン以外のアルコキシシランを混合する
こともできる。
【００１７】該アルコキシシランを溶解させる溶媒とし
ては、エタノール、メタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、３−メトキシ３−メチルブタノール、ブチル
セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど
のアルコールや、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラ
クトンなどの非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合
物があげられるがこれらに限定されない。
ては、エタノール、メタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、３−メトキシ３−メチルブタノール、ブチル
セロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど
のアルコールや、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラ
クトンなどの非プロトン性極性溶媒またはこれらの混合
物があげられるがこれらに限定されない。
【００１８】本発明における多価カルボン酸無水物とし
ては、テトラカルボン酸二無水物、トリカルボン酸一無
水物、テトラカルボン酸一無水物などが挙げられるが、
テトラカルボン酸二無水物が一般的である。テトラカル
ボン酸二無水物としては、公知のすべてのテトラカルボ
ン酸二無水物を挙げることができる。テトラカルボン酸
二無水物の具体的な例としては、ピロメリット酸二無水
物、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、２，３，３´，４´−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、２，２´，３，３´−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３´，４，４
´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２´，
３，３´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，
３，３´，４´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、３，３´，４，４´−ジフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラ
カルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテト
ラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレン
テトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シク
ロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、ピリジンテトラカルボン酸二無水
物、３，３´，４，４´−ジフェニルジメチルメタンテ
トラカルボン酸二無水物、３，３´，４，４´−ジフェ
ニルジ（トリフルオロメチル）メタンテトラカルボン酸
二無水物、３，３´，４，４´−ジフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレン
テトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−テトラカ
ルボン酸二無水物、３，３´，４，４´−ジフェニルメ
タンテトラカルボン酸二無水物、２，３，４，５−チオ
フェンテトラカルボンテトラカルボン酸二無水物、１，
８，９，１０−フェナンスレンテトラカルボン酸二無水
物などを挙げることができるがこれらに限定されない。
これらの中で好ましいのは３，３´，４，４´−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３´，４，４
´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ピロメリッ
ト酸二無水物であり、特に３，３´，４，４´−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物が好ましい。また酸
無水物末端のポリアミド酸を用いることもできる。ここ
でいうポリアミド酸としては、ジアミンとテトラカルボ
ン酸二無水物との反応により生じる化合物を挙げること
ができる。テトラカルボン酸二無水物としては前述のテ
トラカルボン酸二無水物を挙げることができ、またジア
ミンとしては公知のジアミンを挙げることができる。例
えば４，４´−ジアミノジフェニルエーテル、３，３´
（または４，４´）−ジアミノジフェニルスルホン、
４，４´−ジアミノジフェニルスルフィド、パラフェニ
レンジアミン、４，４´−ジアミノジフェニルメタン、
ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサ
ン、メタフェニレンジアミン、４，４´−ジアミノジフ
ェニルエタン、１，５−ジアミノナフタレン、３，３´
−ジメチル−４，４´−ジアミノビフェニル、３，３´
−ジアミノベンゾフェノン、４，４´−ジアミノベンゾ
フェノン、３，４´−ジアミノベンゾフェノン、１，３
−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタ
メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレ
ンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，４
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンなどを挙げる
ことができるがこれらに限定されない。
ては、テトラカルボン酸二無水物、トリカルボン酸一無
水物、テトラカルボン酸一無水物などが挙げられるが、
テトラカルボン酸二無水物が一般的である。テトラカル
ボン酸二無水物としては、公知のすべてのテトラカルボ
ン酸二無水物を挙げることができる。テトラカルボン酸
二無水物の具体的な例としては、ピロメリット酸二無水
物、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、２，３，３´，４´−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物、２，２´，３，３´−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３´，４，４
´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２´，
３，３´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，
３，３´，４´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物、３，３´，４，４´−ジフェニルエーテルテトラカ
ルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラ
カルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテト
ラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−ナフタレンテ
トラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレン
テトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シク
ロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、ピリジンテトラカルボン酸二無水
物、３，３´，４，４´−ジフェニルジメチルメタンテ
トラカルボン酸二無水物、３，３´，４，４´−ジフェ
ニルジ（トリフルオロメチル）メタンテトラカルボン酸
二無水物、３，３´，４，４´−ジフェニルスルホンテ
トラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレン
テトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−テトラカ
ルボン酸二無水物、３，３´，４，４´−ジフェニルメ
タンテトラカルボン酸二無水物、２，３，４，５−チオ
フェンテトラカルボンテトラカルボン酸二無水物、１，
８，９，１０−フェナンスレンテトラカルボン酸二無水
物などを挙げることができるがこれらに限定されない。
これらの中で好ましいのは３，３´，４，４´−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３´，４，４
´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ピロメリッ
ト酸二無水物であり、特に３，３´，４，４´−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物が好ましい。また酸
無水物末端のポリアミド酸を用いることもできる。ここ
でいうポリアミド酸としては、ジアミンとテトラカルボ
ン酸二無水物との反応により生じる化合物を挙げること
ができる。テトラカルボン酸二無水物としては前述のテ
トラカルボン酸二無水物を挙げることができ、またジア
ミンとしては公知のジアミンを挙げることができる。例
えば４，４´−ジアミノジフェニルエーテル、３，３´
（または４，４´）−ジアミノジフェニルスルホン、
４，４´−ジアミノジフェニルスルフィド、パラフェニ
レンジアミン、４，４´−ジアミノジフェニルメタン、
ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサ
ン、メタフェニレンジアミン、４，４´−ジアミノジフ
ェニルエタン、１，５−ジアミノナフタレン、３，３´
−ジメチル−４，４´−ジアミノビフェニル、３，３´
−ジアミノベンゾフェノン、４，４´−ジアミノベンゾ
フェノン、３，４´−ジアミノベンゾフェノン、１，３
−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタ
メチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレ
ンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，４
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼンなどを挙げる
ことができるがこれらに限定されない。
【００１９】本発明の成分（Ａ）は、前述のオルガノシ
ランおよび／または該オルガノシランの縮合物と、多価
カルボン酸無水物とを反応させることにより得られる。
オルガノシランおよび／または該オルガノシランの縮合
物、多価カルボン酸無水物は、それぞれ単独または二種
以上組み合わせて用いることができる。
ランおよび／または該オルガノシランの縮合物と、多価
カルボン酸無水物とを反応させることにより得られる。
オルガノシランおよび／または該オルガノシランの縮合
物、多価カルボン酸無水物は、それぞれ単独または二種
以上組み合わせて用いることができる。
【００２０】反応操作としては、まずアルコキシシラン
を加水分解および／または加水分解縮合させてオルガノ
シランおよび／または該オルガノシランの縮合物を得、
つぎに多価カルボン酸無水物および必要に応じて適当な
溶媒を添加すればよい。このような溶媒としては、前述
のＮ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトンなどの
非プロトン性極性溶媒を含んでいるのが好ましい。
を加水分解および／または加水分解縮合させてオルガノ
シランおよび／または該オルガノシランの縮合物を得、
つぎに多価カルボン酸無水物および必要に応じて適当な
溶媒を添加すればよい。このような溶媒としては、前述
のＮ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトンなどの
非プロトン性極性溶媒を含んでいるのが好ましい。
【００２１】オルガノシランおよび／または該オルガノ
シランの縮合物と多価カルボン酸無水物の反応比率とし
ては、特に限定されないが、オルガノシランおよび／ま
たは該オルガノシランの縮合物が有するアミノ基と、多
価カルボン酸無水物の有する酸無水物基が等モル前後と
なるような比率が好ましい。また、一般に多価カルボン
酸無水物とアミノ基の反応によりカルボキシル基が形成
されるが、このカルボキシル基はカルボン酸エステルに
変性してもかまわない。
シランの縮合物と多価カルボン酸無水物の反応比率とし
ては、特に限定されないが、オルガノシランおよび／ま
たは該オルガノシランの縮合物が有するアミノ基と、多
価カルボン酸無水物の有する酸無水物基が等モル前後と
なるような比率が好ましい。また、一般に多価カルボン
酸無水物とアミノ基の反応によりカルボキシル基が形成
されるが、このカルボキシル基はカルボン酸エステルに
変性してもかまわない。
【００２２】成分（Ｂ）について説明する。
【００２３】成分（Ｂ）は、アルコキシシラン、該アル
コキシシランを加水分解せしめて得られるオルガノシラ
ンおよび該オルガノシランの縮合物の群から選ばれる少
なくとも一種の化合物である。
コキシシランを加水分解せしめて得られるオルガノシラ
ンおよび該オルガノシランの縮合物の群から選ばれる少
なくとも一種の化合物である。
【００２４】このようなアルコキシシランとしては、一
般式Ｒ1 x Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-x で表されるアルコキシシ
ランを挙げることができる。
般式Ｒ1 x Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-x で表されるアルコキシシ
ランを挙げることができる。
【００２５】式中のＲ1 、Ｒ2 は水素または有機基を示
す。有機基としては、アルキル基、アリル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基、フルオロアルキル基
などを挙げることができる。より具体的な例としてはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル
基、ビニル基、、アリル基、イソプロペニル基、エチニ
ル基、２−プロピニル基、３，３，３−トリフロロプロ
ピル基、γ−グリシドキシプロピル基、メタクリル基、
アクリル基、γ−メタクリルオキシプロピル基、フェニ
ル基、トリル基などが挙げられる。
す。有機基としては、アルキル基、アリル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基、フルオロアルキル基
などを挙げることができる。より具体的な例としてはメ
チル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、
ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル
基、ビニル基、、アリル基、イソプロペニル基、エチニ
ル基、２−プロピニル基、３，３，３−トリフロロプロ
ピル基、γ−グリシドキシプロピル基、メタクリル基、
アクリル基、γ−メタクリルオキシプロピル基、フェニ
ル基、トリル基などが挙げられる。
【００２６】Ｒ1 、Ｒ2 は同一でもよいし、異なってい
てもよい。ｘ個のＲ1 は同一でもよいし、異なっていて
もよい。（４−ｘ）個のＯＲ2 基は同一でもよいし、異
なっていてもよい。ｘは０〜３の整数である。
てもよい。ｘ個のＲ1 は同一でもよいし、異なっていて
もよい。（４−ｘ）個のＯＲ2 基は同一でもよいし、異
なっていてもよい。ｘは０〜３の整数である。
【００２７】このような一般式Ｒ1 x Ｓｉ（ＯＲ2 ）
4-x で表されるアルコキシシランとしては、例えばβ−
（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、３
−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロ
プロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピル
トリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシ
シラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ジフ
ェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキ
シシラン、ジメチルビニルメトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラメ
トキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ト
リフェニルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、メチルビニルジエトキシシラン、メチルビニルジメ
トキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシ
シラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシ
ラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ
−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチルエトキ
シシラン、γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルジエチルエトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチ
ルメトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルジエチルメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルエチルメトキシエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルエチルメチルエトキシシラン、
γ−アミノプロピルエチルメチルメトキシシランなどを
挙げることができる。これらの中で好ましいものはフェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラフェノキシシラン、
テトラメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、
トリメチルメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシランなどである。これらのア
ルコキシシランは単独または二種以上組み合わせて用い
ることができる。
4-x で表されるアルコキシシランとしては、例えばβ−
（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、３
−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、３−クロロ
プロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピル
トリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシ
シラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、ジフ
ェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラ
ン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラ
ン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルビニルエトキ
シシラン、ジメチルビニルメトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラメ
トキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシ
シラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ト
リフェニルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラ
ン、メチルビニルジエトキシシラン、メチルビニルジメ
トキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシ
シラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシ
ラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ
−アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチル
ジエトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチルエトキ
シシラン、γ−アミノプロピルエチルジエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルジエチルエトキシシラン、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルジメチ
ルメトキシシラン、γ−アミノプロピルエチルジメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルジエチルメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルエチルメトキシエトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルエチルメチルエトキシシラン、
γ−アミノプロピルエチルメチルメトキシシランなどを
挙げることができる。これらの中で好ましいものはフェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラフェノキシシラン、
テトラメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、
トリメチルメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシランなどである。これらのア
ルコキシシランは単独または二種以上組み合わせて用い
ることができる。
【００２８】このようなアルコキシシランから前述のよ
うにしてオルガノシラン、オルガノシランの縮合物を得
ることができる。
うにしてオルガノシラン、オルガノシランの縮合物を得
ることができる。
【００２９】本発明の硬化性組成物は、前記成分（Ａ）
と（Ｂ）を含有する。（Ａ）と（Ｂ）の混合割合は特に
限定されないが、（Ａ）と（Ｂ）の固形分重量の比が
（Ａ）＜（Ｂ）となるような混合割合が好ましい。ここ
で固形分重量とは、（Ａ）、（Ｂ）の成分を３００℃で
熱処理して得られる残分の重量をいう。
と（Ｂ）を含有する。（Ａ）と（Ｂ）の混合割合は特に
限定されないが、（Ａ）と（Ｂ）の固形分重量の比が
（Ａ）＜（Ｂ）となるような混合割合が好ましい。ここ
で固形分重量とは、（Ａ）、（Ｂ）の成分を３００℃で
熱処理して得られる残分の重量をいう。
【００３０】本発明の硬化性組成物中には、熱硬化後の
ガラスなど基板との接着性を高めるために必要に応じて
金属キレート化合物を添加することもできる。
ガラスなど基板との接着性を高めるために必要に応じて
金属キレート化合物を添加することもできる。
【００３１】本発明の硬化性組成物は、基板上に塗布さ
れた後、硬化処理が施され、塗膜となる。基板上に塗布
する方法としては、例えばスピナ法、ディップ法、スプ
レー法などを用いることができ、好ましくはスピナ法、
ディップ法であり、より好ましくはスピナ法である。硬
化処理方法としては熱処理が好ましく、熱処理方法とし
ては、例えば通風オーブン、ホットプレート、真空オー
ブン、炉などを用いることができる。好ましくは通風オ
ーブンもしくはホットプレートである。熱処理温度とし
ては、５０〜４００℃が好ましく、より好ましくは１５
０〜３５０℃であり、さらに好ましくは２００〜３００
℃である。この熱処理温度に急激に昇温しても、段階的
に徐々に昇温しても構わない。好ましくは段階的に昇温
する方法である。最高熱処理温度における熱処理時間と
しては、通風オーブンの場合１０分〜１０時間が好まし
く、より好ましくは３０分〜４時間である。ホットプレ
ートの場合はこれより短い時間で良く、２分〜２時間が
好ましく、より好ましくは６分〜１時間である。また、
硬化性組成物中に感光性成分を添加すれば、光硬化させ
ることもできる。
れた後、硬化処理が施され、塗膜となる。基板上に塗布
する方法としては、例えばスピナ法、ディップ法、スプ
レー法などを用いることができ、好ましくはスピナ法、
ディップ法であり、より好ましくはスピナ法である。硬
化処理方法としては熱処理が好ましく、熱処理方法とし
ては、例えば通風オーブン、ホットプレート、真空オー
ブン、炉などを用いることができる。好ましくは通風オ
ーブンもしくはホットプレートである。熱処理温度とし
ては、５０〜４００℃が好ましく、より好ましくは１５
０〜３５０℃であり、さらに好ましくは２００〜３００
℃である。この熱処理温度に急激に昇温しても、段階的
に徐々に昇温しても構わない。好ましくは段階的に昇温
する方法である。最高熱処理温度における熱処理時間と
しては、通風オーブンの場合１０分〜１０時間が好まし
く、より好ましくは３０分〜４時間である。ホットプレ
ートの場合はこれより短い時間で良く、２分〜２時間が
好ましく、より好ましくは６分〜１時間である。また、
硬化性組成物中に感光性成分を添加すれば、光硬化させ
ることもできる。
【００３２】このようにして得られた塗膜は、カラーフ
ィルター上に設けられる保護膜や平坦化膜のほか、半導
体素子の保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜、導波路形成用
材料、位相シフタ用材料、各種電子部品の保護膜などと
して用いることができる。
ィルター上に設けられる保護膜や平坦化膜のほか、半導
体素子の保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜、導波路形成用
材料、位相シフタ用材料、各種電子部品の保護膜などと
して用いることができる。
【００３３】例えば、カラーフィルターの保護膜として
用いる場合は、ガラスなどの透明基板の上の着色層およ
び必要に応じて該着色層の間隙に設けられた遮光層の上
に、本発明の硬化性組成物を塗布、硬化させて透明保護
膜とする。
用いる場合は、ガラスなどの透明基板の上の着色層およ
び必要に応じて該着色層の間隙に設けられた遮光層の上
に、本発明の硬化性組成物を塗布、硬化させて透明保護
膜とする。
【００３４】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。
明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００３５】実施例１ ５００ｍｌの４つ口フラスコ中にγ−アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン２８．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）、
γ−ブチロラクトン１００．０ｇ、３−メトキシ３−メ
チルブタノール１２８．０ｇを入れ約１０分間攪拌を行
った。次にフラスコ内温を５０℃に上げた後、水５．４
（０．３ｍｏｌ）を１分間で滴下した。その後２時間攪
拌を行いγ−アミノプロピルメチルジエトキシシランの
加水分解を完了した。つづいて３，３´，４，４´−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物２４．１ｇ
（０．０７５ｍｏｌ）を投入しさらに約２時間攪拌を続
け溶液（溶液ａ）を得た。
チルジエトキシシラン２８．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）、
γ−ブチロラクトン１００．０ｇ、３−メトキシ３−メ
チルブタノール１２８．０ｇを入れ約１０分間攪拌を行
った。次にフラスコ内温を５０℃に上げた後、水５．４
（０．３ｍｏｌ）を１分間で滴下した。その後２時間攪
拌を行いγ−アミノプロピルメチルジエトキシシランの
加水分解を完了した。つづいて３，３´，４，４´−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物２４．１ｇ
（０．０７５ｍｏｌ）を投入しさらに約２時間攪拌を続
け溶液（溶液ａ）を得た。
【００３６】一方４つ口フラスコ中にメチルトリメトキ
シシラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４
０．０ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いて
ブチルセロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃と
し、全量が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い溶液（溶
液ｂ）を合成した。
シシラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４
０．０ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いて
ブチルセロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃と
し、全量が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い溶液（溶
液ｂ）を合成した。
【００３７】このようにして得られた溶液ａ１０ｇと溶
液ｂ１０ｇとを混合し、約２時間室温で攪拌し硬化性組
成物溶液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板
上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。そ
の結果むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良
好な２μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこ
の硬化性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、
溶液の粘度を測定し（東京計器回転粘度計ＶＩＳＣＯＮ
ＩＣ−ＥＬＤ、以下同様）、保存安定性を調べた。その
結果粘度は約２５ｃｐのままでほとんど変化せず保存安
定性に優れていた。
液ｂ１０ｇとを混合し、約２時間室温で攪拌し硬化性組
成物溶液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板
上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。そ
の結果むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良
好な２μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこ
の硬化性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、
溶液の粘度を測定し（東京計器回転粘度計ＶＩＳＣＯＮ
ＩＣ−ＥＬＤ、以下同様）、保存安定性を調べた。その
結果粘度は約２５ｃｐのままでほとんど変化せず保存安
定性に優れていた。
【００３８】実施例２ ５００ｍｌの４つ口フラスコ中にγ−アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン２８．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）、
γ−ブチロラクトン１００．０ｇ、３−メトキシ３−メ
チルブタノール１２８．０ｇを入れ約１０分間攪拌を行
った。次にフラスコ内温を５０℃に上げた後、水８．０
（０．４４ｍｏｌ）を１分間で滴下した。その後１０時
間攪拌を行いγ−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ンの加水分解を完了した。つづいて３，３´，４，４´
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物２４．１ｇ
（０．０７５ｍｏｌ）を投入しさらに約２時間攪拌を続
け溶液（溶液ａ）を得た。
チルジエトキシシラン２８．８ｇ（０．１５ｍｏｌ）、
γ−ブチロラクトン１００．０ｇ、３−メトキシ３−メ
チルブタノール１２８．０ｇを入れ約１０分間攪拌を行
った。次にフラスコ内温を５０℃に上げた後、水８．０
（０．４４ｍｏｌ）を１分間で滴下した。その後１０時
間攪拌を行いγ−アミノプロピルメチルジエトキシシラ
ンの加水分解を完了した。つづいて３，３´，４，４´
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物２４．１ｇ
（０．０７５ｍｏｌ）を投入しさらに約２時間攪拌を続
け溶液（溶液ａ）を得た。
【００３９】一方４つ口フラスコ中にメチルトリメトキ
シシラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４
０．０ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いて
ブチルセロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃と
し、全量が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い溶液（溶
液ｂ）を合成した。
シシラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４
０．０ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いて
ブチルセロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃と
し、全量が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い溶液（溶
液ｂ）を合成した。
【００４０】このようにして得られた溶液ａ１０ｇと溶
液ｂ１０ｇとを混合し、約２時間室温で攪拌し硬化性組
成物溶液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板
上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。そ
の結果むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良
好な２μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこ
の硬化性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、
溶液の粘度を測定し、保存安定性を調べた。その結果粘
度は約２５ｃｐのままでほとんど変化せず保存安定性に
優れていた。
液ｂ１０ｇとを混合し、約２時間室温で攪拌し硬化性組
成物溶液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板
上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。そ
の結果むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良
好な２μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこ
の硬化性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、
溶液の粘度を測定し、保存安定性を調べた。その結果粘
度は約２５ｃｐのままでほとんど変化せず保存安定性に
優れていた。
【００４１】実施例３ ５００ｍｌの４つ口フラスコ中にγ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン２４．６ｇ（０．１５ｍｏｌ）、
γ−ブチロラクトン１００．０ｇ、３−メトキシ３−メ
チルブタノール１２８．０ｇを入れ約１０分間攪拌を行
った。次にフラスコ内温を８０℃に上げた後、水８．０
（０．４４ｍｏｌ）を１分間で滴下した。その後１０時
間攪拌を行いγ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ンの加水分解を完了した。つづいて３，３´，４，４´
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物２４．１ｇ
（０．０７５ｍｏｌ）を投入しさらに約２時間攪拌を続
け溶液（溶液ａ）を得た。
チルジメトキシシラン２４．６ｇ（０．１５ｍｏｌ）、
γ−ブチロラクトン１００．０ｇ、３−メトキシ３−メ
チルブタノール１２８．０ｇを入れ約１０分間攪拌を行
った。次にフラスコ内温を８０℃に上げた後、水８．０
（０．４４ｍｏｌ）を１分間で滴下した。その後１０時
間攪拌を行いγ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ンの加水分解を完了した。つづいて３，３´，４，４´
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物２４．１ｇ
（０．０７５ｍｏｌ）を投入しさらに約２時間攪拌を続
け溶液（溶液ａ）を得た。
【００４２】一方４つ口フラスコ中にメチルトリメトキ
シシラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４
０．０ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いて
ブチルセロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃と
し、全量が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い溶液（溶
液ｂ）を合成した。
シシラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４
０．０ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いて
ブチルセロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃と
し、全量が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い溶液（溶
液ｂ）を合成した。
【００４３】このようにして得られた溶液ａ１０ｇと溶
液ｂ１０ｇとを混合し、約２時間室温で攪拌し硬化性組
成物溶液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板
上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。そ
の結果むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良
好な２μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこ
の硬化性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、
溶液の粘度を測定し、保存安定性を調べた。その結果粘
度は約２５ｃｐのままでほとんど変化せず保存安定性に
優れていた。
液ｂ１０ｇとを混合し、約２時間室温で攪拌し硬化性組
成物溶液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板
上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。そ
の結果むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良
好な２μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこ
の硬化性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、
溶液の粘度を測定し、保存安定性を調べた。その結果粘
度は約２５ｃｐのままでほとんど変化せず保存安定性に
優れていた。
【００４４】比較例１ ５００ｍｌの４つ口フラスコ中にγ−ブチロラクトン１
００．０ｇ、３−メトキシ３−メチルブタノール１２
８．０ｇ、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物２４．１ｇ（０．０７５ｍｏｌ）を
フラスコ内温を５０℃の下約１０分間攪拌を行った。続
いてγ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン２８．
８ｇ（０．１５ｍｏｌ）を入れ約２時間攪拌を続け硬化
性組成物溶液（溶液Ａ）を得た。この溶液を４０℃のも
と２４時間放置し、溶液の保存安定性を調べた。その結
果粘度は約１３ｃｐのままでほとんど変化せず保存安定
性には優れていた。しかしながら、このようにして得た
溶液をガラス基板上にスピナで塗布し、２８０℃で３時
間熱処理したところ、得られた膜は、基板面全体にはな
はだしいむらが生じ、また鉛筆硬度は２Ｈと低く良好な
膜を形成することができなかった。
００．０ｇ、３−メトキシ３−メチルブタノール１２
８．０ｇ、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物２４．１ｇ（０．０７５ｍｏｌ）を
フラスコ内温を５０℃の下約１０分間攪拌を行った。続
いてγ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン２８．
８ｇ（０．１５ｍｏｌ）を入れ約２時間攪拌を続け硬化
性組成物溶液（溶液Ａ）を得た。この溶液を４０℃のも
と２４時間放置し、溶液の保存安定性を調べた。その結
果粘度は約１３ｃｐのままでほとんど変化せず保存安定
性には優れていた。しかしながら、このようにして得た
溶液をガラス基板上にスピナで塗布し、２８０℃で３時
間熱処理したところ、得られた膜は、基板面全体にはな
はだしいむらが生じ、また鉛筆硬度は２Ｈと低く良好な
膜を形成することができなかった。
【００４５】比較例２ ５００ｍｌの４つ口フラスコ中にメチルトリメトキシシ
ラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４０．０
ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いてブチル
セロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃とし、全量
が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い、硬化性組成物溶
液（溶液Ｂ）を得た。このようにして得た溶液Ｂをガラ
ス基板上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理し
た。その結果得られた膜は約１μｍと薄膜にもかかわら
ず、全面にクラックが生じた。また４０℃の下２４時間
放置し、溶液の粘度安定性を調べた。その結果粘度は初
期粘度（約２０ｃｐ）の約２．５倍に上昇し、保存安定
性は悪かった。
ラン１００．０ｇを入れ、０．１％酢酸水溶液４０．０
ｇを２０℃で滴下し、約２時間攪拌した。続いてブチル
セロソルブ３０．０ｇを加えた内温を３５℃とし、全量
が１２０ｇとなるまで減圧蒸留を行い、硬化性組成物溶
液（溶液Ｂ）を得た。このようにして得た溶液Ｂをガラ
ス基板上にスピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理し
た。その結果得られた膜は約１μｍと薄膜にもかかわら
ず、全面にクラックが生じた。また４０℃の下２４時間
放置し、溶液の粘度安定性を調べた。その結果粘度は初
期粘度（約２０ｃｐ）の約２．５倍に上昇し、保存安定
性は悪かった。
【００４６】比較例３ 比較例１で得られた溶液（溶液Ａ）１０ｇと比較例２で
得られた溶液（溶液Ｂ）１０ｇとを混合して、約２時間
室温で攪拌し硬化性組成物溶液を得た。このようにして
得た溶液をガラス基板上にスピナで塗布し、２８０℃で
３時間熱処理した。その結果むらが無く、鉛筆硬度は４
Ｈと高い膜を形成することができた。しかしながら４０
℃の下２４時間放置し、溶液の粘度安定性を調べた。そ
の結果粘度は初期粘度（約１７ｃｐ）の約２倍に上昇
し、保存安定性は悪かった。
得られた溶液（溶液Ｂ）１０ｇとを混合して、約２時間
室温で攪拌し硬化性組成物溶液を得た。このようにして
得た溶液をガラス基板上にスピナで塗布し、２８０℃で
３時間熱処理した。その結果むらが無く、鉛筆硬度は４
Ｈと高い膜を形成することができた。しかしながら４０
℃の下２４時間放置し、溶液の粘度安定性を調べた。そ
の結果粘度は初期粘度（約１７ｃｐ）の約２倍に上昇
し、保存安定性は悪かった。
【００４７】実施例４ 実施例１においてテトラカルボン酸二無水物として３，
３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物２４．１ｇ（０．０７５ｍｏｌ）を用いた代わり
に、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物１２．２ｇ（０．０３８ｍｏｌ）およびピ
ロメリット酸二無水物８．３ｇ（０．０３８ｍｏｌ）を
用いたこと以外は全く実施例１と同様に硬化性組成物溶
液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板上にス
ピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。その結果
むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良好な２
μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこの硬化
性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、溶液の
保存安定性を調べた。その結果溶液粘度は約２３ｃｐの
ままでほとんど変化せず保存安定性に優れていた。
３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物２４．１ｇ（０．０７５ｍｏｌ）を用いた代わり
に、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物１２．２ｇ（０．０３８ｍｏｌ）およびピ
ロメリット酸二無水物８．３ｇ（０．０３８ｍｏｌ）を
用いたこと以外は全く実施例１と同様に硬化性組成物溶
液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板上にス
ピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。その結果
むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良好な２
μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこの硬化
性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、溶液の
保存安定性を調べた。その結果溶液粘度は約２３ｃｐの
ままでほとんど変化せず保存安定性に優れていた。
【００４８】実施例５ 実施例２においてテトラカルボン酸二無水物として３，
３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物２４．１ｇ（０．０７５ｍｏｌ）を用いた代わり
に、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物１２．２ｇ（０．０３８ｍｏｌ）およびピ
ロメリット酸二無水物８．３ｇ（０．０３８ｍｏｌ）を
用いたこと以外は全く実施例２と同様に硬化性組成物溶
液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板上にス
ピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。その結果
むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良好な２
μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこの硬化
性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、溶液の
保存安定性を調べた。その結果溶液粘度は約２３ｃｐの
ままでほとんど変化せず保存安定性に優れていた。
３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物２４．１ｇ（０．０７５ｍｏｌ）を用いた代わり
に、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物１２．２ｇ（０．０３８ｍｏｌ）およびピ
ロメリット酸二無水物８．３ｇ（０．０３８ｍｏｌ）を
用いたこと以外は全く実施例２と同様に硬化性組成物溶
液を得た。このようにして得た溶液をガラス基板上にス
ピナで塗布し、２８０℃で３時間熱処理した。その結果
むらやクラックが無く、鉛筆硬度は４Ｈと高く良好な２
μｍの膜厚の膜を形成することができた。またこの硬化
性組成物溶液を４０℃のもとで２４時間放置し、溶液の
保存安定性を調べた。その結果溶液粘度は約２３ｃｐの
ままでほとんど変化せず保存安定性に優れていた。
【００４９】実施例６〜１０ 実施例１〜５においてガラス基板の代わりに、ガラス板
上に蒸着クロムのブラックマトリクスとポリイミドをバ
インダー樹脂成分とする顔料分散タイプのＲＧＢ画素を
形成させたカラーフィルタを使用して、塗布、硬化を行
ない、同様に評価したところ、実施例１〜５と同様の評
価が得られた。
上に蒸着クロムのブラックマトリクスとポリイミドをバ
インダー樹脂成分とする顔料分散タイプのＲＧＢ画素を
形成させたカラーフィルタを使用して、塗布、硬化を行
ない、同様に評価したところ、実施例１〜５と同様の評
価が得られた。
【００５０】
【発明の効果】塗布むらやクラックが無くかつ鉛筆硬度
も十分高い保護膜が形成でき、しかも保存安定性に優れ
る硬化性組成物を得ることができる。
も十分高い保護膜が形成でき、しかも保存安定性に優れ
る硬化性組成物を得ることができる。
Claims (8)
- 【請求項１】下記成分（Ａ）および（Ｂ）を含有するこ
とを特徴とする硬化性組成物。 （Ａ）アミノ基を有するアルコキシシランを加水分解せ
しめて得られるオルガノシランおよび／または該オルガ
ノシランの縮合物と多価カルボン酸無水物とを反応させ
て得られる化合物。 （Ｂ）アルコキシシラン、該アルコキシシランを加水分
解せしめて得られるオルガノシランおよび該オルガノシ
ランの縮合物の群から選ばれる少なくとも一種の化合
物。 - 【請求項２】アミノ基を有するアルコキシシランが一般
式Ｒn Ｓｉ（ＯＲ´）4- n （Ｒ、Ｒ´は水素または有機
基を示す。Ｒのうち少なくとも一つは一級アミノ基およ
び／または２級アミノ基を含む基である。ｎは１〜３の
数である。）で表されるものであることを特徴とする請
求項１記載の硬化性組成物。 - 【請求項３】（Ｂ）成分のアルコキシシランが一般式Ｒ
1 x Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-x（Ｒ1 、Ｒ2 は水素または有機
基を示す。ｘは０〜３の数である。）で表されるもので
あることを特徴とする請求項１記載の硬化性組成物。 - 【請求項４】多価カルボン酸無水物がテトラカルボン酸
二無水物であることを特徴とする請求項１記載の硬化性
組成物。 - 【請求項５】テトラカルボン酸二無水物として３，３
´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物を用いることを特徴とする請求項４記載の硬化性組成
物。 - 【請求項６】Ｒのうちの一つがγ−アミノプロピル基で
あることを特徴とする請求項２記載の硬化性組成物。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載の硬化性組
成物からなることを特徴とするカラーフィルタ保護膜用
硬化性組成物。 - 【請求項８】透明基板上に少なくとも着色層および保護
膜をこの順に設けたカラーフィルタにおいて、該保護膜
が請求項７記載のカラーフィルタ保護膜用硬化性組成物
を硬化してなることを特徴とするカラーフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2182695A JPH0841204A (ja) | 1994-05-23 | 1995-02-09 | 硬化性組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-108595 | 1994-05-23 | ||
| JP10859594 | 1994-05-23 | ||
| JP2182695A JPH0841204A (ja) | 1994-05-23 | 1995-02-09 | 硬化性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0841204A true JPH0841204A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=26358946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2182695A Pending JPH0841204A (ja) | 1994-05-23 | 1995-02-09 | 硬化性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0841204A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007532749A (ja) * | 2004-04-15 | 2007-11-15 | シンベント アクティーゼルスカブ | 多分枝有機／無機ハイブリッドポリマーの製造方法 |
| JP2023036534A (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-14 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物 |
-
1995
- 1995-02-09 JP JP2182695A patent/JPH0841204A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007532749A (ja) * | 2004-04-15 | 2007-11-15 | シンベント アクティーゼルスカブ | 多分枝有機／無機ハイブリッドポリマーの製造方法 |
| JP2023036534A (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-14 | 信越化学工業株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物 |
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