JPH0841443A - 研磨組成物及び研磨方法 - Google Patents
研磨組成物及び研磨方法Info
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- JPH0841443A JPH0841443A JP17405894A JP17405894A JPH0841443A JP H0841443 A JPH0841443 A JP H0841443A JP 17405894 A JP17405894 A JP 17405894A JP 17405894 A JP17405894 A JP 17405894A JP H0841443 A JPH0841443 A JP H0841443A
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 80
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- -1 alkyl sulfate salts Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 11
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 8
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 8
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 7
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 6
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C#N TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021360 Myristic acid Nutrition 0.000 description 2
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- DCBSHORRWZKAKO-UHFFFAOYSA-N rac-1-monomyristoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO DCBSHORRWZKAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- NWZBFJYXRGSRGD-UHFFFAOYSA-M sodium;octadecyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O NWZBFJYXRGSRGD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N tetradecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCO HLZKNKRTKFSKGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N (9Z)-octadecen-1-ol Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCO ALSTYHKOOCGGFT-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005632 Capric acid (CAS 334-48-5) Substances 0.000 description 1
- 239000005635 Caprylic acid (CAS 124-07-2) Substances 0.000 description 1
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001214 Polysorbate 60 Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000015278 beef Nutrition 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 229940043348 myristyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBOJXQVPLKSXOG-UHFFFAOYSA-N o-amino-hydroxylamine Chemical compound NON SBOJXQVPLKSXOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002446 octanoic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000002801 octanoyl group Chemical group C(CCCCCCC)(=O)* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 235000021313 oleic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940055577 oleyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N oleyl alcohol Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCO XMLQWXUVTXCDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001117 oleyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])/C([H])=C([H])\C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M sodium octadecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 229940012831 stearyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000003760 tallow Substances 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 平均粒径が0.1〜10μmの研磨材を2〜
30重量部、アルキル硫酸塩及びポリオキシエチレンモ
ノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも一
種を1〜20重量部含む研磨組成物及び上記研磨組成物
を付着させたバフを回転させながら、被研磨物の表面を
研磨する研磨方法。 【効果】 本発明の研磨組成物及び研磨方法は、スクラ
ッチのない鏡面研磨において、研磨速度が速く、しか
も、研磨剤の劣化を遅くすることができる。
30重量部、アルキル硫酸塩及びポリオキシエチレンモ
ノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも一
種を1〜20重量部含む研磨組成物及び上記研磨組成物
を付着させたバフを回転させながら、被研磨物の表面を
研磨する研磨方法。 【効果】 本発明の研磨組成物及び研磨方法は、スクラ
ッチのない鏡面研磨において、研磨速度が速く、しか
も、研磨剤の劣化を遅くすることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ステンレススチールや
非鉄金属等の被研磨物を、スクラッチのない鏡面に研磨
することができる研磨組成物及び研磨方法に関する。
非鉄金属等の被研磨物を、スクラッチのない鏡面に研磨
することができる研磨組成物及び研磨方法に関する。
【0002】
【従来の技術とその問題点】我々の身の回りにある生活
用品、例えば、電化製品、時計、置物やインテリアなど
には、外観の見栄えを良くするために、ステンレススチ
ールや非鉄金属等が多く使用されている。そのため、外
観の見栄えや品の良さを一層向上させるため、表面の光
沢を増加させることが重要になってきており、ステンレ
ススチールや非鉄金属等の表面の光沢性を向上させるた
めに、スクラッチのない平滑面を得るための研磨方法が
検討されている。
用品、例えば、電化製品、時計、置物やインテリアなど
には、外観の見栄えを良くするために、ステンレススチ
ールや非鉄金属等が多く使用されている。そのため、外
観の見栄えや品の良さを一層向上させるため、表面の光
沢を増加させることが重要になってきており、ステンレ
ススチールや非鉄金属等の表面の光沢性を向上させるた
めに、スクラッチのない平滑面を得るための研磨方法が
検討されている。
【0003】例えば、特開平4−201069号には、
平均粒径2μm以下の研磨材を脂肪酸石鹸水溶液に分散
させたスラリーを用いた、スクラッチのない鏡面研磨方
法が開示されている。この方法は、スクラッチのない鏡
面研磨を行えるが、研磨速度が遅い、研磨材の劣化が早
い、という欠点があった。
平均粒径2μm以下の研磨材を脂肪酸石鹸水溶液に分散
させたスラリーを用いた、スクラッチのない鏡面研磨方
法が開示されている。この方法は、スクラッチのない鏡
面研磨を行えるが、研磨速度が遅い、研磨材の劣化が早
い、という欠点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、簡単、迅速
かつ耐久性の高い鏡面研磨用の研磨組成物及び研磨方法
を提供するものである。
かつ耐久性の高い鏡面研磨用の研磨組成物及び研磨方法
を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記技術に
鑑み、研究を重ねた結果、平均粒径0.1〜10μmの
研磨材に、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンモノ脂
肪酸エステルなどを用いた研磨組成物が、脂肪酸石鹸水
溶液を用いた研磨組成物よりも、研磨速度が速く、耐久
性に優れていることを見出した。
鑑み、研究を重ねた結果、平均粒径0.1〜10μmの
研磨材に、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンモノ脂
肪酸エステルなどを用いた研磨組成物が、脂肪酸石鹸水
溶液を用いた研磨組成物よりも、研磨速度が速く、耐久
性に優れていることを見出した。
【0006】即ち、本発明は、平均粒径が0.1〜10
μmの研磨材を2〜30重量部、アルキル硫酸塩及びポ
リオキシエチレンモノ脂肪酸エステルからなる群から選
ばれる少なくとも一種を1〜20重量部含む研磨組成物
を提供するものである。
μmの研磨材を2〜30重量部、アルキル硫酸塩及びポ
リオキシエチレンモノ脂肪酸エステルからなる群から選
ばれる少なくとも一種を1〜20重量部含む研磨組成物
を提供するものである。
【0007】また、本発明は、上記研磨組成物を付着さ
せたバフを回転させながら、被研磨物の表面を研磨する
研磨方法を提供するものである。
せたバフを回転させながら、被研磨物の表面を研磨する
研磨方法を提供するものである。
【0008】本発明において用いられる研磨材は、酸化
クロム、酸化アルミニウム、酸化鉄、けい石粉末、非晶
質シリカ、けい藻土、炭化けい素、酸化ジルコニウム、
酸化セリウムなどの微粒研磨材が使用できる。
クロム、酸化アルミニウム、酸化鉄、けい石粉末、非晶
質シリカ、けい藻土、炭化けい素、酸化ジルコニウム、
酸化セリウムなどの微粒研磨材が使用できる。
【0009】好ましい研磨材としては、酸化アルミニウ
ム、酸化クロムの微粉品が例示される。
ム、酸化クロムの微粉品が例示される。
【0010】特に、界面活性剤と研磨材の好ましい組合
わせとしては、ステアリル硫酸ナトリウムと酸化アルミ
ニウム、ポリオキシエチレンモノステアリル酸エステル
と酸化アルミニウムが例示される。
わせとしては、ステアリル硫酸ナトリウムと酸化アルミ
ニウム、ポリオキシエチレンモノステアリル酸エステル
と酸化アルミニウムが例示される。
【0011】研磨材の粒度は、0.1〜10μmで、好
ましくは、0.5〜3μmである。0.1〜10μmで
は、被研磨物にスクラッチは入らず、研磨効果が優れて
いる。
ましくは、0.5〜3μmである。0.1〜10μmで
は、被研磨物にスクラッチは入らず、研磨効果が優れて
いる。
【0012】研磨組成物中の研磨材の含有量は、2〜3
0重量部で、好ましくは、3〜10重量部である。
0重量部で、好ましくは、3〜10重量部である。
【0013】本発明の研磨組成物は、アルキル硫酸塩及
びポリオキシエチレンモノ脂肪酸エステルの他に非研磨
材成分を含んでいてもよく、それら非研磨材成分として
は、ポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノ脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン牛脂アミノエーテル、ロート油、アルキルフ
ェニールエーテルモノスルフォン酸塩、アルキルフェニ
ルエーテルジスルフォン酸塩、アルキルジフェニルエー
テルジスルフォン酸塩、多価アルコールなどが挙げられ
る。
びポリオキシエチレンモノ脂肪酸エステルの他に非研磨
材成分を含んでいてもよく、それら非研磨材成分として
は、ポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノ脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン牛脂アミノエーテル、ロート油、アルキルフ
ェニールエーテルモノスルフォン酸塩、アルキルフェニ
ルエーテルジスルフォン酸塩、アルキルジフェニルエー
テルジスルフォン酸塩、多価アルコールなどが挙げられ
る。
【0014】本発明研磨組成物中のアルキル硫酸塩は、
一般式R−O−SO2 −OMで表わされ、Rとしては、
カプリリル、カプリル、ラウリル、ミリスチル、セチ
ル、ステアリル、オレイルなどの炭素数が8〜18の飽
和又は不飽和のアルキル基、好ましくは、炭素数が12
〜18のアルキル基、Mとしては、ナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、及びエタノールアミン等の有機ア
ミンなどが挙げられる。
一般式R−O−SO2 −OMで表わされ、Rとしては、
カプリリル、カプリル、ラウリル、ミリスチル、セチ
ル、ステアリル、オレイルなどの炭素数が8〜18の飽
和又は不飽和のアルキル基、好ましくは、炭素数が12
〜18のアルキル基、Mとしては、ナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、及びエタノールアミン等の有機ア
ミンなどが挙げられる。
【0015】ポリオキシエチレンモノアルキルエーテル
としては、例えば、カプリリルアルコール、カプリルア
ルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、セチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイ
ルアルコールなどの炭素数8〜18の飽和、不飽和アル
コールのポリオキシエチレンとのエーテルなどが挙げら
れる。
としては、例えば、カプリリルアルコール、カプリルア
ルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、セチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイ
ルアルコールなどの炭素数8〜18の飽和、不飽和アル
コールのポリオキシエチレンとのエーテルなどが挙げら
れる。
【0016】ポリオキシエチレンモノ脂肪酸エステルと
しては、ポリオキシエチレンとカプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数8〜18の飽和、不飽
和脂肪酸エステルなどが挙げられる。
しては、ポリオキシエチレンとカプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数8〜18の飽和、不飽
和脂肪酸エステルなどが挙げられる。
【0017】本発明の研磨剤組成物中、最も好ましい非
研磨材成分としては、アルキル硫酸塩及びポリオキシエ
チレンモノ脂肪酸エステルであり、これらを用いた場合
は、脂肪酸石鹸水溶液よりも、特に研磨速度が優れ、研
磨剤の処理量も優れている。
研磨材成分としては、アルキル硫酸塩及びポリオキシエ
チレンモノ脂肪酸エステルであり、これらを用いた場合
は、脂肪酸石鹸水溶液よりも、特に研磨速度が優れ、研
磨剤の処理量も優れている。
【0018】尚、上記以外の非研磨材成分として、ナフ
タレンスルフォン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩や
ポリカルボン酸型高分子分散剤などの添加により、研磨
材の分散効果を上げることにより、研磨剤のハンドリン
グ性が向上する。
タレンスルフォン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩や
ポリカルボン酸型高分子分散剤などの添加により、研磨
材の分散効果を上げることにより、研磨剤のハンドリン
グ性が向上する。
【0019】研磨組成物中のアルキル硫酸塩及びポリオ
キシエチレンモノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれ
る少なくとも一種の含有量は、1〜20重量部で、好ま
しくは3〜10重量部である。
キシエチレンモノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれ
る少なくとも一種の含有量は、1〜20重量部で、好ま
しくは3〜10重量部である。
【0020】1〜20重量部では、界面潤滑効果が上が
り、鏡面光沢が優れ、研磨組成物の粘度が低くなり、研
磨剤が研磨品に殆ど付着せず、研磨終了後に研磨剤の持
ち出しがなく、実用上使用し易い。
り、鏡面光沢が優れ、研磨組成物の粘度が低くなり、研
磨剤が研磨品に殆ど付着せず、研磨終了後に研磨剤の持
ち出しがなく、実用上使用し易い。
【0021】次に本発明の研磨方法について述べる。
【0022】本発明の研磨組成物は、水に分散させてス
ラリーとして使用する。
ラリーとして使用する。
【0023】水の量としては、当業者が容易に決定でき
る。
る。
【0024】上記研磨組成物を用いて、鏡面研磨を行な
うに際して、研磨方法は、バフを用いた縦研磨及び平面
研磨で行なうことができる。
うに際して、研磨方法は、バフを用いた縦研磨及び平面
研磨で行なうことができる。
【0025】また、使用するバフとしては、フェルトバ
フ、ネルバフ、スポンジバフ、羊毛バフなどが挙げられ
る。
フ、ネルバフ、スポンジバフ、羊毛バフなどが挙げられ
る。
【0026】バフ周速度は、50〜500m/分で研磨
でき、この周速度では、研磨効率が良く、スクラッチは
入らず、優れた鏡面研磨ができる。
でき、この周速度では、研磨効率が良く、スクラッチは
入らず、優れた鏡面研磨ができる。
【0027】本発明の研磨方法によって研磨される被研
磨物としては、ステンレススチールや非鉄金属例えば、
アルミニウム、銅合金、チタン、ニッケルめっき品、ク
ロムめっき品などが挙げられる。
磨物としては、ステンレススチールや非鉄金属例えば、
アルミニウム、銅合金、チタン、ニッケルめっき品、ク
ロムめっき品などが挙げられる。
【0028】上記研磨方法では、鏡面研磨を行なうに際
し、研磨組成物は連続供給することにより、スクラッチ
のない、鏡面研磨ができる。
し、研磨組成物は連続供給することにより、スクラッチ
のない、鏡面研磨ができる。
【0029】
実施例1〜3及び比較例1〜2 研磨テストピースとしてアルミニウム板材(JIS A
−5052) 20×20cmを油脂性固形バフ研磨剤
ライム 434(奥野製薬工業(株)製)を用い、綿バ
イアスバフにて、表面粗さ 0.2μm Rmax に仕上げた物
を用いて、研磨回転数300r.p.m.、研磨圧6,
000Paにて、研磨剤使用量100gの条件下にフェ
ルトバフ(φ180cm)を用いてバフ研磨を行った。研
磨組成物として表1に示すものを各々100g使用し
た。
−5052) 20×20cmを油脂性固形バフ研磨剤
ライム 434(奥野製薬工業(株)製)を用い、綿バ
イアスバフにて、表面粗さ 0.2μm Rmax に仕上げた物
を用いて、研磨回転数300r.p.m.、研磨圧6,
000Paにて、研磨剤使用量100gの条件下にフェ
ルトバフ(φ180cm)を用いてバフ研磨を行った。研
磨組成物として表1に示すものを各々100g使用し
た。
【0030】
【表1】 研磨組成物 実施例 比較例 成 分 1 2 3 1 2 アルキル硫酸ナトリウム* 10 ポリオキシエチレン脂肪酸エステル** 10 ポリオキシエチレン脂肪酸エステル*** 10 脂肪酸石鹸**** 10 脂肪酸石鹸***** 10 焼成アルミナ(中心粒径1μm) 20 20 20 20 20 水 70 70 70 70 70 100 100 100 100 100 * ステアリル硫酸ナトリウム ** ポリオキシエチレンモノステアリン酸エステル *** ポリオキシエチレンモノミリスチン酸エステル **** ステアリン酸65%、パルミチン酸30%、ミリスチン酸5%のナトリ ウム塩 ***** ステアリン酸65%、パルミチン酸30%、ミリスチン酸5%のカリウ ム塩 一枚のテストピースの鏡面研磨に要する時間及び100
gの研磨組成物で研磨可能なテストピースの枚数を表2
に示す。
gの研磨組成物で研磨可能なテストピースの枚数を表2
に示す。
【0031】
【表2】 * テストピースの鏡面光沢を行うのに要する研磨時間 ** テストピースの鏡面光沢を行ない得る研磨枚数 尚、実施例1〜3及び比較例1〜2について、個々所要
研磨時間後の鏡面光沢は目視および計器測定による表面
粗さ(0.06〜0.07μm Rmax )については、優位差は認
められない。
研磨時間後の鏡面光沢は目視および計器測定による表面
粗さ(0.06〜0.07μm Rmax )については、優位差は認
められない。
【0032】表2に示されるように、本願の研磨組成物
は、全体として研磨時間と研磨枚数のバランスが石鹸を
用いた従来の研磨組成物よりも優れている。
は、全体として研磨時間と研磨枚数のバランスが石鹸を
用いた従来の研磨組成物よりも優れている。
【0033】実施例4及び5 研磨テストピースとして、ステンレス板材(JIS S
US 304BA)20×20cmを用い、油脂性固形バ
フ研磨剤 青棒 31(奥野製薬工業(株)製)を用
い、オープン綿バフにて表面粗さ 0.1μm Rmax に仕上
げた物を用いて、研磨回転数400r.p.m.、研磨
圧8,000Paの条件下に、スポンジバフ(φ180
cm)を用いてバフ研磨を行った。
US 304BA)20×20cmを用い、油脂性固形バ
フ研磨剤 青棒 31(奥野製薬工業(株)製)を用
い、オープン綿バフにて表面粗さ 0.1μm Rmax に仕上
げた物を用いて、研磨回転数400r.p.m.、研磨
圧8,000Paの条件下に、スポンジバフ(φ180
cm)を用いてバフ研磨を行った。
【0034】研磨組成物として、下記の表3に示すもの
を、各々100g用いた。
を、各々100g用いた。
【0035】
【表3】 * ラウリル硫酸ナトリウム ** ポリオキシエチレンモノラウリン酸エステル 尚、実施例4及び5は、太陽光の下で、スクラッチのな
い鏡面光沢を有する。また、計器測定による表面粗さは
共に、0.06μm Rmax であった。
い鏡面光沢を有する。また、計器測定による表面粗さは
共に、0.06μm Rmax であった。
【0036】
【発明の効果】本発明の研磨組成物及び研磨方法は、従
来に比べ、研磨速度が速く、しかも、研磨剤の劣化を遅
くすることができる。
来に比べ、研磨速度が速く、しかも、研磨剤の劣化を遅
くすることができる。
【0037】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年8月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】 例えば、特開平4−201069号に
は、平均粒径2μm以下の研磨材を脂肪酸石鹸水溶液に
分散させたスラリーを用いた、スクラッチのない鏡面研
磨方法が開示されている。この方法は、スクラッチのな
い鏡面研磨を行えるが、研磨速度が遅い、研磨剤の劣化
が早い、という欠点があった。
は、平均粒径2μm以下の研磨材を脂肪酸石鹸水溶液に
分散させたスラリーを用いた、スクラッチのない鏡面研
磨方法が開示されている。この方法は、スクラッチのな
い鏡面研磨を行えるが、研磨速度が遅い、研磨剤の劣化
が早い、という欠点があった。
Claims (2)
- 【請求項1】 平均粒径が0.1〜10μmの研磨材を
2〜30重量部、アルキル硫酸塩及びポリオキシエチレ
ンモノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれる少なくと
も一種を1〜20重量部含む研磨組成物。 - 【請求項2】 請求項1に記載の研磨組成物を付着させ
たバフを回転させながら、被研磨物の表面を研磨する研
磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17405894A JPH0841443A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | 研磨組成物及び研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17405894A JPH0841443A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | 研磨組成物及び研磨方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0841443A true JPH0841443A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=15971888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17405894A Pending JPH0841443A (ja) | 1994-07-26 | 1994-07-26 | 研磨組成物及び研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0841443A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998021289A1 (en) * | 1996-11-14 | 1998-05-22 | Kao Corporation | Abrasive composition for the base of magnetic recording medium and process for producing the base by using the same |
| WO1999043761A1 (en) * | 1998-02-24 | 1999-09-02 | Showa Denko K.K. | Abrasive composition for polishing semiconductor device and process for producing semiconductor device with the same |
| US6383239B1 (en) | 1999-03-15 | 2002-05-07 | Tokyo Magnetic Printing Co., Ltd. | Free abrasive slurry composition and a grinding method using the same |
| JP2003025209A (ja) * | 2001-07-23 | 2003-01-29 | Nisshin Steel Co Ltd | ステンレス鋼の研磨方法 |
| FR2835517A1 (fr) * | 2002-02-04 | 2003-08-08 | Jean Luc Renaud | Nouveau dispositif generateur d'ozone |
| US20070169420A1 (en) * | 2003-10-17 | 2007-07-26 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Antiloading compositions and methods of selecting same |
| JP2009263534A (ja) * | 2008-04-25 | 2009-11-12 | Yushiro Chem Ind Co Ltd | 砥粒分散媒、スラリー組成物、脆性材料の研磨方法およびサファイア基板の製造方法 |
-
1994
- 1994-07-26 JP JP17405894A patent/JPH0841443A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998021289A1 (en) * | 1996-11-14 | 1998-05-22 | Kao Corporation | Abrasive composition for the base of magnetic recording medium and process for producing the base by using the same |
| WO1999043761A1 (en) * | 1998-02-24 | 1999-09-02 | Showa Denko K.K. | Abrasive composition for polishing semiconductor device and process for producing semiconductor device with the same |
| US6410444B1 (en) | 1998-02-24 | 2002-06-25 | Showa Denko K.K. | Composition for polishing a semiconductor device and process for manufacturing a semiconductor device using the same |
| US6436835B1 (en) | 1998-02-24 | 2002-08-20 | Showa Denko K.K. | Composition for polishing a semiconductor device and process for manufacturing a semiconductor device using the same |
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