JPH0841443A - 研磨組成物及び研磨方法 - Google Patents

研磨組成物及び研磨方法

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JPH0841443A
JPH0841443A JP17405894A JP17405894A JPH0841443A JP H0841443 A JPH0841443 A JP H0841443A JP 17405894 A JP17405894 A JP 17405894A JP 17405894 A JP17405894 A JP 17405894A JP H0841443 A JPH0841443 A JP H0841443A
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JP
Japan
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polishing
polishing composition
polyoxyethylene
abrasive
buff
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Pending
Application number
JP17405894A
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English (en)
Inventor
Toshio Katakama
利男 片鎌
Norio Ozeki
紀夫 大関
Yukio Nishihama
幸男 西浜
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Okuno Chemical Industries Co Ltd
Original Assignee
Okuno Chemical Industries Co Ltd
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Publication date
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 平均粒径が0.1〜10μmの研磨材を2〜
30重量部、アルキル硫酸塩及びポリオキシエチレンモ
ノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれる少なくとも一
種を1〜20重量部含む研磨組成物及び上記研磨組成物
を付着させたバフを回転させながら、被研磨物の表面を
研磨する研磨方法。 【効果】 本発明の研磨組成物及び研磨方法は、スクラ
ッチのない鏡面研磨において、研磨速度が速く、しか
も、研磨剤の劣化を遅くすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ステンレススチールや
非鉄金属等の被研磨物を、スクラッチのない鏡面に研磨
することができる研磨組成物及び研磨方法に関する。
【0002】
【従来の技術とその問題点】我々の身の回りにある生活
用品、例えば、電化製品、時計、置物やインテリアなど
には、外観の見栄えを良くするために、ステンレススチ
ールや非鉄金属等が多く使用されている。そのため、外
観の見栄えや品の良さを一層向上させるため、表面の光
沢を増加させることが重要になってきており、ステンレ
ススチールや非鉄金属等の表面の光沢性を向上させるた
めに、スクラッチのない平滑面を得るための研磨方法が
検討されている。
【0003】例えば、特開平4−201069号には、
平均粒径2μm以下の研磨材を脂肪酸石鹸水溶液に分散
させたスラリーを用いた、スクラッチのない鏡面研磨方
法が開示されている。この方法は、スクラッチのない鏡
面研磨を行えるが、研磨速度が遅い、研磨材の劣化が早
い、という欠点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、簡単、迅速
かつ耐久性の高い鏡面研磨用の研磨組成物及び研磨方法
を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記技術に
鑑み、研究を重ねた結果、平均粒径0.1〜10μmの
研磨材に、アルキル硫酸塩、ポリオキシエチレンモノ脂
肪酸エステルなどを用いた研磨組成物が、脂肪酸石鹸水
溶液を用いた研磨組成物よりも、研磨速度が速く、耐久
性に優れていることを見出した。
【0006】即ち、本発明は、平均粒径が0.1〜10
μmの研磨材を2〜30重量部、アルキル硫酸塩及びポ
リオキシエチレンモノ脂肪酸エステルからなる群から選
ばれる少なくとも一種を1〜20重量部含む研磨組成物
を提供するものである。
【0007】また、本発明は、上記研磨組成物を付着さ
せたバフを回転させながら、被研磨物の表面を研磨する
研磨方法を提供するものである。
【0008】本発明において用いられる研磨材は、酸化
クロム、酸化アルミニウム、酸化鉄、けい石粉末、非晶
質シリカ、けい藻土、炭化けい素、酸化ジルコニウム、
酸化セリウムなどの微粒研磨材が使用できる。
【0009】好ましい研磨材としては、酸化アルミニウ
ム、酸化クロムの微粉品が例示される。
【0010】特に、界面活性剤と研磨材の好ましい組合
わせとしては、ステアリル硫酸ナトリウムと酸化アルミ
ニウム、ポリオキシエチレンモノステアリル酸エステル
と酸化アルミニウムが例示される。
【0011】研磨材の粒度は、0.1〜10μmで、好
ましくは、0.5〜3μmである。0.1〜10μmで
は、被研磨物にスクラッチは入らず、研磨効果が優れて
いる。
【0012】研磨組成物中の研磨材の含有量は、2〜3
0重量部で、好ましくは、3〜10重量部である。
【0013】本発明の研磨組成物は、アルキル硫酸塩及
びポリオキシエチレンモノ脂肪酸エステルの他に非研磨
材成分を含んでいてもよく、それら非研磨材成分として
は、ポリオキシエチレンモノアルキルエーテル、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノ脂肪酸エステル、ポリオキ
シエチレン牛脂アミノエーテル、ロート油、アルキルフ
ェニールエーテルモノスルフォン酸塩、アルキルフェニ
ルエーテルジスルフォン酸塩、アルキルジフェニルエー
テルジスルフォン酸塩、多価アルコールなどが挙げられ
る。
【0014】本発明研磨組成物中のアルキル硫酸塩は、
一般式R−O−SO2 −OMで表わされ、Rとしては、
カプリリル、カプリル、ラウリル、ミリスチル、セチ
ル、ステアリル、オレイルなどの炭素数が8〜18の飽
和又は不飽和のアルキル基、好ましくは、炭素数が12
〜18のアルキル基、Mとしては、ナトリウム、カリウ
ム等のアルカリ金属、及びエタノールアミン等の有機ア
ミンなどが挙げられる。
【0015】ポリオキシエチレンモノアルキルエーテル
としては、例えば、カプリリルアルコール、カプリルア
ルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、セチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイ
ルアルコールなどの炭素数8〜18の飽和、不飽和アル
コールのポリオキシエチレンとのエーテルなどが挙げら
れる。
【0016】ポリオキシエチレンモノ脂肪酸エステルと
しては、ポリオキシエチレンとカプリル酸、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、オレイン酸などの炭素数8〜18の飽和、不飽
和脂肪酸エステルなどが挙げられる。
【0017】本発明の研磨剤組成物中、最も好ましい非
研磨材成分としては、アルキル硫酸塩及びポリオキシエ
チレンモノ脂肪酸エステルであり、これらを用いた場合
は、脂肪酸石鹸水溶液よりも、特に研磨速度が優れ、研
磨剤の処理量も優れている。
【0018】尚、上記以外の非研磨材成分として、ナフ
タレンスルフォン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩や
ポリカルボン酸型高分子分散剤などの添加により、研磨
材の分散効果を上げることにより、研磨剤のハンドリン
グ性が向上する。
【0019】研磨組成物中のアルキル硫酸塩及びポリオ
キシエチレンモノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれ
る少なくとも一種の含有量は、1〜20重量部で、好ま
しくは3〜10重量部である。
【0020】1〜20重量部では、界面潤滑効果が上が
り、鏡面光沢が優れ、研磨組成物の粘度が低くなり、研
磨剤が研磨品に殆ど付着せず、研磨終了後に研磨剤の持
ち出しがなく、実用上使用し易い。
【0021】次に本発明の研磨方法について述べる。
【0022】本発明の研磨組成物は、水に分散させてス
ラリーとして使用する。
【0023】水の量としては、当業者が容易に決定でき
る。
【0024】上記研磨組成物を用いて、鏡面研磨を行な
うに際して、研磨方法は、バフを用いた縦研磨及び平面
研磨で行なうことができる。
【0025】また、使用するバフとしては、フェルトバ
フ、ネルバフ、スポンジバフ、羊毛バフなどが挙げられ
る。
【0026】バフ周速度は、50〜500m/分で研磨
でき、この周速度では、研磨効率が良く、スクラッチは
入らず、優れた鏡面研磨ができる。
【0027】本発明の研磨方法によって研磨される被研
磨物としては、ステンレススチールや非鉄金属例えば、
アルミニウム、銅合金、チタン、ニッケルめっき品、ク
ロムめっき品などが挙げられる。
【0028】上記研磨方法では、鏡面研磨を行なうに際
し、研磨組成物は連続供給することにより、スクラッチ
のない、鏡面研磨ができる。
【0029】
【実施例】
実施例1〜3及び比較例1〜2 研磨テストピースとしてアルミニウム板材(JIS A
−5052) 20×20cmを油脂性固形バフ研磨剤
ライム 434(奥野製薬工業(株)製)を用い、綿バ
イアスバフにて、表面粗さ 0.2μm Rmax に仕上げた物
を用いて、研磨回転数300r.p.m.、研磨圧6,
000Paにて、研磨剤使用量100gの条件下にフェ
ルトバフ(φ180cm)を用いてバフ研磨を行った。研
磨組成物として表1に示すものを各々100g使用し
た。
【0030】
【表1】 研磨組成物 実施例 比較例 成 分 1 2 3 1 2 アルキル硫酸ナトリウム* 10 ポリオキシエチレン脂肪酸エステル** 10 ポリオキシエチレン脂肪酸エステル*** 10 脂肪酸石鹸**** 10 脂肪酸石鹸***** 10 焼成アルミナ(中心粒径1μm) 20 20 20 20 20 水 70 70 70 70 70 100 100 100 100 100 * ステアリル硫酸ナトリウム ** ポリオキシエチレンモノステアリン酸エステル *** ポリオキシエチレンモノミリスチン酸エステル **** ステアリン酸65%、パルミチン酸30%、ミリスチン酸5%のナトリ ウム塩 ***** ステアリン酸65%、パルミチン酸30%、ミリスチン酸5%のカリウ ム塩 一枚のテストピースの鏡面研磨に要する時間及び100
gの研磨組成物で研磨可能なテストピースの枚数を表2
に示す。
【0031】
【表2】 * テストピースの鏡面光沢を行うのに要する研磨時間 ** テストピースの鏡面光沢を行ない得る研磨枚数 尚、実施例1〜3及び比較例1〜2について、個々所要
研磨時間後の鏡面光沢は目視および計器測定による表面
粗さ(0.06〜0.07μm Rmax )については、優位差は認
められない。
【0032】表2に示されるように、本願の研磨組成物
は、全体として研磨時間と研磨枚数のバランスが石鹸を
用いた従来の研磨組成物よりも優れている。
【0033】実施例4及び5 研磨テストピースとして、ステンレス板材(JIS S
US 304BA)20×20cmを用い、油脂性固形バ
フ研磨剤 青棒 31(奥野製薬工業(株)製)を用
い、オープン綿バフにて表面粗さ 0.1μm Rmax に仕上
げた物を用いて、研磨回転数400r.p.m.、研磨
圧8,000Paの条件下に、スポンジバフ(φ180
cm)を用いてバフ研磨を行った。
【0034】研磨組成物として、下記の表3に示すもの
を、各々100g用いた。
【0035】
【表3】 * ラウリル硫酸ナトリウム ** ポリオキシエチレンモノラウリン酸エステル 尚、実施例4及び5は、太陽光の下で、スクラッチのな
い鏡面光沢を有する。また、計器測定による表面粗さは
共に、0.06μm Rmax であった。
【0036】
【発明の効果】本発明の研磨組成物及び研磨方法は、従
来に比べ、研磨速度が速く、しかも、研磨剤の劣化を遅
くすることができる。
【0037】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成6年8月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】 例えば、特開平4−201069号に
は、平均粒径2μm以下の研磨材を脂肪酸石鹸水溶液に
分散させたスラリーを用いた、スクラッチのない鏡面研
磨方法が開示されている。この方法は、スクラッチのな
い鏡面研磨を行えるが、研磨速度が遅い、研磨の劣化
が早い、という欠点があった。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平均粒径が0.1〜10μmの研磨材を
    2〜30重量部、アルキル硫酸塩及びポリオキシエチレ
    ンモノ脂肪酸エステルからなる群から選ばれる少なくと
    も一種を1〜20重量部含む研磨組成物。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の研磨組成物を付着させ
    たバフを回転させながら、被研磨物の表面を研磨する研
    磨方法。
JP17405894A 1994-07-26 1994-07-26 研磨組成物及び研磨方法 Pending JPH0841443A (ja)

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