JPH0841649A - 表面処理装置 - Google Patents

表面処理装置

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JPH0841649A
JPH0841649A JP9366793A JP9366793A JPH0841649A JP H0841649 A JPH0841649 A JP H0841649A JP 9366793 A JP9366793 A JP 9366793A JP 9366793 A JP9366793 A JP 9366793A JP H0841649 A JPH0841649 A JP H0841649A
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Genichi Nakanishi
玄一 中西
Takeshi Wada
健史 和田
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 被処理体の処理能率及び処理精度の向上を図
り、かつ被処理体への不純物等の付着を低減して歩留ま
りの向上を図る。 【構成】 対峙する吊持部材2に垂直方向に回転可能な
回転保持体10を取付けると共に、回転保持体10と同
心上の太陽歯車30を固定する。回転保持体10の外周
部に放射方向に開口する支持軸保持溝12を設け、この
保持溝12に、複数のディスクDを間隔をおいて垂直状
に支持する支持軸1を着脱及び回転可能に嵌挿する。支
持軸1に固着される遊星歯車31を太陽歯車30に噛合
する。これにより、回転保持体10の保持溝12に支持
軸1を嵌挿してディスクDをセットすることができ、セ
ット後に回転保持体10の回転(公転)に伴ってディス
クDを回転(自転)しつつ処理液中を移動して均一な表
面処理を行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は表面処理装置に関する
もので、更に詳細には、例えば磁気ディスク等の被処理
体を無電解メッキ処理する表面処理装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、アルミニウム製の磁気ディスクの
表面に例えばニッケル燐を被覆する場合、図7に示すよ
うに、被処理体であるドーナツ状のディスク基板D(以
下にディスクという)を適宜間隔をおいて支持軸1に垂
直状に支持し、この支持軸1を対峙する吊持部材2間に
横架させ、そして、吊持部材2を下降させて処理槽であ
るメッキ槽3内のメッキ液4にディスクDを浸漬して、
ディスクDの表面にメッキ処理を施している。このよう
な表面処理によれば、一度に多数枚のディスクDを同時
に表面処理することができ、また、吊持部材2を図示し
ない駆動手段にて上下(あるいは水平)に振動させるこ
とにより、ディスク表面に均一なメッキ膜を形成するこ
とができる。更に、複数本の支持軸1を同時に吊持部材
間に横架して、上述と同様に処理を行うことにより、更
に効率良く多数枚のディスクDを処理することができ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
この種の表面処理装置においては、支持軸1を対峙する
吊持部材2の対向する取付面に設けられた軸受5にスプ
リング6を介在させて取付けるか、あるいは、吊持部材
2の一方に保持孔を設け、支持軸1の端部を一端保持孔
に嵌挿した後、支持軸1の他端を軸受5に係合させるな
どの方法で支持軸1を吊持部材2間に横架するため、メ
ッキ処理中にスプリング6や保持孔等にもメッキされ
る。したがって、繰返して表面処理を行う間にスプリン
グ6等のメッキ部が剥離して粒子状不純物(パーティク
ル)が発生し、この不純物がディスクDに付着した化学
反応(ケミカルコンタミネーション)を起こして、磁気
ディスクの特性や歩留まりの悪化を招くという問題があ
った。
【0004】また、吊持部材2を上下動(あるいは水平
動)することによってディスクDを固定した場合に較べ
てディスク表面とメッキ液との接触を多くすることがで
きるが、方向が一定な上下動(あるいは水平動)である
ため、ディスクDの全面に均一にメッキを施しがたいと
いう問題があった。更には、支持軸1及びディスクDの
セットが面倒であるという問題があった。
【0005】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、被処理体への不純物等の付着を低減して歩留まりの
向上を図れるようにし、かつ被処理体の表面処理を均一
に行えるようにした表面処理装置を提供することを目的
とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の表面処理装置は、複数の被処理体を間隔
をおいて垂直状に支持する支持軸を、対峙する吊持部材
に横架して処理液内に浸漬することにより、上記被処理
体の表面を処理する表面処理装置を前提とし、上記吊持
部材に固定される円形案内体と、上記円形案内体と同心
上にあって回転可能な回転保持体とを具備し、上記回転
保持体の外周部に、上記支持軸を着脱及び回転可能に嵌
挿すべく放射方向に開口する保持溝を形成し、上記支持
軸に上記円形案内体に係合して転動する回転子を固着し
てなることを特徴とするものである。
【0007】この発明において、上記円形案内体と回転
子とは互いに係合して回転子が転動するものであれば、
例えば円形案内体と回転子とを互いに接触して摩擦力に
よって回転する摩擦円盤等にて形成することも可能であ
るが、好ましくは円形案内体を太陽歯車にて形成し、回
転子を太陽歯車に噛合する遊星歯車にて形成する方がよ
い。
【0008】また、上記保持溝に着脱及び回転可能に嵌
挿される補助支持軸の軸方向に、被処理体を間隔をおい
て保持する間隔保持溝を列設することにより、被処理体
を間隔をおいて確実に支持することができる点で好まし
い。
【0009】
【作用】上記のように構成されるこの発明の表面処理装
置によれば、回転可能な回転保持体の外周方向に設けら
れた保持溝に支持軸を回転可能に嵌挿し、支持軸に固着
される回転子を回転保持体と同心上に固定された回転案
内体に係合することにより、多数枚の被処理体を支持し
た支持軸を容易にセットすることができる。また、回転
保持体の回転(公転)に伴って支持軸が回転(自転)す
ることができ、支持軸の回転に伴って回転(自転)する
被処理体の表面に処理液が均一に接触されて処理するこ
とができる。この場合、円形案内体を太陽歯車にて形成
し、回転子を太陽歯車に噛合する遊星歯車にて形成する
ことにより、支持軸の回転(自転)を更に確実にするこ
とができ、被処理体の表面処理を更に均一にすることが
できる。
【0010】また、保持溝に着脱及び回転可能に嵌挿さ
れる補助支持軸の軸方向に、被処理体を間隔をおいて保
持する間隔保持溝を列設することにより、被処理体を間
隔をおいて確実に支持することができるので、小径で軽
量な被処理体であっても、処理液内の移動中に浮遊して
隣接間で接触することがなく、表面処理を確実に行うこ
とができる。
【0011】
【実施例】以下にこの発明の実施例を図面に基いて詳細
に説明する。ここでは、この発明の表面処理装置をアル
ミニウム製磁気ディスクの無電解メッキ装置に適用した
場合について説明する。また、従来の表面処理装置と同
じ部分には同一符号を付して説明する。
【0012】◎第一実施例 図1はこの発明の表面処理装置の第一実施例の概略側断
面図、図2は図1のA−A断面図、図3は第一実施例の
要部の概略斜視図が示されている。
【0013】この発明の表面処理装置は、図示しない搬
送機構から垂下されて対峙する一対の吊持部材2の対向
する面に取付けられる垂直方向に回転可能な回転保持体
10と、吊持部材2に固定される回転保持体10と同軸
上の円形案内体である太陽歯車30と、両回転保持体1
0に略等間隔に設けられた支持軸保持溝12に着脱及び
回転可能に嵌挿されると共に多数の被処理体であるディ
スクDを適宜間隔をおいて垂直状に支持する支持軸1
と、この支持軸1に固着されると共に太陽歯車30に係
合(噛合)する回転子である遊星歯車31と、回転保持
体10の外周近傍位置に配設されて支持軸1の落下を防
止するためのガイド20とを具備してなる。なお、吊持
部材2、回転保持体10及びガイド20はメッキされ難
い合成樹脂製部材にて形成されており、支持軸1はステ
ンレス鋼製軸の表面を合成樹脂にて被覆した構造となっ
ている。
【0014】この場合、上記回転保持体10は、外周面
に歯部11が設けられており、吊持部材2に貫通固定さ
れる軸13にベアリング14を介して回転可能に装着さ
れている。この回転保持体10には第1の伝達歯車15
が噛合し、この第1の伝達歯車15に第2の伝達歯車1
6を介して駆動モータ17の駆動軸18に装着された駆
動歯車19が噛合されている。したがって、駆動モータ
17の回転により、駆動歯車19、第2の伝達歯車16
及び第1の伝達歯車15を介して回転保持体10が垂直
方向に回転することができる。また、回転保持体10の
外周部には放射方向に開口する複数(図面では8個の場
合を示す)の支持軸保持溝12が設けられており、この
保持溝12内に支持軸1が着脱及び回転可能に嵌挿され
るようになっている。
【0015】また、上記軸13の先端は吊持部材2の対
向する面側に突出する断面四角形状に形成されており、
この断面四角部13aに太陽歯車30が回転が阻止され
た状態で固着されており、この太陽歯車30に、支持軸
1に固着された遊星歯車31が噛合し得るようになって
いる。なおこの場合、軸13の断面四角部13aの辺を
垂直方向に傾斜させることによって、軸13に対するメ
ッキ液4の液切れを良好にすることができる。
【0016】上記支持軸1には軸方向に沿って等間隔に
小径部1aが設けられており、この小径部1aにディス
クDが係止されることにより、複数のディスクDを間隔
をおいて垂直状に支持することができる(図4参照)。
【0017】また、上記ガイド20は、図2に示すよう
に、上部左右に90°の角度をおいて上記保持溝12と
合致する位置に開口溝21を設け、それ以外の部分が回
転保持体10の外周部近傍位置に配設されるように吊持
部材2に固定ピン22をもって固定される(図2参
照)。したがって、回転保持体10の回転に伴って垂直
方向に移動する支持軸1が下方に位置した際に保持溝1
2から脱落するのをガイド20によって防止することが
できる。なおこの場合、開口溝21が左右2箇所に設け
られているが、必ずしも開口溝21は左右2箇所に設け
る必要はなく、少なくとも1箇所設けておけばよい。ま
た、ガイド20は少なくとも回転保持体10の下方部に
配設しておけばよい。
【0018】次に、この発明の表面処理装置の動作態様
について説明する。まず、支持軸1に所定枚数のディス
クDを予め支持しておき、このディスクDを支持した支
持軸1をガイド20の開口溝21から回転保持体10の
保持溝に落し込むように嵌挿すると共に、遊星歯車31
を太陽歯車30に係合(噛合)した後、回転保持体10
を所定角度(45°)回転しながら、順次他の支持軸1
を保持溝12に嵌挿して、両回転保持体10間に8本の
支持軸1を横架してディスクDのセットを行う。
【0019】上記のようにしてディスクDをセットした
ものを図示しない搬送機構によって洗浄槽あるいは所定
の薬品槽に浸漬して前処理を行った後、メッキ槽3の上
方へ移動する。そして、吊持部材2を下降させて回転保
持体10、支持軸1及びディスクDをメッキ槽3内のメ
ッキ液4中に浸漬した後、駆動モータ17を駆動する
と、駆動モータ17の回転が駆動歯車19、第2の伝達
歯車16及び第1の伝達歯車15を介して回転保持体1
0に伝達されて回転保持体10が垂直方向に回転(公
転)する。この回転保持体10の回転(公転)に伴って
支持軸1に固着された遊星歯車31が太陽歯車30上を
転動して回転(自転)する。したがって、支持軸1に支
持されているディスクDは公転しながら自転してメッキ
液4中を移動するので、ディスクDの表面に均一な膜厚
のメッキを施すことができる。
【0020】上記のようにして、メッキ処理が行われた
後、吊持部材2が上昇してメッキ槽3から引き上げら
れ、次の処理工程へ搬送される。なおこの際、吊持部材
2の下端面に設けられた傾斜面2aによってメッキ槽3
から吊持部材2が引上げられるときのメッキ液の液切れ
を良好にすることができる。そして、最終処理が施され
た後、上述した支持軸1のセットの手順と逆の手順にて
支持軸1が回転保持体10から取外される。
【0021】◎第二実施例 図5はこの発明の表面処理装置の第二実施例の要部の概
略側面図、図6は図5のB−B線に沿う拡大断面図が示
されている。
【0022】第二実施例における表面処理装置は被処理
体であるディスクDが小径かつ軽量のときの表面処理を
確実に行えるようにした場合である。すなわち、ディス
クDが小径で軽量の場合に、上記第一実施例と同様にデ
ィスクDをメッキ液4中を公転及び自転させながら移動
すると、ディスクDが浮遊して支持軸1の小径部1aか
ら外れて隣接するディスク同士が接触する虞れがあるの
で、このディスク同士の接触を防止するために隣接する
支持軸11間に補助支持軸40を配設し、この補助支持
軸40の軸方向に列設された間隔保持溝41内に各ディ
スクDを位置させて、ディスクD間の間隔を保持させな
がらディスクDを公転及び自転させる。なおこの場合、
保持溝12は処理するディスクDを支持する支持軸1の
本数の2倍の数が設けられている(本実施例では16×
2=32(個)の保持溝12が設けられている)。
【0023】この場合、補助支持軸40は上記支持軸1
と同様に回転保持体10の保持溝12内に着脱及び回転
可能に嵌挿されるのであるが、予め隣接する支持軸1を
保持溝12を1つあけて嵌挿してディスクDを垂直状に
配置した後に、その間の保持溝12に補助支持軸40を
嵌挿すると共に、間隔保持溝41内に各ディスクDを位
置させることにより、ディスクDの間隔を確実に保持す
ることができる。
【0024】なお、第二実施例において、その他の部分
は上記第一実施例と同じであるので、同一部分には、同
一符号を付してその説明は省略する。
【0025】なお、上記実施例では、回転保持体10の
回転を駆動モータ17から歯車伝達機構を介して回転保
持体10に回転を伝達する場合について説明したが、回
転手段は必ずしも歯車伝達機構である必要はなく、例え
ばワイヤ等の索条を用いて回転を行うようにしてもよ
い。また、上記実施例では、この発明の表面処理装置を
磁気ディスクの無電解メッキ処理の場合について説明し
たが、磁気ディスク以外のドーナツ状のディスク等の被
処理体のメッキ処理あるいはメッキ以外の表面処理にお
いても適用できることは勿論である。
【0026】
【発明の効果】以上に説明したように、この発明の表面
処理装置によれば、上記のにように構成されているの
で、以下のような効果が得られる。
【0027】1)請求項1記載の表面処理装置によれ
ば、回転可能な回転保持体の外周方向に設けられた保持
溝に支持軸を回転可能に嵌挿し、支持軸に固着された回
転子を回転保持体と同心上に固定された回転案内体に係
合するので、多数枚の被処理体を支持した支持軸を容易
にセットすることができる。また、支持軸の支持部の接
触面積を少なくすることができるので、被処理体へのパ
ーティクル等の不純物の付着を少なくすることができ、
歩留まりの向上を図ることができる。更に、被処理体を
公転しつつ自転することができるので、被処理体の表面
に処理液を均一に接触して処理することができると共
に、処理精度の向上を図ることができる。
【0028】2)請求項2記載の表面処理装置によれ
ば、円形案内体を太陽歯車にて形成し、回転子を太陽歯
車に噛合する遊星歯車にて形成するので、被処理体の回
転(自転)を更に確実にして被処理体の表面処理を更に
均一にすることができる。
【0029】3)請求項3記載の表面処理装置によれ
ば、保持溝に着脱及び回転可能に嵌挿される補助支持軸
の軸方向に、被処理体を間隔をおいて保持する間隔保持
溝を列設するので、被処理体を間隔をおいて確実に支持
することができ、小径で軽量な被処理体の表面処理を確
実に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の表面処理装置の第一実施例の概略側
断面図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】この発明の要部を示す概略斜視図である。
【図4】第一実施例における被処理体と支持軸を示す斜
視図である。
【図5】この発明の表面処理装置の第二実施例の概略側
面図である。
【図6】図5のB−B線に沿う拡大断面図である。
【図7】従来の表面処理装置の一例を示す概略断面図で
ある。
【符号の説明】
D ディスク(被処理体) 1 支持軸 2 吊持部材 3 メッキ槽(処理槽) 4 メッキ液(処理液) 10 回転保持体 12 支持軸保持溝 20 支持軸落下防止用ガイド 30 太陽歯車(円形案内体) 31 遊星歯車(回転子) 40 補助支持軸 41 間隔保持溝
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年10月12日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の表面処理装置の第一実施例の概略側
断面図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】この発明の要部を示す概略斜視図である。
【図4】第一実施例における被処理体と支持軸を示す斜
視図である。
【図5】この発明の表面処理装置の第二実施例の概略側
面図である。
【図6】図5のB−B線に沿う拡大断面図である。
【図7】従来の表面処理装置の一例を示す概略断面図で
ある。
【符号の説明】 D ディスク(被処理体) 1 支持軸 2 吊持部材 3 メッキ槽(処理槽) 4 メッキ液(処理液) 10 回転保持体 12 支持軸保持溝 20 支持軸落下防止用ガイド 30 太陽歯車(円形案内体) 31 遊星歯車(回転子) 40 補助支持軸 41 間隔保持溝
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】追加
【補正内容】
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図6】
【図5】
【図7】

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の被処理体を間隔をおいて垂直状に
    支持する支持軸を、対峙する吊持部材に横架して処理液
    内に浸漬することにより、上記被処理体の表面を処理す
    る表面処理装置において、 上記吊持部材に固定される円形案内体と、 上記円形案内体と同心上にあって回転可能な回転保持体
    とを具備し、 上記回転保持体の外周部に、上記支持軸を着脱及び回転
    可能に嵌挿すべく放射方向に開口する保持溝を形成し、 上記支持軸に上記円形案内体に係合して転動する回転子
    を固着してなることを特徴とする表面処理装置。
  2. 【請求項2】 円形案内体を太陽歯車にて形成し、回転
    子を上記太陽歯車に噛合する遊星歯車にて形成してなる
    ことを特徴とする請求項1記載の表面処理装置。
  3. 【請求項3】 保持溝に着脱及び回転可能に嵌挿される
    補助支持軸の軸方向に、被処理体を間隔をおいて保持す
    る間隔保持溝を列設してなることを特徴とする請求項1
    記載の表面処理装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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