JPH0843311A - Icp発光分光分析装置および光サンプリング装置 - Google Patents
Icp発光分光分析装置および光サンプリング装置Info
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- JPH0843311A JPH0843311A JP17831394A JP17831394A JPH0843311A JP H0843311 A JPH0843311 A JP H0843311A JP 17831394 A JP17831394 A JP 17831394A JP 17831394 A JP17831394 A JP 17831394A JP H0843311 A JPH0843311 A JP H0843311A
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Abstract
因する発光を、プラズマ炎に妨害されることなくできる
だけ多くサンプリングできる装置を得る。 【構成】 プラズマトーチ4と分光器10間に、プラズマ
炎中の試料に起因する光をサンプリングして、ミラー22
で反射させて分光器に導入させる光サンプリング部20を
配置したICP発光分光分析装置。
Description
結合プラズマ)発光分光分析装置に関するものである。
溶液化された試料をプラズマトーチに導入して試料を発
光させ、試料から放射された光を分光器で各元素のスペ
クトル光に分光した後、各スペクトル光の強度を測定し
て試料に含まれる各元素の定性・定量分析を行なってい
る。
分光分析装置の概略を説明する(詳細は特開昭63−1
35846号に記載されている)図において、1はIC
P発光分光分析装置の全体(一部省略)を示し、2はプ
ラズマ炎、3は高周波磁界を発生するための誘導コイ
ル、4は溶液化された試料5をプラズマ発光させるプラ
ズマトーチで、このプラズマトーチへの試料5は、キヤ
リアガス6により導入される。なお、7はプラズマガ
ス、8は冷却ガスで、これらのガスは、図示していない
が、流量制御弁を介して供給される。
れより取りこまれた放射光は分光器10で分光される。こ
の分光器10は、例えば波長走査型の分光器で、真空室11
に設けられた集光レンズ11' を介して光導入管より取り
こんだ光を、各元素のスペクトル光に分光する回折格子
12、この回折格子12で分光されたスペクトル光を検出す
る光電子増倍管等の光検出器13、および反射ミラー14、
15等で構成されている。 なお、光導入管9は、石英管
9′とその保持筒9″とから成り、この石英管9′の一
端がプラズマ炎の対向位置に配置され、また保持筒9″
の一端が真空室11の外壁に固定されている。さらに保持
筒9″にはパージガス16が流量制御弁(図示せず)を介
して導入されるように構成されている。
あるが、簡単に説明すると、プラズマ炎2中に導入され
た試料は、高温になり発光する。その光を光導入管9を
介して集光レンズ11' で分光器10に集光し、回折格子12
の走査により目的元素の光(波長)だけを分光分析し、
その値を光検出器13で検出し、よって試料中の目的元素
の濃度を知ることができる。
CP発光分光分析装置にあっては、目的元素の光は、プ
ラズマ炎中を通って光導入管に取りこまれるため目的元
素の光に、プラズマ炎のもつ光が重畳され特に微量の元
素を分析測定するときの妨げとなっていた。
ーチと分光器間に光サンプリング部を設け、これにより
プラズマトーチの軸線上から試料に基づく光をサンプリ
ングした分光器へ導びくようにしたもので、このサンプ
リング部は、光路を変更させるミラーと、温度上昇を防
ぐ冷却部とを有するものである。
プラズマ炎中へ、光サンプリング部をさし込み、プラズ
マ炎の中央部付近の試料自体の発光にともなう光をサン
プリングして分光器へ送ることができるので試料に基づ
く光のみを取り出し得、プラズマ炎にともなう光のノイ
ズが少なくなり、正確な分析測定が可能となる。なお、
光サンプリング部に光路を変更するミラーが内蔵されて
いるので自由な方向に光を取り出せることができ、装置
全体の小型化が可能となり、かつ冷却部を有しているの
で光サンプリング部の極端な温度上昇も防止することが
できる。
分析装置の要部説明図である(一部省略)。
誘導コイルによって生起させられている。4はプラズマ
トーチで、試料5とキヤリアガス6との混合ガスを中心
部に流し、そのまわりをプラズマガス7、冷却ガス8に
取りかこまれている。
で、この先端部21は、例えばコーン状(漏斗状)になっ
ており、プラズマ炎2中にさしこまれ、試料5にもとず
くと思われる部分の光を主としてサンプリングする。こ
のサンプリング部20の内部には、光路をこの実施例では
90度曲げるためのミラー22が設けられ、試料にもとず
く光は、このミラーに反射して90度曲げられ、分光器
10の入力となる。
板24上に固定されている。なお、25は、蓋板24に開孔し
た排気孔でプラズマ炎にともなう高い温度のガスを放出
する役目を果すものである。以上の説明から明らかなよ
うに、プラズマトーチからの熱は、分光器までは届か
ず、光のみがミラーで曲げられ分光器に入射する。
けられた例えば水循環路で、使用中は常に水が循環して
この光サンプリング部20を冷却しようとするものであ
る。
光器10の前面に設けられた保持筒9″に支持されている
ので、プラズマ炎2中からサンプリングされた試料にも
とずく光は、ミラー22で直角方向に反射されて分光器10
に入射し、分光分析されることとなる。
ラズマ炎中の試料にもとずく部分の光をサンプリングし
ているので、すなわち試料の光を直接とり出すこととな
るので、従来のように分光器へプラズマ炎の光がノイズ
として多く混入することは防止でき、分析精度は上昇す
る。
9″をパージするためのパージガスである。
リング部との位置関係を簡略に示したもので、第2図
(a) は、第1図と同一であるが、第1図において、保持
筒と光サンプリング部と間を回動可能にしておくことに
より、光サンプリング部20をプラズマ炎2の横方向から
近ずけプラズマ炎2中の試料にもとずく光を横方向から
もサンプリングすることができる。
サンプリング部を保持筒から外ずし、第3図のように石
英管を接続することにより、従来と同じように測定でき
ることはいうまでもないことである。
を使用した場合と、従来の方法での測定結果を数種の元
素でその感度において比較してみると次のような結果を
得た 。 元素名 Mn Fe Pb Zn As Se 感度アップ率(倍)31 30 9 20 2 2 第4図は、この発明に至る過程において考えられた構成
で、プラズマトーチ4を横に倒し、その軸線上に、本発
明において説明した光サンプリング部の先端部と同じサ
ンプリングコーン(漏斗)21を設け、その後方に分光器
10を配置した構成のものである。なお、サンプリングコ
ーン部には冷却用の水等が導入されている。この構成に
あってもサンプリングコーンによってプラズマ炎中の試
料に対応する部分の光を取り込むことは可能であるが、
プラズマトーチの軸線上に分光器等が存在しているた
め、分光器側の熱気流が流れこんで分光分析には好まし
くなく、またプラズマトーチを横倒しにしたので、どう
してもプラズマ炎のゆらめきが大きく、安定した精度で
の検出結果は得られなかった。
で、その上方にサンプリングコーン、分光器を配するこ
とは、上方にある分光器への熱の影響が大きく作用し利
用することができなかった。
図、第2図で説明したこの発明においてはミラーで光成
分を曲げて分光器へ導びくため分光器への熱的な影響を
少なくすることができ、分析精度を上昇させることがで
きるのである。
90度曲げるとして説明したが、これに限られるもので
ないことは明らかである。
の部分を選択的にサンプリングして測定できるので、プ
ラズマ炎そのものの影響が少なく分析精度を向上するこ
とができる。
部省略)の要部実施例を説明する図である。
要部を説明する図。
(一部省略)の要部を説明する図。
チ 10…分光器 20…光サンプリン
グ部 21…先端部(コーン) 22…ミラー 26…水循環路
サンプリング装置
ーチと分光器間に光サンプリング部を設け、これにより
プラズマトーチの軸線上から試料に基づく光をサンプリ
ングした分光器へ導びくようにしたもので、このサンプ
リング部は、光路を変更させるミラーと、温度上昇を防
ぐ冷却部とを有するものである。さらにこの発明は、こ
の光サンプリング部を独立させて、光サンプリング装置
として構成したものである。
サンプリング部を保持筒から外ずし、第3図のように石
英管を接続することにより、従来と同じように測定でき
ることはいうまでもないことである。また、この光サン
プリング部を独立させて構成すれば、光サンプリング装
置となる。
Claims (1)
- 【請求項1】 プラズマトーチと、これからの光を分光
する分光器とを有するものにおいて、プラズマトーチと
分光器間に光サンプリング部を配置するとともに、この
光サンプリング部は、プラズマトーチからの光の光路を
変更させるミラーと、温度上昇を防ぐ冷却部とを有する
ことを特徴とするICP発光分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6178313A JP2820038B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | Icp発光分光分析装置および光サンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6178313A JP2820038B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | Icp発光分光分析装置および光サンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0843311A true JPH0843311A (ja) | 1996-02-16 |
| JP2820038B2 JP2820038B2 (ja) | 1998-11-05 |
Family
ID=16046300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6178313A Expired - Lifetime JP2820038B2 (ja) | 1994-07-29 | 1994-07-29 | Icp発光分光分析装置および光サンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2820038B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007322261A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
| CN106290313A (zh) * | 2016-07-25 | 2017-01-04 | 钢研纳克检测技术有限公司 | 一种应用于icp光谱的入射光观测位置调节结构 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6290524A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-25 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 転炉排ガスの分析方法および装置 |
| JPH05172749A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-07-09 | Yokogawa Electric Corp | 微粒子導入装置 |
-
1994
- 1994-07-29 JP JP6178313A patent/JP2820038B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
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| JPS6290524A (ja) * | 1985-10-17 | 1987-04-25 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 転炉排ガスの分析方法および装置 |
| JPH05172749A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-07-09 | Yokogawa Electric Corp | 微粒子導入装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2007322261A (ja) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
| CN106290313A (zh) * | 2016-07-25 | 2017-01-04 | 钢研纳克检测技术有限公司 | 一种应用于icp光谱的入射光观测位置调节结构 |
| CN106290313B (zh) * | 2016-07-25 | 2019-03-05 | 钢研纳克检测技术股份有限公司 | 一种应用于icp光谱的入射光观测位置调节结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2820038B2 (ja) | 1998-11-05 |
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