JPH0843809A - 液晶素子の製造方法 - Google Patents
液晶素子の製造方法Info
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- JPH0843809A JPH0843809A JP6201406A JP20140694A JPH0843809A JP H0843809 A JPH0843809 A JP H0843809A JP 6201406 A JP6201406 A JP 6201406A JP 20140694 A JP20140694 A JP 20140694A JP H0843809 A JPH0843809 A JP H0843809A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電極を断線させることのない有機高分子膜パ
ターンを形成することのできる、液晶素子の製造方法を
提供する。 【構成】 基板１１ｂ上の有機高分子膜１３の上にギャ
ップ２１を介してマスク２２を配置し、有機高分子膜１
３の周辺の不要部分をマスキングして露光を行う。続い
て、現像液により、有機高分子膜１３の表面を浸積およ
び静止させて現像を行う。その後、有機高分子膜１３の
上から現像液のシャワーミスト２３を当てることで、そ
の有機高分子膜１３の未露光部分を溶解除去する。これ
によって、端部１３ｐ’が斜面形状を成す有機高分子膜
パターン１３ｐを形成する。このようにパターン端部１
３ｐ’を斜面形状とすることにより、そのパターン端部
１３ｐ’をまたぐように電極をパターニングした場合に
も、電極は、そのパターン端部１３ｐ’の斜面に添った
状態に形成されるため、断線することがなくなる。
ターンを形成することのできる、液晶素子の製造方法を
提供する。 【構成】 基板１１ｂ上の有機高分子膜１３の上にギャ
ップ２１を介してマスク２２を配置し、有機高分子膜１
３の周辺の不要部分をマスキングして露光を行う。続い
て、現像液により、有機高分子膜１３の表面を浸積およ
び静止させて現像を行う。その後、有機高分子膜１３の
上から現像液のシャワーミスト２３を当てることで、そ
の有機高分子膜１３の未露光部分を溶解除去する。これ
によって、端部１３ｐ’が斜面形状を成す有機高分子膜
パターン１３ｐを形成する。このようにパターン端部１
３ｐ’を斜面形状とすることにより、そのパターン端部
１３ｐ’をまたぐように電極をパターニングした場合に
も、電極は、そのパターン端部１３ｐ’の斜面に添った
状態に形成されるため、断線することがなくなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表示パネル等に用いる
液晶素子の製造方法に係り、特に有機高分子膜パターン
の形成方法に特徴を有する液晶素子の製造方法に関す
る。
液晶素子の製造方法に係り、特に有機高分子膜パターン
の形成方法に特徴を有する液晶素子の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図２は、一般的な液晶素子の構成を示す
断面図である。
断面図である。
【０００３】図において、１１ａおよび１１ｂは一対の
透明基板、１２は透明基板１１ｂ上に形成された遮光層
あるいはカラーフィルタ、１３は遮光層あるいはカラー
フィルタ１２上から透明基板１１ｂ上にかけて形成され
た有機高分子膜、１４ａおよび１４ｂはそれぞれ透明基
板１１ａおよび有機高分子膜１３上に形成された透明電
極、１５ａおよび１５ｂはそれぞれ透明電極１４ａおよ
び１４ｂ等の上に形成された絶縁膜、１６ａおよび１６
ｂはそれぞれ絶縁膜１５ａおよび１５ｂ上に形成された
有機高分子配向膜、１７は有機高分子配向膜１６ａおよ
び１６ｂ間に配置された液晶、１８は有機高分子配向膜
１６ａおよび１６ｂ間を支持するスペーサ、１９は液晶
１７をシールするためのシール材である。
透明基板、１２は透明基板１１ｂ上に形成された遮光層
あるいはカラーフィルタ、１３は遮光層あるいはカラー
フィルタ１２上から透明基板１１ｂ上にかけて形成され
た有機高分子膜、１４ａおよび１４ｂはそれぞれ透明基
板１１ａおよび有機高分子膜１３上に形成された透明電
極、１５ａおよび１５ｂはそれぞれ透明電極１４ａおよ
び１４ｂ等の上に形成された絶縁膜、１６ａおよび１６
ｂはそれぞれ絶縁膜１５ａおよび１５ｂ上に形成された
有機高分子配向膜、１７は有機高分子配向膜１６ａおよ
び１６ｂ間に配置された液晶、１８は有機高分子配向膜
１６ａおよび１６ｂ間を支持するスペーサ、１９は液晶
１７をシールするためのシール材である。
【０００４】一般に、このような液晶素子は、次のよう
な一連の工程で製造される。
な一連の工程で製造される。
【０００５】即ち、先ず一対の透明基板１４ａ、１４ｂ
のそれぞれの上に遮光層あるいはカラーフィルタ１２を
形成し、その上に有機高分子膜１３、さらには各々透明
電極１４ａ、１４ｂを必要に応じてパターニングし、そ
してその上に絶縁膜１５ａ、１５ｂ、および配向膜１６
ａ、１６ｂを順次形成する。そして、得られた各基板１
４ａ、１４ｂの配向膜１６ａ、１６ｂ上に、各々配向処
理を施してからスペーサ１８を介してそれらを対向させ
て配置し、その間に液晶１７を充填する。これで液晶素
子が完成する。
のそれぞれの上に遮光層あるいはカラーフィルタ１２を
形成し、その上に有機高分子膜１３、さらには各々透明
電極１４ａ、１４ｂを必要に応じてパターニングし、そ
してその上に絶縁膜１５ａ、１５ｂ、および配向膜１６
ａ、１６ｂを順次形成する。そして、得られた各基板１
４ａ、１４ｂの配向膜１６ａ、１６ｂ上に、各々配向処
理を施してからスペーサ１８を介してそれらを対向させ
て配置し、その間に液晶１７を充填する。これで液晶素
子が完成する。
【０００６】従来の製造方法では、有機高分子膜のパタ
ーンを形成する方法として、有機高分子を含む溶液ある
いはその前駆体をフレキソ印刷により必要な領域内に塗
布した後、加熱処理して形成する。あるいは、感光性を
もつ有機高分子を含む溶液またはその前駆体をスピンナ
ー等により全面塗布した後、不要部をマスキングして必
要な領域内のみ紫外線を照射し、ウェット現像処理して
不要部を除去し、そして加熱処理して形成する。
ーンを形成する方法として、有機高分子を含む溶液ある
いはその前駆体をフレキソ印刷により必要な領域内に塗
布した後、加熱処理して形成する。あるいは、感光性を
もつ有機高分子を含む溶液またはその前駆体をスピンナ
ー等により全面塗布した後、不要部をマスキングして必
要な領域内のみ紫外線を照射し、ウェット現像処理して
不要部を除去し、そして加熱処理して形成する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の製造方法における有機高分子膜パターンの
形成方法では、パターンの端部がほぼ垂直に形成される
ため、その垂直なパターン端部をまたぐように電極をパ
ターニングした場合に、電極が断線し易いという問題が
あった。
ような従来の製造方法における有機高分子膜パターンの
形成方法では、パターンの端部がほぼ垂直に形成される
ため、その垂直なパターン端部をまたぐように電極をパ
ターニングした場合に、電極が断線し易いという問題が
あった。
【０００８】本発明は、このような問題を解決するため
になされたもので、電極を断線させることのない有機高
分子膜パターンを形成することのできる、液晶素子の製
造方法を提供することを目的とする。
になされたもので、電極を断線させることのない有機高
分子膜パターンを形成することのできる、液晶素子の製
造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る製造方法では、基板上の所定の領域に
感光性の有機高分子膜を形成した後、その感光性有機高
分子膜に対し、所定のギャップを介してマスクを配置し
て露光を行い、続いて、現像液により、上記露光した感
光性有機高分子膜の表面を浸積および静止させて現像を
行い、その後、現像液のシャワーミストにより、上記感
光性有機高分子膜の露光部分または未露光部分を溶解除
去して、端部が斜面形状を成す有機高分子膜パターンを
得るようにする。
に、本発明に係る製造方法では、基板上の所定の領域に
感光性の有機高分子膜を形成した後、その感光性有機高
分子膜に対し、所定のギャップを介してマスクを配置し
て露光を行い、続いて、現像液により、上記露光した感
光性有機高分子膜の表面を浸積および静止させて現像を
行い、その後、現像液のシャワーミストにより、上記感
光性有機高分子膜の露光部分または未露光部分を溶解除
去して、端部が斜面形状を成す有機高分子膜パターンを
得るようにする。
【００１０】
【作用】上記製造方法によれば、有機高分子膜パターン
の端部が斜面形状を成すため、そのパターン端部をまた
ぐように電極をパターニングした場合にも、電極は、そ
のパターン端部の斜面に添った状態に形成され、よって
断線することがなくなる。
の端部が斜面形状を成すため、そのパターン端部をまた
ぐように電極をパターニングした場合にも、電極は、そ
のパターン端部の斜面に添った状態に形成され、よって
断線することがなくなる。
【００１１】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。
する。
【００１２】図１は、本発明に係る液晶素子の製造方法
のうちの、有機高分子膜パターンの形成方法を説明する
断面図で、（ａ）はパターン形成前の状態、（ｂ）はパ
ターン形成後の状態をそれぞれ示している。なお、液晶
素子の構成については、従来技術の項で説明した図２を
参照することとする。
のうちの、有機高分子膜パターンの形成方法を説明する
断面図で、（ａ）はパターン形成前の状態、（ｂ）はパ
ターン形成後の状態をそれぞれ示している。なお、液晶
素子の構成については、従来技術の項で説明した図２を
参照することとする。
【００１３】図２に示したような一般的な液晶素子を製
造するため、ガラス基板１１ｂ上にカラーフィルタ１２
を形成し、その上に保護膜として、感光性でしかも光硬
化性の有機高分子材料（商品名：ＰＡ１０００Ｃ、製造
元：宇部興産（株）、粘度２００ｃｐ）をスピンナーに
より１２００ｒｐｍで１０秒間全面塗布し、８０℃で１
０分間ホットプレート加熱して仮乾燥させ、膜厚約１．
５μｍの感光性の有機高分子膜１３を形成した。
造するため、ガラス基板１１ｂ上にカラーフィルタ１２
を形成し、その上に保護膜として、感光性でしかも光硬
化性の有機高分子材料（商品名：ＰＡ１０００Ｃ、製造
元：宇部興産（株）、粘度２００ｃｐ）をスピンナーに
より１２００ｒｐｍで１０秒間全面塗布し、８０℃で１
０分間ホットプレート加熱して仮乾燥させ、膜厚約１．
５μｍの感光性の有機高分子膜１３を形成した。
【００１４】その後、図１（ａ）に示すように、基板１
１ｂ上の有機高分子膜１３の上にギャップ２１を介して
マスク２２を配置し、有機高分子膜１３の周辺の不要部
分をマスキングして露光を行った。
１ｂ上の有機高分子膜１３の上にギャップ２１を介して
マスク２２を配置し、有機高分子膜１３の周辺の不要部
分をマスキングして露光を行った。
【００１５】続いて、現像液により、有機高分子膜１３
の表面を浸積および静止させて現像を行った。
の表面を浸積および静止させて現像を行った。
【００１６】その後、図１（ｂ）に示すように、有機高
分子膜１３の上から現像液のシャワーミスト２３を当て
ることで、その有機高分子膜１３の未露光部分を溶解除
去した。これによって、端部１３ｐ’が斜面形状を成す
有機高分子膜パターン１３ｐが得られた。
分子膜１３の上から現像液のシャワーミスト２３を当て
ることで、その有機高分子膜１３の未露光部分を溶解除
去した。これによって、端部１３ｐ’が斜面形状を成す
有機高分子膜パターン１３ｐが得られた。
【００１７】即ち、上記露光時には、有機高分子膜１３
とマスク２２との間にギャップ２１があるため、光が、
マスク２２の端部からその下へ回り込み、本来は未露光
となる、そのマスク２２の端部下方に対応する部分の有
機高分子膜１３がわずかに露光される。従って、現像の
結果、有機高分子膜パターン１３ｐの端部１３ｐ’に斜
面形状が形成されることになる。そして、ギャップ２１
の大きさｇが大きいほど、マスク端部下方へ回り込む光
の量が多くなり、斜面の傾斜はゆるやかになる。
とマスク２２との間にギャップ２１があるため、光が、
マスク２２の端部からその下へ回り込み、本来は未露光
となる、そのマスク２２の端部下方に対応する部分の有
機高分子膜１３がわずかに露光される。従って、現像の
結果、有機高分子膜パターン１３ｐの端部１３ｐ’に斜
面形状が形成されることになる。そして、ギャップ２１
の大きさｇが大きいほど、マスク端部下方へ回り込む光
の量が多くなり、斜面の傾斜はゆるやかになる。
【００１８】このように、有機高分子膜パターン１３ｐ
の端部１３ｐ’を斜面形状に形成することにより、その
パターン端部１３ｐ’をまたぐように電極をパターニン
グした場合にも、電極は、そのパターン端部１３ｐ’の
斜面に添った状態に形成されるため、断線することがな
くなる。 〈実験例〉感光性の有機高分子膜１３を露光する際の、
膜１３とマスク２２間のギャップ２１の大きさｇを段階
的に変えて、有機高分子膜パターン１３ｐの端部１３
ｐ’の斜面形状の変化を調べてみた。ただし、露光時間
は２分、シャワーミスト２３のシャワー圧力は２．５ｋ
ｇ／ｃｍ2 の一定値とした。また、露光装置には、タマ
ラック製のコンタクト方式のものを用い、ギャップ２１
の設定には、ＳＵＳ製の枠を使用した。そして、形成さ
れたパターン端部１３ｐ’の斜面形状の縦／横比を、断
面形状プロファイルから求めた。
の端部１３ｐ’を斜面形状に形成することにより、その
パターン端部１３ｐ’をまたぐように電極をパターニン
グした場合にも、電極は、そのパターン端部１３ｐ’の
斜面に添った状態に形成されるため、断線することがな
くなる。 〈実験例〉感光性の有機高分子膜１３を露光する際の、
膜１３とマスク２２間のギャップ２１の大きさｇを段階
的に変えて、有機高分子膜パターン１３ｐの端部１３
ｐ’の斜面形状の変化を調べてみた。ただし、露光時間
は２分、シャワーミスト２３のシャワー圧力は２．５ｋ
ｇ／ｃｍ2 の一定値とした。また、露光装置には、タマ
ラック製のコンタクト方式のものを用い、ギャップ２１
の設定には、ＳＵＳ製の枠を使用した。そして、形成さ
れたパターン端部１３ｐ’の斜面形状の縦／横比を、断
面形状プロファイルから求めた。
【００１９】その結果、ギャップ２１の大きさｇが１０
μｍでは、パターン端部１３ｐ’の斜面形状の縦／横比
は１／１．５、３０μｍでは１／３、６０μｍでは１／
９、１００μｍでは１／１５、２００μｍでは１／２０
であった。
μｍでは、パターン端部１３ｐ’の斜面形状の縦／横比
は１／１．５、３０μｍでは１／３、６０μｍでは１／
９、１００μｍでは１／１５、２００μｍでは１／２０
であった。
【００２０】そして、このように斜面形状の縦／横比を
変えたパターン端部１３ｐ’をまたぐように電極をパタ
ーニングしたところ、縦／横比が１／３〜１／１５の場
合に、電極の断線のない所望の基板を高い歩留まりで形
成することができた。
変えたパターン端部１３ｐ’をまたぐように電極をパタ
ーニングしたところ、縦／横比が１／３〜１／１５の場
合に、電極の断線のない所望の基板を高い歩留まりで形
成することができた。
【００２１】即ち、電極の断線を防止するためには、パ
ターン端部１３ｐ’の斜面形状は、縦／横比が１／３〜
１／１５のゆるやかなものが好ましく、そのような縦／
横比の斜面形状を得るには、ギャップ２１の大きさを、
３０μｍ以上、１５０μｍ以下に設定すべきであること
がわかった。
ターン端部１３ｐ’の斜面形状は、縦／横比が１／３〜
１／１５のゆるやかなものが好ましく、そのような縦／
横比の斜面形状を得るには、ギャップ２１の大きさを、
３０μｍ以上、１５０μｍ以下に設定すべきであること
がわかった。
【００２２】次に、ギャップ２１の大きさｇを６０μ
ｍ、シャワーミスト２３のシャワー圧力を２．５ｋｇ／
ｃｍ2 の一定値として、露光時間を段階的に変えた場合
の、有機高分子膜パターン１３ｐの端部１３ｐ’の斜面
形状の変化を調べてみた。
ｍ、シャワーミスト２３のシャワー圧力を２．５ｋｇ／
ｃｍ2 の一定値として、露光時間を段階的に変えた場合
の、有機高分子膜パターン１３ｐの端部１３ｐ’の斜面
形状の変化を調べてみた。
【００２３】その結果、露光時間が３０秒では、パター
ン端部１３ｐ’の斜面形状の縦／横比は１／１．５、１
分では１／５、２分では１／９、４分では１／１５、１
０分では１／２０であった。この実験結果から、縦／横
比が１／３〜１／１５の最適な斜面形状を得るには、露
光時間を、４５秒以上、７分以内に設定すべきであるこ
とがわかった。
ン端部１３ｐ’の斜面形状の縦／横比は１／１．５、１
分では１／５、２分では１／９、４分では１／１５、１
０分では１／２０であった。この実験結果から、縦／横
比が１／３〜１／１５の最適な斜面形状を得るには、露
光時間を、４５秒以上、７分以内に設定すべきであるこ
とがわかった。
【００２４】なお、有機高分子材料として、上記宇部興
産製ＰＡ１０００Ｃ以外に、それと同様の光硬化型のポ
リイミド、アクリル等の材料を用いて同様の実験を行っ
たところ、いずれの材料の場合も、上記実験例と同様の
結果が得られた。
産製ＰＡ１０００Ｃ以外に、それと同様の光硬化型のポ
リイミド、アクリル等の材料を用いて同様の実験を行っ
たところ、いずれの材料の場合も、上記実験例と同様の
結果が得られた。
【００２５】また、上述のようにして有機高分子膜パタ
ーン１３ｐを形成した液晶素子の液晶１７としては、強
誘電性液晶を用いた。
ーン１３ｐを形成した液晶素子の液晶１７としては、強
誘電性液晶を用いた。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る液晶素
子の製造方法によれば、電極を断線させることのない有
機高分子膜パターンを形成することができ、よって信頼
性の高い液晶素子を高い歩留まりで製造することが可能
となる。
子の製造方法によれば、電極を断線させることのない有
機高分子膜パターンを形成することができ、よって信頼
性の高い液晶素子を高い歩留まりで製造することが可能
となる。
【図１】本発明に係る液晶素子の製造方法のうちの、有
機高分子膜パターンの形成方法を説明する断面図で、
（ａ）はパターン形成前の状態、（ｂ）はパターン形成
後の状態をそれぞれ示す。
機高分子膜パターンの形成方法を説明する断面図で、
（ａ）はパターン形成前の状態、（ｂ）はパターン形成
後の状態をそれぞれ示す。
【図２】一般的な液晶素子の構成を示す断面図である。
１１ａ、１１ｂ 透明基板 １３ 有機高分子膜 １３ｐ 有機高分子膜パターン １３ｐ’ 端部 １４ａ、１４ｂ 透明電極 １７ 液晶 ２１ ギャップ ２２ マスク ２３ シャワーミスト
Claims (3)
- 【請求項１】 一対の基板のうち、少なくとも一方の基
板上に選択的に有機高分子膜を形成し、少なくともその
有機高分子膜と基板表面とにまたがるように電極を形成
した後、これら一対の基板間に液晶を配置して液晶素子
を製造する方法において、 基板上の所定の領域に感光性の有機高分子膜を形成した
後、 その感光性有機高分子膜に対し、所定のギャップを介し
てマスクを配置して露光を行い、 続いて、現像液により、前記露光した感光性有機高分子
膜の表面を浸積および静止させて現像を行い、 その後、現像液のシャワーミストにより、前記感光性有
機高分子膜の露光部分または未露光部分を溶解除去し
て、端部が斜面形状を成す有機高分子膜パターンを得る
ことを特徴とする液晶素子の製造方法。 - 【請求項２】 前記感光性有機高分子膜が光硬化性材料
から成り、現像液によって未露光部分が溶解除去される
ことを特徴とする請求項１記載の液晶素子の製造方法。 - 【請求項３】 前記液晶として、強誘電性液晶を用いる
ことを特徴とする請求項１または２記載の液晶素子の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6201406A JPH0843809A (ja) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 液晶素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6201406A JPH0843809A (ja) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 液晶素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0843809A true JPH0843809A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=16440566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6201406A Pending JPH0843809A (ja) | 1994-08-02 | 1994-08-02 | 液晶素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0843809A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08164536A (ja) * | 1994-12-14 | 1996-06-25 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 射出成形装置並びにその射出ユニット及び型締ユニット |
| JP2002144367A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-21 | Kobe Steel Ltd | 射出成形機 |
-
1994
- 1994-08-02 JP JP6201406A patent/JPH0843809A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08164536A (ja) * | 1994-12-14 | 1996-06-25 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 射出成形装置並びにその射出ユニット及び型締ユニット |
| JP2002144367A (ja) * | 2000-11-13 | 2002-05-21 | Kobe Steel Ltd | 射出成形機 |
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