JPH0846090A - 半導体チップパッケージ - Google Patents
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Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体チップの非アクティブな背面が外方を
向いて露出された成形プラスチックの半導体チップパッ
ケージを提供する。 【構成】 半導体チップのアクティブな前面とリードフ
レームのボンディングパッドとの間に延びるボンディン
グワイヤによってリードフレームの開口内に半導体チッ
プが取り付けられ、リードフレーム/チップの組立体
は、半導体チップの非アクティブな背面が露出されてパ
ッケージの外方を向くようにしてプラスチック成形本体
内に収容されるような半導体パッケージ及びその製造方
法。
向いて露出された成形プラスチックの半導体チップパッ
ケージを提供する。 【構成】 半導体チップのアクティブな前面とリードフ
レームのボンディングパッドとの間に延びるボンディン
グワイヤによってリードフレームの開口内に半導体チッ
プが取り付けられ、リードフレーム/チップの組立体
は、半導体チップの非アクティブな背面が露出されてパ
ッケージの外方を向くようにしてプラスチック成形本体
内に収容されるような半導体パッケージ及びその製造方
法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体デバイスに係り、
より詳細には、半導体チップのパッケージングに係る。
より詳細には、半導体チップのパッケージングに係る。
【0002】
【従来の技術】パッケージングは、半導体チップを製造
するプロセスの最終工程である。パッケージングにおい
て、製造された半導体チップは、保護ハウジング内に取
り付けられる。今日、半導体チップテクノロジーの技術
は、半導体チップをパッケージする集積関連テクノロジ
ーよりも遙に急速に進歩している。新規で、小型で、よ
り強力な半導体チップをパッケージする必要性は、慣例
的なパッケージングテクノロジーの能力を越えて急速に
進んでおり、現在利用できる従来の材料及び設計は、速
くも時代遅れになりつつある。新規な半導体のパッケー
ジ需要により、益々増加する電気的な相互接続部、サイ
ズの縮小によるスペースの制約、コストの削減、信頼性
の改善、及び増加する熱伝達能力を受け入れるための構
成が必要となっている。
するプロセスの最終工程である。パッケージングにおい
て、製造された半導体チップは、保護ハウジング内に取
り付けられる。今日、半導体チップテクノロジーの技術
は、半導体チップをパッケージする集積関連テクノロジ
ーよりも遙に急速に進歩している。新規で、小型で、よ
り強力な半導体チップをパッケージする必要性は、慣例
的なパッケージングテクノロジーの能力を越えて急速に
進んでおり、現在利用できる従来の材料及び設計は、速
くも時代遅れになりつつある。新規な半導体のパッケー
ジ需要により、益々増加する電気的な相互接続部、サイ
ズの縮小によるスペースの制約、コストの削減、信頼性
の改善、及び増加する熱伝達能力を受け入れるための構
成が必要となっている。
【0003】益々小さくなる半導体パッケージから充分
に熱を伝達する必要性は、新規なパッケージ材料及び更
に熱効率の良い構成を開発することに大きな関心を生み
出した。現在、半導体パッケージングは、半導体チップ
からそれ自体充分に熱を伝達しない多数のチップパッケ
ージの熱伝達特性を改善するために外部ヒートシンクを
取り付ける技術を用いている。しかしながら、新規な半
導体チップの熱の集中度が増すにつれて、外部ヒートシ
ンクを標準追加することでは、もはや、充分に熱効率が
良いとは言えない。
に熱を伝達する必要性は、新規なパッケージ材料及び更
に熱効率の良い構成を開発することに大きな関心を生み
出した。現在、半導体パッケージングは、半導体チップ
からそれ自体充分に熱を伝達しない多数のチップパッケ
ージの熱伝達特性を改善するために外部ヒートシンクを
取り付ける技術を用いている。しかしながら、新規な半
導体チップの熱の集中度が増すにつれて、外部ヒートシ
ンクを標準追加することでは、もはや、充分に熱効率が
良いとは言えない。
【0004】パッケージングテクノロジーにおいて、2
つの最も重要な熱伝達モードは、熱伝導及び熱対流であ
る。媒体を通る又は媒体間の熱の除去は、温度差に基づ
いており、即ち平衡状態に到達するまで高温から低温へ
熱が流れることに基づいている。対流及び伝導の両方の
熱伝達モードは、半導体パッケージ及び/又は取り付け
られたヒートシンク部材の熱伝達特性を評価する上で最
も重要である。
つの最も重要な熱伝達モードは、熱伝導及び熱対流であ
る。媒体を通る又は媒体間の熱の除去は、温度差に基づ
いており、即ち平衡状態に到達するまで高温から低温へ
熱が流れることに基づいている。対流及び伝導の両方の
熱伝達モードは、半導体パッケージ及び/又は取り付け
られたヒートシンク部材の熱伝達特性を評価する上で最
も重要である。
【0005】半導体パッケージの熱消散特性は、熱が流
れねばならない熱伝達通路のネットワークによって測定
される。熱は、チップから種々の熱流路を経て空気のよ
うな冷却流体に露出したパッケージの外面に到達するよ
う伝導しなければならない。次いで、流体が熱を対流す
る。
れねばならない熱伝達通路のネットワークによって測定
される。熱は、チップから種々の熱流路を経て空気のよ
うな冷却流体に露出したパッケージの外面に到達するよ
う伝導しなければならない。次いで、流体が熱を対流す
る。
【0006】各パッケージング材料は、それ自身の独特
の熱特性を有している。これら特性の1つは、熱伝導率
として知られている。材料の熱伝導率は、その材料を通
して伝導することのできる熱の量を決定する。ある材料
(金属のような)は、熱伝導率が高く、そして他の材料
(ゴムやガラスのような)は、熱伝導率が低い。容易に
製造できるガラスや、ガラスセラミック組成や、プラス
チックのような一般の半導体パッケージング材料は、不
都合なことに、熱伝導率が低く、熱の消散を妨げる。
の熱特性を有している。これら特性の1つは、熱伝導率
として知られている。材料の熱伝導率は、その材料を通
して伝導することのできる熱の量を決定する。ある材料
(金属のような)は、熱伝導率が高く、そして他の材料
(ゴムやガラスのような)は、熱伝導率が低い。容易に
製造できるガラスや、ガラスセラミック組成や、プラス
チックのような一般の半導体パッケージング材料は、不
都合なことに、熱伝導率が低く、熱の消散を妨げる。
【0007】半導体パッケージの構造に基づき、パッケ
ージは、種々の熱伝導率の多数の種々の材料を有するこ
とができ、熱が冷却流体に到達するにはこれらを経て進
まねばならない。この経路は、熱伝導率の低い多数の材
料に遭遇するときに曲がりくねったものとなる。
ージは、種々の熱伝導率の多数の種々の材料を有するこ
とができ、熱が冷却流体に到達するにはこれらを経て進
まねばならない。この経路は、熱伝導率の低い多数の材
料に遭遇するときに曲がりくねったものとなる。
【0008】半導体チップからの熱がパッケージの種々
の材料を経て伝導しそしてパッケージの表面に到達する
と、空気のような冷却流体へと対流されねばならない。
の材料を経て伝導しそしてパッケージの表面に到達する
と、空気のような冷却流体へと対流されねばならない。
【0009】前記したように、半導体パッケージの外面
からの熱伝達は、通常、特別に構成されたヒートシンク
を取り付けることによって取り扱われ、これらヒートシ
ンクは、一般に、最も熱を発生する領域に取り付けられ
る。これは、通常熱伝導率が低いパッケージの表面か
ら、好ましくは熱伝導率が高く且つ表面積が大きいヒー
トシンクへと熱を伝導することができる。次いで、熱
は、周囲の空気へと対流される。ヒートシンクの形状
は、パッケージからの熱の対流を増大する大きな表面積
を考慮した構成にされる。半導体チップの発熱が中程度
である従来の用途においては、ヒートシンクをパッケー
ジに外部で接合することにより生じる付加的な熱伝達容
量で、チップにより発生した熱を伝達するのに充分であ
った。
からの熱伝達は、通常、特別に構成されたヒートシンク
を取り付けることによって取り扱われ、これらヒートシ
ンクは、一般に、最も熱を発生する領域に取り付けられ
る。これは、通常熱伝導率が低いパッケージの表面か
ら、好ましくは熱伝導率が高く且つ表面積が大きいヒー
トシンクへと熱を伝導することができる。次いで、熱
は、周囲の空気へと対流される。ヒートシンクの形状
は、パッケージからの熱の対流を増大する大きな表面積
を考慮した構成にされる。半導体チップの発熱が中程度
である従来の用途においては、ヒートシンクをパッケー
ジに外部で接合することにより生じる付加的な熱伝達容
量で、チップにより発生した熱を伝達するのに充分であ
った。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、新規な
半導体では発熱量が増加したために、外部に取り付けら
れるヒートシンクの効果が低減している。パッケージの
熱流路及びヒートシンクは、発生した熱をもはや充分に
伝達することができず、従って、半導体内に機能不良を
生じることがある。
半導体では発熱量が増加したために、外部に取り付けら
れるヒートシンクの効果が低減している。パッケージの
熱流路及びヒートシンクは、発生した熱をもはや充分に
伝達することができず、従って、半導体内に機能不良を
生じることがある。
【0011】多くの半導体パッケージに共通の重要な熱
伝達問題は、パッケージの構成と、半導体チップの取付
位置である。チップを効果的に配置すると、多数の熱的
境界を排除して熱伝達を改善することができる。チップ
は通常内部基板に取り付けられるので、チップから発生
した熱は、取付手段を経て基板へと通過した後に、パッ
ケージの外面に取り付けられたヒートシンクへ到達しな
ければならない。チップ−基板取付接合材料は、パッケ
ージに対して熱的なバリアを追加し、パッケージの最大
熱伝達容量を制限する。
伝達問題は、パッケージの構成と、半導体チップの取付
位置である。チップを効果的に配置すると、多数の熱的
境界を排除して熱伝達を改善することができる。チップ
は通常内部基板に取り付けられるので、チップから発生
した熱は、取付手段を経て基板へと通過した後に、パッ
ケージの外面に取り付けられたヒートシンクへ到達しな
ければならない。チップ−基板取付接合材料は、パッケ
ージに対して熱的なバリアを追加し、パッケージの最大
熱伝達容量を制限する。
【0012】プラスチックパッケージは、10年以上前
に導入され、現在では半導体チップ産業において大部分
の集積回路をパッケージするのに利用されている。プラ
スチックパッケージは、半導体チップパッケージの世界
的市場の約95%(即ち1年当たり約400億部品)に
達すると推定される。
に導入され、現在では半導体チップ産業において大部分
の集積回路をパッケージするのに利用されている。プラ
スチックパッケージは、半導体チップパッケージの世界
的市場の約95%(即ち1年当たり約400億部品)に
達すると推定される。
【0013】典型的なプラスチックパッケージング作業
は、次の一連のステップを含む。 1)チップを位置保持するために、先ず、一般的にエポ
キシを使用し、リードフレームの中心の「パドル」と一
般に称する平らな面にチップを接合する。 2)パドルに位置保持されたチップをリードフレームに
ワイヤボンディングする。 3)リードフレーム及びチップの組立体をトランシファ
モールド器具の空洞内にセットし、空洞を満たすように
プラスチック組成を移送して、チップ、エポキシ、パド
ル、ボンディングワイヤ及びリードフレームの一部分を
包囲する。 4)包囲した組立体をトランスファモールド器具から取
り出し、ワイヤリードを切断し、メッキしそして特定の
所望の形状へと成形する。 5)熱の消散にもし必要であれば、包囲された組立体に
ヒートシンクを接合する。
は、次の一連のステップを含む。 1)チップを位置保持するために、先ず、一般的にエポ
キシを使用し、リードフレームの中心の「パドル」と一
般に称する平らな面にチップを接合する。 2)パドルに位置保持されたチップをリードフレームに
ワイヤボンディングする。 3)リードフレーム及びチップの組立体をトランシファ
モールド器具の空洞内にセットし、空洞を満たすように
プラスチック組成を移送して、チップ、エポキシ、パド
ル、ボンディングワイヤ及びリードフレームの一部分を
包囲する。 4)包囲した組立体をトランスファモールド器具から取
り出し、ワイヤリードを切断し、メッキしそして特定の
所望の形状へと成形する。 5)熱の消散にもし必要であれば、包囲された組立体に
ヒートシンクを接合する。
【0014】標準的なプラスチックパッケージ組立体で
は、チップにより発生した熱は、プラスチックの外部に
到達するまでに、エポキシ、パドル、及びチップを包囲
するプラスチックを通過しなければならない。この構成
では、エポキシ及び包囲プラスチックが不良の熱伝導体
であるために、熱的性能が非常に悪い。
は、チップにより発生した熱は、プラスチックの外部に
到達するまでに、エポキシ、パドル、及びチップを包囲
するプラスチックを通過しなければならない。この構成
では、エポキシ及び包囲プラスチックが不良の熱伝導体
であるために、熱的性能が非常に悪い。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、パッケ
ージされた半導体チップの非アクティブな背面が露出さ
れパッケージの外方に向けらるような改良されたプラス
チックチップパッケージが開発される。これは、従来の
パッケージに勝る多数の効果を奏する。即ち、チップと
基板のエポキシ取付プロセスが排除される。パドル又は
エポキシがない状態で、チップがパッケージの片面に位
置され、ボンディングワイヤをループする充分な余裕が
考慮される一方、パッケージをより薄くすることができ
る。チップが露出され、ヒートシンクを直接取り付ける
ことができる。材料が少ないことは、材料特性の不整合
が少ないことを意味し、シリコンとは異なる熱膨張係数
及び強度をもつ材料が排除され、これにより、内部スト
レス及び付随する信頼性が改善される。そして材料が少
ないことは潜在的な製造問題が少なく且つ組立工程も少
ないことを意味するので、コストの節約が実現化され
る。このような構成体は、あまり高価でなく、より薄
く、そしてチップで発生した熱をプラスチックパッケー
ジを経て伝導しなければならない標準的構成に勝る顕著
な熱的性能の改善を達成する。
ージされた半導体チップの非アクティブな背面が露出さ
れパッケージの外方に向けらるような改良されたプラス
チックチップパッケージが開発される。これは、従来の
パッケージに勝る多数の効果を奏する。即ち、チップと
基板のエポキシ取付プロセスが排除される。パドル又は
エポキシがない状態で、チップがパッケージの片面に位
置され、ボンディングワイヤをループする充分な余裕が
考慮される一方、パッケージをより薄くすることができ
る。チップが露出され、ヒートシンクを直接取り付ける
ことができる。材料が少ないことは、材料特性の不整合
が少ないことを意味し、シリコンとは異なる熱膨張係数
及び強度をもつ材料が排除され、これにより、内部スト
レス及び付随する信頼性が改善される。そして材料が少
ないことは潜在的な製造問題が少なく且つ組立工程も少
ないことを意味するので、コストの節約が実現化され
る。このような構成体は、あまり高価でなく、より薄
く、そしてチップで発生した熱をプラスチックパッケー
ジを経て伝導しなければならない標準的構成に勝る顕著
な熱的性能の改善を達成する。
【0016】本発明は、その広い態様において、請求項
1に記載した成形プラスチック半導体チップパッケージ
と、請求項13に記載した成形プラスチック半導体チッ
プパッケージの成形方法とに関する。
1に記載した成形プラスチック半導体チップパッケージ
と、請求項13に記載した成形プラスチック半導体チッ
プパッケージの成形方法とに関する。
【0017】以下に述べるように、成形プラスチックの
半導体チップパッケージは、従来のリードフレーム部材
を備えているが、これは、通常パドル取付プラットホー
ムが設けられる場所に開口を有する。アクティブな前面
と非アクティブな背面とを有する半導体チップは、チッ
プの非アクティブな背面が上記リードフレームにより完
全に支持されない状態で上記開口内に配置される。ボン
ディングワイヤは、チップのアクティブな前面と、リー
ドフレームのボンディングパッドとの間に延びる。成形
プラスチック本体は、チップの非アクティブな背面が露
出されてパッケージの外方を向く状態で、リードフレー
ム、ボンディングワイヤ及び半導体チップを包囲する。
ヒートシンクが必要な場合には、効率的及び効果的に熱
を発散するようにチップの露出された背面にヒートシン
クを直接接触して取り付けることができる。
半導体チップパッケージは、従来のリードフレーム部材
を備えているが、これは、通常パドル取付プラットホー
ムが設けられる場所に開口を有する。アクティブな前面
と非アクティブな背面とを有する半導体チップは、チッ
プの非アクティブな背面が上記リードフレームにより完
全に支持されない状態で上記開口内に配置される。ボン
ディングワイヤは、チップのアクティブな前面と、リー
ドフレームのボンディングパッドとの間に延びる。成形
プラスチック本体は、チップの非アクティブな背面が露
出されてパッケージの外方を向く状態で、リードフレー
ム、ボンディングワイヤ及び半導体チップを包囲する。
ヒートシンクが必要な場合には、効率的及び効果的に熱
を発散するようにチップの露出された背面にヒートシン
クを直接接触して取り付けることができる。
【0018】本発明の改良されたパッケージは、従来の
成形プラスチックパッケージの組立に比して簡単化され
た工程を特徴とするプロセスにより作ることができる。
先ず初めに、半導体チップがリードフレームの開口に配
置される。リードフレームの開口は、その横方向寸法が
チップよりも大きい。製造中に、チップは最初に好まし
くは真空により器具に位置保持される。リードフレーム
は、真空手段又は他の従来の手段により同じ器具に保持
される。器具に保持されている間に、チップはリードフ
レームにワイヤボンディングされる。従来のボール又は
ステッチボンディングが使用される。
成形プラスチックパッケージの組立に比して簡単化され
た工程を特徴とするプロセスにより作ることができる。
先ず初めに、半導体チップがリードフレームの開口に配
置される。リードフレームの開口は、その横方向寸法が
チップよりも大きい。製造中に、チップは最初に好まし
くは真空により器具に位置保持される。リードフレーム
は、真空手段又は他の従来の手段により同じ器具に保持
される。器具に保持されている間に、チップはリードフ
レームにワイヤボンディングされる。従来のボール又は
ステッチボンディングが使用される。
【0019】チップをパドルに接合する全プロセスは、
パドルとチップの界面に伴う付随的な問題と共に排除さ
れる。
パドルとチップの界面に伴う付随的な問題と共に排除さ
れる。
【0020】ワイヤボンディングが行われた後に、チッ
プ及びリードフレームは、通常の取り扱いに充分耐える
構造完全性をもった部分的に完成した組立体を形成す
る。この組立体は、この時点で、チップがボンディング
ワイヤのみによって自由空間に支持された状態で、ワイ
ヤボンディング器具から取り外すことができる。
プ及びリードフレームは、通常の取り扱いに充分耐える
構造完全性をもった部分的に完成した組立体を形成す
る。この組立体は、この時点で、チップがボンディング
ワイヤのみによって自由空間に支持された状態で、ワイ
ヤボンディング器具から取り外すことができる。
【0021】次いで、チップ及びリードフレームの組立
体は、プラスチックパッケージ型に入れられ、プラスチ
ックが型に移送されるときに位置保持され、これによ
り、チップ、ボンディングワイヤ及びリードが包囲され
る。
体は、プラスチックパッケージ型に入れられ、プラスチ
ックが型に移送されるときに位置保持され、これによ
り、チップ、ボンディングワイヤ及びリードが包囲され
る。
【0022】トランスファモールドプロセス中にチップ
及びリードフレームを型内に位置保持するために、チッ
プの背面を型においてペデスタルに配置するのが好まし
い。ペデスタルには、チップの位置保持を助成するため
に真空ポートが設けられるのが好ましい。型から部品を
取り出すときには、支持ペデスタルに接触しひいてはそ
れによりシールドされていたチップの背面の領域を除い
て、プラスチックがチップを包囲する。従って、チップ
の非アクティブな背面が露出されてパッケージの外方を
向く。ヒートシンクが必要とされる場合には、チップの
露出した背面に容易に直接取り付けることができる。
及びリードフレームを型内に位置保持するために、チッ
プの背面を型においてペデスタルに配置するのが好まし
い。ペデスタルには、チップの位置保持を助成するため
に真空ポートが設けられるのが好ましい。型から部品を
取り出すときには、支持ペデスタルに接触しひいてはそ
れによりシールドされていたチップの背面の領域を除い
て、プラスチックがチップを包囲する。従って、チップ
の非アクティブな背面が露出されてパッケージの外方を
向く。ヒートシンクが必要とされる場合には、チップの
露出した背面に容易に直接取り付けることができる。
【0023】
【実施例】本発明は、添付図面を参照して一例として述
べる好ましい実施例の以下の詳細な説明より更に理解さ
れよう。
べる好ましい実施例の以下の詳細な説明より更に理解さ
れよう。
【0024】図1を参照すれば、半導体チップ20は、
器具ペデスタル21に配置されて示されており、このペ
デスタルには、ワイヤボンディング作業中にチップをし
っかりと位置保持するよう助成するための真空ポート2
2が設けられている。チップ20及びリードフレーム2
3が器具に保持される間に、ボンディングワイヤ24が
チップ20のアクティブな面(26)とリードフレーム
との間に適当なボール又はステッチボンディング装置
(図示せず)によって取り付けられる。ボンディングワ
イヤが配置されると、部分的に完成した組立体25(図
2に示す)はワイヤボンディング器具から取り外され
る。ボンディングワイヤ24のみにより支持されたチッ
プ20は、部分的に完成した組立体のボンディング器具
からの取り外し及び取り扱いを行って、その後の次の処
理工程への搬送を受け入れるに充分な完全性を有する。
或いは又、チップとリードフレームの組立体を器具に保
持したまま次の工程へ移動してもよい。
器具ペデスタル21に配置されて示されており、このペ
デスタルには、ワイヤボンディング作業中にチップをし
っかりと位置保持するよう助成するための真空ポート2
2が設けられている。チップ20及びリードフレーム2
3が器具に保持される間に、ボンディングワイヤ24が
チップ20のアクティブな面(26)とリードフレーム
との間に適当なボール又はステッチボンディング装置
(図示せず)によって取り付けられる。ボンディングワ
イヤが配置されると、部分的に完成した組立体25(図
2に示す)はワイヤボンディング器具から取り外され
る。ボンディングワイヤ24のみにより支持されたチッ
プ20は、部分的に完成した組立体のボンディング器具
からの取り外し及び取り扱いを行って、その後の次の処
理工程への搬送を受け入れるに充分な完全性を有する。
或いは又、チップとリードフレームの組立体を器具に保
持したまま次の工程へ移動してもよい。
【0025】図3に示すように、リードフレーム23に
ワイヤボンディングされたチップ20は、型の下部38
に配置され、チップ20の非アクティブな背面27が型
器具ペデスタル28上に配置される。ペデスタルは、成
形プロセス中にチップの位置保持を助成するための真空
ポート29を備えている。チップ及びリードフレームの
組立体が型の空洞内に位置設定されると、型の上部30
が型に組み立てられ、従来のトランスファモールド装置
及び技術を用いて、プラスチック組成が型へ移送され、
型の空洞を満たすにつれて、チップ、ボンディングワイ
ヤ及びリードフレームのまわりに流れる。
ワイヤボンディングされたチップ20は、型の下部38
に配置され、チップ20の非アクティブな背面27が型
器具ペデスタル28上に配置される。ペデスタルは、成
形プロセス中にチップの位置保持を助成するための真空
ポート29を備えている。チップ及びリードフレームの
組立体が型の空洞内に位置設定されると、型の上部30
が型に組み立てられ、従来のトランスファモールド装置
及び技術を用いて、プラスチック組成が型へ移送され、
型の空洞を満たすにつれて、チップ、ボンディングワイ
ヤ及びリードフレームのまわりに流れる。
【0026】プラスチックが固定するや否や、型の上部
と下部を取り外すことができ、成形されたプラスチック
パッケージ(図4)を取り出すことができる。このプラ
スチックパッケージは、ボンディングワイヤ24及びリ
ードフレーム23により取り付けられたチップ20を備
え、これらは全てプラスチック成形本体32内に収容さ
れている。真空型ペデスタルに予め配置されたチップの
背面27の部分はプラスチックによってカバーされない
ままであり、露出されてくぼみ33内でパッケージの外
方を向いている。
と下部を取り外すことができ、成形されたプラスチック
パッケージ(図4)を取り出すことができる。このプラ
スチックパッケージは、ボンディングワイヤ24及びリ
ードフレーム23により取り付けられたチップ20を備
え、これらは全てプラスチック成形本体32内に収容さ
れている。真空型ペデスタルに予め配置されたチップの
背面27の部分はプラスチックによってカバーされない
ままであり、露出されてくぼみ33内でパッケージの外
方を向いている。
【0027】図5には、出来上がった成形プラスチック
パッケージが示されており、半導体チップ20の露出し
た非アクティブな背面27に直接熱接触してくぼみ33
に取り付けられたヒートシンク34を含んでいる。
パッケージが示されており、半導体チップ20の露出し
た非アクティブな背面27に直接熱接触してくぼみ33
に取り付けられたヒートシンク34を含んでいる。
【0028】図6は、収容された半導体チップ20の背
面27が成形プラスチック本体32内にくぼむのではな
く、その外面35と平らになることを特徴とするパッケ
ージを形成するように設計された本発明の実施例を示し
ている。この実施例は、非常に薄くて軽量なパッケージ
にするという効果を奏し、種々のヒートシンク設計を受
け入れることができる。リードは、プラスチックの中央
面から出てもよいし、或いは製造工程又は使用目的を受
け入れるように調整することもできる。
面27が成形プラスチック本体32内にくぼむのではな
く、その外面35と平らになることを特徴とするパッケ
ージを形成するように設計された本発明の実施例を示し
ている。この実施例は、非常に薄くて軽量なパッケージ
にするという効果を奏し、種々のヒートシンク設計を受
け入れることができる。リードは、プラスチックの中央
面から出てもよいし、或いは製造工程又は使用目的を受
け入れるように調整することもできる。
【0029】図7の実施例は、プラスチックとチップ2
0との間のストレス、ひいては、層分離を減少するため
に、成形本体32のプラスチック材料の中に成形された
ストレス減少リング36を備えている。このリングは、
その特定の機械的又は電気的特性に対して選択された適
当な材料のもので作ることができる。典型的に、リング
は、リードフレーム材料で構成される。リングは、チッ
プ20の外縁を取り囲むがそれに接触しないように配置
される。リングは、成形作業中に別の真空ポートによっ
て位置保持され、この場合は、リングの一部分が露出さ
れる。又、リングは、リードフレームの一体的部分であ
ってもよく、即ちリードフレームとリングとの間の接着
剤によって位置保持されてもよい。
0との間のストレス、ひいては、層分離を減少するため
に、成形本体32のプラスチック材料の中に成形された
ストレス減少リング36を備えている。このリングは、
その特定の機械的又は電気的特性に対して選択された適
当な材料のもので作ることができる。典型的に、リング
は、リードフレーム材料で構成される。リングは、チッ
プ20の外縁を取り囲むがそれに接触しないように配置
される。リングは、成形作業中に別の真空ポートによっ
て位置保持され、この場合は、リングの一部分が露出さ
れる。又、リングは、リードフレームの一体的部分であ
ってもよく、即ちリードフレームとリングとの間の接着
剤によって位置保持されてもよい。
【0030】異なるストレス減少特徴を有した第2の実
施例が図8に示されている。シリコン/プラスチック/
空気の界面38では、プラスチックがシリコンから引っ
張られる傾向がある。というのは、その領域のプラスチ
ックは、トランスファモールド温度から冷却する間に収
縮し、そしてシリコン以上に収縮するからである。この
熱収縮の差により、シリコン/プラスチック/空気の界
面に張力が形成され、しばしば分離を招く。接合部を大
気からシールするような密接な接触を維持するために
は、この張力を減少する必要がある。従って、接合領域
からのプラスチック本体のほとんどの影響を分離するた
めにプラスチック成形本体32にノッチ37が作られ
る。このようなノッチは、例えば、型の下部の明確な特
徴部によって容易に形成することができ、種々の形状及
び構成の1つをとることができる。
施例が図8に示されている。シリコン/プラスチック/
空気の界面38では、プラスチックがシリコンから引っ
張られる傾向がある。というのは、その領域のプラスチ
ックは、トランスファモールド温度から冷却する間に収
縮し、そしてシリコン以上に収縮するからである。この
熱収縮の差により、シリコン/プラスチック/空気の界
面に張力が形成され、しばしば分離を招く。接合部を大
気からシールするような密接な接触を維持するために
は、この張力を減少する必要がある。従って、接合領域
からのプラスチック本体のほとんどの影響を分離するた
めにプラスチック成形本体32にノッチ37が作られ
る。このようなノッチは、例えば、型の下部の明確な特
徴部によって容易に形成することができ、種々の形状及
び構成の1つをとることができる。
【0031】図9において、成形プラスチック本体の上
面には浮き彫りノッチ41が設けられる。このような浮
き彫りノッチは、熱膨張係数の差及びチップのストレス
により生じるパッケージの曲がりを減少するように働
く。図10は、同様のチップパッケージを示している
が、成形プラスチック本体の上面に組み込まれたストレ
ス緩和インサート43を特徴とするものである。このイ
ンサートは、膨張率の低いシリコン、金属及びセラミッ
ク等の適当な材料又は材料の組合せで作られる。このイ
ンサートは、成形中に型の上半分の真空ポートでこれを
位置保持することにより配置される。或いは又、図11
に示すように、インサートは、弾力性又は可塑性材料或
いは他の材料で作られた緩衝体45によって位置保持さ
れてもよい。インサートは、ストレス緩和を与えると共
に、更に他の機能を果たすこともできる。例えば、イン
サート47はチップキャパシタであって、緩衝体45が
チップ20への電気的接続部を形成し、電源の安定化を
与えるようにしてもよい。又、チップの熱冷却を向上す
ることもできる。インサート43は、種々の厚み、長さ
又は巾をとることができ、穴や他の形状をもつように構
成することもできる。
面には浮き彫りノッチ41が設けられる。このような浮
き彫りノッチは、熱膨張係数の差及びチップのストレス
により生じるパッケージの曲がりを減少するように働
く。図10は、同様のチップパッケージを示している
が、成形プラスチック本体の上面に組み込まれたストレ
ス緩和インサート43を特徴とするものである。このイ
ンサートは、膨張率の低いシリコン、金属及びセラミッ
ク等の適当な材料又は材料の組合せで作られる。このイ
ンサートは、成形中に型の上半分の真空ポートでこれを
位置保持することにより配置される。或いは又、図11
に示すように、インサートは、弾力性又は可塑性材料或
いは他の材料で作られた緩衝体45によって位置保持さ
れてもよい。インサートは、ストレス緩和を与えると共
に、更に他の機能を果たすこともできる。例えば、イン
サート47はチップキャパシタであって、緩衝体45が
チップ20への電気的接続部を形成し、電源の安定化を
与えるようにしてもよい。又、チップの熱冷却を向上す
ることもできる。インサート43は、種々の厚み、長さ
又は巾をとることができ、穴や他の形状をもつように構
成することもできる。
【0032】図12は、熱膨張係数(TCE)によって
生じる変形の制御を向上しそしてクラックや水分の侵入
を減少する別の解決策を示している。この実施例は、パ
ッケージの上面にカバー即ちホイル49を備え、そして
底面にカバー即ちホイル51を備えている。これは、成
形中に位置保持することもできるし、或いは後で追加す
ることもできる。
生じる変形の制御を向上しそしてクラックや水分の侵入
を減少する別の解決策を示している。この実施例は、パ
ッケージの上面にカバー即ちホイル49を備え、そして
底面にカバー即ちホイル51を備えている。これは、成
形中に位置保持することもできるし、或いは後で追加す
ることもできる。
【0033】図13に示す実施例は、チップ20のアク
ティブな前面53及び非アクティブな背面27の両方が
露出されるパッケージを特徴とする。このような構成
は、電気的接続、テスト、増強冷却、ストレス減少、光
学的相互接続及び/又は付加的なワイヤボンディングシ
ーケンス等を良好に受け入れることができる。
ティブな前面53及び非アクティブな背面27の両方が
露出されるパッケージを特徴とする。このような構成
は、電気的接続、テスト、増強冷却、ストレス減少、光
学的相互接続及び/又は付加的なワイヤボンディングシ
ーケンス等を良好に受け入れることができる。
【0034】以上、特定の実施例を参照して本発明を説
明したが、添付図面に示されて上記で説明された全ての
事柄は、単に本発明を解説するものに過ぎず、その特徴
を限定するものでないことが明らかであろう。ここに開
示した実施例の種々の変更や本発明の他の実施例は、上
記説明から当業者に明らかであろうし、或いは本発明の
範囲から逸脱せずに構成することができよう。
明したが、添付図面に示されて上記で説明された全ての
事柄は、単に本発明を解説するものに過ぎず、その特徴
を限定するものでないことが明らかであろう。ここに開
示した実施例の種々の変更や本発明の他の実施例は、上
記説明から当業者に明らかであろうし、或いは本発明の
範囲から逸脱せずに構成することができよう。
【図1】本発明の好ましい実施例の成形プラスチック半
導体チップパッケージを形成するプロセスの工程を示す
断面図である。
導体チップパッケージを形成するプロセスの工程を示す
断面図である。
【図2】本発明の好ましい実施例の成形プラスチック半
導体チップパッケージを形成するプロセスの工程を示す
断面図である。
導体チップパッケージを形成するプロセスの工程を示す
断面図である。
【図3】本発明の好ましい実施例の成形プラスチック半
導体チップパッケージを形成するプロセスの工程を示す
断面図である。
導体チップパッケージを形成するプロセスの工程を示す
断面図である。
【図4】本発明の好ましい実施例による半導体パッケー
ジの一実施例を示す断面図である。
ジの一実施例を示す断面図である。
【図5】ヒートシンク素子が取り付けられた本発明の好
ましい実施例による完全に組み立てられた半導体パッケ
ージの断面図である。
ましい実施例による完全に組み立てられた半導体パッケ
ージの断面図である。
【図6】本発明の好ましい実施例による半導体パッケー
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
【図7】本発明の好ましい実施例による半導体パッケー
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
【図8】本発明の好ましい実施例による半導体パッケー
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
【図9】本発明の好ましい実施例による半導体パッケー
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
ジの付加的な実施例を示す断面図である。
【図10】本発明の好ましい実施例による半導体パッケ
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
【図11】本発明の好ましい実施例による半導体パッケ
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
【図12】本発明の好ましい実施例による半導体パッケ
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
【図13】本発明の好ましい実施例による半導体パッケ
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
ージの付加的な実施例を示す断面図である。
20 半導体チップ 21 ペデスタル 22 真空ポート 23 リードフレーム 24 ボンディングワイヤ 25 部分的に完成した組立体 26 チップのアクティブな面 27 チップの非アクティブな背面 28 型器具ペデスタル 29 真空ポート 30 型の上部 31 成形プラスチックパッケージ 32 プラスチック成形本体 33 くぼみ 34 ヒートシンク 38 型の下部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョン スチュアート フィッチ アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94560 ニューアーク セクオイアー コ ート 36640 (72)発明者 イェーズディー ナヴァル ドーディー アメリカ合衆国 マサチューセッツ州 02140ケンブリッジ アップランド ロー ド 55ビー
Claims (15)
- 【請求項1】 半導体チップを含む成形プラスチック半
導体チップパッケージにおいて、 開口を有するリードフレームと、 アクティブな前面と、非アクティブな背面とを有し、横
方向寸法が上記リードフレームの開口よりも小さく、上
記非アクティブな背面が上記リードフレームによって完
全に支持されない状態で上記開口内に配置された半導体
チップと、 上記チップのアクティブな前面と、上記リードフレーム
に支持されたボンディングパッドとの間に延びるボンデ
ィングワイヤと、 上記チップの非アクティブな背面が露出されて上記パッ
ケージの外方を向いた状態で上記リードフレーム及び上
記半導体チップを収容する成形プラスチックの本体と、 を備えたことを特徴とする半導体パッケージ。 - 【請求項2】 上記半導体チップの背面は、上記成形プ
ラスチック本体の背面と平らにされる請求項1に記載の
半導体パッケージ。 - 【請求項3】 上記半導体チップの露出した背面に密接
接触して上記パッケージに取り付けられたヒートシンク
を更に備えた請求項1に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項4】 上記成形プラスチック本体は、ストレス
緩和特徴部を含む請求項1に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項5】 上記ストレス緩和特徴部は、リードフレ
ーム材料のリングである請求項4に記載の半導体パッケ
ージ。 - 【請求項6】 上記ストレス緩和特徴部は、プラスチッ
ク本体の背面のノッチである請求項4に記載の半導体パ
ッケージ。 - 【請求項7】 上記ストレス緩和特徴部は、プラスチッ
ク本体の上面の浮き彫りノッチである請求項4に記載の
半導体パッケージ。 - 【請求項8】 上記ストレス緩和特徴部は、プラスチッ
ク本体の上面のインサートである請求項4に記載の半導
体パッケージ。 - 【請求項9】 上記インサートは、シリコン、金属及び
セラミックから選択される請求項8に記載の半導体パッ
ケージ。 - 【請求項10】 上記インサートは、半導体チップに電
気的に接続されたキャパシタである請求項8に記載の半
導体パッケージ。 - 【請求項11】 上記ストレス緩和特徴部は、パッケー
ジの少なくとも片側に接合されたカバーより成る請求項
4に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項12】 上記ストレス緩和特徴部は、半導体チ
ップのアクティブな前面及び非アクティブな背面の両方
を露出するようにプラスチック本体の上面及び背面の両
方に作られた浮き彫りノッチより成る請求項4に記載の
半導体パッケージ。 - 【請求項13】 成形プラスチックの半導体チップパッ
ケージを成形する方法において、 アクティブな前面及び非アクティブな背面を有する半導
体チップをリードフレームの開口内に配置し、該開口
は、その横方向寸法がチップよりも大きく、 上記チップのアクティブな前面と、リードフレームに支
持されたボンディングパッドとの間にボンディングワイ
ヤを取り付け、 上記チップの背面を支持することによりパッケージの型
内に上記チップ及びリードフレームを保持し、そして上
記チップの背面の実質的な部分を露出したままにし且つ
パッケージの外方を向くようにして上記チップ及び上記
リードフレームを収容するように上記型内にプラスチッ
ク本体を成形する、 という段階を備えたことを特徴とする方法。 - 【請求項14】 上記半導体チップは、これを真空ペデ
スタル上に取り付けることによりリードフレームの開口
内に配置される請求項13に記載の方法。 - 【請求項15】 上記チップの背面は、真空ペデスタル
上にチップを支持することによりパッケージの型内に保
持される請求項13に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/269,294 US5604376A (en) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | Paddleless molded plastic semiconductor chip package |
| US08/269294 | 1994-06-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0846090A true JPH0846090A (ja) | 1996-02-16 |
Family
ID=23026648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7161857A Pending JPH0846090A (ja) | 1994-06-30 | 1995-06-28 | 半導体チップパッケージ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5604376A (ja) |
| JP (1) | JPH0846090A (ja) |
| KR (1) | KR960002782A (ja) |
| SG (1) | SG38849A1 (ja) |
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| JP2021174982A (ja) * | 2020-04-17 | 2021-11-01 | 株式会社デンソー | 半導体装置および半導体モジュール |
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|---|---|---|---|---|
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| US5068712A (en) * | 1988-09-20 | 1991-11-26 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor device |
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