JPH08501580A - オレフィンポリマーの製造方法 - Google Patents
オレフィンポリマーの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
固体担持触媒によるオレフィンの重合への、反応条件下で水を脱離しない、ハイドロタルサイト、ゼオライトまたは金属酸化物の系列の化合物の少なくとも1種の添加は、重合それ自体またはポリマーの特性に不利に影響することなく、ポリマーの腐食作用を強力に減少させる。他の安定剤もまた添加できる。
Description
【発明の詳細な説明】オレフィンポリマーの製造方法
本発明は重合中にハイドロタルサイト、ゼオライトまたは金属酸化物ならびに
所望により安定剤を添加するオレフィンポリマーの製造方法に関する。本発明は
またこのように得られたオレフィンポリマーにもまた関する。
有機金属錯体触媒(例えば、チグラー−ナッタ触媒)によるオレフィンの低圧
重合では通常、微粉砕したポリマーで得て、それを加工により成形される前に押
出機中で押し出す。この粒状化において、安定剤、腐食防止剤、着色強化剤(col
our enhancer)、静電防止剤または他の加工助剤のような物質を使用する。しか
し、特に高分子量のポリマーに関して、この粒状化は常に望ましくまたは可能で
あるわけではない。
近年、固体担持触媒(solid supported catalyst)を使用することにより、もは
や押出により粒状化しなくてよいが、直接的に加工できる球状、粒状型ポリマー
が製造されることがわかっている。これらの固体触媒のための適当な担体は特に
DE−A−2641960号に開示されているように特定の粒子サイズの球状マ
グネシウムハライドに見いだされている。無水マグネシウムハライドはTiCl4
および電子供与体とともにアルミニウムアルキレンにより活性化される難溶性
錯体を形成する。立体特異性および活性は電子供与体、例えば、特に、EP−A
−45977号に記載されたようなカルボン酸エス
テルまたはSi−O−C結合を含む化合物を使用することによって増強される。
このように得られたポリマーはもはや粒状化しなくてよいけれども、その後加
工にそして重合中の長期間安定性に重要である改質剤を加えるのが望ましい。多
くの慣用の改質剤(例えば安定剤)の添加はオレフィン重合を妨害し、ポリマー
の変色を引き起こす。
他のポリマーの加工に使用される機械、例えばカレンダーは腐食を受ける。金
属表面上のポリマーの腐食作用は通常触媒残渣または触媒系の分解生成物による
とされる。今までのところ別の加工段階で腐食抑制化合物を加えることが必要で
ある。
ポリアルキルピペリジン型の立体障害性アミン安定剤は重合を妨害せず、ポリ
マーを実質的に変色させずおよび良好な熱的、酸化的安定性を達成することが公
知である(EP−A−192987またはEP−A−0350444)。
さらに、酸化防止剤として有機ホスフィットおよびホスホナイトを添加するこ
とが提案されている(EP−A−254348)。
重合の間の有機ホスフィットまたはホスホナイトと共にポリアルキルピペリジ
ン型の立体障害性アミン安定剤を添加することもまた公知である(EP−A−0
351360)。
驚いたことには、所望により安定剤とともに反応条件
下で水を脱離しないハイドロタルサイト、ゼオライトまたは金属酸化物の系列の
化合物の添加が、オレフィンの重合を妨害せず、および他方重合中に生ずる腐食
を実質的に防いで、他の安定剤を添加することにより優れた長期間安定性を達成
することを今や見いだした。
従って、本発明は遷移金属触媒を使用する重合によるオレフィンポリマーの製
造方法であって、反応条件下で水を脱離しない、ハイドロタルサイト、ゼオライ
トまたは金属酸化物の系列の化合物の少なくとも1種を添加することにより該重
合が行われることからなる方法に関する。
上記重合は好ましくは少なくとも1つのアルキル基を有するアルミニウム化合
物を周期表の第IV亜族の金属の化合物と反応させることにより製造された固体担
体に支持された遷移金属触媒により行われる。
この方法により重合可能なオレフィンは、エチレンおよびα−オレフィン例え
ばプロピレン、ブテ−1−エン、4−メチレンペンテ−1−エンもしくは5−メ
チルヘキセ−1−エン、ならびにオレフィンの混合物、代表的には高級α−オレ
フィンの少量との混合物であるエチレン−プロピレンまたはプロピレンである。
プロピレンの重合および共重合の方法は特に重要である。
重合触媒は遷移金属触媒である。それらは、典型的には活性形態のマグネシウ
ムジハライドおよびチタン化合物からなる。周期表の第IV亜族の他の金属(Zr
および
Hf)を有する触媒もまた適当である。活性形態のマグネシウムジハライドはそ
のエックス線スペクトルにおいて最も強い反射性の線は相当する不活性マグネシ
ウムハライドのスペクトルにおける線よりもより広範囲である。
マグネシウムジハライドとして二塩化マグネシウムまたは二臭化マグネシウム
原子を使用するのが好ましい。チタン化合物は、チタン−ハライド結合の少なく
とも1つを含む。四塩化チタンを使用することが特に好ましい。
チタン化合物はEP−A−45977に記載されるように電子供与体、代表的
にはカルボン酸エステルと共に使用できる。
マグネシウムハライド成分と、チタン化合物および適当ならば電子供与体との
反応の後、過剰のチタン化合物および過剰の電子供与体は不活性溶媒、代表的に
はヘキサンまたはヘプタンによって都合良く洗浄除去される。
このように製造された触媒は、アルキル基の少なくとも1つを有し、好ましく
はアルカンの溶液として使用されるアルミニウム化合物による反応により活性化
される。適当なアルミニウムアルキル基の例は、Al(C2H5)3またはAl
(C4H9)3である。
共活性剤(co-activator)として電子供与体、都合良くは、EP−A−4597
7に記載されたSi−O−C結合の少なくとも1つを含む有機珪素化合物を使用
できる。このような珪素化合物の代表例はフェニルトリエトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、ジフェニルジメ
トキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシランまたはエ
チルトリメトキシシランである。
他の遷移元素触媒は代表的には固体担体例えばアルミナもしくはシリカまたは
それらの混合物上のクロム化合物である。フィリップ触媒とも呼ばれるこのよう
な触媒の例はUS−A−2825271に見いだされる。
これらの触媒による重合は液相または気相における公知の方法により行うこと
ができる。液相は都合良くは脂肪族炭化水素または液体モノマーそれ自体であっ
てよい。
反応条件下で水を脱離しないハイドロタルサイト、ゼオライトまたは金属酸化
物の系列の化合物は、重合の開始時、最中または終了近くで重合媒体に添加され
る。
ハイドロタルサイト、ゼオライトまたは金属酸化物のは天然由来の鉱物ならび
に合成で製造された化合物である。
ハイドロタルサイトの系列の化合物は、一般式
(式中、
M2+=Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Pb,Snおよび/またはNi
M3+=Al,BまたはBi
Anは価数nのアニオンを表し;
nは1ないし4の数であり;
Xは0ないし0.5の数であり;
mは0ないし2の数であり;および
A=OH−,C1−,Br−,I−,C1O4 −,
HCO3 −,CH3COO−,C6H5COO−,
(CHOHCOO)2 2-,
(CHOH)4CH2OHCOO−,
C2H4(COO)2 2-,(CH2COO)2 2-,
CH3CHOHCOO−,SiO3 2-,SiO4 4-,
Fe(CN)6 3-,Fe(CN)6 4-またはHPO4 2-を表す。)により説明さ
れる。
上記記載の方法に都合良く使用できる他のハイドロタルサイトは一般式Ia
(式中、M2+はMgおよびZnの系列の金属の少なくとも一つであり、Mgが好
ましく、An-はCO3 2-,
し;nはアニオンの価数を表し;mが正の数、好ましくは0.5ないし5を表し
、ならびにxおよびzは正の数を表す。)で表される化合物である。
ハイドロタルサイトの系列の好ましい化合物は一般式I
(M2+はMgおよびZnの系列の金属の少なくとも1つであり、An-はCO3 2-
であり、xは0ないし0.5の
数を表しおよびmは0ないし2である)で表される化合物である。
特に好ましいハイドロタルサイトは以下の式
Al2O3・6MgO・CO2・12H2O,
Mg4.5Al2(OH)13・CO3・3.5H2O
4MgO・Al2O3・CO2・9H2O
4MgO・Al2O3・CO2・6H2O
ZnO・3MgO・Al2O3・CO2・8−9H2Oまたは
ZnO・3MgO・Al2O3・CO2・5−6H2Oで表される化合物である
。
本発明の実施には一般式(X)
Mx/n[(AlO2)x(SiO2)y]-wH2O (X)
(式中、nはカチオンMの価数を表し、Mは周期表の第Iまたは第II主族の元素
を表し;y:xは0.8ないし1.2の数を表し;およびwは0.5ないし10
の数を表す。)で表されるゼオライトもまた使用できる。
上記方法で使用できる好ましいそれ自体公知のゼオライトは3−5Åの平均有
効細孔を有し、4Åの平均有効細孔をもち、そのため4Aゼオライトとも呼ばれ
る公知のNaAタイプのゼオライトを含む。
適当なゼオライトの実例は、以下の式の化合物である:
Na12(AlO2)12(SiO2)12・
12H2O
Ca4.5Na3[(AlO2)12(SiO2)12]・30H2
O
K9Na3[(AlO2)12(SiO2)12]・27H2O
金属酸化物もまた本発明の方法に使用できる。二価の金属酸化物が好ましい。
周期表の第II主族または亜族の金属の酸化物が特に好ましく、亜鉛およびマグネ
シウム酸化物が最も好ましい。
まだ充分に乾燥せずにそれらを調整しそして水分を除去して貯蔵された新規な
化合物は50−800℃、好ましい80ないし400℃で乾燥して結合してない
または単に緩く結合した水を除去する。乾燥は減圧下または不活性気体下で行う
ことができる。物質の表面は8個以上の炭素原子のカルボン酸または線状アルコ
ール、都合良くはステアリン酸のような表面活性試薬で処理できる。
反応条件下で水を脱離しないハイドロタルサイト、ゼオライトまたは金属酸化
物あるいは同様の合成で製造できる化合物は上記ポリマーに基づいて0.005
ないし0.5重量%、好ましい0.01ないし1重量%の量で通常添加される。
上記方法は好ましくは追加の安定剤を使用して行われる。
本発明の特に好ましい具体例は上記方法を、2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン基の少なくとも1つを含み、および分子量約500を有する化合物をさ
らに添
加することにより、またはリン(III)化合物をさらに添加することにより行う
ことからなる。リン(III)化合物を伴うこのような2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン化合物の使用は特に好ましい。
立体障害性アミン、好ましくはピペリジンは特に光安定剤として知られている
が、ここでそれらは例えばポリマーに熱的酸化安定性を与える、酸化防止剤とし
ても作用する。これらの化合物は式I
で表される基の1以上を含む。
それらはオリゴマーまたはポリマー化合物である。
特に重要な安定剤は以下の種類のテトラメチルピペリジンである:
a)式II
〔式中、nが1ないし4、好ましくは1ないし2の数であり;R1は水素原子、
オキシル基、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし8のア
ルケニル基、炭素原子数3ないし8のアルキニル基、炭素原子
数7ないし12のアラルキル基、炭素原子数1ないし8のアルカノイル基、炭素
原子数3ないし5のアルケノイル基、グリシジル基または基:−CH2CH(O
H)−Z(式中、Zは水素原子、メチル基またはフェニル基を表す。)を表し、
R1の好ましい意味
は、炭素原子数1ないし4のアルキル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基ま
たはアクリロイル基であり;
nが1の場合、R2は水素原子、1以上の酸素原子で中断されていてもよい炭素
原子数1ないし18のアルキル基、シアノエチル基、ベンジル基、グリシジル基
、脂肪族、脂環式、アルアリファチック(araliphatic)、不飽和もしくは芳香族
カルボン酸、カルバミン酸またはリン含有酸の一価の基あるいは、一価のシリル
基を表し、好ましくは2ないし18個の炭素原子の脂肪族カルボン酸の基、7な
いし15個の炭素原子の脂環式カルボン酸の基、3ないし5個の炭素原子のα,
β−不飽和カルボン酸の基、または7ないし15個の炭素原子の芳香族カルボン
酸の基を表し;
nが2の場合、R2は炭素原子数1ないし12のアルキレン基、炭素原子数4な
いし12のアルケニレン基、キシリレン基、脂肪族、脂環式、アルアリファチッ
ク(araliphatic)もしくは芳香族ジカルボン酸、ジカルバミン酸もしくはリン含
有酸の二価の基を表すか、あるいは二価のシリル基を表し、好ましくは2ないし
36個の炭素原子の脂肪族ジカルボン酸の基、8ないし14個の炭素
原子の脂環式もしくは芳香族ジカルボン酸の基、または8ないし14個の炭素原
子の脂肪族、脂環式もしくは芳香族ジカルバミン酸の基を表し;
nが3の場合、R2は脂肪族、脂環式または芳香族トリカルボン酸の三価の基、
芳香族トリカルバミン酸の三価の基、またはリン含有酸の三価の基を表すか、あ
るいは三価のシリル基を表し;ならびに
nが4の場合、脂肪族、脂環式または芳香族テトラカルボン酸の四価の基を表す
。〕で表される化合物。
炭素原子数1ないし12のアルキル基として定義された置換基は代表的にはメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、
n−デシル基、n−ウンデシル基またはn−ドデシル基である。
炭素原子数1ないし18のアルキル基としてのR2は上記に挙げた基であって
よくおよびさらにn−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基
またはn−オクタデシル基であってよい。
炭素原子数3ないし8のアルケニル基としてのR1は代表的には1−プロペニ
ル基、アリル基、メタリル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセ
ニル基、2−オクテニル基、4−第三ブチル−2−ブテニル基であってよい。
炭素原子数3ないし8のアルキニル基としてのR1は
好ましくはプロパルギル基である。
炭素原子数7ないし12のアラルキル基としてのR1は好ましくはフェネチル
基でありおよび最も好ましくはベンジル基である。
炭素原子数1ないし8のアルカノイル基としてのR1は代表的にはホルミル基
、プロピオニル基、ブチリル基、オクタノイル基であるが、好ましくはアセチル
基であり、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基としてのR1は好ましくはア
クリロイル基である。
カルボン酸の一価の基として定義されるR2は代表的には酢酸、カプロン酸、
ステアリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、安息香酸またはβ−(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の基である。
ジカルボン酸の二価の基として定義されるR2は代表的にはマロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、マレイン酸、フタル酸
、ジブチルマロン酸、ジベンジルマロン酸、ブチル−(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)マロン酸またはビシクロヘプテンジカルボン酸の基
である。
トリカルボン酸の三価の基として定義されるR2は代表的にはトリメリット酸
の基またはニトリロトリ酢酸の基である。
テトラカルボン酸の四価の基として定義されるR2は代表的にはブタン−1,
2,3,4−テトラカルボン酸
の基またはピロメリット酸の基である。
ジカルバミン酸の二価の基としてのR2は代表的にはヘキサメチレンジカルバ
ミン酸の基または2,4−トルイレンジカルバミン酸の基である。
b)式(III)
〔式中、nは1または2を表し;
R1は上記a)に基づく定義と同じ意味を表し;
R3は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数2ないし5
のヒドロキシアルキル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、炭素原子
数7ないし8のアラルキル基、炭素原子数2ないし18のアルカノイル基、炭素
原子数3ないし5のアルカノイル基またはベンゾイル基を表し;および
nが1の場合、R4は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原
子数3ないし8のアルケニル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基;ヒ
ドロキシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基もしくはカルバミド基によっ
て置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基;グリシジル基、式:−CH2
−CH(OH)−Zまたは式:−CONH−Z(式中、Zは水素原子、
メチル基もしくはフェニル基を表す。)で表される基を表し;または
nが2の場合、R4は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数6な
いし12のアリーレン基、キシリレン基、基:−CH2−CH(OH)−CH2
または基:−CH2−CH(OH)−CH2−O−D−Oー(式中、Dは炭素原
子数2ないし10のアルキレン基、炭素原子数6ないし15のアリーレン基、炭
素原子数6ないし12のシクロアルキレン基を表す。)を表すが;但し、R3が
アルカノイル、アルケノイルまたはベンゾイル基でない場合、R4はまた脂肪族
、脂環式もしくは芳香族ジカルボン酸またはジカルバミン酸の二価の基をも表す
か、また、−CO−を表してもよく;
あるいはnが1の場合、R3およびR4が一緒になって脂肪族、脂環式もしくは
芳香族1,2−または1,3−ジカルボン酸の二価の基となってもよい。
炭素原子数1ないし12のアルキル基または炭素原子数1ないし18のアルキ
ル基として定義された置換基は既にa)の下に示した意味である。
炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基として定義された置換基は好ましく
はシクロヘキシル基である。
炭素原子数7ないし8のアラルキル基として定義されたR3は好ましくはフェ
ニルエチル基または最も好ましくはベンジル基である。炭素原子数2ないし5の
ヒドロキシアルキル基としてのR3は好ましくは2−ヒドロキ
シエチル基または2−ヒドロキシプロピル基である。
炭素原子数2ないし18のアルカノイル基としてのR3は代表的にはプロピオ
ニル基、ブチリル基、オクタノイル基、ドデカノイル基、ヘキサデカノイル基、
オクタデカノイル基であるが、好ましくはアセチル基であり、そして炭素原子数
3ないし5のアルケノイル基としてのR3は好ましくはアクリロイル基である。
炭素原子数2ないし8のアルケニル基としてのR4は、代表的にはアリル基、
メタリル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基または2−
オクテニル基である。
ヒドロキシル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基またはカルバミド基によ
って置換されている炭素原子数1ないし4のアルキル基としてのR4は代表的に
は2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基、
メトキシカルボニルメチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−アミノカ
ルボニルプロピル基または2−(ジメチルカルバモイル)エチル基である。
炭素原子数2ないし12のアルキレン基として定義された置換基は代表的には
エチレン基、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピレン基、テトラメチレン基
、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基またはドデカメチレン
基である。
炭素原子数6ないし15のアリーレン基として定義さ
れた置換基は代表的にはo−、m−もしくはp−フェニレン基、1,4−ナフチ
レン基または4, 4’−ジフェニレン基である。
炭素原子数6ないし12のシクロアルキレン基としてのDは好ましくはシクロ
ヘキシレン基である。
この種類のポリアルキルピペリジン化合物の実例は:N,N’−ビス(2,2
,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−N,N’−ジブチルアジパミ
ド、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)−
N,N’−ジシクロヘキシル−2−ヒドロキシプロピレン−1,3−ジアミン
以下の式
で表される化合物である。
c)式(IV)で表される化合物
〔式中、nは1または2を表し;R1はa)の下に定義された意味を表し;そし
て
nが1の場合、R5は炭素原子数2ないし8のアルキレン基または炭素原子数2
ないし8のヒドロキシアルキレン基または炭素原子数4ないし22のアシルオキ
シアルキレン基を表し;および
nが2の場合、R5は基:(−CH2)2C(CH2−)2を表す。〕
炭素原子数2ないし8のアルキレン基または炭素原子数2ないし8のヒドロキ
シアルキレン基としてのR5はエチレン基、1−メチレンエチレン基、プロピレ
ン基、2−エチルプロピレン基または2−エチル−2−ヒドロキシメチルプロピ
レン基であってよい。
炭素原子数4ないし22のアシルオキシアルキレン基としてのR5は2−エチ
ル−2−アセトキシメチルプロピレン基であってよい。
d)以下の式VA,VBおよびVCで表される化合物。
〔式中、nは1または2を表し;R1はa)の下に定義された意味を表し;
R6は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、アリル基、ベンジル基
、グリシジル基または炭素原子数2ないし6のアルコキシアルキル基を表し;お
よび
nが1のとき、R7は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ない
し5のアルケニル基、炭素原子数7ないし9のアラルキル基、炭素原子数5ない
し7のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし4のヒドロキシアルキル基、炭素
原子数2ないし6のアルコキシアルキル基、炭素原子数6ないし10のアリール
基、グリシジル基または式:−(CH2)p−COO−Qまたは式:−(CH2)p
−O−CO−Q(式中、pは1または2を表しおよびQは炭素原子数1ないし4
のアルキル基またはフェニルを表す。)で表される基を表し;あるいはnが
2のとき、R7は炭素原子数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし
12のアルケニレン基、炭素原子数6ないし12のアリーレン基、基:−CH2
−CH(OH)−CH2−O−D−O−CH2−CH(OH)−CH2−(基中
、Dは炭素原子数2ないし10のアルキレン基、炭素原子数6ないし15のアリ
ーレン基、炭素原子数6ないし12のシクロアルキレン基を表す。)を表すか、
またはR7は基:−CH2CH(OZ’)CH2−(OCH2−CH(OZ’)
CH2)2−(式中、Z’は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、
アリル基、ベンジル基、炭素原子数2ないし12のアルカノイル基またはベンゾ
イル基を表す。)を表し;T1およびT2は各々互いに独立して水素原子または
ハロゲン原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換されていて
もよい炭素原子数6ないし10のアリール基または炭素原子数7ないし9のアラ
ルキル基を表し;あるいはT1およびT2は結合する炭素原子と一緒になって、
炭素原子数5ないし12のシクロアルカン環を形成する。〕
炭素原子数1ないし12のアルキル基として定義された置換基は代表的にはメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、
n−デシル基、n−ウンデシル基またはn−ドデシル基である。
炭素原子数1ないし18のアルキル基として定義された置換基は上記に引用し
た基であってよく、およびさらにn−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−
ヘキサデシル基またはn−オクタデシル基であってよい。
炭素原子数2ないし6のアルコキシアルキル基として定義された置換基は代表
的には、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、第三ブト
キシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピル基、n−ブトキシエチル基
、第三ブトキシエチル基、イソプロポキシエチル基またはプロポキシプロピル基
である。
炭素原子数3ないし5のアルケニル基としてのR7は1−プロペニル基、アリ
ル基、メタリル基、2−ブテニル基または2−ペンテニル基であってよい。
炭素原子数7ないし9のアラルキル基としてのR7、T1およびT2は好まし
くはフェネチル基であり、また最も好ましくはベンジル基である。T1およびT2
が結合する炭素原子と一緒になることにより形成されるシクロアルカン環はシ
クロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタンまたはシクロドデカン環であっ
てよい。
炭素原子数2ないし4のヒドロキシアルキル基としてのR7は2−ヒドロキシ
エチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−ヒドロキシブチル基または4−ヒド
ロキシブチル基である。
炭素原子数6ないし10のアリール基としてのR7、T1およびT2は、好ま
しくはハロゲン原子または炭素
原子数1ないし4のアルキル基で置換されていてよいフェニル基、α−またはβ
−ナフチル基である。
炭素原子数2ないし12のアルキレン基としてのR7は代表的にはエチレン基
、プロピレン基、2,2−ジメチルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメ
チレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基またはドデカメチレン基である。
炭素原子数4ないし12のアルケニレン基としてのR7は好ましくは2−ブテ
ニレン基、2−ペンテニレン基または3−ヘキセニレン基である。
炭素原子数6ないし12のアリーレン基としてのR7は代表的にはo−、m−
もしくはp−フェニレン基、1,4−ナフチレン基または4,4’−ジフェニレ
ン基である。
炭素原子数2ないし12のアルカノイル基としてのZ’はプロピロニル基、ブ
チリル基、オクタノイル基、ドデカノイル基であってよいが、好ましくはアセチ
ル基である。
炭素原子数2ないし10のアルキレン基、炭素原子数6ないし15のアリーレ
ン基または炭素原子数6ないし12のシクロアルキレン基としてのとしてのDは
、b)の下に定義されたと同じ意味である。
この種類のポリアルキルピペリジンの実例は以下の化合物である。
2,2,4,4,−テトラメチル−7−オキサ−3,
20−ジアザ−21−オキソ−ジスピロ[5.1.11.2]−ヘネイコサン;
8−アセチル−3−ドデシル−1,3,8−トリアザ−7,7,9,9−テトラ
メチルスピロ[4,5]デカン−2,4−ジオン;
あるいは次式の化合物である:
e)以下の式VIで表される化合物
〔式中、nは1または2を表し;およびR8は式
で表される基を表し:
R1はa)の下に定義された意味を表し、Eは−O−または−NR11−を表し、
Aは炭素原子数2ないし6のアルキレン基または−(CH2)3−O−を表し;
およびxは0または1を表し;
R9はR8の意味をもつか、または基:−NR11R12、−OR13,−NHCH2
OR13もしくは−N(CH2OR13)2を表し;
nが1のとき、R10はR8またはR9の意味を有しおよびnが2のとき、R110
は基−E−B−E−(式中、Bは−N(R11)−によって中断されていてよい炭
素原子数2ないし6のアルキレン基を表す。)を表し、R11は炭素原子数1ない
し12のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素原子数1ないし
4のヒドロキシアルキル基を表すか、または式:
で表される基を表し;
R12は炭素原子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、
炭素原子数1ないし4のヒドロキシアルキル基を表し;および
R13は水素原子、炭素原子数1ないし12のアルキル基またはフェニル基を表し
、またR11およびR12は、一緒になって炭素原子数4ないし5のアルキレン基ま
で表される基を表し;あるいはR11およびR12はまたそれぞれ式
で表される基を表す。〕
炭素原子数1ないし12のアルキル基として定義される置換基は代表的にはメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル
基、n
−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デ
シル基、n−ウンデシル基またはn−ドデシル基である。
炭素原子数1ないし4のヒドロキシアルキル基として定義される置換基は代表
的には2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシプ
ロピル基、2−ヒドロキシブチル基または4−ヒドロキシブチル基である。
炭素原子数2ないし6のアルキレン基としてのAはエチレン基、プロピレン基
、2,2−メチルプロピレン基、テトラメチレン基またはヘキサメチレン基であ
る。
炭素原子数4ないし5のアルキレン基またはオキサアルキレン基として、一緒
になったR11およびR12は、テトラメチレン基、ペンタメチレン基または3−オ
キサペンタメチレン基である。
この種類のポリアルキルピペリンの実例は以下に示す式の化合物である:
f)構造反復単位が式(I)で表される2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン基の1つ以上を含むオリゴマーまたはポリマー化合物、好ましくはポリエステ
ル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリアミン、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリア
ミノトリアジン、ポリ(メタ)アクリレート、ポリシロキサン、ポリ(メタ)ア
クリレルアミドならびに、上記基を含むそれらのコポリマー。
この種類の2,2,6,6−テトラメチルピペリジン光安定剤の実例は以下に
示す式で表される化合物である(なお、各式中、mは2ないし約200の数であ
る)。
光安定剤のこれらの部類のなかでは、部類e)およびf)が特別に適当であり
、特にはs−トリアジン基を含むこれらテトラアルキルピペリジンである。他の
特別に適当な基は、化合物74、76、84、87、92および95である。
添加されるテトラメチルピペリジンの量は所望の安定化の程度に依存する。通
常ポリマーに基づいて0.01ないし5重量%、好ましくは0.05ないし1重
量%が添加されるべきである。テトラメチルピペリジンとアルミニウムアルキル
とのモル比が実質的に1より大きくならないことが好ましい。
所望による追加の安定剤として重合に添加されるリン(III)化合物はホスフ
ィット、ホスホナイトまたはホスフィニット(phosphinites)である。それらはリ
ン酸エステル基の1以上を含んでよい。以下の式A、B、CまたはD
(式中、R1およびR2は各々互いに独立して炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、炭素原子数5ないし8の
シクロアルキル基、フェニル基、1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアル
キル基で置換されたフェニル基または基:−OR3を表し;
R3は炭素原子数6ないし20のアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロア
ルキル基、フェニル基または1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアルキル
基で置換されたフェニル基を表しおよび
R4は未置換のフェニレン基もしくはナフチレン基または炭素原子数1ないし1
2のアルキル基で置換されたフェニレン基もしくはナフチレン基を表すか、ある
いは基:−O−R5−O−を表し;
R5は未置換のフェニレン基もしくはナフチレン基または炭素原子数1ないし1
2のアルキル基で置換されたフェニレン基もしくはナフチレン基を表すか、ある
いは−Phen−R6−Phen−(基中、Phenはフェニレン基を表す。)
を表し;
R6は−O−、−S−、−SO2−、−CH2−または−C(CH3)−を表し
;
R7およびR8は各々互いに独立してフェニル基または1ないし3個の炭素原子
数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル基を表し、およびR7および
R8の2つの基はまた炭素原子数1ないし12のアルキレン基により結合してい
てもよく;ならびに
R9はF、Cl、BrまたはIを表し、好ましくはFである。〕で表されるリン
(III)化合物を使用するのが好
ましい。
式Aの化合物の中では、R1およびR2が基−OR3を表しおよびR3が炭素
原子数6ないし20のアルキル基、フェニル基または1ないし3個の炭素原子数
1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル基を表す、これらの化合物が好
ましい。
式Bで表される化合物の中では、R2が基−OR3を表し、R3がフェニルま
たは1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル
基を表し、およびR4がジフェニレン基を表す、これらの化合物が好ましい。
式Cで表される化合物の中ではR1が基−OR3を表し、R3がフェニルまた
は1ないし3個の炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換されたフェニル基
を表す、これらの化合物が好ましい。
基:P−O−Ar(式中、Arはモノ−、ジ−またはトリアルキル基を表す。
)の少なくとも1つを含むリン(III)化合物を使用するのが望ましい。
望ましいリン(III)化合物の具体例は以下のものである:
トリフェニルホスフィット、デシルジフェニルホスフィット、フェニルジデシ
ルホスフィット、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフ
ィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリスリトールジ
ホスフィット、トリス(2,4−ジ−第
三ブチルフェニル)ホスフィット、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスフ
ィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ペンタエリスリトールジホス
フィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス(2,4
−ジ−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス(2,
6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスフィッ
ト
リン(III)化合物の量は添加するピペリジン化合物の量に依存する。通常で
は、ポリマーに基づいて、0.01ないし1重量%、好ましくは0.05ないし
0.5重量%を添加する。
リン(III)化合物の他にも、他の重合を妨害しない補助安定剤または改質剤
を添加できる。立体障害性フェノール型の酸化防止剤の重合へ添加は好ましい。
これらのフェノールは有機材料に対する標準的な酸化防止剤であり、ポリマーの
安定化に頻繁に使用される。このようなフェノール系酸化防止剤の具体例は以下
のものである。1 アルキル化モノフェノール
、例えば
2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、
2−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、
2,6−ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、
2,6−ジ−第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、
2,6−ジ−第三ブチル−4−イソブチルフェノール、
2,6−ジ−シクロペンチル−4−メチルフェノール、
2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、
2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、
2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、
2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール、
2,6−ジノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−メ
チル−ウンデカ−1′−イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1′−
メチル−ヘプタデカ−1′−イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1
′−メチル−トリデカ−1′−イル)−フェノールおよびそれらの混合物。2.アルキルチオメチルフェノール、
例えば2,4−ジ−オクチルチオメチル−
6−第三ブチルフェノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−メチルフェ
ノール、2,4−ジ−オクチルチオメチル−6−エチルフェノール、2,6−ジ
−ドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール。3 ヒドロキノンとアルキル化ヒドロキノン
、例えば
2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、
2,5−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、
2,5−ジ−第三−アミル−ヒドロキノン、
2,6−ジフェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、
2,6−ジ−第三ブチル−ヒドロキノン、2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシアニソール、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス(3,5−ジ−
第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペート。4 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル
、例えば2,2′−チオビス(6−
第三ブチル−4−メチルフェノール)、
2,2′−チオビス(4−オクチルフェノール)、
4,4′−チオビス(6−第三ブチル−3−メチルフェノール)、
4,4′−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、4,4′−チ
オ−ビス(3,6−ジ−第二−アミルフェノール)、4,4′−ビス(2,6−
ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−ジスルフィド。5 アルキリデンビスフェノール
、例えば
2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、
2,2′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、
2,2′−メチレン−ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フ
ェノール]、
2,2′−メチレン−ビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、
2,2′−メチレン−ビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、
2,2′−メチレン−ビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
2,2′−エチリデン−ビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
2,2′−エチリデン−ビス(6−第三ブチル−4−イソブチルフェノール)、
2,2′−メチレン−ビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノー
ル]、
2,2′−メチレン−ビス[6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフ
ェノール]、
4,4′−メチレン−ビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノール)、
4,4′−メチレン−ビス(6−第三ブチル−2−メチルフェノール)、
1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン
、
2,6−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−
メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2
−メチルフェニル)ブタン、
1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−
n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3′
−第三ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)ブチレート]、
ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ジシクロペンタ
ジエン、
ビス[2−(3′−第三ブチル−2′−ヒドロキシ−5′−メチルベンジル)−
6−第三ブチル−4−メチルフェニル]テレフタレート、
1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−
ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−
ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデ
シルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ−(5−第三ブチル−4−ヒド
ロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。6. O−、N−およびS−ベンジル化合物、
例えば
3,5,3′,5′−テトラ−第三ブチル−4,4′−ジヒドロキシジベンジル
エーテル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル−メルカ
プトアセテ−ト、トリス−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)−アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジ
ル)−ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジル−メルカプトアセテート。7.ヒドロキシベンジル化マロネート、
例えば
ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチ
ル−2−ヒドロキシベンジル)−マロネート、ジ−オクタデシル−2−(3−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−マロネート、ジ−ドデシル
メルカプトエチル−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジル)−マロネート、ジ−[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
フェニル]−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル
)−マロネート。8. ヒドロキシベンジル芳香族化合物、
例えば、1,3,5−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼ
ン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,
3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジル)−フェノール。9. トリアジン化合物、
例えば、
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、
2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、
2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−
1,2,3−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イ
ソシアヌレート、
1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6 −ジメチルベ
ンジル)−イソシアヌレート、
2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル
)−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピ
オニル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)−
イソシアヌレート。10. ベンジルホスホネート、
例えばジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホネート、3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのCa塩。11. アシルアミノフェノール、
例えば
ラウリン酸4−ヒドロキシアニリド、
ステアリン酸4−ヒドロキシアニリド、
カルバミン酸N−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)オクチ
ルエステル。12. β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン 酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、
例えば、
メタノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,
9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チア
ウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト
リメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。13. β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロピ オン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、
例えば、
メタノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,
9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレート、
N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデカノー
ル、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロール
プロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシ
クロ[2.2.2]オクタン。14. β−(3,5−ジ−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ オン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、
例えば
メタノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,
9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チア
ウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト
リメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−ト
リオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。15. 3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価ま たは多価アルコールとのエステル、
例えば、
メタノール、エタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,
9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペ
ンチル
グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレ
ート、N,N′−ビス(ヒドロキシエチル)シュウ酸ジアミド、3−チアウンデ
カノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチ
ロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7,−トリオ
キサビシクロ[2.2.2]オクタン。16. β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン 酸のアミド、
例えばN,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロ
ピオニル)ヘキサメチレンジアミン、
N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)トリメチレンジアミン、N,N′−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
好ましい酸化防止剤は6,8,9,12,13,14および16項、特に6,
8,9および12項に挙げたものである。特に適当な酸化防止剤はオクタデシル
β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネートお
よび1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
−2,4,6−トリメチルベンゼンである。
添加される酸化防止剤の量はリン(III)化合物の量に
依存する。通常ポリマーに基づいて0.005ないし0.5重量%、好ましくは
0.01ないし0.2重量%が添加される。
本発明を以下の限定しない実施例により、より詳細に説明し、この中において
、ならびにまた明細書および請求の範囲においても、他に言及しない限り部およ
びパーセントは重量による。実施例1:
触媒の製造
無水塩化マグネシウム25gおよび四塩化チタン−エチルベンゾエート錯体は
アルゴン下、ステンレス鋼球の入ったボールミルで室温で(約22℃)で24時
間粉砕する。このように得られた固体触媒成分はチタン2%を含む。
プロピレンの重合
重合は、重合の開始前に30分間110℃で排気され(13Pa)、続いて1
10℃においてプロピレンガスを用いて30分間フラッシュされた、3リットル
の攪拌されおよび温度調節で制御されるステンレス鋼オートクレーブ内で行う。
オートクレーブを20℃に冷却し、S−1の300mg、H−1の300mgお
よびP−1の300mg(S−1、H−1およびP−1は下記に示す添加剤であ
る。)を固体としてまたはヘキサンの5−10%溶液としてオートクレーブに添
加する。上記固体触媒成分25mgを、ヘキサン25ml中のトリエチルア
ルミニウム4mmolおよびトリエトキシフェニルシラン1.6mmolの溶液
の半分で10分間活性化し、そしてアルゴン下のオートクレーブ中で懸濁する。
オートクレーヴを上記ヘキサン溶液のもう半分でフラッシュする。上記オートク
レーブを閉じ、そして水素(6kPa)を満たし、液体プロピレン600gを装
入する。攪拌しながらオートクレーブの成分を70℃に加熱し、そして4時間こ
の温度を保持する。過剰のプロピレンを排出し、得られたポリマーを70℃にお
いてイソプロパノール10mlで処理して触媒を失活させ、そして次に70℃で
1時間減圧下で乾燥する。
上記ポリマーにおいて以下の試験が行われる。
腐食試験のため、ポリマーを280℃で30分間注意して清浄にした鉄板の間
のホットプレスにおいて圧縮成形する。鉄板を次に室温(約22℃)、100%
湿度で24時間貯蔵する。腐食は目視で評価される。
ポリマーの色をASTM D 1925−70に従って黄色度指数(YI)に
より確認する。
上記ポリマーは鉄板をほんの僅かに(insignificantly)腐食するのみである。
それはYI:2.3である。比較実施例2
:
S−1の300mgを使用することなしに、実施例1を繰り返し、同じ触媒量
でポリマーを得るが、それは鉄板を酷く腐食し、YI:2.5である。実施例3および4
:
それぞれの場合S−1をS−2の300mg/S−5の300mg(S−2,
S−5は以下に示す添加剤である)と置き換えて、実施例1を繰り返し、鉄板を
ほんの僅かに腐食する(insignificantly)/軽微に腐食する(slightly)、ならび
にYI:2.3/2.2であるポリマーを得る。実施例5:
実施例3と同様に調整されたポリプロピレン粉末をブラベンダープラストグラ
フ中で230℃10分間加工する。溶融物をニーダーから取り出しそして約5m
mの板に圧縮する。腐食試験において鉄板は上記溶融物加工後腐食を示さない。比較実施例6:
比較実施例2に従って製造したポリマーを実施例5に記載したと同様に加工す
る。上記溶融物加工後に鉄板は酷く腐食する。実施例7および8:
酸化的分解への安定性を、高温においてオーブン老化においてポリマーの明ら
かな脆化が生じるまでにかかる時間により測定する。この試験はS−1の300
mg、H−1の300mgおよびP−1の300mg、ならびにS−5の300
mgNH−1の300mgおよびP−1の300mgを添加することにより、こ
の試験を実施例1に記載したように得られたポリプロピレンを230
℃で圧縮成形することにより得られるボードについて行う。135℃のオーブン
温度において脆化までにかかる時間は両方のポリマーに対して11日である。比較実施例9:
S−1およびS−5の添加なしに、実施例7および8の明細に従って製造され
、そして試験されるポリマーもまた11日後脆化する。この結果はS−1および
S−5の添加は酸化的分解に対するポリマーの安定性に影響を及ぼさないことを
意味する。比較実施例10:
実施例7および8の明細に従って製造され、そして試験されるが、S−1およ
びS−5ならびにH−1およびP−1を使用しないポリマーは1日後脆化する。実施例11−14:
重合は実施例1に記載したと同様に行うが、固体触媒成分44mg、トリエチ
ルアルミニウム6.4mmolおよびトリエトキシフェニルシラン2.4mmo
lを使用する。。化合物S−1およびH−2の代わりに以下の化合物を使用する
。
実施例 添加物 腐食 YI
11 H−1 + S−3 軽微 2. 3
12 H−1 + S−4 軽微 2. 5
13 H−2 + S−3 軽微 2. 5
14 H−3 + S−3 軽微 2. 8
上記実施例では以下の添加剤を使用する。S−1
:
[Mg4.5Al2(OH)13CO3・3.5H2O]
(この化合物は登録商標名DHT−4Aの下でキョウワ化学(日本)により販売
されている。)。混合物は五酸化リンの上で95℃で24時間、真空乾燥する。S−2
:
焼成した
[Mg4.5Al2(OH13CO3・3.5H2O]
(この化合物は登録商標名DHT−4Cの下でキョウワ化学(日本)により販売
されている。)。混合物は五酸化リンの上で95℃で24時間、真空乾燥する。S−3
:酸化亜鉛(乾燥)S−4
:モレキュラーシーブ(乾燥)S−5
:酸化マグネシウム(乾燥)H−1
:
を表す。)H−2:
H−3:
P−1:
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,
TD,TG),AT,AU,BB,BG,BR,BY,
CA,CH,CZ,DE,DK,ES,FI,GB,H
U,JP,KP,KR,KZ,LK,LU,LV,MG
,MN,MW,NL,NO,NZ,PL,PT,RO,
RU,SD,SE,SK,UA,US,UZ,VN
(72)発明者 パウクエスト,ジーン−ロシュ
スイス国,4303 カイゼラウグスト,アウ
フ デア シャンツ 33
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.遷移金属触媒による重合によるオレフィンポリマーの製造方法であって、反 応条件下で水を脱離しない、ハイドロタルサイト、ゼオライトまたは金属酸化物 の系列の化合物の少なくとも1種を添加することにより重合が行われることから なる方法。 2.少なくとも1つのアルキル基を有するアルミニウム化合物と周期表の第IV亜 族の金属の化合物とを反応させることにより製造された、固体担持触媒を使用す ることによりオレフィンポリマーを製造することからなる請求項1に記載の方法 。 3.触媒が担体上のクロム化合物である請求項1に記載の方法。 4.反応条件下で水を脱離しない、ハイドロタルサイト、ゼオライト、金属酸化 物または同様に合成で製造された化合物を、50−800℃、好ましくは80− 400℃で乾燥した後に使用する請求項1に記載の方法。 5.合成で製造されたハイドロタルサイトまたはゼオライトの使用を含む請求項 1に記載の方法。 6.前記ハイドロタルサイトが一般式 (式中、 M2+=Mg,Ca,Sr,Ba,Zn,Cd,Pb,Snおよび/またはNi M3+=A1,BまたはBi Anは価数nのアニオンを表し; nは1ないし4の数であり; xは0ないし0.5の数であり; mは0ないし2の数であり;および A=OH-,Cl-,Br-,I-,ClO4 -, HCO3 -,CH3COO-,C6H5COO-, (CHOHCOO)2 2-,(CHOH)4CH2OHCOO-,C2H4(COO)2 2 - ,(CH2COO)2 2-, CH3CHOHCOO-,SiO3 2-,SiO4 4-, Fe(CN)6 3-,Fe(CN)6 4-またはHPO4 2-である。)または式 (式中、M2+はMgおよびZnの系列の金属の少なくとも1つであり、Mgが好 ましく; のアニオンを表し;およびnはアニオンの価数を表し;mが正の数、好ましくは 0.5ないし5を表し;ならびにxおよびzは正の数を表し、および好ましくは xは2ないし6でありおよびzは2よりも小さい。)に相当する請求項1に記載 の方法。 7.前記ゼオライトが一般式 Mx/n[(AlO2)x(SiO2)y]-wH2O (X) (式中、nはカチオンMの価数を表し;Mは周期表の第Iまたは第II主族の元素 を表し;y:xは0.8ないし1.2の数を表し;およびwは0.5ないし10 の数を表す。)に相当する請求項1に記載の方法。 8.二価の金属の酸化物の使用を含む請求項1に記載の方法。 9.周期表の第II主族および亜族の金属の酸化物の使用を含む請求項1に記載の 方法。 10.亜鉛またはマグネシウムの酸化物の使用を含む請求項1に記載の方法。 11.分子量約500を有する2,2,6,6−テトラメチルピペリジンまたは リン(III)化合物を、追加の安定剤として重合中に添加する請求項1に記載の 方法。 12.分子量約500を有する2,2,6,6−テトラメチルピペリジンを追加 の安定剤として使用する請求項1に記載の方法。 13.分子中にs−トリアジンの少なくとも1つを含み、分子量約500を有す る2,2,6,6−テトラメチルピペリジンを追加の安定剤として使用する請求 項1に記載の方法。 14.式 (式中、Rは を表す。); 式 R= ;あるいは式 で表される化合物を、追加の安定剤として使用する請求項1に記載の方法。 15.リン(III)化合物を追加の安定剤として使用する請求項1に記載の方法 。 16.追加の安定剤として、少なくとも1つの基:P−O−Ar(式中、Arは モノ−、ジ−、トリアルキルフェニル基を表す。)を含むリン(III)化合物の 使用を含む請求項1に記載の方法。 17.追加の安定剤として、トリス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフ ィットまたはテトラキス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)−4,4’−ビフ ェニレンジホスホナイトの使用を含む請求項1に記載の方法。 18.立体障害性フェノール型の酸化防止剤を追加の安定剤として使用する請求 項1に記載の方法。 19.追加の安定剤として、オクタデシルβ−(3,5−ジ−第三ブチル−4− ヒドロキシフェニル)プロピオネートおよび1,3,5−トリス(3,5−ジ− 第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼンの使 用を含む請求項1に記載の方法。 20.請求項1に記載の方法によって製造された安定化ポリオレフィン。 21.請求項1に記載の方法によって製造された安定化ポリプロピレン。
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