JPH0850356A - ポジ型フォトレジスト - Google Patents

ポジ型フォトレジスト

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JPH0850356A
JPH0850356A JP7179554A JP17955495A JPH0850356A JP H0850356 A JPH0850356 A JP H0850356A JP 7179554 A JP7179554 A JP 7179554A JP 17955495 A JP17955495 A JP 17955495A JP H0850356 A JPH0850356 A JP H0850356A
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JP
Japan
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group
carbon atoms
formula
copolymer
hydrogen atom
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JP7179554A
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English (en)
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Qian Tang
タング キアン
Martin Roth
ロス マルティン
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】熱的後処理を必要とせず、長期の保存寿命をも
ちおよび良好な解像度のレリーフ構造を与える、高感光
性のポジ型フォトレジスト材料を提供する。 【構成】ａ）酸−活性（acid labile)α−アルコキシア
ルキルエステル基を含むホモポリマーまたはコポリマー
の少なくとも１種； ｂ）カルボキシル基の含量が０．４０ないし５．５０ｍ
ｏｌ／ｋｇであるカルボキシル含有コポリマーの少なく
とも１種； ｃ）化学線への露光において酸を形成する化合物の少な
くとも１種および ｄ）有機溶媒からなる水性アルカリ媒体で現像可能なポ
ジ型フォトレジスト組成物およびこのフォトレジスト組
成物を使用するレリーフ構造の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水性アルカリ媒体で現像
することのできるポジ型フォトレジストおよびこのフォ
トレジスト組成物を使用するレリーフ構造の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】異種の基材上におけるレリーフ構造のリ
ソグラフ製造はしばしば酸感受性基を含んでいるバイン
ダーおよび光酸発生剤（acid photogenerators) を含む
エッチレジストを使用して行われる。
【０００３】特開平２−２４８９５２号ではヒドロキシ
ル基の全てまたは幾つかがテトラヒドロピラニルエーテ
ル基で置換されているフェノール樹脂を基剤とするフォ
トレジスト組成物を記載している。これらの組成物は高
い解像能力によって特徴づけられる。しかし、これらは
露光後の加熱処理を必要とする不利な点をもつ。
【０００４】特開平５−１７７１１号は（メタ）アクリ
ル酸、テトラヒドロピラニル（メタ）アクリレートのコ
ポリマーおよびアルキルアクリレートおよび光酸発生剤
を含むエッチレジスト組成物を記載する。この組成物は
高均質性フィルムを与える電着塗布により基材に付着さ
れる。しかしこのレジストの感光性は比較的低い。加え
て、この手法もまた露光後の熱処理を必要とする。
【０００５】米国特許第５２５２４２７号は酸感受性基
および遊離酸基の両方を含み、そしてエッチレジストと
して慣用の光酸発生剤と共同で使用できるコポリマーを
記載する。しかし、ある種の適用に対しては、コポリマ
ーおよびそこから生成する塗膜の両方の熱安定性が不適
切である。
【０００６】ヨーロッパ特許５６８８２７号公報に記載
される酸感受性基を含むコポリマーおよび遊離酸を含む
コポリマーの混合物もまた、ポジ型フォトレジストに対
するベース樹脂として、慣用の光酸発生剤と共同で使用
することができる。これらのフォトレジストはさらに比
較的低い感光性および照射後の熱処理を必要とする不利
な点をもつ。
【０００７】
【課題を解決するための手段】特定の有機ホモポリマー
またはコポリマーの混合物の使用が、熱的後処理を必要
とせず、長期の保存寿命をもちおよび良好な解像度のレ
リーフ構造を与える、高感光性のフォトレジスト材料を
与えることが今や見出された。
【０００８】本発明は ａ）酸−活性（acid labile)−アルコキシアルキルエス
テル基を含むホモポリマーまたはコポリマーの少なくと
も１種； ｂ）カルボキシル基の含量が０．４０ないし５．５０ｍ
ｏｌ／ｋｇであるカルボキシル含有コポリマーの少なく
とも１種； ｃ）化学線への露光において酸を形成する化合物の少な
くとも１種および ｄ）有機溶媒；からなる水性アルカリ媒体で現像可能な
ポジ型フォトレジスト組成物に関する。
【０００９】成分（ａ）は好ましくは、下式Ｉａで表さ
れる反復構造単位の８−１００重量％および下式Ｉｂで
表される反復構造単位の９２−０重量％ 〔式中、Ｘは直接結合または、１またはそれ以上の炭素
原子が酸素原子、硫黄原子または非塩基性窒素原子によ
り置換されていてもよい１ないし１８個の炭素原子を有
する２価の有機基を表し；Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、互
いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし６のアル
キル基、炭素原子数５ないし１４のアリール基、炭素原
子数６ないし２０のアラルキル基、ハロゲン原子、−Ｃ
ＯＯＨ、−ＣＯＯＲ12または−ＣＯＮＲ13Ｒ14（式中、
Ｒ12は未置換のもしくは炭素原子数１ないし６のアルコ
キシ基、ヒドロキシル基もしくはハロゲン原子で置換さ
れた炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはヒドロ
キシを末端基とするポリエーテルもしくはポリエステル
の基を表し；ならびにＲ13およびＲ14は、互いに独立し
て、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
炭素原子数５ないし１４のアリール基もしくは炭素原子
数６ないし２０のアラルキル基を表す。）を表し；Ｒ4
は炭素原子数１ないし６のアルキル基またはフェニル基
を表し；Ｒ5 は水素原子または炭素原子数１ないし６の
アルキル基を表しおよびＲ6 およびＲ7 は、互いに独立
して、水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基ま
たは炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表し；ある
いは基Ｒ4 、Ｒ5、Ｒ6 またはＲ7 の２つが、それらが
結合している炭素原子または酸素原子と一緒になって、
５−ないし８員環を形成し；Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10およびＲ
11は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし
１８のアルキル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし
６のアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基
もしくはハロゲン原子で置換されたフェニル基、ハロゲ
ン原子、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、−Ｃ
ＯＯＲ12、−ＯＣＯＲ12または−ＣＯＯＨ（式中、Ｒ12
は上記に定義したと同じ意味を表す。）を表し；あるい
はＲ9 およびＲ11はそれらと結合している炭素原子と一
緒になって、構造式 （式中、Ｒ15は水素原子、炭素原子数１ないし１８個の
アルキル基、炭素原子数５ないし１４のアリール基、炭
素原子数６ないし２０のアラルキル基を表すかまたはヒ
ドロキシル基で、アルコキシ基でもしくはハロゲン原子
で置換されたフェニル基を表す。）を有する５員環を形
成する。〕からなるホモポリマーまたはコポリマーであ
り、但し、該ホモポリマーまたはコポリマーの平均分子
量（重量平均）は１０００─５００，０００であり、お
よびＣＯＯＨ基の量は最大０．４ｍｏｌ／ｋｇである。
【００１０】２価の有機基Ｘは１ないし１８の炭素原子
を有し、および所望ならばＯ、Ｎ、またはＳのようなヘ
テロ原子を含んでよい２価の脂肪族、脂環式、芳香族、
アルアリファチック(araliphatic) または複素環式基の
いずれか、またはカルボニル基またはエステル基のよう
な官能基であってよい。
【００１１】用語、非塩基性窒素原子は第四窒素原子、
または例えばカルボニル基のような電子陰性置換基を含
む窒素原子を意味する。
【００１２】アルキル基またはアルコキシ基であるＲ1
ないしＲ12またはフェニル基の置換基としてのアルキル
基またはアルコキシ基は直鎖または分枝鎖でよい。言及
し得る基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、２−エチルヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、
ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ
基、第二ブトキシ基、第三ブトキシ基、ｎ−ペントキシ
基、ネオペントキシ基およびｎ−ヘキソキシ基である。
【００１３】置換基としてのハロゲン原子は好ましくは
臭素原子または塩素原子である。
【００１４】式Ｉａにおいて、Ｒ1 およびＲ2 は好まし
くは水素原子であり、およびＲ3 は水素原子またはメチ
ル基である。
【００１５】成分（ａ）は特に好ましくは式III （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は互いに独立して、水素
原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基、フェニル基
またはハロゲン原子である。）で表される反復構造単位
からなるホモポリマーまたはコポリマーである。
【００１６】成分（ａ）は特に好ましくは、Ｒ1 および
Ｒ2 は水素原子を表しおよびＲ3 は水素原子またはメチ
ル基を表す式III の反復構造単位からなるホモポリマー
またはコポリマーである。
【００１７】成分（ｂ）は好ましくは、下式IIａで表さ
れる反復構造単位の５−４０重量％および下式IIｂで表
される反復構造単位の９５−６０重量％ 〔式中、Ｘは直接結合または、１ないし１８個の炭素原
子を有し、１またはそれ以上の炭素原子が酸素原子、硫
黄原子または非塩基性窒素原子により置換されていても
よい２価の有機基を表し；Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、互
いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし６のアル
キル基、炭素原子数５ないし１４のアリール基、炭素原
子数６ないし２０のアラルキル基、ハロゲン原子、−Ｃ
ＯＯＨ、−ＣＯＯＲ12，または−ＣＯＮＲ13Ｒ14（式
中、Ｒ12は未置換のもしくは炭素原子数１ないし６のア
ルコキシ基、ヒドロキシル基もしくはハロゲン原子で置
換された炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはヒ
ドロキシを末端基とするポリエーテルもしくはポリエス
テルの基を表し；ならびにＲ13およびＲ14は、互いに独
立して、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル
基、炭素原子数５ないし１４のアリール基もしくは炭素
原子数６ないし２０のアラルキル基を表す。）を表し；
Ｒ4 は炭素原子数１ないし６のアルキル基またはフェニ
ル基を表し；Ｒ5 は水素原子または炭素原子数１ないし
６のアルキル基を表しおよびＲ6 およびＲ7 は、互いに
独立して、水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル
基または炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表し；
あるいは基Ｒ4 、Ｒ5、Ｒ6 またはＲ7 の２つが、それ
らが結合している炭素原子または酸素原子と一緒になっ
て、５−ないし８員環を形成し；Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10およ
びＲ11は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数１な
いし１８のアルキル基、未置換のまたは炭素原子数１な
いし６のアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキ
シ基もしくはハロゲン原子で置換されたフェニル基、ハ
ロゲン原子、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、
−ＣＯＯＲ12、−ＯＣＯＲ12または−ＣＯＯＨ（式中、
Ｒ12は上記に定義したと同じ意味を表す。）を表し；あ
るいはＲ9 およびＲ11はそれらと結合している炭素原子
と一緒になって、構造式 （式中、Ｒ15は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
ルキル基、炭素原子数５ないし１４のアリール基、炭素
原子数６ないし２０のアラルキル基を表すかまたはヒド
ロキシル基、アルコキシ基もしくはハロゲン置換フェニ
ル基を表す。）を有する５員環を形成する。〕からなる
ホモポリマーまたはコポリマーであり、但し、コポリマ
ーの平均分子量（重量平均）は１０００−５００，００
０ダルトンであり、カルボキシル基の量は０．４０ない
し５．５０ｍｏｌ／ｋｇである。
【００１８】成分（ｂ）は、好ましくは、Ｒ1 およびＲ
2 が水素原子を表しおよびＲ3 が水素原子またはメチル
基を表しおよびＸが直接結合を表す、式（IIａ）で表さ
れる反復構造単位からなるホモポリマーまたはコポリマ
ーである。
【００１９】式IIｂの構造単位のうち、Ｒ8 およびＲ9
が好ましくは水素原子を表し、Ｒ10が水素原子またはメ
チル基を表し、およびＲ11がフェニル基または−ＣＯＯ
Ｒ12（式中、Ｒ12は炭素原子数１ないし１８のアルキル
基を表す。）を表す。さらに好ましいものは式 （式中、Ｒ15はフェニル基を表す。）で表される反復構
造単位からなるコポリマーで与えられるものである。
【００２０】成分（ａ）および（ｂ）のホモポリマーお
よびコポリマーはアニオン重合、カチオン重合またはグ
ループ−トランスファー重合によるまたは特には相当す
る不飽和モノマーにおけるフリーラジカル重合による公
知の方法により製造できる。
【００２１】フリーラジカル重合または共重合は種々の
方法を使用して行うことができる。これらは例えば、
Ｓ．サンドラーおよびＷ．カロ（S. Sandler and W. Ka
ro) による、"Polymer Synthsis", Vol.1,pp3-17,1968
，Academic Press, New Yorkに記載されている。慣用
の重合法の例は塊重合および溶液重合、ならびにさらに
乳化重合、懸濁重合および沈澱重合である。
【００２２】所望ならば、分子量は調節剤の少量を加え
ることにより調整できる。
【００２３】重合は一般に慣用のフリーラジカル開始剤
により開始される。これらはアゾ化合物例えばα，α′
−アゾイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）または過酸化物
例えばベンゾイルパーオキサイドのような熱開始剤また
は、鉄（III ）アセチルアセトネート、ベンゾインおよ
びベンゾイルパーオキサイドの混合物のようなレドック
ス開始剤系、またはベンゾインまたはベンジルジメチル
ケタールのような光化学的フリーラジカルフォーマーで
ある。
【００２４】重合は好ましくは溶液中で行われる。反応
温度は一般に１０ないし２００℃の範囲で、好ましくは
４０ないし１５０℃の範囲で、特に好ましくは４０ない
し１００℃の範囲である。
【００２５】存在するいずれかの溶媒は反応条件下で不
活性でなければならない。適当な溶媒の例は芳香族炭化
水素、塩素化炭化水素、アルコール、ケトンおよびエー
テルである。それらの例はベンゼン、トルエン、キシレ
ン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、塩化エチ
レン、塩化プロピレン、塩化メチレン、クロロホルム、
メチルエチルケトン、アセトン、メトキシプロピルアセ
テート、イソプロパノール、クロロヘキサノン、ジエチ
ルエーテルおよびテトラヒドロフランである。
【００２６】酸−活性α−アルコキシアルキルエステル
基を含むホモポリマーまたはコポリマーの製造のために
適当なモノマーの例は、１−エトキシエチルアクリレー
ト、メタクリレートおよびｐ−ビニルベンゾエート；１
−ブトキシエチルアクリレート、メタクリレートおよび
ｐ−ビニルベンゾエート；１−エトキシ−１−プロピル
アクリレート、メタクリレートおよびｐ−ビニルベンゾ
エート；ならびにテトラヒドロピラニルオキシアクリレ
ート、メタクリレートおよびｐ−ビニルベンゾエートで
ある。
【００２７】特に好ましいのはテトラヒドロピラニルア
クリレートおよびメタクリレートである。
【００２８】酸−活性α−アルコキシアルキルエステル
基を含むモノマーは単独重合または１もしくはそれ以上
の他のモノマーとの交互共重合が可能である。
【００２９】コポリマーの製造のための適当なモノマー
の例はエチレン、プロピレン、スチレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸およびメタクリル酸、メチルア
クリレートおよびメタクリレート、エチルアクリレート
およびメタクリレート、ブチルアクリレートおよびメタ
クリレート、ベンジルアクリレートおよびメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレートおよびメタクリレ
ート、ならびに２−ヒドロキシエチルアクリレートおよ
びメタクリレートである。
【００３０】好ましいのは、メチルアクリレート、メチ
ルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリ
レート、ベンジルメタクリレート、２−エチルヘキシル
メタクリレートおよび２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ートである。
【００３１】成分（ｂ）のカルボキシル−含有ホモポリ
マーおよびコポリマーは同様に相当する不飽和カルボン
酸のフリーラジカル重合により製造できる。
【００３２】適当なカルボン酸の例は、マレイン酸、イ
タコン酸、ケイヒ酸、クロトン酸、ｐ−ビニル安息香酸
ならびに特にアクリル酸およびメタクリル酸である。
【００３３】不飽和カルボン酸は１またはそれ以上の他
のモノマー例えばエチレン、プロピレン、スチレン、塩
化ビニル、酢酸ビニル、メチルアクリレートおよびメタ
クリレート、エチルアクリレートおよびメタクリレー
ト、ブチルアクリレートおよびメタクリレート、ベンジ
ルアクリレートおよびメタクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレートおよびメタクリレート、２−ヒドロキ
シエチルアクリレートおよびメタクリレート、ならびに
Ｎ−フェニルマレイミドにより共重合することが可能で
ある。
【００３４】好ましいコモノマーはメチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、ブチ
ルアクリレート、ベンジルメタクリレート、第三ブチル
アクリレート、第三ブチルメタクリレート、２−エチル
ヘキシルメタクリレートおよびＮ−フェニルマレイミド
である。
【００３５】本発明による好ましい組成物における成分
（ａ）は、式Ｉａで表される反復構造単位２０−１００
重量％、特に３０−１００重量％および式Ｉｂで表され
る反復構造単位８０ないし０重量％、特に７０−０重量
％からなるホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも
１種を含む。
【００３６】本発明による好ましい組成物における成分
（ｂ）は、式IIａで表される反復構造単位５−３５重量
％、特に１０−３０重量％および式IIｂで表される反復
構造単位９５−６５重量％、特に９０−７０重量％から
なるコポリマーの少なくとも１種を含む。
【００３７】成分（ａ）および（ｂ）間の混合比は広範
囲に変化できる。本発明による組成物の好ましいものは
成分（ａ）＋（ｂ）の総計に基づいて、成分（ａ）１０
−９５重量％、特に２０−８０重量％および成分（ｂ）
９０−５重量％、特に８０−２０重量％からなる。
【００３８】成分（ｃ）は原則的に、レジスト技術の当
業者に公知の、化学線への露光において酸を形成するい
ずれかの化合物であり、例えば、オニウム塩、ジスルホ
ン、鉄／アレーン複合体、光活性ハロゲン原子を含む化
合物（例えばハロメチルトリアジン、テトラブロモメタ
ン等々）、スルホン酸エステル例えばニトロベンジルス
ルホネート、オキシムスルホネート、α−スルホニルオ
キシケトン、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネートおよび
Ｎ−ヒドロキシアミドスルホネートである。
【００３９】適当な光開始剤の例はヨーロッパ特許第４
５１７４１号およびヨーロッパ特許第５６８８２７号に
記載される。
【００４０】成分（ｃ）は好ましくは感光性ジアゾニウ
ム、スルホニウム、スルホキソニウムまたはヨードニウ
ム塩または感光性スルホン酸エステルである。
【００４１】成分（ｃ）は特に好ましくはトリフェニル
スルホニウム、トリフルオロメタンスルホネート、トリ
フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェー
ト、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネ
ートであるか、または （式中、ｍは１ないし１０の整数を表す。）で表される
スルホニウムイオンのヘキサフルオロホスフェートもし
くはヘキサフルオロアンチモネートである。
【００４２】成分（ｃ）は一般に成分（ａ）＋（ｂ）の
総計に基づいて、１−２０重量％、好ましくは２−１０
重量％が使用される。
【００４３】都合よくは、増感剤を本発明の組成物に添
加することも可能である。これらの増感剤は所望の波長
における光開始剤系のスペクトル感度を増加させる。適
当な増感剤の選択は基本的には選択する光開始剤に依存
する。例えばスルホニウム塩およびヨードニウム塩は波
長＜３５０ｎｍにおいてのみ適切な感光性を有する。よ
り高い波長におけるこのような化合物の感度は例えば芳
香族炭化水素例えばペリレン、ピレン、アントラセンお
よびそれらの誘導体、フェノチアジンもしくはフェノチ
アジン誘導体、または未置換のまたは置換チオキサノン
を添加することにより著しく増加する。例えば米国特許
第４７７５４５０号に開示されているアミノアリールケ
トンはまたスルホニウムおよびヨードニウム塩に対する
増感剤として適当である。他の適当な増感剤は米国特許
第４１６２１６２号に記載される増感剤である。
【００４４】本発明の組成物は他の慣用の添加剤、例え
ば安定剤、顔料、染料、充填剤、接着促進剤、流れ調節
剤、湿潤剤および可塑剤を含むことも可能である。
【００４５】保存寿命を増加するため、適当には本発明
の組成物に弱塩基性添加剤の少量を添加することができ
る。好ましい塩基性化合物は第一、第二および第三脂肪
族、脂環式および芳香族アミンおよびＮ−複素環化合物
である。言及しうる例は：トリエチルアミン、トリプロ
ピルアミン、トリブチルアミン、アニリン、Ｎ−メチル
アニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１−ナフチルア
ミン、２−ナフチルアミン、ジフェニルアミン、エチレ
ンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４′−ジア
ミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニル
エーテル、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４，
４′−ジアミノジフェニルアミン、ピロリジンおよびそ
れらの誘導体、ピペリジンおよびそれらの誘導体、イミ
ダゾールおよびそれらの誘導体例えば４−メチルイミダ
ゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール、４，
５−ジフェニルイミダゾールおよび特に１−メチルイミ
ダゾールである。
【００４６】塩基性添加剤が都合良く添加される量は本
質的に光酸発生剤（ｃ）の量に依存し、そして好ましく
は、光酸発生剤のグラム当り塩基性添加剤０．０１−
５．０ｍｍｏｌ、特には０．０２−２．０ｍｍｏｌであ
る。
【００４７】安定化作用はまた、塩基性置換基例えばア
ミノ基、の少量を含む成分（ａ）および／または（ｂ）
のポリマーである場合も達成される。このようなポリマ
ーを製造するために、塩基性置換基を含む不飽和モノマ
ーの少量をフリーラジカル重合の間に不飽和出発モノマ
ーに添加する。塩基性置換基を含む適当なモノマーの例
は、アミノ置換アクリレート例えば２−ジメチルアミノ
エチルアクリレート、２−ジメチルアミノエチルメタク
リレート、２−ジエチルアミノエチルアクリレート、２
−ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミ
ノプロピルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメ
タクリルアミド、２−ｔ−ブチルアミノエチルアクレー
トおよび２−ｔ−ブチルアミノエチルメタクリレートな
らびに２−ビニルピリジンまたは４−ビニルピリジンの
ようなビニルピリジンである。
【００４８】塩基性置換基を含むこのようなコモノマー
が都合良く使用される量は本質的に光酸発生剤（ｃ）の
量に依存し、そして好ましくは、光酸発生剤のグラム当
り塩基性添加剤０．０１−５．０ｍｍｏｌ、特には０．
０２−２．０ｍｍｏｌである。
【００４９】溶媒および濃度の選択は原則的には組成物
のタイプおよび塗布方法に依存する。溶媒は不活性でな
ければならず、即ち成分とのいかなる化学反応をも受け
てはならず、および塗布後の乾燥中に除去されなければ
ならない。適当な溶媒の例は、ケトン、エーテルおよび
エステルであり、メチルエチルケトン、２−ヘプタノ
ン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ−ブチロ
ラクトン、エチルピルベート、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、２−メトキシエタノール、２−エトキ
シエタノール、２−エトキシエチルアセテート、１−メ
トキシ−２−プロピルアセテート、１，２−ジメトキシ
エタン、エチルアセテートおよび３−メトキシメチルプ
ロピオネートである。
【００５０】好ましい溶媒はメトキシプロピルアセテー
トである。
【００５１】組成物の固体含量は施用方法および所望の
塗布厚に依存しならびに１０ないし８０重量％である。
【００５２】溶液は公知の塗布方法例えば、スピン塗
布、浸漬、ナイフ塗布、カーテン塗布、刷毛塗り、吹付
および特に静電吹付、リバースロール塗布により基材に
均質に施用される。一時的に可撓性支持体へ感光性塗膜
を塗布しそして次に積層により塗膜を転写することによ
り最終的な基材、例えば銅貼り積層回路板に塗布するこ
とも可能である。
【００５３】施用割合（塗布厚）および基材タイプ（塗
布支持体）は所望の施用面積に依存する。塗布厚範囲は
一般に約１μｍないし約２０μｍ、好ましくは３−１５
μｍの被覆値である。
【００５４】塗布後、溶媒は一般的に、好ましくは２０
℃ないし１００℃の温度において乾燥により除去され、
基材上に本発明による組成物のコーティングが得られ
る。
【００５５】レリーフ構造体の製造のために、本発明に
よる組成物で塗布された基材を化学線に画像様に露光す
る。用語「化学線」は一般に、好ましくは２２０−５５
０ｎｍの波長範囲の紫外線または可視線の意味をもつ。
用語「画像様（imagewise)」露光は予め決められたパタ
ーンを含むフォトマスクを通しての露光および例えばコ
ンピューター制御の下、塗布された基材の表面上を移動
するレーザービームによる露光の両方を包含する。
【００５６】使用可能な放射線源は、原則として紫外線
および／または可視線領域における放射線を放射する全
てのランプである。点光源およびスプレッドエミッター
(spread emitter)〔ランプカーペット（lamp carpets)
〕の両方が適当である。具体例は：カーボンアーク
灯、キセノンアーク灯、所望ならば金属ハライドでドー
プ塗布されている、水銀蒸気ランプ（金属ハライドラン
プ）、蛍光ランプ、アルゴン白熱灯、電子閃光ランプ、
写真投光ランプ、電子ビームおよびＸ線である。ランプ
と新規な画像材料との距離は用途およびランプのタイプ
および強度に依存して変化でき、例えば２ｃｍないし１
５０ｃｍである。特に好適な光源はレーザー光源、例え
ばアルゴンイオンレーザーまたはクリプトンイオンレー
ザーである。レーザー光はまた、制御されたレーザービ
ームをレジスト層に直接書込むことにより、マスクなし
でも照射され得る。新規な材料の高い感受性はここでは
非常に有利であり、相対的に低い強さで高い書込み速度
を可能にする。この方法は、電子工業における印刷回
路、平板印刷法のオフセット印刷板またはレリーフ印刷
板並びに写真画像記録材料を製造するのに使用すること
ができる。
【００５７】多くの公知の化学的増幅に基づくポジ型フ
ォトレジスト系とは対照的に、本発明の組成物を使用す
る場合に、露光による酸発生を伴うポリマー構造中の酸
感受性基の完全な反応を確実にするためおよび揮発性反
応生成物を除去するための「露光後焼付(post exposure
bake)」として知られる露光後の熱処理をレジストにか
ける必要のないことは驚くべきことである。
【００５８】しかし、所望ならば、このような熱処理は
露光した構造に不利な結果なく行うことも可能である。
【００５９】慣用の方法で、材料を画像様に露光した
後、フォトレジストの露光した領域を現像中への溶解に
より除去する。
【００６０】特別な現像液の選択はフォトレジストのタ
イプに依存し、特に使用するバインダーまたは形成され
る光分解性製造物の性質に依存する。現像液は有機溶媒
またはその混合物がそれに添加される塩基の水溶液を含
むことができる。
【００６１】特に好ましい現像液はナフトキノンジアジ
ド塗膜の現像にも使用されるような水性アルカリ溶液で
ある。これらは、特にアルカリ金属シリケート、ホスフ
ェート、水酸化物および炭酸塩の水溶液を含む。所望な
らば、湿潤剤および／または有機溶媒の比較的少量をこ
れらの溶液に添加していてもよい。
【００６２】現像液に加えることのできる代表的な有機
溶媒の例はシクロヘキサノン、２−エトキシエタノー
ル、アセトン、イソプロパノール、エタノールおよびそ
れらの溶媒の２またはそれ以上の混合物である。
【００６３】本発明による放射線感受性組成物はエレク
トロニクス用のフォトレジストとして、特にプリント回
路板の製造用のエッチレジストとしてまたは集積回路の
製造用のミクロレジストとして、およびプリント板、例
えばオフセット印刷板の製造のためのレジストとして適
当である。
【００６４】エッチレジストとしての本発明による組成
物の好ましい使用は現像により覆われていない金属、通
常銅はいずれかの公知の腐食剤例えば塩化鉄、過酸化水
素／リン酸、過硫酸アンモニウムまたは塩化銅にて除去
できる。
【００６５】残っているのフォトレジストは続いて強水
性塩基例えばＮａＯＨまたはＫＯＨ、および／または有
機溶媒によるストリッピングによって除去される。
【００６６】本発明はさらに本発明による組成物で基材
を塗布しそして溶媒の除去後に得られたフィルムを画像
様に露光し続いて露光したフィルムを水性アルカリ媒体
中で現像することからなる、回路板上におけるレリーフ
構造の製造方法に関する。
【００６７】本発明の好ましい実例は以下の段階 （Ａ）公知の方法による液体レジストの施用により銅積
層基材を本発明の組成物を用いて塗布し； （Ｂ）３０℃ないし１３０℃の温度で乾燥することによ
り溶媒を除去し； （Ｃ）マスクを通して化学線に露光するかまたは直接レ
ーザー照射によって露光し； （Ｄ）水性アルカリまたは半水性アルカリ現像液を使用
して現像し； （Ｅ）酸性または弱アルカリエッチング剤を用いてエッ
チングし； （Ｆ）強水性塩基および／または有機溶媒を用いたスト
リッピングにより残存しているフォトレジストコーティ
ングの除去からなるレリーフ構造物の製造方法である。
【００６８】特別な言及は貯蔵における個々の成分と得
られた塗膜の極めて良好な熱安定性になされるべきであ
る。
【００６９】成分（ａ）および（ｂ）のポリマーの適当
な選択はまたレジスト組成物の機械的性質が広い範囲内
で変化するのを可能にする。例えば硬性ポリマーの使用
は非常に高い機械強度を達成するのを可能にする。
【００７０】
【実施例】以下の実施例により本発明をより詳しく説明
する。Ｉ．ポリマーの製造 Ｉ．１． ポリ−２−テトラヒドロピラニルメタクリレ
ート メトキシプロピルアセテート１５ｇ中の２−テトラヒド
ロピラニルメタクリレート１０ｇ（５９ｍｍｏｌ）およ
びアゾイソブチルニトリル（ＡＩＢＮ）０．２５ｇの溶
液を窒素雰囲気下８０℃で８時間攪拌する。ポリ−２−
テトラヒドロピラニルメタクリレート（Ｍn ＝４４３
５、Ｍw ＝９１，５９３）の得られた溶液は直接（ポリ
マーの単離なしで）より先の操作が可能である。 溶液の酸含量：０．０３３ｍｏｌ／ｋｇ 室温における９ヵ月後の酸含量：０．０４０ｍｏｌ／ｋ
ｇ
【００７１】Ｉ．２． ２−テトラヒドロピラニルメタ
クリレート、メチルメタクリレートおよび２−エチルヘ
キシルメタクリレートのコポリマー 実施例Ｉ．１と同様に、メトキシプロピルアセテート６
０ｇの２−テトラヒドロピラニルメタクリレート２５．
２ｇ（１４８ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレート１０．
４ｇ（１０４ｍｍｏｌ）、２−エチルヘキシルメタクリ
レート４．４ｇ（２２ｍｍｏｌ）およびアゾイソブチロ
ニトリル１ｇの溶液を窒素下で８時間攪拌する。得られ
たコポリマーの溶液は（Ｍn ＝７２３７、Ｍw ＝４８，
１５４）直接、より先の操作が可能である。
【００７２】Ｉ．３． ポリ−２−テトラヒドロピラニ
ルメタクリレート、メチルメタクリレートおよび２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレートのコポリマー メトキシプロピルアセテート５０ｇ中の２−テトラヒド
ロピラニルメタクリレート５６．７ｇ（３３３ｍｍｏ
ｌ）およびメチルメタクリレート２３．４ｇ（２３４ｍ
ｍｏｌ）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート９．９
ｇ（７６ｍｍｏｌ）およびアゾイソブチロニトリル２ｇ
の溶液を、２−テトラヒドロピラニルメタクリレート
６．３ｇ（２７ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレート２．
６ｇ（２．６ｍｍｏｌ）、２−ヒドロキシエチルメタク
リレート１．１ｇ（９ｍｍｏｌ）およびメトキシプロピ
ルアセテート１００ｇの混合物に窒素下、８０℃で攪拌
しながら１時間にわたって滴下で添加する。８０℃で攪
拌を続け、そして添加後１時間、さらにアゾイソブチロ
ニトリル０．５ｇを加える。溶液を続いて８０℃で６時
間攪拌する。得られたコポリマーの溶液（Ｍn ＝８１０
３、Ｍw ＝４７，０９６）は直接、より先の操作が可能
である。
【００７３】Ｉ．４． ２−テトラヒドロピラニルアク
リレートおよびメチルメタクリレートのコポリマー メトキシプロピルアセテート３０ｇの２−テトラヒドロ
ピラニルアクリレート３４．０２ｇ（２１８ｍｍｏ
ｌ）、メチルメタクリレート１９．９８ｇ（２００ｍｍ
ｏｌ）およびアゾイソブチロニトリル１．２ｇを、２−
テトラヒドロピラニルアクリレート３．７８ｇ（２４ｍ
ｍｏｌ）、メチルメタクリレート２．２２ｇ（２２ｍｍ
ｏｌ）およびメトキシプロピルアセテート６０ｇの混合
物に窒素下、８０℃で、１．５時間にわたって攪拌しな
がら添加する。８０℃で攪拌を続けて、添加後１時間、
さらにアゾイソブチロニトリル０．３ｇを加える。溶液
を引続き８０℃でさらに５．５時間攪拌する。コポリマ
ーの得られた溶液（Ｍn ＝８１０８、Ｍw ＝３２，１６
７）は直接、より先の操作が可能である。
【００７４】Ｉ．５． メタクリル酸、メチルメタクリ
レートおよび２−エチルヘキシルメタクリレートのコポ
リマー 実施例Ｉ．１と同様に、イソプロパノール３０ｇのメタ
クリル酸４．０ｇ（４７ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレ
ート１２．０ｇ（１２０ｍｍｏｌ）および１２．０ｇ
（１２０ｍｍｏｌ）および２−エチルヘキシルメタクリ
レート４．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）およびアゾイソブチロ
ニトリル０．５ｇの溶液を窒素下で８時間攪拌する。得
られたコポリマーの溶液（Ｍn ＝８６９１、Ｍw ＝５
４，５４０、酸含量＝１．１３ｍｏｌ／ｋｇ）は直接、
より先の操作が可能である。
【００７５】Ｉ．６． メタクリル酸、メチルメタクリ
レートおよび第三ブチルアクリレートのコポリマー イソプロパノール５００ｇ中のメタクリル酸１３５ｇ
（１．５６８ｍｏｌ）、メチルメタクリレート６３０ｇ
（６．３０ｍｏｌ）、第三ブチルアクリレート１３５ｇ
（１．０５ｍｏｌ）およびアゾイソブチロニトリル１
２．５ｇを、メタクリル酸１５．０ｇ（１７４ｍｍｏ
ｌ）メチルメタクリレート７０ｇ（７００ｍｍｏｌ）、
第三ブチルアクリレート１５．０ｇ（１１８７ｍｍｏ
ｌ）およびイソプロパノール１０００ｇの混合物に８０
℃で窒素下、２時間にわたって滴下で添加する。８０℃
で攪拌を続け、そして添加１時間後、さらにアゾイソブ
チロニトリル２．５ｇを加える。溶液を続いて８０℃
で、５時間攪拌する。得られたコポリマーの溶液（Ｍn
＝８８８０、Ｍw ＝２７，４２２，酸含量＝０．７５ｍ
ｏｌ／ｋｇ）は直接、より先の操作が可能である。
【００７６】Ｉ．７． ２−テトラヒドロピラニルメタ
リレート、メチルメタクリレートおよび２−ヒドロキシ
エチルメタクリレートのコポリマー メトキシプロピルアセテート３０ｇ中の２−テトラヒド
ロピラニルメタクリレート３４．０２ｇ（２００ｍｍｏ
ｌ）、メチルメタクリレート１４．０４ｇ（１６３ｍｍ
ｏｌ）、２−ヒドロキシメチルメタクリレート５．９４
ｇ（４６ｍｍｏｌ）およびアゾイソブチロニトリル１．
７４ｇを、２−テトラヒドロピラニルメタクリレート
３．７８ｇ（２２ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレート
１．５６ｇ（１８ｍｍｏｌ）、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート０．６６ｇ（５ｍｍｏｌ）およびメトキシ
プロピルアセテート６０ｇの混合物に攪拌しながら７０
℃で窒素下、６時間にわたって滴下で添加する。７０℃
で攪拌を続け、そして添加１時間後、さらにアゾイソブ
チロニトリル０．１８ｇを加える。溶液を続いて７０℃
で、さらに１時間攪拌する。得られたコポリマーの溶液
（Ｍn ＝９０７４、Ｍw＝４４，８７７）は直接、より
先の操作が可能である。
【００７７】Ｉ．８． メタクリル酸、メチルメタクリ
レート、エチルアクリレートおよびメタクリルアミドの
コポリマー メトキシプロピルアセテート２７ｇ中のメタクリル酸２
７ｇ（３１４ｍｍｏｌ）、エチルアクリレート４５ｇ
（４５０ｍｏｌ）、メタクリルアミド９．０ｇ（８０ｍ
ｍｏｌ）およびアゾイソブチロニトリル２．５ｇを、メ
タクリル酸３．０ｇ（３５ｍｍｏｌ）、メチルメタクリ
レート１１ｇ（１１０ｍｍｏｌ）、エチルアクリレート
５．０ｇ（５０ｍｍｏｌ）およびメタクリルアミド１．
０ｇ（９ｍｍｏｌ）およびメトキシプロピルアセテート
２００ｇの混合物に８０℃で窒素下、２．２５時間にわ
たって滴下で添加する。８０℃で攪拌を続け、そして添
加１時間後、さらにアゾイソブチロニトリル０．５ｇを
加える。溶液を続いて８０℃で、さらに４．７５時間攪
拌する。得られたコポリマーの溶液（Ｍn ＝８５４７、
Ｍw ＝３１，８２０，酸含量＝０．８４ｍｏｌ／ｋｇ）
は直接、より先の操作が可能である。
【００７８】Ｉ．９． メタクリル酸、メチルメタクリ
レートおよびエチルアクリレートのコポリマー メトキシプロピルアセテート１００ｇ中のメタクリル酸
２７ｇ（３１４ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレート９９
ｇ（９９ｍｍｏｌ）、エチルアクリレート５４ｇ（５４
０ｍｏｌ）およびアゾイソブチロニトリル２．５ｇを、
メタクリル酸３．０ｇ（３５ｍｍｏｌ）、メチルメタク
リレート１１ｇ（１１０ｍｍｏｌ）、エチルアクリレー
ト６．０ｇ（６０ｍｍｏｌ）およびメトキシプロピルア
セテート２００ｇの混合物に８０℃で窒素下、２．２５
時間にわたって滴下で添加する。８０℃で攪拌を続け、
そして添加１時間後、さらにアゾイソブチロニトリル
０．５ｇを加える。溶液を続いて８０℃で、さらに５時
間攪拌する。得られたコポリマーの溶液（Ｍn ＝８９９
３、Ｍw ＝４３，３１４，酸含量＝０．７ｍｏｌ／ｋ
ｇ）は直接、より先の操作が可能である。
【００７９】Ｉ．１０． メタクリル酸、メチルメタク
リレートおよびエチルアクリレートのコポリマー メトキシプロピルアセテート１００ｇ中のメタクリル酸
２１．６ｇ（２５１ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレート
１０４．４ｇ（１．０４ｍｏｌ）、エチルアクリレート
５４ｇ（５４０ｍｍｏｌ）およびアゾイソブチロニトリ
ル４．０ｇを、メタクリル酸２．４ｇ（２８ｍｍｏ
ｌ）、メチルメタクリレート１１．６ｇ（１１６ｍｍｏ
ｌ）、エチルアクリレート６．０ｇ（６０ｍｍｏｌ）お
よびメトキシプロピルアセテート２００ｇの混合物に８
０℃で窒素下、２時間にわたって滴下で添加する。８０
℃で攪拌を続け、そして添加１時間後、さらにアゾイソ
ブチロニトリル１．０ｇを加える。溶液を続いて８０℃
で、さらに５時間攪拌する。得られたコポリマーの溶液
（Ｍn ＝９２７５、Ｍw ＝３０，３０４，酸含量＝０．
６１ｍｏｌ／ｋｇ）は直接、より先の操作が可能であ
る。
【００８０】Ｉ．１１． メタクリル酸、メチルメタク
リレートおよびＮ−フェニルマレイミドのコポリマー メトキシプロピルアセテート１００ｇ中のメタクリル酸
３６．０ｇ（４１９ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレート
１２６ｇ（１．２６ｍｏｌ）、Ｎ−フェニルマレイミド
１８ｇ（１０４ｍｍｏｌ）およびトリゴノックスＣ（Tr
igonox C) 〔アクゾ（Akzo) 社製品〕５．０ｇを、メタ
クリル酸４．０ｇ（２６．５ｍｍｏｌ）、メチルメタク
リレート１４．０ｇ（１４０ｍｍｏｌ）、Ｎ−フェニル
マレイミド２．０ｇ（１１．６ｍｍｏｌ）およびメトキ
シプロピルアセテート２００ｇの混合物に１３５℃で窒
素下、２時間にわたって滴下で添加する。溶液は続いて
１３５℃で６時間攪拌を続ける。得られたコポリマーの
溶液（Ｍn ＝３８８３、Ｍw ＝１０，０４１，酸含量＝
０．９９３ｍｏｌ／ｋｇ）は直接、より先の操作が可能
である。
【００８１】Ｉ．１２． ２−テトラヒドロピラニルア
クリレート、メチルメタクリレートおよび２−ジメチル
アミノエチルメタクリレートコポリマー メトキシプロピルアセテート５０ｇ中の２−テトラヒド
ロピラニルメタクリレート５６．７ｇ（３３３ｍｍｏ
ｌ）、メチルメタクリレート３３．０（３３ｍｍｏｌ
ｌ）、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート０．２
７ｇ（１．７２ｍｍｏｌ）およびアゾイソブチロニトリ
ル２．０ｇを、２−テトラヒドロピラニルメタクリレー
ト６．３ｇ（３７ｍｍｏｌ）、メチルメタクリレート
３．６７ｇ（３６．７ｍｍｏｌ）、２−ジメチルアミノ
エチルメタクリレート０．０３ｇ（０．１９ｍｍｏｌ）
およびメトキシプロピルアセテート１００ｇの混合物に
７０℃で窒素下、２時間にわたって滴下で添加する。７
０℃で攪拌を続け、そして添加１時間後、さらにアゾイ
ソブチロニトリル０．５ｇを加える。溶液を続いて７０
℃で、さらに５時間攪拌する。得られたコポリマーの溶
液（Ｍn ＝９３３４、Ｍw ＝４４．０５０）は直接、よ
り先の操作が可能である。
【００８２】II．使用実施例 II．１． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート３ｇ中の光開始剤登録商標
デガキュア(Degacure)ＫＩ８５〔デグッサ（Degussa)
社〕０．２３ｇおよび９−メチルアントラセン０．０４
ｇの溶液を実施例Ｉ．１．からの溶液２ｇおよび実施例
Ｉ．６からの溶液３ｇの混合物に添加する。得られたレ
ジスト溶液をろ過しそして続いてＫ−バーコーター（K-
bar coater) （３６μｍ）によって銅貼積層基板（銅１
８μｍ）に塗布する。塗布された基板を室温で１０分
間、続いて８０℃で１５分間乾燥し、９μｍ厚のレジス
トフィルムを得る。マスクとして２１ステップストッフ
ァーセンシティビティガイド（21 step Stoffer sensit
ivity guide)を使用してＫＰＲ３４０ＯＲＣプリンタ
ー，ＳＭＸ７０００Ｈランプにより露光を行う〔Ｗ．
Ｓ．デフォーレスト(W.S.DeForest)，”Photoresist"，
マックグロー−ヒル ブック社(McGrow-Hill Book C
o.), ニューヨーク，１０９頁以降参照〕。露光エネル
ギーは８０Ｊ／ｃｍ2 である。約５分後、露光したプレ
ートを１％水性Ｎａ2 ＣＯ3 溶液で１２０秒現像する
（３０℃、スプレー圧力２ｂａｒ）。４５℃でＣｕＣｌ
2 ／ＨＣｌ溶液でエッチング後、最終画像化ステップ
（final imaged step)がＮｏ．４であるレリーフ画像が
得られる。５０μｍの構造は十分解像される。レジスト
は続いて３０℃で水性５％ＮａＯＨ溶液中での浸漬によ
り除去される。
【００８３】II．２． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート３ｇ中の光開始剤登録商標
デガキュア(Degacure)ＫＩ８５〔デグッサ（Degussa)
社〕０．２３ｇおよび９−メチルアントラセン０．０４
ｇの溶液を実施例Ｉ．２からの溶液３．５ｇおよび実施
例Ｉ．５からの溶液１．５ｇの混合物に添加する。塗
布、露光、現像およびエッチングを実施例II．１と同様
の方法で行う。露光エネルギーは８０Ｊ／ｃｍ2 であ
る。現像時間は２２℃で１２０秒間および２ｂａｒのス
プレー圧力である。最終画像化ステップがＮｏ．３であ
るレリーフ画像が得られる。２５μｍの構造は十分解像
される。
【００８４】II．３． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート３ｇ中の光開始剤登録商標
デガキュア(Degacure)ＫＩ８５〔デグッサ（Degussa)
社〕０．２３ｇおよび９−メチルアントラセン０．０４
ｇの溶液を実施例Ｉ．２からの溶液２．５ｇおよび実施
例Ｉ．６からの溶液２．５ｇの混合物に添加する。塗
布、露光、現像およびエッチングを実施例II．１と同様
の方法で行う。 露光エネルギー：８０Ｊ／ｃｍ2 現像時間：１２０秒間（３０℃／スプレー圧力２ｂａ
ｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．３ 解像度：２５μｍ
【００８５】II．４． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート１．８３ｇ中の光開始剤登
録商標シラキュア(Cyracure)６９９０〔ユニオンカーバ
イド（Union Carbide)社〕０．１６ｇおよびクァンタキ
ュア(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel C
hemicals）社〕０．０４ｇの溶液を、実施例Ｉ．２から
の溶液１．５ｇおよびメトキシプロピルアセテート中の
スクリプセット(Scripset)５５０の３０％溶液の４．６
７ｇに添加する。塗布、露光、現像およびエッチングを
実施例II．１と同様の方法で行う。 露光エネルギー：１２５ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：１２０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａ
ｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．１ 解像度：２５μｍ 室温における９ヵ月間の貯蔵後の実施例Ｉ．２からの溶
液による比較試験では違いが見られない。
【００８６】II．５． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート３ｇ中の光開始剤登録商標
シラキュア(Cyracure)６９９０〔ユニオンカーバイド
（Union Carbide)社〕０．１６ｇ、クァンタキュア(Qua
ntacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Chemical
s）社〕０．０４ｇおよびオラソルブラウ（Orasolblau)
ＧＮ〔チバ（Ciba) 社〕０．０１ｇの溶液を、実施例
Ｉ．３からの溶液３．０ｇおよび実施例Ｉ．５からの溶
液２．０ｇの混合物に添加する。塗布、露光、現像およ
びエッチングを実施例II．１と同様の方法で行う。 露光エネルギー：１５０ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：１００秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａ
ｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．２ 解像度：２５μｍ
【００８７】II．６． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート２．１７ｇ中の光開始剤登
録商標シラキュア(Cyracure)６９９０〔ユニオンカーバ
イド（Union Carbide)社〕０．１６ｇおよびクァンタキ
ュア(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel C
hemicals）社〕０．０４ｇの溶液を、実施例Ｉ．４から
の溶液２．５ｇおよびメトキシプロピルアセテート中の
スクリプセット(Scripset)５５０の３０％溶液の３．３
３ｇの混合物に添加する。塗布、露光、現像およびエッ
チングを実施例II．１と同様の方法で行う。 露光エネルギー：３０ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：６３秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．３ 解像度：２５μｍ
【００８８】II．７． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート６ｇ中の光開始剤登録商標
シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイド
（Union Carbide)社〕０．３２ｇおよびクァンタキュア
(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Chemi
cals）社〕０．０８ｇ、パーガスクリトプトブラウ(Per
gascriptblau) Ｓ−ＲＢ〔チバ（Ciba) 社〕０．０４
ｇ、トリアジンＡ(Triazin A) （ＰＣＡＳ社) ０．０２
ｇおよびオラソルブラウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ（Ci
ba) 社〕０．０１ｇの溶液を、実施例Ｉ．３からの溶液
７．０ｇおよび実施例Ｉ．８からの溶液３．０ｇの混合
物に添加する。塗布、露光、現像およびエッチングを実
施例II．１と同様の方法で行うが、スタウブ(Staub) Ｌ
Ｂ６５−１／５０００Ｗ灯を露光のために使用する。 露光エネルギー：１１４ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：７０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．２ 解像度：２５μｍ
【００８９】II．８． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート２２．７ｇ中の光開始剤登
録商標シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバ
イド（Union Carbide)社〕３．２ｇおよびクァンタキュ
ア(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Che
micals）社〕０．８ｇ、パーガスクリトプトブラウ(Per
gascriptblau) Ｓ−ＲＢ（Ciba社) ０．４ｇ、トリアジ
ンＡ(Triazin A) （ＰＣＡＳ社) ０．２ｇおよびオラソ
ルブラウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ（Ciba) 社〕０．１
ｇの溶液を、実施例Ｉ．３からの溶液５０ｇおよび実施
例Ｉ．９からの溶液５０ｇの混合物に添加する。塗布、
露光、現像およびエッチングを実施例II．１と同様の方
法で行うが、ローラーコーター６４ｇおよびスタウブ(S
taub) ＬＢ６５−１／５０００Ｗ灯を露光のために使用
する。 露光エネルギー：１１４ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：８０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．３ 解像度：２５μｍ
【００９０】II．９． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート６ｇ中の光開始剤登録商標
シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイド社
（Union Carbide)〕０．３２ｇおよびクァンタキュア(Q
uantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ社(Octel Chemi
cals）〕０．０８ｇ、パーガスクリトプトブラウ(Perga
scriptblau) Ｓ−ＲＢ（Ciba社) ０．０４ｇ、トリアジ
ンＡ(Triazin A) （ＰＣＡＳ社) ０．０２ｇおよびオラ
ソルブラウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ（Ciba) 社〕０．
０１ｇの溶液を、実施例Ｉ．３からの溶液３．０ｇおよ
び実施例Ｉ．１０からの溶液７．０ｇの混合物に添加す
る。塗布、露光、現像およびエッチングを実施例II．１
と同様の方法で行うが、スタウブ(Staub) ＬＢ６５−１
／５０００Ｗ灯を露光のために使用する。 露光エネルギー：１１４ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：７０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．１ 解像度：２５μｍ
【００９１】II．１０． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート６ｇ中の光開始剤登録商標
シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイド
（Union Carbide)社〕０．３２ｇおよびクァンタキュア
(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Chemi
cals）社〕０．０８ｇ、パーガスクリトプトブラウ(Per
gascriptblau) Ｓ−ＲＢ〔チバ（Ciba) 社〕０．０４
ｇ、トリアジンＡ(Triazin A) （ＰＣＡＳ社) ０．０２
ｇおよびオラソルブラウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ（Ci
ba) 社〕０．０１ｇの溶液を、実施例Ｉ．７からの溶液
５．０ｇおよび実施例Ｉ．１０からの溶液５．０ｇの混
合物に添加する。塗布、露光、現像およびエッチングを
実施例II．１と同様の方法で行うが、スタウブ(Staub)
ＬＢ６５−１／５０００Ｗ灯を露光のために使用する。 露光エネルギー：１３０ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：７０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．４ 解像度：２５μｍ
【００９２】II．１１． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート６ｇ中の光開始剤登録商標
シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイド
（Union Carbide)社〕０．３２ｇおよびクァンタキュア
(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Chemi
cals）社〕０．０８ｇ、マルチフロー（Multiflow)〔モ
ンサント(Monsanto)社〕０．０９ｇおよびオラソルブラ
ウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ（Ciba) 社〕０．０１ｇの
溶液を、実施例Ｉ．４からの溶液５．０ｇおよび実施例
Ｉ．１１からの溶液５．０ｇの混合物に添加する。塗
布、露光、現像およびエッチングを実施例II．１と同様
の方法で行うが、スタウブ(Staub) ＬＢ６５−１／５０
００Ｗ灯を露光のために使用する。 露光エネルギー：１３０ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：１００秒間（２５℃／スプレー圧力１ｂａ
ｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．４ 解像度：２５μｍ
【００９３】II．１２． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート５．７ｇ中の光開始剤登録
商標シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイ
ド（Union Carbide)社〕０．３２ｇおよびクァンタキュ
ア(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Che
micals）社〕０．０８ｇ、マルチフロー（Multiflow)
〔モンサント(Monsanto)社〕０．０９ｇ、Ｎ−メチルイ
ミダゾール０．６３ｍｇおよびオラソルブラウ（Orasol
blau) ＧＮ〔チバ（Ciba) 社〕０．０１ｇの溶液を、実
施例Ｉ．４からの溶液５．０ｇおよび実施例Ｉ．１１か
らの溶液５．０ｇの混合物に添加する。塗布、露光、現
像およびエッチングを実施例II．１と同様の方法で行う
が、スタウブ(Staub) ＬＢ６５−１／５０００Ｗ灯を露
光のために使用する。 露光エネルギー：２００ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：４０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．３ 解像度：２５μｍ
【００９４】II．１３． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート５．７ｇ中の光開始剤登録
商標シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイ
ド（Union Carbide)社〕０．３２ｇおよびクァンタキュ
ア(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Che
micals）社〕０．０８ｇ、マルチフロー（Multiflow)
〔モンサント(Monsanto)社〕０．０９ｇ、Ｎ−メチルイ
ミダゾール６．３ｍｇおよびオラソルブラウ（Orasolbl
au) ＧＮ〔チバ（Ciba) 社〕０．０１ｇの溶液を、実施
例Ｉ．４からの溶液５．０ｇおよび実施例Ｉ．１１から
の溶液５．０ｇの混合物に添加する。塗布、露光、現像
およびエッチングを実施例II．１と同様の方法で行う
が、スタウブ(Staub) ＬＢ６５−１／５０００Ｗ灯を露
光のために使用する。 露光エネルギー：２００ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：７０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．３ 解像度：２５μｍ
【００９５】II．１４． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート６ｇ中の光開始剤登録商標
シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイド
（Union Carbide)社〕０．３２ｇおよびクァンタキュア
(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Chemi
cals）社〕０．０８ｇ、パーガスクリトプトブラウ(Per
gascriptblau) Ｓ−ＲＢ〔チバ（Ciba) 社〕０．０４
ｇ、トリアジンＡ(Triazin A) （ＰＣＡＳ社) ０．２ｇ
およびオラソルブラウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ（Cib
a) 社〕０．０１ｇの溶液を、実施例Ｉ．７からの溶液
４．０ｇおよび実施例Ｉ．１１からの溶液６．０ｇの混
合物に添加する。塗布、露光、現像およびエッチングを
実施例II．１と同様の方法で行うが、スタウブ(Staub)
ＬＢ６５−１／５０００Ｗ灯を露光のために使用する。 露光エネルギー：１３０ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：６０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．５ 解像度：２５μｍ
【００９６】II．１５． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート５．７ｇ中の光開始剤（４
−ニトロフェニル）メチル９，１０−ジヒドロキシ−２
−アントラセンスルホネート０．１６ｇ、パーガスクリ
トプトブラウ(Pergascriptblau) Ｓ−ＲＢ〔チバ（Cib
a) 社〕０．４ｇ、トリアジンＡ(Triazin A) （ＰＣＡ
Ｓ社) ０．２ｇおよびオラソルブラウ（Orasolblau) Ｇ
Ｎ〔チバ（Ciba) 社〕０．０１ｇの溶液を、実施例Ｉ．
７からの溶液４．０ｇおよび実施例Ｉ．１１からの溶液
６．０ｇの混合物に添加する。塗布、露光、現像および
エッチングを実施例II．１と同様の方法で行うが、スタ
ウブ(Staub) ＬＢ６５−１／５０００Ｗ灯を露光のため
に使用する。 露光エネルギー：１３０ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：７０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．２ 解像度：２５μｍ
【００９７】II．１６． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート５．７ｇ中の光開始剤登録
商標シラキュア(Cyracure)６９７４〔ユニオンカーバイ
ド（Union Carbide)社〕０．３２ｇおよびクァンタキュ
ア(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテルケミカルズ(Octel Che
micals）社〕０．０８ｇ、マルチフロー（Multiflow)
〔モンサント(Monsanto)社〕０．０９ｇおよびオラソル
ブラウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ（Ciba) 社〕０．０１
ｇの溶液を、実施例Ｉ．１１からの溶液５．０ｇおよび
実施例Ｉ．１２からの溶液５．０ｇの混合物に添加す
る。塗布、露光、現像およびエッチングを実施例II．１
と同様の方法で行うが、スタウブ(Staub) ＬＢ６５−１
／５０００Ｗ灯を露光のために使用する。 露光エネルギー：２００ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：１３５秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａ
ｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．２ 解像度：２５μｍ
【００９８】II．１６． ポジ型エッチレジスト メトキシプロピルアセテート５．７ｇ中の光開始剤ジフ
ェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート０．１
６ｇおよびクァンタキュア(Quantacure)ＩＴＸ〔オクテ
ルケミカルズ(Octel Chemicals）社〕０．０８ｇ、マル
チフロー（Multiflow)〔モンサント(Monsanto)社〕０．
０９ｇおよびオラソルブラウ（Orasolblau) ＧＮ〔チバ
（Ciba) 社〕０．０１ｇの溶液を、実施例Ｉ．１１から
の溶液５．０ｇおよび実施例Ｉ．１２からの溶液５．０
ｇの混合物に添加する。塗布、露光、現像およびエッチ
ングを実施例II．１と同様の方法で行うが、スタウブ(S
taub) ＬＢ６５−１／５０００Ｗ灯を露光のために使用
する。 露光エネルギー：１３０ｍＪ／ｃｍ2 現像時間：７０秒間（３０℃／スプレー圧力１ｂａｒ） 最終画像化ステップ：Ｎｏ．５ 解像度：２５μｍ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 33/02 ＬＪＦ 33/14 35/02 ＬＪＤ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０３ Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ａ）酸−活性（acid labile)α−アルコ
    キシアルキルエステル基を含むホモポリマーまたはコポ
    リマーの少なくとも１種； ｂ）カルボキシル基の含量が０．４０ないし５．５０ｍ
    ｏｌ／ｋｇであるカルボキシル含有コポリマーの少なく
    とも１種； ｃ）化学線への露光において酸を形成する化合物の少な
    くとも１種および ｄ）有機溶媒；からなる水性アルカリ媒体で現像可能な
    ポジ型フォトレジスト組成物。
  2. 【請求項２】 成分（ａ）が下式Ｉａで表される反復構
    造単位８−１００重量％および下式Ｉｂで表される反復
    構造単位９２−０重量％ 〔式中、Ｘは直接結合または、１またはそれ以上の炭素
    原子が酸素原子、硫黄原子または非塩基性窒素原子によ
    り置換されていてもよい１ないし１８個の炭素原子を有
    する２価の有機基を表し；Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、互
    いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし６のアル
    キル基、炭素原子数５ないし１４のアリール基、炭素原
    子数６ないし２０のアラルキル基、ハロゲン原子、−Ｃ
    ＯＯＨ、−ＣＯＯＲ12またはＣＯＮＲ13Ｒ14（式中、Ｒ
    12は未置換のもしくは炭素原子数１ないし６のアルコキ
    シ基、ヒドロキシル基もしくはハロゲン原子で置換され
    た炭素原子数１ないし１８のアルキル基またはヒドロキ
    シを末端基とするポリエーテルもしくはポリエステルの
    基を表し；ならびにＲ13およびＲ14は、互いに独立し
    て、水素原子、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、
    炭素原子数５ないし１４のアリール基もしくは炭素原子
    数６ないし２０のアラルキル基を表す。）を表し；Ｒ4
    は炭素原子数１ないし６のアルキル基またはフェニル基
    を表し；Ｒ5 は水素原子または炭素原子数１ないし６の
    アルキル基を表しおよびＲ6 およびＲ7 は、互いに独立
    して、水素原子、炭素原子数１ないし６のアルキル基ま
    たは炭素原子数１ないし６のアルコキシ基を表し；ある
    いは基Ｒ4 、Ｒ5、Ｒ6 またはＲ7 の２つが、それらが
    結合している炭素原子または酸素原子と一緒になって、
    ５−ないし８員環を形成し；Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10およびＲ
    11は、互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし
    １８のアルキル基、未置換のまたは炭素原子数１ないし
    ６のアルキル基、炭素原子数１ないし６のアルコキシ基
    もしくはハロゲン原子で置換されたフェニル基、ハロゲ
    ン原子、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基、−Ｃ
    ＯＯＲ12、−ＯＣＯＲ12または−ＣＯＯＨ（式中、Ｒ12
    は上記に定義したと同じ意味を表す。）を表し；あるい
    はＲ9 およびＲ11はそれらと結合している炭素原子と一
    緒になって、構造式 （式中、Ｒ15は水素原子、炭素原子数１ないし１８のア
    ルキル基、炭素原子数５ないし１４のアリール基、炭素
    原子数６ないし２０のアラルキル基を表すかまたはヒド
    ロキシル基で、アルコキシ基でもしくはハロゲン原子で
    置換されたフェニル基を表す。）を有する５員環を形成
    する。〕からなるホモポリマーまたはコポリマーであ
    り、但し、該ホモポリマーまたはコポリマーの平均分子
    量（重量平均）は１０００─５００，０００であり、お
    よびＣＯＯＨ基の量は最大０．４ｍｏｌ／ｋｇである、
    請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 成分（ａ）が、Ｒ1 およびＲ2 が水素原
    子を表しおよびＲ3が水素原子またはメチル基を表す、
    式Ｉａで表される反復構造単位からなるホモポリマーま
    たはコポリマーの少なくとも１種である請求項２に記載
    の組成物。
  4. 【請求項４】 成分（ａ）が式III （式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は請求項２で定義された
    と同じ意味を表す。）で表される反復構造単位からなる
    ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも１種である
    請求項２に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 成分（ａ）が、Ｒ1 およびＲ2 が水素原
    子を表しおよびＲ3が水素原子またはメチル基を表す、
    式III の反復構造単位からなるホモポリマーまたはコポ
    リマーの少なくとも１種である請求項４に記載の組成
    物。
  6. 【請求項６】 成分（ｂ）が下式IIａで表される反復構
    造単位の５−４０重量％および下式IIｂで表される反復
    構造単位の９５−６０重量％ （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、Ｒ11お
    よびＸは請求項２で定義されたと同じ意味を表す。）か
    らなる該コポリマーの少なくとも１種であり、但し、該
    コポリマーの平均分子量（重量平均）は１０００─５０
    ０，０００ダルトンであり、カルボキシル基の含量は
    ０．４０ないし５．５０ｍｏｌ／ｋｇである、請求項２
    に記載の組成物。
  7. 【請求項７】 成分（ｂ）が、Ｒ1 およびＲ2 が水素原
    子を表しおよびＲ3が水素原子またはメチル基を表しお
    よびＸが直接結合を表す、式（IIａ）で表される反復構
    造単位からなるホモポリマーまたはコポリマーの少なく
    とも１種である請求項６に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 成分（ｂ）が、Ｒ8 およびＲ9 が水素原
    子を表し、Ｒ10が水素原子またはメチル基を表しおよび
    Ｒ11がフェニル基または−ＣＯＯＲ12（式中、Ｒ12は炭
    素原子数１ないし１８のアルキル基を表す。）を表す、
    式（IIｂ）で表される反復構造単位からなるコポリマー
    の少なくとも１種、あるいは式 （式中、Ｒ15はフェニル基を表す。）で表される反復構
    造単位からなるコポリマーの少なくとも１種である請求
    項６項記載の組成物。
  9. 【請求項９】 成分（ａ）が、式Ｉａで表される反復構
    造単位２０−１００重量％および式Ｉｂで表される反復
    構造単位８０−０重量％からなるホモポリマーまたはコ
    ポリマーの少なくとも１種である、請求項２に記載の組
    成物。
  10. 【請求項１０】 成分（ｂ）が式IIａで表される反復構
    造単位５ないし３５重量％および式IIｂで表される反復
    構造単位９５ないし６５重量％からなるコポリマーの少
    なくとも１種である、請求項６に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 成分（ａ）＋（ｂ）の総計に基づい
    て、成分（ａ）１０−９５重量％および成分（ｂ）９０
    −５重量％からなる請求項１に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 成分（ｃ）が感光性ジアゾニウム、ス
    ルホニウム、スルホキソニウムまたはヨードニウム塩ま
    たは感光性スルホン酸エステルである請求項１に記載の
    組成物。
  13. 【請求項１３】 成分（ｃ）がトリフェニルスルホニウ
    ム、トリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルス
    ルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニ
    ルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェ
    ニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネートである
    か、または （式中、ｍは１ないし１０の整数を表す。）で表される
    スルホニウムイオンのヘキサフルオロホスフェートもし
    くはヘキサフルオロアンチモネートである請求項１に記
    載の組成物。
  14. 【請求項１４】 成分（ｄ）はメトキシプロピルアセテ
    ートである請求項１に記載の組成物。
  15. 【請求項１５】 請求項１に記載の組成物を用いて基材
    を塗布し、溶媒の除去後得られたフィルムを画像様に露
    光しおよび続いて露光されたフィルムを水性アルカリ媒
    体中で現像することからなる、回路板上におけるレリー
    フ構造の製造方法。
  16. 【請求項１６】 以下の段階 （Ａ）公知の方法による液体レジストの施用により銅積
    層基材を請求項１に記載の組成物を用いて塗布し； （Ｂ）３０℃ないし１３０℃の温度で乾燥することによ
    り溶媒を除去し； （Ｃ）マスクを通して化学線に露光するかまたは直接レ
    ーザー照射によって露光し； （Ｄ）水性アルカリまたは半水性アルカリ（semiaqueou
    s-alkaline) 現像液を使用して現像し； （Ｅ）酸性または弱アルカリエッチング剤を用いてエッ
    チングし； （Ｆ）強水性塩基および／または有機溶媒を用いたスト
    リッピングにより残存しているフォトレジストコーティ
    ングの除去からなる請求項１５に記載の方法。
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