JPH0855378A - 光ヘッド - Google Patents
光ヘッドInfo
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- JPH0855378A JPH0855378A JP6193298A JP19329894A JPH0855378A JP H0855378 A JPH0855378 A JP H0855378A JP 6193298 A JP6193298 A JP 6193298A JP 19329894 A JP19329894 A JP 19329894A JP H0855378 A JPH0855378 A JP H0855378A
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- optical head
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- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 良好なフォーカスエラー信号が得られ、かつ
全体を小型にできる光ヘッドを提供する。 【構成】 半導体レーザ1からの出射光を、複合プリズ
ム2のガラスプリズム3側から入射させて、その誘電体
膜5で反射させた後、集光手段6,7 を経て光磁気記録媒
体8にスポットとして照射し、その戻り光を集光手段6,
7 を経て複合プリズム2のガラスプリズム3側から収束
光として入射させて、誘電体膜5を透過する戻り光を複
合プリズム2の複屈折性プリズム4により常光束と異常
光束とに分離し、これらをそれぞれ第1,第2の光検出
器11,12で受光して、情報の再生信号、フォーカスエラ
ー信号およびトラッキングエラー信号を得る光ヘッドに
おいて、常光束のコマ収差を抑制して非点収差を増加さ
せると共に、異常光束のコマ収差および非点収差を抑制
する収差制御手段9を有することを特徴とする。
全体を小型にできる光ヘッドを提供する。 【構成】 半導体レーザ1からの出射光を、複合プリズ
ム2のガラスプリズム3側から入射させて、その誘電体
膜5で反射させた後、集光手段6,7 を経て光磁気記録媒
体8にスポットとして照射し、その戻り光を集光手段6,
7 を経て複合プリズム2のガラスプリズム3側から収束
光として入射させて、誘電体膜5を透過する戻り光を複
合プリズム2の複屈折性プリズム4により常光束と異常
光束とに分離し、これらをそれぞれ第1,第2の光検出
器11,12で受光して、情報の再生信号、フォーカスエラ
ー信号およびトラッキングエラー信号を得る光ヘッドに
おいて、常光束のコマ収差を抑制して非点収差を増加さ
せると共に、異常光束のコマ収差および非点収差を抑制
する収差制御手段9を有することを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、光磁気記録媒体に対
して情報の記録再生を行う光ヘッドに関するものであ
る。
して情報の記録再生を行う光ヘッドに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】例えば、光磁気記録媒体に記録された情
報を再生する光ヘッドにおいては、半導体レーザからの
読み取り光を対物レンズ経て光磁気記録媒体にスポット
状に照射し、この光磁気記録媒体で反射される戻り光
を、偏光方向が互いに直交する二つの光束に分離して、
それらの光束の強度変化から情報の再生信号を検出する
必要があると共に、その再生信号を正確に検出するため
に、光磁気記録媒体からの戻り光に基づいて、対物レン
ズの光磁気記録媒体に対する相対的位置ずれを表すフォ
ーカスエラー信号およびトラッキングエラー信号を検出
する必要がある。
報を再生する光ヘッドにおいては、半導体レーザからの
読み取り光を対物レンズ経て光磁気記録媒体にスポット
状に照射し、この光磁気記録媒体で反射される戻り光
を、偏光方向が互いに直交する二つの光束に分離して、
それらの光束の強度変化から情報の再生信号を検出する
必要があると共に、その再生信号を正確に検出するため
に、光磁気記録媒体からの戻り光に基づいて、対物レン
ズの光磁気記録媒体に対する相対的位置ずれを表すフォ
ーカスエラー信号およびトラッキングエラー信号を検出
する必要がある。
【0003】かかる光ヘッドの従来例として、例えば、
特開平5−334760号公報には、光磁気記録媒体か
らの戻り光を、複合プリズム素子を用いて、偏光方向が
互いに直交する二つの光束に分離し、これらの光束の受
光出力に基づいて情報の再生信号、フォーカスエラー信
号およびトラッキングエラー信号を検出するようにした
ものが提案されている。
特開平5−334760号公報には、光磁気記録媒体か
らの戻り光を、複合プリズム素子を用いて、偏光方向が
互いに直交する二つの光束に分離し、これらの光束の受
光出力に基づいて情報の再生信号、フォーカスエラー信
号およびトラッキングエラー信号を検出するようにした
ものが提案されている。
【0004】図12は、かかる特開平5−334760
号公報に開示されている光ヘッドの構成を簡略化して示
すものである。この光ヘッドにおいては、半導体レーザ
50からの光ビームを、第1のプリズム51に入射させ
て偏光膜53で反射させることにより、光軸方向を変化
させて第1のプリズム51から出射させ、この第1のプ
リズム51から出射する光ビームを、対物レンズ54を
経て光磁気ディスク55にスポット状に照射している。
号公報に開示されている光ヘッドの構成を簡略化して示
すものである。この光ヘッドにおいては、半導体レーザ
50からの光ビームを、第1のプリズム51に入射させ
て偏光膜53で反射させることにより、光軸方向を変化
させて第1のプリズム51から出射させ、この第1のプ
リズム51から出射する光ビームを、対物レンズ54を
経て光磁気ディスク55にスポット状に照射している。
【0005】また、光磁気ディスク55で反射される戻
り光は、対物レンズ54および第1のプリズム51を経
て偏光膜53に入射させ、ここで往路と分離して第2の
プリズム52に入射させることにより、常光成分αと異
常光成分βとに分離し、この第2のプリズム52から出
射される常光成分αおよび異常光成分βを、受光基板5
6上の受光部57および58で分離して受光するように
している。
り光は、対物レンズ54および第1のプリズム51を経
て偏光膜53に入射させ、ここで往路と分離して第2の
プリズム52に入射させることにより、常光成分αと異
常光成分βとに分離し、この第2のプリズム52から出
射される常光成分αおよび異常光成分βを、受光基板5
6上の受光部57および58で分離して受光するように
している。
【0006】ここで、第1のプリズム51は、屈折率が
1.51のガラス材料BK−7で形成され、第2のプリ
ズム52は、常光の屈折率が1.54、異常光の屈折率
が1.55の水晶で形成され、その光学軸は、直交座標
x−yに対して45°傾けて設定されていると共に、頂
角γは90°以下となっている。また、受光部57およ
び58は、それぞれ4分割の受光検出部をもって構成さ
れている(同公報の段落〔0013〕参照)。
1.51のガラス材料BK−7で形成され、第2のプリ
ズム52は、常光の屈折率が1.54、異常光の屈折率
が1.55の水晶で形成され、その光学軸は、直交座標
x−yに対して45°傾けて設定されていると共に、頂
角γは90°以下となっている。また、受光部57およ
び58は、それぞれ4分割の受光検出部をもって構成さ
れている(同公報の段落〔0013〕参照)。
【0007】この光ヘッドにおいては、受光部57,5
8の出力に基づいて、差動法により情報再生信号を、プ
ッシュプル法によりトラッキングエラー信号を得ると共
に、第2のプリズム52から出射される常光成分αおよ
び異常光成分βが、第2のプリズム52の出射面の傾斜
によって非点収差を有するのを利用して、非点収差法に
よりフォーカスエラー信号を得るようにしている(同公
報の段落〔0017〕参照)。
8の出力に基づいて、差動法により情報再生信号を、プ
ッシュプル法によりトラッキングエラー信号を得ると共
に、第2のプリズム52から出射される常光成分αおよ
び異常光成分βが、第2のプリズム52の出射面の傾斜
によって非点収差を有するのを利用して、非点収差法に
よりフォーカスエラー信号を得るようにしている(同公
報の段落〔0017〕参照)。
【0008】また、従来の光ヘッドとして、特公平5−
22974号公報には、図13に示すようなものが提案
されている。この光ヘッドにおいては、光源60からの
レーザ光を、レンズ61を経てハーフビームスプリッタ
62に入射させ、その反射面で反射される光束を対物レ
ンズ63によってディスク64にスポット状に照射して
いる。また、ディスク64での反射光は、対物レンズ6
3を経てハーフビームスプリッタ62に入射させ、その
透過光をレンズ65を経て光学素子66に入射させてい
る。
22974号公報には、図13に示すようなものが提案
されている。この光ヘッドにおいては、光源60からの
レーザ光を、レンズ61を経てハーフビームスプリッタ
62に入射させ、その反射面で反射される光束を対物レ
ンズ63によってディスク64にスポット状に照射して
いる。また、ディスク64での反射光は、対物レンズ6
3を経てハーフビームスプリッタ62に入射させ、その
透過光をレンズ65を経て光学素子66に入射させてい
る。
【0009】光学素子66は、光学的に透明でかつ互い
に異なる屈折率n1,n2を有する2つの透光基材(媒
体)を、ディスク64で反射される入射光に対する入射
境界面Aと、出射境界面Cとが非平行となるように、境
界面Bにおいて偏光膜67を介して接合して構成されて
いる。この光学素子66は、入射境界面Aがディスク6
4からの入射光の光軸に対して垂直で、レーザ光の偏光
面に対して45°の方位となるように配置され、ディス
ク64で反射される入射光を、その偏光膜67で透過光
と反射光とに分離して、透過光を4分割受光領域を有す
る光検出器68で受光し、反射光を光検出器69でそれ
ぞれ受光して、これら光検出器68,69の検出出力の
差から光磁気情報信号を検出し、光検出器68の出力に
基づいて非点収差法によりフォーカスエラー信号を検出
するようにしている。すなわち、この光ヘッドにおいて
は、良好なフォーカスエラー信号を得るために、光学素
子66の入射境界面Aと出射境界面Cとを非平行とする
ことにより、光検出器68に入射する復路の光学系にお
いてのみ非点収差を発生させると共に、コマ収差の発生
を抑制して、理想的なスポット形状を得るようにしてい
る(同公報第4欄第15〜24行参照)。
に異なる屈折率n1,n2を有する2つの透光基材(媒
体)を、ディスク64で反射される入射光に対する入射
境界面Aと、出射境界面Cとが非平行となるように、境
界面Bにおいて偏光膜67を介して接合して構成されて
いる。この光学素子66は、入射境界面Aがディスク6
4からの入射光の光軸に対して垂直で、レーザ光の偏光
面に対して45°の方位となるように配置され、ディス
ク64で反射される入射光を、その偏光膜67で透過光
と反射光とに分離して、透過光を4分割受光領域を有す
る光検出器68で受光し、反射光を光検出器69でそれ
ぞれ受光して、これら光検出器68,69の検出出力の
差から光磁気情報信号を検出し、光検出器68の出力に
基づいて非点収差法によりフォーカスエラー信号を検出
するようにしている。すなわち、この光ヘッドにおいて
は、良好なフォーカスエラー信号を得るために、光学素
子66の入射境界面Aと出射境界面Cとを非平行とする
ことにより、光検出器68に入射する復路の光学系にお
いてのみ非点収差を発生させると共に、コマ収差の発生
を抑制して、理想的なスポット形状を得るようにしてい
る(同公報第4欄第15〜24行参照)。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】図12に示した従来の
光ヘッドにおいては、第2のプリズム52の出射面を傾
斜(頂角γを90°以下)させることにより、常光成分
αおよび異常光成分βに非点収差を与え、その非点収差
を利用してフォーカスエラー信号を得るようにしてい
る。しかし、このように、第2のプリズム52の出射面
を傾斜させると、非点収差以外にコマ収差も発生するた
め、良好なフォーカスエラー信号が得られ難いという問
題がある。
光ヘッドにおいては、第2のプリズム52の出射面を傾
斜(頂角γを90°以下)させることにより、常光成分
αおよび異常光成分βに非点収差を与え、その非点収差
を利用してフォーカスエラー信号を得るようにしてい
る。しかし、このように、第2のプリズム52の出射面
を傾斜させると、非点収差以外にコマ収差も発生するた
め、良好なフォーカスエラー信号が得られ難いという問
題がある。
【0011】また、図13に示した従来の光ヘッドにお
いては、ディスク64で反射される光束を、光学素子6
6の偏光膜67で透過光と反射光とに分離し、これらを
光検出器68,69でそれぞれ受光するようにしている
ため、光検出器68,69が大きく離間して、光ヘッド
が大型化するという問題がある。しかも、かかる光ヘッ
ドにおいて、光検出器68上で理想的なスポットを得る
ためには、光学素子66に入射する光束の主光線が偏光
膜67に入射する位置と、その光束が出射境界面Cを経
て収束する仮想収束点との間の距離Pを、P≒34mmと
長くしなければならないため(同公報第5欄第38〜4
2行参照)、光ヘッドがより大型化するという問題があ
る。
いては、ディスク64で反射される光束を、光学素子6
6の偏光膜67で透過光と反射光とに分離し、これらを
光検出器68,69でそれぞれ受光するようにしている
ため、光検出器68,69が大きく離間して、光ヘッド
が大型化するという問題がある。しかも、かかる光ヘッ
ドにおいて、光検出器68上で理想的なスポットを得る
ためには、光学素子66に入射する光束の主光線が偏光
膜67に入射する位置と、その光束が出射境界面Cを経
て収束する仮想収束点との間の距離Pを、P≒34mmと
長くしなければならないため(同公報第5欄第38〜4
2行参照)、光ヘッドがより大型化するという問題があ
る。
【0012】ここで、図13に示した光学素子66の構
成を、図12に示した光ヘッドに応用して、コマ収差を
補正することが考えられるが、このような応用は実際に
は容易ではない。なぜなら、図13の光学素子66は、
2つの媒体の屈折率n1,n2が一定であることを前提
に成り立っている(特公平5−22974号公報第5欄
の数式参照)のに対して、図12に示した光ヘッドの第
2のプリズム52は、異方性光学材料からなり、常光と
異常光とで屈折率が異なると共に、異常光はその光線の
進行方向によっても屈折率が異なるため、上記の特公平
5−22974号公報第5欄に記載されている数式があ
てはまらない。
成を、図12に示した光ヘッドに応用して、コマ収差を
補正することが考えられるが、このような応用は実際に
は容易ではない。なぜなら、図13の光学素子66は、
2つの媒体の屈折率n1,n2が一定であることを前提
に成り立っている(特公平5−22974号公報第5欄
の数式参照)のに対して、図12に示した光ヘッドの第
2のプリズム52は、異方性光学材料からなり、常光と
異常光とで屈折率が異なると共に、異常光はその光線の
進行方向によっても屈折率が異なるため、上記の特公平
5−22974号公報第5欄に記載されている数式があ
てはまらない。
【0013】この発明は、上述した従来の種々の問題点
を解決でき、良好なフォーカスエラー信号が得られると
共に、全体を小型にできるよう適切に構成した光ヘッド
を提供することを目的とするものである。
を解決でき、良好なフォーカスエラー信号が得られると
共に、全体を小型にできるよう適切に構成した光ヘッド
を提供することを目的とするものである。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明は、半導体レーザからの出射光を、ガラス
プリズムと複屈折性プリズムとを誘電体膜を介して貼り
合わせてなる複合プリズムの前記ガラスプリズム側から
入射させて、前記誘電体膜で反射させた後、集光手段を
経て光磁気記録媒体にスポットとして照射し、この光磁
気記録媒体で反射され、前記集光手段で集光される戻り
光を、前記複合プリズムの前記ガラスプリズム側から収
束光として入射させて、その少なくとも一部を前記誘電
体膜を透過させて前記複屈折性プリズムにより常光束と
異常光束とに分離し、これら常光束および異常光束をそ
れぞれ第1の光検出器および第2の光検出器で受光し
て、情報の再生信号、フォーカスエラー信号およびトラ
ッキングエラー信号を得るようにした光ヘッドにおい
て、前記常光束のコマ収差を抑制して非点収差を増加さ
せると共に、前記異常光束のコマ収差および非点収差を
抑制する収差制御手段を有することを特徴とするもので
ある。
め、この発明は、半導体レーザからの出射光を、ガラス
プリズムと複屈折性プリズムとを誘電体膜を介して貼り
合わせてなる複合プリズムの前記ガラスプリズム側から
入射させて、前記誘電体膜で反射させた後、集光手段を
経て光磁気記録媒体にスポットとして照射し、この光磁
気記録媒体で反射され、前記集光手段で集光される戻り
光を、前記複合プリズムの前記ガラスプリズム側から収
束光として入射させて、その少なくとも一部を前記誘電
体膜を透過させて前記複屈折性プリズムにより常光束と
異常光束とに分離し、これら常光束および異常光束をそ
れぞれ第1の光検出器および第2の光検出器で受光し
て、情報の再生信号、フォーカスエラー信号およびトラ
ッキングエラー信号を得るようにした光ヘッドにおい
て、前記常光束のコマ収差を抑制して非点収差を増加さ
せると共に、前記異常光束のコマ収差および非点収差を
抑制する収差制御手段を有することを特徴とするもので
ある。
【0015】前記収差制御手段を、前記集光手段が前記
光磁気記録媒体に対して合焦状態にあるときに、前記第
1の光検出器に入射する前記常光束の断面と、前記第2
の光検出器に入射する前記異常光束の断面とが、ほぼ等
しい大きさとなるよう構成するのが、信号成分を増幅
し、ノイズ成分や組み立て誤差によるフォーカスオフセ
ット成分を減少したフォーカスエラー信号を得る点で好
ましい。
光磁気記録媒体に対して合焦状態にあるときに、前記第
1の光検出器に入射する前記常光束の断面と、前記第2
の光検出器に入射する前記異常光束の断面とが、ほぼ等
しい大きさとなるよう構成するのが、信号成分を増幅
し、ノイズ成分や組み立て誤差によるフォーカスオフセ
ット成分を減少したフォーカスエラー信号を得る点で好
ましい。
【0016】さらに、前記半導体レーザと前記複合プリ
ズムとの間に配置され、前記半導体レーザからの出射光
を1本のメインビームと2本のサブビームとに分割する
回折素子と、前記第1および第2の光検出器の少なくと
も一方に設けたサブビーム用受光領域とを有し、前記メ
インビームおよびサブビームを、それらが前記光磁気記
録媒体の情報トラックに対して所定の角度を成して並ぶ
ように、前記集光手段により前記光磁気記録媒体にスポ
ットとして照射すると共に、前記光磁気記録媒体で反射
される前記サブビームの戻り光を、前記サブビーム用受
光領域で受光して、その出力に基づいて前記トラッキン
グエラー信号を検出するよう構成するのが、前記トラッ
キングエラー信号を安定して得る点で好ましい。
ズムとの間に配置され、前記半導体レーザからの出射光
を1本のメインビームと2本のサブビームとに分割する
回折素子と、前記第1および第2の光検出器の少なくと
も一方に設けたサブビーム用受光領域とを有し、前記メ
インビームおよびサブビームを、それらが前記光磁気記
録媒体の情報トラックに対して所定の角度を成して並ぶ
ように、前記集光手段により前記光磁気記録媒体にスポ
ットとして照射すると共に、前記光磁気記録媒体で反射
される前記サブビームの戻り光を、前記サブビーム用受
光領域で受光して、その出力に基づいて前記トラッキン
グエラー信号を検出するよう構成するのが、前記トラッ
キングエラー信号を安定して得る点で好ましい。
【0017】さらに、前記複合プリズムの前記ガラスプ
リズム側より入射する前記半導体レーザからの出射光の
うち、前記誘電体膜を透過して前記複屈折性プリズム側
より出射する光束を受光する第3の光検出器を設けるの
が、この第3の光検出器の出力に基づいて前記半導体レ
ーザの出射光のパワーを制御する点で好ましい。
リズム側より入射する前記半導体レーザからの出射光の
うち、前記誘電体膜を透過して前記複屈折性プリズム側
より出射する光束を受光する第3の光検出器を設けるの
が、この第3の光検出器の出力に基づいて前記半導体レ
ーザの出射光のパワーを制御する点で好ましい。
【0018】前記第1および第2の光検出器を、同一の
半導体基板上に形成するのが、部品点数を削減して、安
価に構成する点で好ましい。
半導体基板上に形成するのが、部品点数を削減して、安
価に構成する点で好ましい。
【0019】前記第1、第2および第3の光検出器を、
同一の半導体基板上に形成するのが、部品点数を削減し
て、安価に構成する点で好ましい。
同一の半導体基板上に形成するのが、部品点数を削減し
て、安価に構成する点で好ましい。
【0020】
【作用】この発明において、半導体レーザからの出射光
は、ガラスプリズムと複屈折性プリズムとを誘電体膜を
介して貼り合わせてなる複合プリズムのガラスプリズム
側から入射し、誘電体膜で反射された後、集光手段によ
り光磁気記録媒体にスポットとして照射される。また、
光磁気記録媒体で反射され、集光手段で集光される戻り
光は、複合プリズムのガラスプリズム側から収束光とし
て入射し、その少なくとも一部が誘電体膜を透過して複
屈折性プリズムにより常光束と異常光束とに分離され
る。これら常光束および異常光束は、収差制御手段によ
り、常光束のコマ収差が抑制されて非点収差が増加され
ると共に、異常光束のコマ収差および非点収差が抑制さ
れて、第1および第2の光検出器でそれぞれ受光され、
これら第1,第2の光検出器の出力に基づいて情報の再
生信号、フォーカスエラー信号およびトラッキングエラ
ー信号が検出される。
は、ガラスプリズムと複屈折性プリズムとを誘電体膜を
介して貼り合わせてなる複合プリズムのガラスプリズム
側から入射し、誘電体膜で反射された後、集光手段によ
り光磁気記録媒体にスポットとして照射される。また、
光磁気記録媒体で反射され、集光手段で集光される戻り
光は、複合プリズムのガラスプリズム側から収束光とし
て入射し、その少なくとも一部が誘電体膜を透過して複
屈折性プリズムにより常光束と異常光束とに分離され
る。これら常光束および異常光束は、収差制御手段によ
り、常光束のコマ収差が抑制されて非点収差が増加され
ると共に、異常光束のコマ収差および非点収差が抑制さ
れて、第1および第2の光検出器でそれぞれ受光され、
これら第1,第2の光検出器の出力に基づいて情報の再
生信号、フォーカスエラー信号およびトラッキングエラ
ー信号が検出される。
【0021】
【実施例】図1は、この発明の第1実施例を示すもので
ある。この光ヘッドは、半導体レーザ1、複合プリズム
2、集光手段を構成するコリメータレンズ6および対物
レンズ7、収差制御手段9、第1の光検出器11、第2
の光検出器12およびサブマウント15を有する。第
1,第2の光検出器11,12は、同一の半導体基板1
0に形成し、この半導体基板10にサブマウント15を
介して半導体レーザ1を固定すると共に、収差制御手段
9を介して複合プリズム2を固定する。
ある。この光ヘッドは、半導体レーザ1、複合プリズム
2、集光手段を構成するコリメータレンズ6および対物
レンズ7、収差制御手段9、第1の光検出器11、第2
の光検出器12およびサブマウント15を有する。第
1,第2の光検出器11,12は、同一の半導体基板1
0に形成し、この半導体基板10にサブマウント15を
介して半導体レーザ1を固定すると共に、収差制御手段
9を介して複合プリズム2を固定する。
【0022】複合プリズム2は、ガラスプリズム3(例
えば、BK7)と、複屈折性プリズム4(例えば、Li
NbO3 の結晶)とを、例えば、P偏光成分はほぼ10
0%透過し、S偏光成分は70%以上を反射、30%未
満を透過する特性を有する誘電体膜5を介して接合して
構成する。また、収差制御手段9は、例えば、BK7よ
りなるガラスプリズムをもって構成する。
えば、BK7)と、複屈折性プリズム4(例えば、Li
NbO3 の結晶)とを、例えば、P偏光成分はほぼ10
0%透過し、S偏光成分は70%以上を反射、30%未
満を透過する特性を有する誘電体膜5を介して接合して
構成する。また、収差制御手段9は、例えば、BK7よ
りなるガラスプリズムをもって構成する。
【0023】この実施例では、半導体レーザからの出射
光を、発散光として複合プリズム2のガラスプリズム3
側から誘電体膜5に対してS偏光で入射させ、ここで反
射される光束をガラスプリズム3側から出射させて、コ
リメータレンズ6および対物レンズ7を経て光磁気記録
媒体8にスポットとして照射する。なお、厳密には、誘
電体膜5で反射される光束は、誘電体膜5および複屈折
性プリズム4の影響で偏光状態が変化するが、その影響
は小さく、しかもこの現象を説明するためには複雑な計
算を要すると共に、この現象を無視してもこの発明の本
質を失うものではないので、ここではこの現象を無視し
て説明することにする。
光を、発散光として複合プリズム2のガラスプリズム3
側から誘電体膜5に対してS偏光で入射させ、ここで反
射される光束をガラスプリズム3側から出射させて、コ
リメータレンズ6および対物レンズ7を経て光磁気記録
媒体8にスポットとして照射する。なお、厳密には、誘
電体膜5で反射される光束は、誘電体膜5および複屈折
性プリズム4の影響で偏光状態が変化するが、その影響
は小さく、しかもこの現象を説明するためには複雑な計
算を要すると共に、この現象を無視してもこの発明の本
質を失うものではないので、ここではこの現象を無視し
て説明することにする。
【0024】また、光磁気記録媒体8で反射される戻り
光は、対物レンズ7およびコリメータレンズ6を経て収
束光として複合プリズム2のガラスプリズム3側より入
射させる。ここで、複合プリズム2に入射する戻り光
は、光磁気記録媒体8で反射される際に、カー効果によ
り偏光方向が±θkだけ回転するので、P偏光成分を含
むことになる。したがって、戻り光のP偏光成分は、そ
のほぼ100%が誘電体膜5を透過することになり、S
偏光成分は、30%未満が誘電体膜5を透過することに
なる。
光は、対物レンズ7およびコリメータレンズ6を経て収
束光として複合プリズム2のガラスプリズム3側より入
射させる。ここで、複合プリズム2に入射する戻り光
は、光磁気記録媒体8で反射される際に、カー効果によ
り偏光方向が±θkだけ回転するので、P偏光成分を含
むことになる。したがって、戻り光のP偏光成分は、そ
のほぼ100%が誘電体膜5を透過することになり、S
偏光成分は、30%未満が誘電体膜5を透過することに
なる。
【0025】この誘電体膜5を透過する戻り光は、複屈
折性プリズム4により常光束と異常光束とに分離し、そ
の複屈折性プリズム4から出射される常光束および異常
光束を、収差制御手段9を介して第1の光検出器11お
よび第2の光検出器12でそれぞれ受光する。なお、収
差制御手段9は、その常光束および異常光束が出射する
面9aを、戻り光が複合プリズム2のガラスプリズム3
に入射する面3aに対して傾斜させる。
折性プリズム4により常光束と異常光束とに分離し、そ
の複屈折性プリズム4から出射される常光束および異常
光束を、収差制御手段9を介して第1の光検出器11お
よび第2の光検出器12でそれぞれ受光する。なお、収
差制御手段9は、その常光束および異常光束が出射する
面9aを、戻り光が複合プリズム2のガラスプリズム3
に入射する面3aに対して傾斜させる。
【0026】以下、複屈折性プリズム4および収差制御
手段9の作用について詳細に説明する。なお、説明を容
易にするため、半導体レーザ1から出射して誘電体膜5
に入射する光束の光軸をx軸、誘電体膜5で反射される
光束の光軸をz軸、これらx,z軸と垂直な軸をy軸、
光軸と誘電体膜5との交点を座標原点とする座標軸を定
義する。
手段9の作用について詳細に説明する。なお、説明を容
易にするため、半導体レーザ1から出射して誘電体膜5
に入射する光束の光軸をx軸、誘電体膜5で反射される
光束の光軸をz軸、これらx,z軸と垂直な軸をy軸、
光軸と誘電体膜5との交点を座標原点とする座標軸を定
義する。
【0027】複屈折性プリズム4は、その光学軸の方向
を、x−y平面に平行で、x軸から45°傾いた方向と
する。ただし、これは説明を簡単にするために、便宜的
に決めたもので、実際には、光学軸の方向は、常光束と
異常光束との強度が時間平均的にほぼ等しく、かつ、常
光束と異常光束との分離が大きくなる方向に決定する
が、その方向は、偏光膜5の特性によっても(上記の説
明で無視した誘電体膜5で反射される光の偏光状態の変
化によっても)異なるので、正確に決めるには複雑な計
算を要することになる。しかし、結果的には、光学軸の
方向を、上記のように設定しても、計算値とそれほど変
わらない。異常光束の光軸は、厳密には、z−x平面内
に存在しないが、そのずれ量は小さいので、無視できる
ものとして説明する。
を、x−y平面に平行で、x軸から45°傾いた方向と
する。ただし、これは説明を簡単にするために、便宜的
に決めたもので、実際には、光学軸の方向は、常光束と
異常光束との強度が時間平均的にほぼ等しく、かつ、常
光束と異常光束との分離が大きくなる方向に決定する
が、その方向は、偏光膜5の特性によっても(上記の説
明で無視した誘電体膜5で反射される光の偏光状態の変
化によっても)異なるので、正確に決めるには複雑な計
算を要することになる。しかし、結果的には、光学軸の
方向を、上記のように設定しても、計算値とそれほど変
わらない。異常光束の光軸は、厳密には、z−x平面内
に存在しないが、そのずれ量は小さいので、無視できる
ものとして説明する。
【0028】複屈折性プリズム4は、常光束に対して
は、通常のガラスと同様に作用するので、常光束には複
合プリズム2により非点収差およびコマ収差が発生し、
その非点収差の焦線方向は、x軸方向またはy軸方向に
あり、コマ収差の尾の方向は、x軸方向にある。これに
対し、異常光束に対しては、複屈折性プリズム4は、光
線の進行方向毎に屈折率が異なるので、常光束とは異な
った収差、特に非点収差を発生する。この場合、複屈折
性プリズム4の光学軸は、x軸に対して45°傾いてい
るので、異常光束は、x軸に対して±45°方向の非点
収差が付加されることになる。
は、通常のガラスと同様に作用するので、常光束には複
合プリズム2により非点収差およびコマ収差が発生し、
その非点収差の焦線方向は、x軸方向またはy軸方向に
あり、コマ収差の尾の方向は、x軸方向にある。これに
対し、異常光束に対しては、複屈折性プリズム4は、光
線の進行方向毎に屈折率が異なるので、常光束とは異な
った収差、特に非点収差を発生する。この場合、複屈折
性プリズム4の光学軸は、x軸に対して45°傾いてい
るので、異常光束は、x軸に対して±45°方向の非点
収差が付加されることになる。
【0029】このように、それぞれ異なる収差を有する
常光束および異常光束が、収差制御手段9に入射して、
その面9aをそれぞれ屈折透過すると、常光束は、コマ
収差が抑制されて、非点収差が増加され、また、異常光
束は、コマ収差および非点収差が共に抑制されて、それ
ぞれ第1,第2の光検出器11,12に入射する。
常光束および異常光束が、収差制御手段9に入射して、
その面9aをそれぞれ屈折透過すると、常光束は、コマ
収差が抑制されて、非点収差が増加され、また、異常光
束は、コマ収差および非点収差が共に抑制されて、それ
ぞれ第1,第2の光検出器11,12に入射する。
【0030】ここで、異常光束の非点収差が抑制される
ことは、定性的には、x,y軸方向の非点収差とx軸に
対して±45°方向の非点収差とが重なりあうことで説
明できるが、定量的には複雑な計算を要する。実際に、
収差が制御される様子は、計算機による光線追跡を用い
て確認することができる。
ことは、定性的には、x,y軸方向の非点収差とx軸に
対して±45°方向の非点収差とが重なりあうことで説
明できるが、定量的には複雑な計算を要する。実際に、
収差が制御される様子は、計算機による光線追跡を用い
て確認することができる。
【0031】図3は、第1、第2の光検出器11,12
上での常光束,異常光束のそれぞれのスポットダイアグ
ラムを示すもので、図3(b)は、対物レンズ7と光磁
気記録媒体8とが合焦状態にあるときのスポットダイア
グラムを、図3(a)および(c)は、対物レンズ7と
光磁気記録媒体8とが合焦状態から互いに逆方向にデフ
ォーカスしたときのスポットダイアグラムをそれぞれ示
す。図3から明らかなように、常光束のスポット13は
コマ収差が抑制されて、非点収差が増加され、また、異
常光束のスポット14はコマ収差および非点収差が共に
抑制されていることがわかる。
上での常光束,異常光束のそれぞれのスポットダイアグ
ラムを示すもので、図3(b)は、対物レンズ7と光磁
気記録媒体8とが合焦状態にあるときのスポットダイア
グラムを、図3(a)および(c)は、対物レンズ7と
光磁気記録媒体8とが合焦状態から互いに逆方向にデフ
ォーカスしたときのスポットダイアグラムをそれぞれ示
す。図3から明らかなように、常光束のスポット13は
コマ収差が抑制されて、非点収差が増加され、また、異
常光束のスポット14はコマ収差および非点収差が共に
抑制されていることがわかる。
【0032】次に、第1,第2の光検出器11,12の
出力に基づいて、フォーカスエラー信号、トラッキング
エラー信号および情報再生信号を検出する場合について
説明する。図2は、半導体基板10上に形成した第1,
第2の光検出器11,12の平面図を示すものである。
なお、図2には、第1の光検出器11に入射する常光束
のスポット13および第2の光検出器12に入射する異
常光束のスポット14を、それぞれ便宜的に円形状に示
している(これは、後述の実施例においても同様であ
る)。
出力に基づいて、フォーカスエラー信号、トラッキング
エラー信号および情報再生信号を検出する場合について
説明する。図2は、半導体基板10上に形成した第1,
第2の光検出器11,12の平面図を示すものである。
なお、図2には、第1の光検出器11に入射する常光束
のスポット13および第2の光検出器12に入射する異
常光束のスポット14を、それぞれ便宜的に円形状に示
している(これは、後述の実施例においても同様であ
る)。
【0033】上述したように、第1の光検出器11に入
射する常光束は、収差制御手段9によりコマ収差が抑制
され、非点収差が増加しているので、この常光束を用い
てフォーカスエラー信号およびトラッキングエラー信号
を検出する場合には、第1の検出器11を4つの受光領
域11a〜11dに分割して、それぞれの出力をIa〜
Idとすれば、フォーカスエラー信号FES1は、非点
収差法により、 FES1=Ia−Ib+Ic−Id から得ることができる。また、トラッキングエラー信号
TES1は、プッシュプル法により、 TESS1=Ia+Ib−Ic−Id から得ることができる。
射する常光束は、収差制御手段9によりコマ収差が抑制
され、非点収差が増加しているので、この常光束を用い
てフォーカスエラー信号およびトラッキングエラー信号
を検出する場合には、第1の検出器11を4つの受光領
域11a〜11dに分割して、それぞれの出力をIa〜
Idとすれば、フォーカスエラー信号FES1は、非点
収差法により、 FES1=Ia−Ib+Ic−Id から得ることができる。また、トラッキングエラー信号
TES1は、プッシュプル法により、 TESS1=Ia+Ib−Ic−Id から得ることができる。
【0034】一方、第2の光検出器12に入射する異常
光束は、コマ収差と非点収差が共に抑制されているの
で、この異常光束を用いてフォーカスエラー信号および
トラッキングエラー信号を検出する場合には、第2の光
検出器12を6つの受光領域12a〜12fに分割し
て、それぞれの出力をJa〜Jfとすれば、フォーカス
エラー信号FES2は、ビームサイズ法により、 FES2=Ja−Jb+Jc+Jd−Je+Jf から得ることができる。また、トラッキングエラー信号
TES2は、同様に、プッシュプル法により、 TES2=Ja+Jb+Jc−Jd−Je−Jf から得ることができる。
光束は、コマ収差と非点収差が共に抑制されているの
で、この異常光束を用いてフォーカスエラー信号および
トラッキングエラー信号を検出する場合には、第2の光
検出器12を6つの受光領域12a〜12fに分割し
て、それぞれの出力をJa〜Jfとすれば、フォーカス
エラー信号FES2は、ビームサイズ法により、 FES2=Ja−Jb+Jc+Jd−Je+Jf から得ることができる。また、トラッキングエラー信号
TES2は、同様に、プッシュプル法により、 TES2=Ja+Jb+Jc−Jd−Je−Jf から得ることができる。
【0035】また、情報の再生信号Sは、第1,第2の
光検出器11,12の出力の差、すなわち、上記のよう
に第1の光検出器11を4つの受光領域11a〜11d
に、第2の光検出器12を6つの受光領域12a〜12
fにそれぞれ分割した場合には、 S=Ia+Ib+Ic+Id−Ja−Jb−Jc−Jd
−Je−Jf から得ることができる。
光検出器11,12の出力の差、すなわち、上記のよう
に第1の光検出器11を4つの受光領域11a〜11d
に、第2の光検出器12を6つの受光領域12a〜12
fにそれぞれ分割した場合には、 S=Ia+Ib+Ic+Id−Ja−Jb−Jc−Jd
−Je−Jf から得ることができる。
【0036】なお、フォーカスエラー信号およびトラッ
キングエラー信号は、常光束のみから、あるいは異常光
束のみから上述したようにして検出したり、常光束およ
び異常光束の双方から上述したようにして検出して、そ
れぞれの信号を加算または減算したり、あるいは常光束
からフォーカスエラー信号またはトラッキングエラー信
号を検出し、異常光束からトラッキングエラー信号また
はフォーカスエラー信号を検出する等、種々の組み合わ
せが可能である。したがって、第1,第2の光検出器1
1,12は、例えば、トラッキングエラー信号を、常光
束または異常光束からのみ検出する場合には、第1の光
検出器11または第2の光検出器12を2つの受光領域
に分割する等、所要の信号の検出に応じて、適切に分割
した受光領域をもって構成することができる。
キングエラー信号は、常光束のみから、あるいは異常光
束のみから上述したようにして検出したり、常光束およ
び異常光束の双方から上述したようにして検出して、そ
れぞれの信号を加算または減算したり、あるいは常光束
からフォーカスエラー信号またはトラッキングエラー信
号を検出し、異常光束からトラッキングエラー信号また
はフォーカスエラー信号を検出する等、種々の組み合わ
せが可能である。したがって、第1,第2の光検出器1
1,12は、例えば、トラッキングエラー信号を、常光
束または異常光束からのみ検出する場合には、第1の光
検出器11または第2の光検出器12を2つの受光領域
に分割する等、所要の信号の検出に応じて、適切に分割
した受光領域をもって構成することができる。
【0037】以上のように、この実施例によれば、常光
束および異常光束の持つ収差を、収差制御手段9で別々
に制御するようにしたので、常光束および異常光束にそ
れぞれ適したフォーカスエラー信号の検出方法、すなわ
ち、常光束を用いる場合には非点収差法、また、異常光
束を用いる場合にはビームサイズ法をそれぞれ適用する
ことができ、したがって良好なフォーカスエラー信号を
得ることができる。また、収差制御手段9で常光束およ
び異常光束を屈折透過させるようにしたので、図13の
従来の光ヘッドに比べて、第1,第2の光検出器11,
12を近づけて配置でき、したがって全体を小型にでき
る。さらに、第1,第2の光検出器11,12を同一の
半導体基板10に形成したので、これらを別々の半導体
基板に形成して、それぞれ最適な位置に配置する場合に
比べて、部品点数を削減でき、低コストでより小型の光
ヘッドを得ることができる。
束および異常光束の持つ収差を、収差制御手段9で別々
に制御するようにしたので、常光束および異常光束にそ
れぞれ適したフォーカスエラー信号の検出方法、すなわ
ち、常光束を用いる場合には非点収差法、また、異常光
束を用いる場合にはビームサイズ法をそれぞれ適用する
ことができ、したがって良好なフォーカスエラー信号を
得ることができる。また、収差制御手段9で常光束およ
び異常光束を屈折透過させるようにしたので、図13の
従来の光ヘッドに比べて、第1,第2の光検出器11,
12を近づけて配置でき、したがって全体を小型にでき
る。さらに、第1,第2の光検出器11,12を同一の
半導体基板10に形成したので、これらを別々の半導体
基板に形成して、それぞれ最適な位置に配置する場合に
比べて、部品点数を削減でき、低コストでより小型の光
ヘッドを得ることができる。
【0038】図4は、この発明の第2実施例を示すもの
である。この実施例では、第1実施例において、複合プ
リズム2の複屈折性プリズム4の常光束および異常光束
が出射する面4aを、戻り光がガラスプリズム3に入射
する面3aに対して傾斜させて、この面4aを収差制御
手段として作用させる。また、第1,第2の光検出器1
1,12は、図5に平面図を示すように、同一の半導体
基板10にそれぞれ6つの受光領域11e〜11j,1
2a〜12fをもって構成すると共に、対物レンズ7と
光磁気記録媒体8とが合焦状態にあるときに、それぞれ
等しい大きさのスポット13,14が形成されるように
配置する。さらに、半導体基板10上には台16を設
け、この台16に複合プリズム2を固定すると共に、サ
ブマウント15を介して半導体レーザ1を固定する。そ
の他の構成は、第1実施例と同様であり、第1実施例と
同じ作用を有するものには、同じ符号を付してその説明
を省略する。
である。この実施例では、第1実施例において、複合プ
リズム2の複屈折性プリズム4の常光束および異常光束
が出射する面4aを、戻り光がガラスプリズム3に入射
する面3aに対して傾斜させて、この面4aを収差制御
手段として作用させる。また、第1,第2の光検出器1
1,12は、図5に平面図を示すように、同一の半導体
基板10にそれぞれ6つの受光領域11e〜11j,1
2a〜12fをもって構成すると共に、対物レンズ7と
光磁気記録媒体8とが合焦状態にあるときに、それぞれ
等しい大きさのスポット13,14が形成されるように
配置する。さらに、半導体基板10上には台16を設
け、この台16に複合プリズム2を固定すると共に、サ
ブマウント15を介して半導体レーザ1を固定する。そ
の他の構成は、第1実施例と同様であり、第1実施例と
同じ作用を有するものには、同じ符号を付してその説明
を省略する。
【0039】この実施例においては、複屈折性プリズム
4の常光束および異常光束が出射される面4aを、ガラ
スプリズム3の面3aに対して傾斜させて、この面4a
を収差制御手段として作用させるようにしているので、
図3に示したのと同等のスポットダイアグラムを得るこ
とができる。したがって、第1の光検出器11の6つの
受光領域11e〜11jの出力を、それぞれIe〜Ij
とすれば、フォーカスエラー信号FES1は、x方向の
スポットの大きさを検出するビームサイズ法を用いて、 FES1=Ie−If+Ig+Ih−Ii+Ij から得ることができる。また、第2の光検出器12の6
つの受光領域12a〜12fのそれぞれの出力Ja〜J
fを用いて、第1実施例と同様に、フォーカスエラー信
号FES2を、ビームサイズ法を用いて、 FES2=Ja−Jb+Jc+Jd−Je+Jf から得ることができる。
4の常光束および異常光束が出射される面4aを、ガラ
スプリズム3の面3aに対して傾斜させて、この面4a
を収差制御手段として作用させるようにしているので、
図3に示したのと同等のスポットダイアグラムを得るこ
とができる。したがって、第1の光検出器11の6つの
受光領域11e〜11jの出力を、それぞれIe〜Ij
とすれば、フォーカスエラー信号FES1は、x方向の
スポットの大きさを検出するビームサイズ法を用いて、 FES1=Ie−If+Ig+Ih−Ii+Ij から得ることができる。また、第2の光検出器12の6
つの受光領域12a〜12fのそれぞれの出力Ja〜J
fを用いて、第1実施例と同様に、フォーカスエラー信
号FES2を、ビームサイズ法を用いて、 FES2=Ja−Jb+Jc+Jd−Je+Jf から得ることができる。
【0040】ここで、図3から明らかなように、対物レ
ンズ7と光磁気記録媒体8とが合焦状態から互いに逆方
向にデフォーカスすると、スポット13,14のx方向
の大きさが逆方向に変化するので、フォーカスエラー信
号FES1およびFES2の極性は、互いに反転するこ
とになる。したがって、FES1とFES2とを引き算
して、フォーカスエラー信号FESを、FES=FES
1−FES2、から得るようにすれば、信号成分を増幅
し、ノイズ成分や組み立て誤差によるフォーカスオフセ
ット成分を減少することができる。
ンズ7と光磁気記録媒体8とが合焦状態から互いに逆方
向にデフォーカスすると、スポット13,14のx方向
の大きさが逆方向に変化するので、フォーカスエラー信
号FES1およびFES2の極性は、互いに反転するこ
とになる。したがって、FES1とFES2とを引き算
して、フォーカスエラー信号FESを、FES=FES
1−FES2、から得るようにすれば、信号成分を増幅
し、ノイズ成分や組み立て誤差によるフォーカスオフセ
ット成分を減少することができる。
【0041】なお、トラッキングエラー信号について
は、第1の実施例と同様に、第1,第2の光検出器1
1,12のいずれか一方または両方からプッシュプル法
を用いて検出することができ、また、情報の再生信号に
ついては、第1の実施例と同様に、第1の光検出器11
の出力と第2の光検出器12の出力との差から得ること
ができる。
は、第1の実施例と同様に、第1,第2の光検出器1
1,12のいずれか一方または両方からプッシュプル法
を用いて検出することができ、また、情報の再生信号に
ついては、第1の実施例と同様に、第1の光検出器11
の出力と第2の光検出器12の出力との差から得ること
ができる。
【0042】この実施例によれば、複屈折性プリズム4
の常光束および異常光束が出射される面4aを、ガラス
プリズム3の面3aに対して傾斜させ、この面4aを収
差制御手段として作用させるようにしているので、第1
実施例において複合プリズム2とは別に必要であった収
差制御手段9としてのガラスプリズムが不要となり、低
コストの光ヘッドを得ることができる。また、対物レン
ズ7と光磁気記録媒体8とが合焦状態にあるときに、第
1の光検出器11上の常光束のスポット13と、第2の
光検出器12上の異常光束のスポット14とが、ほぼ等
しい大きさとなるようにしたので、各光束からそれぞれ
ビームサイズ法によって得られるフォーカスエラー信号
FES1およびFES2の極性が互いに反転する。した
がって、フォーカスエラー信号FESを、FES=FE
S1−FES2、から得るようにすれば、信号成分が増
幅され、ノイズ成分や組み立て誤差によるフォーカスオ
フセット成分が低減された良好なフォーカスエラー信号
を得ることができる。
の常光束および異常光束が出射される面4aを、ガラス
プリズム3の面3aに対して傾斜させ、この面4aを収
差制御手段として作用させるようにしているので、第1
実施例において複合プリズム2とは別に必要であった収
差制御手段9としてのガラスプリズムが不要となり、低
コストの光ヘッドを得ることができる。また、対物レン
ズ7と光磁気記録媒体8とが合焦状態にあるときに、第
1の光検出器11上の常光束のスポット13と、第2の
光検出器12上の異常光束のスポット14とが、ほぼ等
しい大きさとなるようにしたので、各光束からそれぞれ
ビームサイズ法によって得られるフォーカスエラー信号
FES1およびFES2の極性が互いに反転する。した
がって、フォーカスエラー信号FESを、FES=FE
S1−FES2、から得るようにすれば、信号成分が増
幅され、ノイズ成分や組み立て誤差によるフォーカスオ
フセット成分が低減された良好なフォーカスエラー信号
を得ることができる。
【0043】なお、この実施例では、半導体基板10上
に台16を設け、この台16に複合プリズム2およびサ
ブマウント15を固定するようにしたが、台16を省略
して、複合プリズム2およびサブマウント15を直接半
導体基板10に固定することもできる。
に台16を設け、この台16に複合プリズム2およびサ
ブマウント15を固定するようにしたが、台16を省略
して、複合プリズム2およびサブマウント15を直接半
導体基板10に固定することもできる。
【0044】図6は、この発明の第3実施例を示すもの
である。この実施例は、図1に示す構成において、半導
体レーザ1と複合プリズム2との間に、半導体レーザ1
からの出射光を1本のメインビームと2本のサブビーム
とに分割する回折素子17を設ける。また、半導体基板
10には、図7に平面図を示すように、第1の光検出器
11を、メインビームの戻り光の常光束(スポット1
3)を受光する3分割受光領域11k,11l,11m
と、一方のサブビームの戻り光の常光束(スポット1
8)を受光する受光領域11nと、他方のサブビームの
戻り光の常光束(スポット19)を受光する受光領域1
1oとをもって構成し、第2の光検出器12を、メイン
ビームの戻り光の異常光束(スポット14)を受光する
3分割受光領域12g,12h,12iと、一方のサブ
ビームの戻り光の異常光束(スポット20)を受光する
受光領域12jと、他方のサブビームの戻り光の異常光
束(スポット21)を受光する受光領域12kとをもっ
て構成する。その他の構成は、図1と同様であり、図1
と同じ作用を有するものには、同じ符号を付してその説
明を省略する。
である。この実施例は、図1に示す構成において、半導
体レーザ1と複合プリズム2との間に、半導体レーザ1
からの出射光を1本のメインビームと2本のサブビーム
とに分割する回折素子17を設ける。また、半導体基板
10には、図7に平面図を示すように、第1の光検出器
11を、メインビームの戻り光の常光束(スポット1
3)を受光する3分割受光領域11k,11l,11m
と、一方のサブビームの戻り光の常光束(スポット1
8)を受光する受光領域11nと、他方のサブビームの
戻り光の常光束(スポット19)を受光する受光領域1
1oとをもって構成し、第2の光検出器12を、メイン
ビームの戻り光の異常光束(スポット14)を受光する
3分割受光領域12g,12h,12iと、一方のサブ
ビームの戻り光の異常光束(スポット20)を受光する
受光領域12jと、他方のサブビームの戻り光の異常光
束(スポット21)を受光する受光領域12kとをもっ
て構成する。その他の構成は、図1と同様であり、図1
と同じ作用を有するものには、同じ符号を付してその説
明を省略する。
【0045】このようにして、回折素子17で分割され
る1本のメインビームおよび2本のサブビームを、複合
プリズム2、コリメータレンズ6および対物レンズ7を
経て、光磁気記録媒体8の情報トラックに対して所定の
角度を成して並ぶように、光磁気記録媒体8にスポット
として照射する。また、光磁気記録媒体8で反射される
3本の戻り光は、対物レンズ7およびコリメータレンズ
6を経て複合プリズム2によりそれぞれ常光束および異
常光束に分離し、これら3本の常光束および異常光束を
収差制御手段9を経て、第1,第2の光検出器11,1
2の対応する受光領域でそれぞれ受光する。
る1本のメインビームおよび2本のサブビームを、複合
プリズム2、コリメータレンズ6および対物レンズ7を
経て、光磁気記録媒体8の情報トラックに対して所定の
角度を成して並ぶように、光磁気記録媒体8にスポット
として照射する。また、光磁気記録媒体8で反射される
3本の戻り光は、対物レンズ7およびコリメータレンズ
6を経て複合プリズム2によりそれぞれ常光束および異
常光束に分離し、これら3本の常光束および異常光束を
収差制御手段9を経て、第1,第2の光検出器11,1
2の対応する受光領域でそれぞれ受光する。
【0046】このようにして、この実施例では、第1の
光検出器11の受光領域11k〜11oの出力をIk〜
Ioとし、第2の光検出器12の受光領域12g〜12
kの出力をJg〜Jkとして、フォーカスエラー信号F
ESを、第2実施例におけると同様にして、 FES=(Ik−Il+Im)−(Jg−Jh+Ji) から得る。また、トラッキングエラー信号TESは、3
ビーム法より、 TES=(In+Jj)−(Io+Jk) から得、情報の再生信号Sは、 S=(Ik+Il+Im)−(Jg+Jh+Ji) から得る。
光検出器11の受光領域11k〜11oの出力をIk〜
Ioとし、第2の光検出器12の受光領域12g〜12
kの出力をJg〜Jkとして、フォーカスエラー信号F
ESを、第2実施例におけると同様にして、 FES=(Ik−Il+Im)−(Jg−Jh+Ji) から得る。また、トラッキングエラー信号TESは、3
ビーム法より、 TES=(In+Jj)−(Io+Jk) から得、情報の再生信号Sは、 S=(Ik+Il+Im)−(Jg+Jh+Ji) から得る。
【0047】この実施例によれば、3ビーム法によって
トラッキングエラー信号TESを検出するので、プッシ
ュプル法に比べ、安定してトラッキングエラー信号TE
Sを得ることができる利点がある。
トラッキングエラー信号TESを検出するので、プッシ
ュプル法に比べ、安定してトラッキングエラー信号TE
Sを得ることができる利点がある。
【0048】なお、この実施例では、回折素子17を1
つの独立した素子としたが、ガラスプリズム3の半導体
レーザ1側の面に一体に形成して、複合プリズム2と兼
ねて構成することもできる。また、トラッキングエラー
信号TESは、第1の光検出器11または第2の光検出
器12のいずれか一方のみで検出するよう構成すること
もできる。
つの独立した素子としたが、ガラスプリズム3の半導体
レーザ1側の面に一体に形成して、複合プリズム2と兼
ねて構成することもできる。また、トラッキングエラー
信号TESは、第1の光検出器11または第2の光検出
器12のいずれか一方のみで検出するよう構成すること
もできる。
【0049】図8は、この発明の第4実施例を示すもの
である。この実施例は、図1に示す第1実施例におい
て、複合プリズム2のガラスプリズム3側より入射する
半導体レーザ1からの出射光のうち、誘電体膜5を透過
して複屈折性プリズム4側より出射する光束を受光する
ように、第3の光検出器22を半導体基板10上に設け
たものである。
である。この実施例は、図1に示す第1実施例におい
て、複合プリズム2のガラスプリズム3側より入射する
半導体レーザ1からの出射光のうち、誘電体膜5を透過
して複屈折性プリズム4側より出射する光束を受光する
ように、第3の光検出器22を半導体基板10上に設け
たものである。
【0050】すなわち、複合プリズム2のガラスプリズ
ム3側から、誘電体膜5にS偏光の発散光として入射す
る半導体レーザ1からの出射光は、誘電体膜5でその3
0%未満が透過して、複屈折性プリズム4側から出射す
る。なお、この光束は、実際には、複屈折性プリズムで
2つの光束に分離されるが、図面では省略している。こ
の実施例では、この光束を第3の光検出器22で受光し
て、その出力に基づいて半導体レーザ1の出射光のパワ
ーを制御する。このようにすれば、半導体レーザ1の出
射光のパワーを、所望の値に常に一定に維持することが
できる。その他の構成および作用は、図1と同様であ
る。
ム3側から、誘電体膜5にS偏光の発散光として入射す
る半導体レーザ1からの出射光は、誘電体膜5でその3
0%未満が透過して、複屈折性プリズム4側から出射す
る。なお、この光束は、実際には、複屈折性プリズムで
2つの光束に分離されるが、図面では省略している。こ
の実施例では、この光束を第3の光検出器22で受光し
て、その出力に基づいて半導体レーザ1の出射光のパワ
ーを制御する。このようにすれば、半導体レーザ1の出
射光のパワーを、所望の値に常に一定に維持することが
できる。その他の構成および作用は、図1と同様であ
る。
【0051】図9は、この発明の第5実施例を示すもの
である。この実施例は、図8に示した第4実施例におい
て、第3の光検出器22を、図10に平面図をも示すよ
うに、第1,第2の光検出器11,12とともに、同一
の半導体基板10に形成したもので、その他の構成およ
び作用は、図8と同様である。
である。この実施例は、図8に示した第4実施例におい
て、第3の光検出器22を、図10に平面図をも示すよ
うに、第1,第2の光検出器11,12とともに、同一
の半導体基板10に形成したもので、その他の構成およ
び作用は、図8と同様である。
【0052】このように、第3の光検出器22をも、第
1,第2の光検出器11,12とともに同一の半導体基
板10に形成すれば、第4実施例に比べて部品点数を削
減できるので、全体を安価にできる利点がある。
1,第2の光検出器11,12とともに同一の半導体基
板10に形成すれば、第4実施例に比べて部品点数を削
減できるので、全体を安価にできる利点がある。
【0053】なお、この発明は、上述した実施例にのみ
限定されるものではなく、幾多の変形または変更が可能
である。例えば、第4および第5実施例の第3の光検出
器22は、図6に示す3ビームを用いる第3の実施例に
も有効に適用することができる。また、第1,第2の光
検出器11,12は、図11に平面図を示すように、そ
れぞれ多数の細い受光領域をもって構成することもでき
る。このようにすれば、細い多数の受光領域の最適な部
分を選択することで、スポット13,14と、第1,第
2の光検出器11,12との位置合わせを行うことがで
きるという利点がある。
限定されるものではなく、幾多の変形または変更が可能
である。例えば、第4および第5実施例の第3の光検出
器22は、図6に示す3ビームを用いる第3の実施例に
も有効に適用することができる。また、第1,第2の光
検出器11,12は、図11に平面図を示すように、そ
れぞれ多数の細い受光領域をもって構成することもでき
る。このようにすれば、細い多数の受光領域の最適な部
分を選択することで、スポット13,14と、第1,第
2の光検出器11,12との位置合わせを行うことがで
きるという利点がある。
【0054】さらに、上述した実施例では、複合プリズ
ム2を構成する複屈折性プリズム4は、LiNbO3 結
晶以外に、例えば、ルチル、方解石、KDP、ADP、
Te02 や、「光工学ハンドブック」小瀬,斎藤、田
中、辻内、波岡 編集、朝倉書店、1988、第306
〜328頁に記載されているような結晶を用いることが
できる。また、ガラスプリズム3や収差制御手段9とし
てのガラスプリズムについても、BK−7に限らず、任
意のものを用いることができる。また、上述した実施例
では、コリメータレンズ6および対物レンズ7を有する
無限光学系としたが、コリメータレンズ6を省略した有
限光学系とすることもできる。
ム2を構成する複屈折性プリズム4は、LiNbO3 結
晶以外に、例えば、ルチル、方解石、KDP、ADP、
Te02 や、「光工学ハンドブック」小瀬,斎藤、田
中、辻内、波岡 編集、朝倉書店、1988、第306
〜328頁に記載されているような結晶を用いることが
できる。また、ガラスプリズム3や収差制御手段9とし
てのガラスプリズムについても、BK−7に限らず、任
意のものを用いることができる。また、上述した実施例
では、コリメータレンズ6および対物レンズ7を有する
無限光学系としたが、コリメータレンズ6を省略した有
限光学系とすることもできる。
【0055】
【発明の効果】この発明によれば、ガラスプリズムと複
屈折性プリズムとを誘電体膜を介して貼り合わせてなる
複合プリズムによって分離される、光磁気記録媒体から
の戻り光の常光束および異常光束の収差を、収差制御手
段によって、常光束はコマ収差を抑制して非点収差を増
加させ、異常光束はコマ収差および非点収差をともに抑
制するように別々の制御をするようにしたので、常光束
および異常光束にそれぞれ適したフォーカスエラー信号
の検出方法を適用することができ、したがって良好なフ
ォーカスエラー信号を得ることができる。また、収差制
御手段を設けることにより、図13の従来の光ヘッドに
比べて、第1,第2の光検出器を近づけて配置できるの
で、全体を小型にできる。
屈折性プリズムとを誘電体膜を介して貼り合わせてなる
複合プリズムによって分離される、光磁気記録媒体から
の戻り光の常光束および異常光束の収差を、収差制御手
段によって、常光束はコマ収差を抑制して非点収差を増
加させ、異常光束はコマ収差および非点収差をともに抑
制するように別々の制御をするようにしたので、常光束
および異常光束にそれぞれ適したフォーカスエラー信号
の検出方法を適用することができ、したがって良好なフ
ォーカスエラー信号を得ることができる。また、収差制
御手段を設けることにより、図13の従来の光ヘッドに
比べて、第1,第2の光検出器を近づけて配置できるの
で、全体を小型にできる。
【図1】この発明の第1実施例を示す図である。
【図2】図1に示す第1,第2の光検出器の平面図であ
る。
る。
【図3】第1実施例による第1,第2の光検出器上での
スポットダイヤグラムの計算例を示す図である。
スポットダイヤグラムの計算例を示す図である。
【図4】この発明の第2実施例を示す図である。
【図5】図4に示す第1,第2の光検出器の平面図であ
る。
る。
【図6】この発明の第3実施例を示す図である。
【図7】図6に示す第1,第2の光検出器の平面図であ
る。
る。
【図8】この発明の第4実施例を示す図である。
【図9】この発明の第5実施例を示す図である。
【図10】図9に示す第1,第2,第3の光検出器の平
面図である。
面図である。
【図11】第1,第2の光検出器の変形例を示す平面図
である。
である。
【図12】従来例を説明するための図である。
【図13】他の従来例を説明するための図である。
1 半導体レーザ 2 複合プリズム 3 ガラスプリズム 4 複屈折性プリズム 5 誘電体膜 6 コリメータレンズ 7 対物レンズ 8 光磁気記録媒体 9 収差制御手段 10 半導体基板 11 第1の光検出器 12 第2の光検出器 17 回折素子 22 第3の光検出器
Claims (6)
- 【請求項1】 半導体レーザからの出射光を、ガラスプ
リズムと複屈折性プリズムとを誘電体膜を介して貼り合
わせてなる複合プリズムの前記ガラスプリズム側から入
射させて、前記誘電体膜で反射させた後、集光手段を経
て光磁気記録媒体にスポットとして照射し、この光磁気
記録媒体で反射され、前記集光手段で集光される戻り光
を、前記複合プリズムの前記ガラスプリズム側から収束
光として入射させて、その少なくとも一部を前記誘電体
膜を透過させて前記複屈折性プリズムにより常光束と異
常光束とに分離し、これら常光束および異常光束をそれ
ぞれ第1の光検出器および第2の光検出器で受光して、
情報の再生信号、フォーカスエラー信号およびトラッキ
ングエラー信号を得るようにした光ヘッドにおいて、 前記常光束のコマ収差を抑制して非点収差を増加させる
と共に、前記異常光束のコマ収差および非点収差を抑制
する収差制御手段を有することを特徴とする光ヘッド。 - 【請求項2】 請求項1記載の光ヘッドにおいて、 前記収差制御手段を、前記集光手段が前記光磁気記録媒
体に対して合焦状態にあるときに、前記第1の光検出器
に入射する前記常光束の断面と、前記第2の光検出器に
入射する前記異常光束の断面とが、ほぼ等しい大きさと
なるよう構成したことを特徴とする光ヘッド。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の光ヘッドにおい
て、 前記半導体レーザと前記複合プリズムとの間に配置さ
れ、前記半導体レーザからの出射光を1本のメインビー
ムと2本のサブビームとに分割する回折素子と、前記第
1および第2の光検出器の少なくとも一方に設けたサブ
ビーム用受光領域とを有し、 前記メインビームおよびサブビームを、それらが前記光
磁気記録媒体の情報トラックに対して所定の角度を成し
て並ぶように、前記集光手段により前記光磁気記録媒体
にスポットとして照射すると共に、前記光磁気記録媒体
で反射される前記サブビームの戻り光を、前記サブビー
ム用受光領域で受光して、その出力に基づいて前記トラ
ッキングエラー信号を検出するよう構成したことを特徴
とする光ヘッド。 - 【請求項4】 請求項1,2または3記載の光ヘッドに
おいて、 前記複合プリズムの前記ガラスプリズム側より入射する
前記半導体レーザからの出射光のうち、前記誘電体膜を
透過して前記複屈折性プリズム側より出射する光束を受
光する第3の光検出器を設け、この第3の光検出器の出
力に基づいて前記半導体レーザの出射光のパワーを制御
するよう構成したことを特徴とする光ヘッド。 - 【請求項5】 請求項1,2,3または4記載の光ヘッ
ドにおいて、 前記第1および第2の光検出器を、同一の半導体基板上
に形成したことを特徴とする光ヘッド。 - 【請求項6】 請求項4記載の光ヘッドにおいて、 前記第1、第2および第3の光検出器を、同一の半導体
基板上に形成したことを特徴とする光ヘッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6193298A JPH0855378A (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 光ヘッド |
| US08/508,902 US5541906A (en) | 1994-07-29 | 1995-07-28 | Optical head for magneto-optical record medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6193298A JPH0855378A (ja) | 1994-08-17 | 1994-08-17 | 光ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0855378A true JPH0855378A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16305594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6193298A Withdrawn JPH0855378A (ja) | 1994-07-29 | 1994-08-17 | 光ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0855378A (ja) |
-
1994
- 1994-08-17 JP JP6193298A patent/JPH0855378A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011106 |