JPH0855476A - メモリ装置のビットライン感知回路とその動作制御方法 - Google Patents

メモリ装置のビットライン感知回路とその動作制御方法

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JPH0855476A
JPH0855476A JP7143769A JP14376995A JPH0855476A JP H0855476 A JPH0855476 A JP H0855476A JP 7143769 A JP7143769 A JP 7143769A JP 14376995 A JP14376995 A JP 14376995A JP H0855476 A JPH0855476 A JP H0855476A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 PMOS・NMOSセンスアンプの動作開始
間隔を電源電圧のレベルに応じて変更可能なビットライ
ン感知回路を提供する。 【構成】 制御信号LAPGの発生タイミングを決定す
るエネーブル信号PSEの遅延回路として複数の遅延経
路5−1〜5−n(少なくとも2つ)を設ける。この遅
延経路5−1〜5−nは、電源電圧感知回路により電源
電圧のレベルを感知して発生される感知信号φDETの
論理状態で切り換え制御される。遅延経路5−1はNM
OSセンスアンプ35用の遅延経路15の遅延時間より
3ns長く、遅延経路5−nは遅延経路15と同じ遅延
時間に設定されている。また、遅延経路5−1は電源電
圧が一定値以上の場合に選択され、遅延経路5−nは電
源電圧が一定値未満の場合に選択される。従って、遅延
経路5−1の選択で動作開始間隔は3ns、遅延経路5
−nの選択で動作開始間隔は0nsに変更できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体メモリ装置に関
し、特に、メモリのビットライン感知回路とその動作制
御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリとして代表的なDRAM
は、1アクセストランジスタ−1ストレージキャパシタ
からなるメモリセルをもち、そのストレージキャパシタ
に記憶したデータをアクセストランジスタのチャネルか
らビットラインへ伝達し、そしてビットラインに備えた
センスアンプにより電圧増幅した後、出力する。その
際、連続的にデータアクセスする場合には、次のアクセ
ス動作開始前にビットラインの等化・プリチャージを実
施する。即ち、メモリセルに対するデータアクセス(書
込/読出)により1対のビットラインは電位展開(devel
ope)されており、従って、次のアクセスを迅速に行うた
めには、展開したビットライン対を等化すると共に所定
レベルにプリチャージしておく必要がある。これは、ビ
ットラインとデータ入出力線との間でビットラインデー
タの感知増幅を実施するセンスアンプも含めてのことで
ある。
【0003】一般にメモリでは、大容量、高集積化と共
に高速動作化も要求される。高速化にとっては、ビット
ラインへ伝達されたデータがセンスアンプにより感知増
幅されるまでに要する時間の短縮がかなり重要である。
しかしながら、高集積化に伴って動作用電源電圧は低電
圧化されるので、メモリ装置内各回路の動作速度を向上
させ難くなっており、従ってビットライン電圧の感知時
間も短縮し難い。
【0004】図5に、現在の一般的なビットライン感知
回路を示す。1対のビットラインBL,バーBLとの間
にはPMOSセンスアンプ40及びNMOSセンスアン
プ35が接続されている。PMOSセンスアンプ40
は、ソース端子を感知ノードLAに、ドレイン端子をビ
ットラインBLに、そしてゲート端子をビットラインバ
ーBLにそれぞれ接続したPMOSトランジスタT3
と、ソース端子を感知ノードLAに、ドレイン端子をビ
ットラインバーBLに、そしてゲート端子をビットライ
ンBLにそれぞれ接続したPMOSトランジスタT4
と、から構成される。NMOSセンスアンプ35は、ド
レイン端子を感知ノードバーLAに、ソース端子をビッ
トラインBLに、そしてゲート端子をビットラインバー
BLにそれぞれ接続したNMOSトランジスタT1と、
ドレイン端子を感知ノードバーLAに、ソース端子をビ
ットラインバーBLに、そしてゲート端子をビットライ
ンBLにそれぞれ接続したNMOSトランジスタT2
と、から構成される。
【0005】感知ノードLAには電源電圧VCCの供給
源となるPMOSトランジスタ25が接続されており、
また感知ノードバーLAには接地電圧VSSの供給源と
なるNMOSトランジスタ30が接続されている。PM
OSトランジスタ25のゲート端子には制御信号LAP
Gが、そしてNMOSトランジスタ30のゲート端子に
は制御信号LANGが提供され、この制御信号LAP
G,LANGに従ってPMOSトランジスタ25、NM
OSトランジスタ30が導通すると、感知ノードLAに
は電源電圧VCC、感知ノードバーLAには接地電圧V
SSが供給される。これにより、PMOSセンスアンプ
40及びNMOSセンスアンプ35が動作可能となる。
【0006】このビットライン感知回路では、メモリセ
ルに記憶したデータに従ってビットラインBL,バーB
Lが電位展開された後、NMOSセンスアンプ35の動
作で感知動作を遂行し、PMOSセンスアンプ40の動
作でリストア(restore) 動作を遂行するようになってい
る。ビットラインBL,バーBLは、電位展開に先立っ
て電源電圧中間レベル、即ちVCC/2にプリチャージ
されており、ストレージキャパシタにより発生する1対
のビットラインBL,バーBL間の電圧差(電荷分配電
圧:charge sharing voltage)ΔVはわずかな差に過ぎ
ない。従って、NMOSセンスアンプ35を構成してい
る2個のトランジスタT1,T2のゲート−ソース間電
圧Vgsの差異は、感知動作の始まる瞬間にはそのΔV
ほどしかなく、感知動作開始直後では2個のトランジス
タT1,T2に電流が流れる。このとき同時にPMOS
センスアンプ40が動作開始するとすれば、2個のPM
OSトランジスタT3,T4のゲート−ソース間電圧V
gsの差異もまた電圧差ΔVしかないので、2個のトラ
ンジスタT3,T4でも電流が流れる。
【0007】この感知動作開始直後に過渡的に大きくな
る漏れ電流Issは、ビットライン感知動作がすべての
ビットラインでほぼ同時に遂行されることから、大容量
化の進行でそのピーク値が更に増加することになる。そ
のため、大容量、高集積のメモリでは漏れ電流Issに
よる接地雑音の発生や消費電流の増加を解決しなければ
ならない。そこで、その技術として、PMOSセンスア
ンプ40及びNMOSセンスアンプ35をエネーブルさ
せるために提供されるエネーブル信号PSE,NSE
を、それぞれPMOSセンスアンプ用遅延経路(遅延回
路)5及びNMOSセンスアンプ用遅延経路(遅延回
路)15で遅延してタイミング調整し、これにより発生
した遅延信号PISD,PSDを用いて制御する。即
ち、この遅延信号PISD,PSDに基づいてLAPG
発生回路10及びLANG発生回路20からPMOSセ
ンスアンプ40の制御信号LAPG及びNMOSセンス
アンプ35の制御信号LANGを発生する。通常は、制
御信号LANGを先に発生してから一定時間後に制御信
号LAPGを発生するようにしている。これにより、P
MOSセンスアンプ40及びNMOSセンスアンプ35
の動作開始時点をずらすことで漏れ電流Issのピーク
値を抑えることができる。
【0008】図6Aに、NMOSセンスアンプ35の感
知動作開始からPMOSセンスアンプ40の感知動作開
始までのセンシングウインド(sensing window)が3ns
(nanosecond)の場合及び0nsの場合における電源電圧
VCCと漏れ電流Issのピーク値との関係をグラフに
して示す。また、図6Bに、センシングウインドが3n
sの場合及び0nsの場合における電源電圧VCCと感
知時間との関係をグラフにして示す。尚、電源電圧VC
Cは現在一般的な1.6V〜3.3Vの範囲である。
【0009】このグラフに示すのは、セルキャパシタン
ス(cell capacitance)を30ff、ビットラインBL,
バーBLのキャパシタンスを240ffとした256K
ブロックモデル(block model) の場合の値である。漏れ
電流Issのピーク値は最大漏れ電流Issを測定した
値で、また、感知時間は、NMOSセンスアンプ35の
動作開始時点から1対のビットラインBL,バーBLの
電圧差がVCC×0.3になるまでの時間を測定した値
である。
【0010】この図6から分かるように、電源電圧VC
Cが低いほど、漏れ電流Issのピーク値は減少し、感
知時間は増加する。また、同じ電源電圧VCCのレベル
において、センシングウインドが0nsの場合の方が3
nsの場合に比べて、漏れ電流Issのピーク値が大き
く、感知時間は短いことが分かる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】以上から理解できるよ
うに、センシングウインドを適正に設定すれば漏れ電流
Issは抑制できる。一方で、センシングウインドを設
定すると、PMOSセンスアンプ40の動作開始が遅れ
ることになるので、当然その分、感知時間は長くなる。
センシングウインドは電源電圧VCCのレベルに関係な
く一定なので、電源電圧VCCが低い場合にこの感知時
間増加の影響は大きい。例えばバッテリーバックアップ
(battery back-up) タイプに使われるメモリ装置におい
て、使用等によるバッテリー電圧の低下に従い電源電圧
VCCが低くなると動作速度が急速に低下する現象がみ
られる。このような場合では、電源電圧VCCが低けれ
ば漏れ電流Issのピーク値が雑音や消費電流に影響す
る度合いも小さいので、多少漏れ電流Issが大きくて
も感知時間を短くして動作速度を改善した方が好まし
い。即ち、センシングウインドを設定しない方がよいこ
とになる。
【0012】そこで本発明では、PMOS、NMOSセ
ンスアンプの動作開始時点を適宜変更可能とできるよう
なビットライン感知回路の動作制御方法を提供し、この
方法を用いることで電源電圧が高い場合と低い場合に応
じて適宜センシングウインドを設定変更できるようにな
ったビットライン感知回路を提供する。つまり、NMO
SセンスアンプとPMOSセンスアンプの動作時開始間
隔を電源電圧のレベルに応じて可変制御できるように
し、電源電圧のレベルに合わせて多様なセンシングウイ
ンドを設定可能で、電源電圧が高くなると漏れ電流、即
ち消費電流や雑音を抑制する一方で、電源電圧が低くな
ると感知時間を短くして高速動作化を図れるようにする
ものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】このような目的のために
本発明では、提供されるエネーブル信号を遅延経路で遅
延させて制御信号を発生し、この制御信号でPMOSセ
ンスアンプ及びNMOSセンスアンプを動作開始させる
ようになったビットライン感知回路の動作制御方法とし
て、遅延特性の異なる遅延経路を切り換え可能に複数設
定して前記エネーブル信号の遅延時間を変更可能にする
ことを特徴とした動作制御方法を提供する。この方法に
よれば、遅延経路の切り換えでエネーブル信号の遅延時
間を変更できるので、制御信号の発生時点をPMOSセ
ンスアンプとNMOSセンスアンプで同じにしたり、一
方を遅らせたりすることが可能となり、適切なセンシン
グウインドを変更設定可能になる。
【0014】この場合の遅延経路の切り換えは、例えば
他回路や外部からの信号印加による言わば手動切り換え
で行うことができる。もし、前記のようなバッテリータ
イプであり自然に電圧低下するようなものあれば、通常
のメモリには正常動作補償のために電源電圧レベルを感
知して電源電圧感知信号を発生する電源電圧感知回路が
必須的に設けられるのでこれを利用することで、電源電
圧のレベルに応じて複数の遅延経路を切り換えるように
した自動切り換えとできる。また、本発明は電源電圧レ
ベルに応じたセンシングウインドの設定変更に主眼をお
いたものであるが、顧客のニーズ、例えば高速動作重視
か低消費電力重視かのニーズに応じて簡単にセンシング
ウインドの設定変更ができることも利点となる。この場
合には、遅延経路の切り換えにはヒューズ等の簡単な素
子を配設しておけばよい。
【0015】このような動作制御方法が可能なビットラ
イン感知回路として本発明では、供されるエネーブル信
号を遅延させて発生される制御信号に応じた感知ノード
への電圧印加で動作開始するPMOSセンスアンプ及び
NMOSセンスアンプを備えたビットライン感知回路に
おいて、抵抗、キャパシタによる調整で遅延特性を変え
て切り換え可能に複数設けられた前記エネーブル信号遅
延のための遅延経路と、この遅延経路の出力から前記制
御信号を発生する制御信号発生回路と、をPMOSセン
スアンプ用及び/又はNMOSセンスアンプ用に備える
ことを特徴としたビットライン感知回路を提供する。そ
して、上述のようにメモリに備えられる電源電圧感知回
路により電源電圧のレベルを感知して発生される電源電
圧感知信号に応じて遅延経路の切り換えを行えば、自動
切り換えが可能となる。この切り換えは、論理ゲートを
用いた論理演算回路で簡単に実施できる。
【0016】即ち本発明によれば、ビットラインに接続
されたNMOSセンスアンプ及びPMOSセンスアンプ
を有する半導体メモリ装置のビットライン感知回路にお
いて、電源電圧のレベルを感知して発生される電源電圧
感知信号に応答してNMOSセンスアンプとPMOSセ
ンスアンプの動作開始間隔を可変的に制御するための可
変遅延経路を備えることを特徴としたビットライン感知
回路が提供される。
【0017】このビットライン感知回路では、PMOS
センスアンプに対し可変遅延経路を備え、電源電圧のレ
ベルが一定値未満になればPMOSセンスアンプ及びN
MOSセンスアンプの動作開始を同じにし、電源電圧の
レベルが一定値以上になればNMOSセンスアンプの動
作開始よりPMOSセンスアンプの動作開始を遅らせる
ようにすることで、センシングウインドが設定変更され
る。或いは、NMOSセンスアンプに対し可変遅延経路
を備え、電源電圧のレベルが一定値未満になればPMO
Sセンスアンプ及びNMOSセンスアンプの動作開始を
同じにし、電源電圧のレベルが一定値以上になればNM
OSセンスアンプの動作開始よりPMOSセンスアンプ
の動作開始を遅らせるようにすることで、センシングウ
インドが設定変更される。或いはまた、PMOSセンス
アンプ及びNMOSセンスアンプに対してそれぞれ可変
遅延経路を備え、電源電圧のレベルが一定値未満になれ
ばPMOSセンスアンプ及びNMOSセンスアンプの動
作開始を同じにし、電源電圧のレベルが一定値以上にな
ればNMOSセンスアンプの動作開始よりPMOSセン
スアンプの動作開始を遅らせるようにすることで、セン
シングウインドが設定変更される。
【0018】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付の図面を参照し
て詳細に説明する。
【0019】本発明によるビットライン感知回路の一例
について図1の回路図に示している。PMOSセンスア
ンプ40及びNMOSセンスアンプ35と、制御信号L
APG,LANGを発生するLAPG発生回路10及び
LANG発生回路20とについては、従来技術のものを
そのまま使用可能である。またこの例では、NMOSセ
ンスアンプ35用のエネーブル信号NSEをNMOSセ
ンスアンプ用遅延経路15で遅延させることで遅延信号
PSDを発生しているが、このNMOSセンスアンプ用
遅延経路15についても従来同様のものを使用可能であ
る。
【0020】特徴的なのは、PMOSセンスアンプ40
用のエネーブル信号PSEを遅延して遅延信号PISD
を発生するために、PMOSセンスアンプ用遅延経路5
−1,…,5−nからなる複数(この場合n個)の遅延
経路、即ち可変遅延経路を備えている点である。従来で
は、PMOSセンスアンプ40用の制御信号LAPGと
NMOSセンスアンプ35用の制御信号LANGの基に
なる遅延信号PISD,PSDは、いずれも1つの遅延
経路で一定の遅延時間でしか発生されなかった。これに
対し、本実施例の回路によれば、遅延信号PISDの発
生に関与する遅延経路をその遅延特性を変えて複数備え
ておいて、電源電圧VCCのレベルに応じてスイッチし
て経路選択を行えるようにしてある。従って、多様なセ
ンシングウインドを設定可能であり、しかも、そのうち
のいずれかをNMOSセンスアンプ用遅延経路15と同
特性としておけば、センシングウインドを0に設定する
ことも可能となっている。
【0021】図2に、その複数の遅延経路5−1〜5−
nの回路例を示す。尚、同図にはn=2の場合が示して
ある。第1遅延経路5−1は、メモリ装置で通常設けら
れる電源電圧感知回路(図示略)から発生する電源電圧
感知信号φDETを反転するインバータ55と、インバ
ータ55の出力信号及びエネーブル信号PSEを否定積
演算するNANDゲート60と、抵抗R1を介して電源
電圧VCCを動作電源とし、NANDゲート60の出力
信号を反転するインバータ70と、一方の電極に電源電
圧VCCを受け、他方の電極がインバータ70の出力側
に接続されたキャパシタ(PMOSキャパシタ)80
と、抵抗R2を介して接地電圧Vssへ接地され、イン
バータ70の出力信号を反転するインバータ85と、一
方の電極に接地電圧VSSを受け、他方の電極がインバ
ータ85の出力側に接続されたキャパシタ90と、から
構成されている。一方、第2遅延経路5−nは、電源電
圧感知信号φDET及びエネーブル信号PSEを否定積
演算するNANDゲート65と、NANDゲート65の
出力信号を反転するインバータ75と、インバータ75
の出力信号を反転するインバータ95と、から構成され
ている。この例では、第2遅延経路5−nがNMOSセ
ンスアンプ用遅延経路15と同じ遅延特性、即ち遅延時
間をもつ設定としてある。
【0022】これら第1遅延経路5−1及び第2遅延経
路5−nから出力される信号は、NANDゲート100
とインバータ105で論理演算及び駆動され、遅延信号
PISDとしてLAPG発生回路10へ送られる。尚、
電源電圧感知信号φDETを発生する電源電圧感知回路
については、既によく知られた回路なので、その説明は
省略する。
【0023】図3に、従来技術の説明と同様に、本実施
例回路における漏れ電流Iss及び感知時間のグラフを
示し、これら図1〜図3を用いて説明する。簡単に言え
ば、この例のビットライン感知回路は、電源電圧VCC
のレベルに対応させて発生される電源電圧感知信号φD
ETに基づいて、PMOSセンスアンプ40用の制御信
号LAPGのタイミングを決定する遅延経路の経路切り
換えを行うようになっている。この経路選択により、電
源電圧VCCが低くなる場合にはセンシングウインドを
小さく或いは0にし、一方、電源電圧VCCが高くなる
場合にはセンシングウインドを適正値に設定することが
できる。従って、低電圧下での動作特性が向上する。
【0024】例えば、電源電圧感知回路は電源電圧VC
Cの2.3Vを境に電源電圧感知信号φDETの論理状
態を決定する構成をもち、電源電圧VCCの2.3V未
満で電源電圧感知信号φDETを論理“ハイ”で発生す
るものとする。するとこの場合には、第1遅延経路5−
1の出力は論理“ハイ”を維持するので、NANDゲー
ト100の出力論理は第2遅延経路5−nの出力論理に
従って変化する。即ち、入力されるエネーブル信号PS
Eは第2遅延経路5−nを介して遅延伝送され、これに
従って論理“ロウ”(活性状態)の遅延信号PISDが
発生する。上述のように第2遅延経路5−nはNMOS
センスアンプ用遅延経路15の特性と等しくしてあるの
で、PMOSセンスアンプ40とNMOSセンスアンプ
35とはほぼ同時に動作開始する。つまり、センシング
ウインド=0nsである。
【0025】一方、電源電圧VCCが2.3V以上にな
ると、電源電圧感知信号φDETは論理“ロウ”へ遷移
する。すると今度は、第2遅延経路5−nの出力が論理
“ハイ”を維持するので、NANDゲート100の出力
論理は第1遅延経路5−1の出力論理に従って変化す
る。即ち、入力されるエネーブル信号PSEは第1遅延
経路5−1を介して遅延伝送され、これに従って論理
“ロウ”の遅延信号PISDが発生する。第1遅延経路
5−1は、抵抗及びキャパシタを用いたRC遅延で遅延
時間の設定調整が可能になっている。この例では、第1
遅延経路5−1に設けた抵抗R1,R2及びキャパシタ
75,80の抵抗値、キャパシタンスの調整により、第
2遅延経路5−nより3ns長い遅延時間が設定してあ
る。従ってこの場合、PMOSセンスアンプ40は、N
MOSセンスアンプ35の動作開始から3ns遅れて動
作開始する。つまり、センシングウインド=3nsであ
る。
【0026】勿論、遅延経路はこの例のように2つに限
られるものではなく、第1遅延経路5−1のように抵抗
値及びキャパシタンスの調整で遅延時間を各種設定した
経路を複数設けておけば、電源電圧VCCのレベルに合
わせたより細かいセンシングウインドの設定が可能であ
る。このときには電源電圧感知信号φDETを、例えば
2.0V、2.5V、3.0Vを境にした3種類用いる
ようにし、これらを適宜論理組合せして遅延経路選択に
使用すればよい。
【0027】図3A及び図3Bの各グラフに示すよう
に、電源電圧VCCが2.3V未満であればセンシング
ウインドが0nsに設定され、2.3V以上であればセ
ンシングウインドが3nsに設定されることで、ビット
ライン感知回路の動作特性が切り換えられ、電源電圧V
CCのレベルに応じて最適の特性が得られるようになっ
ている。即ち、図6のグラフと比べれば分かるように、
電源電圧VCCが2.3Vを越える高いレベルとなる場
合には感知時間よりも漏れ電流Issの抑制の方を優先
させ、雑音や消費電流の防止を実現している。一方、電
源電圧VCCが2.3Vより下の低いレベルとなる場合
には漏れ電流Issよりも感知時間の短縮の方を優先さ
せてあり、このとき、センシングウインド=3nsの場
合よりも漏れ電流Issのピーク値は70μA程度増加
するが、感知時間が1.5ns程度短縮され、アクセス
動作の速度改善が実現されている。
【0028】上記の例では、PMOSセンスアンプ40
の側に数種類の遅延経路を設ける例を示したが、これと
は逆に、NMOSセンスアンプ35の側に同様の可変遅
延経路を設けて遅延信号PSDの発生タイミングを可変
制御するようにもでき、この場合にも同じような利点を
得られる。即ち、上記のように2つの遅延経路で0n
s、3nsのセンシングウインドを変更可能とする場
合、第1遅延経路5−1相当の遅延経路をPMOSセン
スアンプ40側の遅延時間と等しくなる特性としてお
き、電源電圧感知信号φDETの入力論理を逆に用いれ
ばよい。
【0029】また図4に、PMOSセンスアンプ40と
NMOSセンスアンプ35の両方の側に複数の遅延経路
を設定した例を示す。即ち、遅延信号PISDの可変遅
延経路として遅延経路5−1〜5−nを設け、そして遅
延信号PSDの可変遅延経路として遅延経路15−1〜
15−iを設けてある。これら遅延経路5−1〜5−
n,15−1〜15−iとしては、図2の回路と同構成
のものを使用できる。
【0030】この例で上記と同様にn=2、i=2であ
る場合、PMOSセンスアンプ用の第1遅延経路5−1
の遅延時間について抵抗R1,R2の抵抗値及びキャパ
シタ80,90のキャパシタンスの調節により、NMO
Sセンスアンプ用第1遅延経路15−1の遅延時間より
も3nsほど長くなるように設定しておく。このような
構成により、電源電圧VCCが2.3V以上となる場合
には第1遅延経路5−1及び第1遅延経路15−1の選
択でセンシングウインド=3nsを設定でき、また、電
源電圧VCCが2.3V未満の場合には第n遅延経路5
−n及び第i遅延経路15−iの選択でセンシングウイ
ンド=0nsを設定できる。そのうえに、NMOSセン
スアンプ35の動作開始時点も電源電圧VCCのレベル
に応じて調整できるようになり、動作速度向上に有利に
働く。このときには、第n遅延経路5−n及び第i遅延
経路15−iの方にもRC遅延設定を可能としておい
て、ビットラインBL,バーBLの寄生容量や電荷分配
速度を加味できるようにしておくとよい。
【0031】
【発明の効果】以上述べてきたように本発明によれば、
漏れ電流がより重要となる高電源電圧下ではセンシング
ウインドを大きく設定して漏れ電流を少なくし、接地雑
音や消費電流を抑制する一方で、感知時間がより重要と
なる低電源電圧下ではセンシングウインドを小さく或い
は0に設定して遅延時間を短くし、動作速度の向上を図
れるようになる。これは特に、バッテリーバックアップ
タイプにおけるメモリ装置にとって非常に有益である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるビットライン感知回路の実施例を
示す回路図。
【図2】本発明に係る可変遅延経路の具体例を示す回路
図。
【図3】分図Aは電源電圧と漏れ電流ピーク値の関係を
示すグラフ、分図Bは電源電圧と感知時間の関係を示す
グラフ。
【図4】本発明によるビットライン感知回路の他の実施
例を示す回路図。
【図5】従来におけるビットライン感知回路を示す回路
図。
【図6】分図Aは電源電圧と漏れ電流ピーク値の関係を
示すグラフ、分図Bは電源電圧と感知時間の関係を示す
グラフ。
【符号の説明】
5−1〜5−n PMOSセンスアンプ用遅延経路(第
1〜第n遅延経路) 15,15−1〜15−i NMOSセンスアンプ用遅
延経路(第1〜第i遅延経路) 10 LAPG発生回路(制御信号発生回路) 20 LANG発生回路(制御信号発生回路) 25,T3,T4 PMOSFET 30,T1,T2 NMOSFET 35 NMOSセンスアンプ 40 PMOSセンスアンプ LA 感知ノード(PMOSセンスアンプ用) バーLA 感知ノード(NMOSセンスアンプ用) VCC 電源電圧 VSS 接地電圧(基準電圧) PSE エネーブル信号(PMOSセンスアンプ用) NSE エネーブル信号(NMOSセンスアンプ用) PISD 遅延信号(PMOSセンスアンプ用) PSD 遅延信号(NMOSセンスアンプ用) LAPG 制御信号(PMOSセンスアンプ用) LANG 制御信号(NMOSセンスアンプ用) φDET 電源電圧感知信号

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ビットラインに接続されたNMOSセン
    スアンプ及びPMOSセンスアンプを有する半導体メモ
    リ装置のビットライン感知回路において、 電源電圧のレベルを感知して発生される電源電圧感知信
    号に応答してNMOSセンスアンプとPMOSセンスア
    ンプの動作開始間隔を可変的に制御するための可変遅延
    経路を備えたことを特徴とするビットライン感知回路。
  2. 【請求項2】 PMOSセンスアンプに対し可変遅延経
    路を備え、電源電圧のレベルが一定値未満になればPM
    OSセンスアンプ及びNMOSセンスアンプの動作開始
    を同じにし、電源電圧のレベルが一定値以上になればN
    MOSセンスアンプの動作開始よりPMOSセンスアン
    プの動作開始を遅らせるようになっている請求項1記載
    のビットライン感知回路。
  3. 【請求項3】 NMOSセンスアンプに対し可変遅延経
    路を備え、電源電圧のレベルが一定値未満になればPM
    OSセンスアンプ及びNMOSセンスアンプの動作開始
    を同じにし、電源電圧のレベルが一定値以上になればN
    MOSセンスアンプの動作開始よりPMOSセンスアン
    プの動作開始を遅らせるようになっている請求項1記載
    のビットライン感知回路。
  4. 【請求項4】 PMOSセンスアンプ及びNMOSセン
    スアンプに対してそれぞれ可変遅延経路を備え、電源電
    圧のレベルが一定値未満になればPMOSセンスアンプ
    及びNMOSセンスアンプの動作開始を同じにし、電源
    電圧のレベルが一定値以上になればNMOSセンスアン
    プの動作開始よりPMOSセンスアンプの動作開始を遅
    らせるようになっている請求項1記載のビットライン感
    知回路。
  5. 【請求項5】 提供されるエネーブル信号を遅延経路で
    遅延させて制御信号を発生し、この制御信号でPMOS
    センスアンプ及びNMOSセンスアンプを動作開始させ
    るようになったビットライン感知回路の動作制御方法に
    おいて、 遅延特性の異なる遅延経路を切り換え可能に複数設定し
    て前記エネーブル信号の遅延時間を変更可能にしたこと
    を特徴とする動作制御方法。
  6. 【請求項6】 電源電圧のレベルを感知して発生される
    電源電圧感知信号に応じて遅延経路を切り換えるように
    した請求項5記載の動作制御方法。
  7. 【請求項7】 提供されるエネーブル信号を遅延させて
    発生される制御信号に応じた感知ノードへの電圧印加で
    動作開始するPMOSセンスアンプ及びNMOSセンス
    アンプを備えたビットライン感知回路において、 抵抗、キャパシタによる調整で遅延特性を変えて切り換
    え可能に複数設けられた前記エネーブル信号遅延のため
    の遅延経路と、この遅延経路の出力から前記制御信号を
    発生する制御信号発生回路と、をPMOSセンスアンプ
    用及び/又はNMOSセンスアンプ用に備えたことを特
    徴とするビットライン感知回路。
  8. 【請求項8】 電源電圧のレベルを感知して発生される
    電源電圧感知信号に応じて遅延経路が切り換えられる請
    求項7記載のビットライン感知回路。
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