JPH02306492A - ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ - Google Patents
ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリInfo
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- JPH02306492A JPH02306492A JP1127114A JP12711489A JPH02306492A JP H02306492 A JPH02306492 A JP H02306492A JP 1127114 A JP1127114 A JP 1127114A JP 12711489 A JP12711489 A JP 12711489A JP H02306492 A JPH02306492 A JP H02306492A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はダイナミック−ランダム・アクセス・メモリ
に関し、特に、動作電源電圧の定格値が低減されても容
易に対処することができるダイナミック・ランダム・ア
クセス・メモリに関する。
に関し、特に、動作電源電圧の定格値が低減されても容
易に対処することができるダイナミック・ランダム・ア
クセス・メモリに関する。
[従来の技術]
近年様々な分野で半導体メモリが一般的に用いられてい
る。このような半導体メモリの1つにダイナミック・ラ
ンダム・アクセス・メモリ(以下、DRAMと称す)と
呼ばれる半導体メモリがある。
る。このような半導体メモリの1つにダイナミック・ラ
ンダム・アクセス・メモリ(以下、DRAMと称す)と
呼ばれる半導体メモリがある。
まず従来から用いられているDRAMの構成および動作
について説明する。
について説明する。
第12図に従来から用いられているDRAMの続出部の
全体の概略構成の一例を示す。第12図を参照してDR
AMは、情報を記憶するメモリセルが行および列からな
るマトリクス状に配列されたメモリセルアレイMAと、
外部から与えられる外部アドレスに応答して内部アドレ
スを発生するアドレスバッファABと、アドレスバッフ
ァABから内部行アドレスを受け、メモリセルアレイM
Aのうちの対応の行を選択するXデコーダADXと、ア
ドレスバッファABから内部列アドレスを受け、メモリ
セルアレイMAの対応の列を選択するYデコーダADY
とを含む。
全体の概略構成の一例を示す。第12図を参照してDR
AMは、情報を記憶するメモリセルが行および列からな
るマトリクス状に配列されたメモリセルアレイMAと、
外部から与えられる外部アドレスに応答して内部アドレ
スを発生するアドレスバッファABと、アドレスバッフ
ァABから内部行アドレスを受け、メモリセルアレイM
Aのうちの対応の行を選択するXデコーダADXと、ア
ドレスバッファABから内部列アドレスを受け、メモリ
セルアレイMAの対応の列を選択するYデコーダADY
とを含む。
アドレスバッファABは、メモリセルアレイMAの行を
指定する行アドレスとメモリセルアレイMAの列を指定
する列アドレスとを時分割的に受け、それぞれ所定のタ
イミングで内部行アドレスおよび内部列アドレスを発生
し、XデコーダADXおよびYデコーダADYへそれぞ
れ与える。
指定する行アドレスとメモリセルアレイMAの列を指定
する列アドレスとを時分割的に受け、それぞれ所定のタ
イミングで内部行アドレスおよび内部列アドレスを発生
し、XデコーダADXおよびYデコーダADYへそれぞ
れ与える。
外部アドレスにより指定されるメモリセルのデータを読
出すために、XデコーダADXからの行アドレスデコー
ド信号により選択された行に接続されるメモリセルのデ
ータを検知し増幅するセンスアンプと、YデコーダAD
Yからの列アドレスデコード信号に応答して、選択され
た1行のメモリセルのうち対応の列に接続されるメモリ
セルのデータを出力バッファOBへ伝達する入出力イン
ターフェイス(I 10)と、入出力インターフェイス
(110)を介して伝達されたメモリセルデ・ −夕を
DRAMの外部へ伝達する出力バッファOBとを含む。
出すために、XデコーダADXからの行アドレスデコー
ド信号により選択された行に接続されるメモリセルのデ
ータを検知し増幅するセンスアンプと、YデコーダAD
Yからの列アドレスデコード信号に応答して、選択され
た1行のメモリセルのうち対応の列に接続されるメモリ
セルのデータを出力バッファOBへ伝達する入出力イン
ターフェイス(I 10)と、入出力インターフェイス
(110)を介して伝達されたメモリセルデ・ −夕を
DRAMの外部へ伝達する出力バッファOBとを含む。
ここで第12図においては、センスアンプと入出力イン
ターフェイス(I 10)とが1つのブロックSIで示
される。出力バッファOBは、ブロックSlから伝達さ
れた続出データを受けて対応の出力データDoutに変
換して出力する。
ターフェイス(I 10)とが1つのブロックSIで示
される。出力バッファOBは、ブロックSlから伝達さ
れた続出データを受けて対応の出力データDoutに変
換して出力する。
DRAMの各種動作タイミングを制御するための制御信
号を発生するために、制御信号発生系周辺回路CGが設
けられる。制御信号発生系周辺回路CGは、後に詳述す
る、プリチャージ電位v[11ワ一ド線駆動信号Rn、
イコライズ信号φE1プリチャージ信号φP、センスア
ンプ活性化信号φ8などを発生する。
号を発生するために、制御信号発生系周辺回路CGが設
けられる。制御信号発生系周辺回路CGは、後に詳述す
る、プリチャージ電位v[11ワ一ド線駆動信号Rn、
イコライズ信号φE1プリチャージ信号φP、センスア
ンプ活性化信号φ8などを発生する。
DRAMに動作電源電圧を印加するためにパッドPAが
設けられる。パッドPAは外部電源端子に接続され、外
部から印加される動作電源電圧VCCを受は内部動作電
源電圧Vccを伝達する。
設けられる。パッドPAは外部電源端子に接続され、外
部から印加される動作電源電圧VCCを受は内部動作電
源電圧Vccを伝達する。
なお、半導体チップCH上には、DRAMと外部装置と
の接続を与えるためにチップCH周辺に複数のポンディ
ングパッドが設けられているが、第12図においては電
源用パッドPAのみが代表的に示される。
の接続を与えるためにチップCH周辺に複数のポンディ
ングパッドが設けられているが、第12図においては電
源用パッドPAのみが代表的に示される。
第12図に示されるメモリセルアレイおよびそれに関連
の回路の概略構成を第13図に示す。第13図を参照し
て、メモリセルアレイMAは、各々がメモリセルアレイ
MAの1行を選択するワード線WL 1. WL 2.
−、 WL nと、各々がメモリセルアレイMAの1列
のメモリセルを選択するビット線対BLO,Bτ爾、B
LI、Bτ了、・・・、BLm、B丁席を含む。ビット
線BLO,BLO1・・・、BLm、BLmは折返しビ
ット線を構成し、2本のビット線が1つのビット線対を
構成する。
の回路の概略構成を第13図に示す。第13図を参照し
て、メモリセルアレイMAは、各々がメモリセルアレイ
MAの1行を選択するワード線WL 1. WL 2.
−、 WL nと、各々がメモリセルアレイMAの1列
のメモリセルを選択するビット線対BLO,Bτ爾、B
LI、Bτ了、・・・、BLm、B丁席を含む。ビット
線BLO,BLO1・・・、BLm、BLmは折返しビ
ット線を構成し、2本のビット線が1つのビット線対を
構成する。
すなわちビット線BLO,BLOが1対のビット線対を
構成し、ビット線BLI、BL1が1対のビット線対を
構成する。以下同様にして、ビット線BLm、BLmが
ビット線対を構成する。
構成し、ビット線BLI、BL1が1対のビット線対を
構成する。以下同様にして、ビット線BLm、BLmが
ビット線対を構成する。
情報を記憶するメモリセル1は、ビット線BLO,B、
LO1・・・、BLm、BLmの各々と1本のおきのワ
ード線との交点に設けられる。すなわち、各ビット線対
においては、1本のワード線と1対のビット線のいずれ
かのビット線との交点にメモリセル1が接続される。
LO1・・・、BLm、BLmの各々と1本のおきのワ
ード線との交点に設けられる。すなわち、各ビット線対
においては、1本のワード線と1対のビット線のいずれ
かのビット線との交点にメモリセル1が接続される。
ビット線対BLO,BLO,−・・、BLm、BLlの
各々には、DRAMのスタンバイ時に各ビット線の電位
を平衡化し、かつ所定の電位VBにプリチャージするた
めに、プリチャージ/イコライズ回路150が設けられ
る。
各々には、DRAMのスタンバイ時に各ビット線の電位
を平衡化し、かつ所定の電位VBにプリチャージするた
めに、プリチャージ/イコライズ回路150が設けられ
る。
選択されたメモリセルのデータを検知し増幅するために
、ビット線対BLO,BLO1・・・、BLm、BLm
の各々には、センスアンプ50が設けられる。センスア
ンプ50は、第1の信号線14および第2の信号線17
を介してそれぞれ伝達される第1のセンスアンプ駆動信
号φ、および第2のセンスアンプ駆動信号φBに応答し
て活性化され、対応のビット線対の電位差を検出し差動
的に増幅する。
、ビット線対BLO,BLO1・・・、BLm、BLm
の各々には、センスアンプ50が設けられる。センスア
ンプ50は、第1の信号線14および第2の信号線17
を介してそれぞれ伝達される第1のセンスアンプ駆動信
号φ、および第2のセンスアンプ駆動信号φBに応答し
て活性化され、対応のビット線対の電位差を検出し差動
的に増幅する。
選択されたメモリセルのデータを出力バッファOB(第
12図参照)へ伝達するために、ビ・ソト線対BLO,
百T石、・・・、BLm、Bτ石の各々に、Yデコーダ
ADYからの列アドレスデコード信号に応答してオン状
態となり、対応のビット線対をデータ入出力バスl10
1丁7δへ接続するトランスファゲートTo、TO’
、TI、TI’ 、Tm、Tm’ が設けられる。トラ
ンスファゲートTO,TO’はビット線BLO,Bで万
に対して設けられ、トランスファゲートTl、Tl’
はビット線BLI、BLIに対して設けられ、トランス
ファゲートTm、Tm’ はビット線対BLm。
12図参照)へ伝達するために、ビ・ソト線対BLO,
百T石、・・・、BLm、Bτ石の各々に、Yデコーダ
ADYからの列アドレスデコード信号に応答してオン状
態となり、対応のビット線対をデータ入出力バスl10
1丁7δへ接続するトランスファゲートTo、TO’
、TI、TI’ 、Tm、Tm’ が設けられる。トラ
ンスファゲートTO,TO’はビット線BLO,Bで万
に対して設けられ、トランスファゲートTl、Tl’
はビット線BLI、BLIに対して設けられ、トランス
ファゲートTm、Tm’ はビット線対BLm。
BLmに対して設けられる。YデコーダADYからの列
アドレスデコード信号に応答して1対のトランスファゲ
ートがオン状態となり、対応のビ・ント線対がデータ入
出力バスI10.I10へ接続される。センスアンプ5
0.トランスファゲートTQ、To’ 〜Tm、Tm’
およびデータ入出力バスI10.I/δが第12図に示
すプロ・ツクS■に対応する。
アドレスデコード信号に応答して1対のトランスファゲ
ートがオン状態となり、対応のビ・ント線対がデータ入
出力バスI10.I10へ接続される。センスアンプ5
0.トランスファゲートTQ、To’ 〜Tm、Tm’
およびデータ入出力バスI10.I/δが第12図に示
すプロ・ツクS■に対応する。
第14図は、第13図に示される構成のうち1対のビッ
ト線対に関連する回路構成を詳細に示す図であり、特に
センスアンプ50を駆動する装置の構成を具体的に示す
回路図である。
ト線対に関連する回路構成を詳細に示す図であり、特に
センスアンプ50を駆動する装置の構成を具体的に示す
回路図である。
第14図を参照して、メモリセル1は、情報を電荷の形
態で記憶するメモリキャパシタ6と、ワード線3上に伝
達されるワード線駆動信号Rnに応答してオン状態とな
り、メモリキャパシタ6をビット線2へ接続する選択ト
ランジスタ5を備える。選択トランジスタ5はnチャネ
ル絶縁ゲート電界効果トランジスタ(以下、n−FET
と称す)から構成され、そのゲートはワード線3に接続
され、そのソースはビット線2に接続される。メモリキ
ャパシタ6の一方電極は記憶ノード4を介して選択トラ
ンジスタ5のドレインへ接続され、他方電極は接地電位
GNDへ接続される。
態で記憶するメモリキャパシタ6と、ワード線3上に伝
達されるワード線駆動信号Rnに応答してオン状態とな
り、メモリキャパシタ6をビット線2へ接続する選択ト
ランジスタ5を備える。選択トランジスタ5はnチャネ
ル絶縁ゲート電界効果トランジスタ(以下、n−FET
と称す)から構成され、そのゲートはワード線3に接続
され、そのソースはビット線2に接続される。メモリキ
ャパシタ6の一方電極は記憶ノード4を介して選択トラ
ンジスタ5のドレインへ接続され、他方電極は接地電位
GNDへ接続される。
プリチャージ/イコライズ回路150は、n−FET9
,10および12を含む。n−FET9は、プリチャー
ジ信号伝達用信号線11を介して伝達されるプリチャー
ジ信号φPに応答してオン状態となり、プリチャージ電
位伝達用信号線8を介して伝達されるプリチャージ電圧
v8をビット線2へ伝達する。n−FETl0は、信号
線11を介して伝達されるプリチャージ信号φPに応答
してオン状態となり、信号線8を介して伝達されるプリ
チャージ電圧VBをビット線7へ伝達する。
,10および12を含む。n−FET9は、プリチャー
ジ信号伝達用信号線11を介して伝達されるプリチャー
ジ信号φPに応答してオン状態となり、プリチャージ電
位伝達用信号線8を介して伝達されるプリチャージ電圧
v8をビット線2へ伝達する。n−FETl0は、信号
線11を介して伝達されるプリチャージ信号φPに応答
してオン状態となり、信号線8を介して伝達されるプリ
チャージ電圧VBをビット線7へ伝達する。
n−FET12は、イコライズ信号伝達用信号線13を
介して伝達されるイコライズ信号φPに応答してオン状
態となり、ビット線2およびビット線7を電気的に短絡
してビット線2およびビット線7の電位を平衡化する。
介して伝達されるイコライズ信号φPに応答してオン状
態となり、ビット線2およびビット線7を電気的に短絡
してビット線2およびビット線7の電位を平衡化する。
センスアンプ50は、nチャネル絶縁ゲート電界効果ト
ランジスタ(以下、p−FETと称す)15、.15と
、n−FET18,19を含む。センスアンプ50は、
0MO8構成のフリップフロップにより構成され、p−
FET15,16のゲートとその一方電極が交差接続さ
れ、かつn−FET18,19のゲートとその一方電極
が交差接続される。p−FET15とn−FET18の
一方電極との接続点はビット線2に接続される。p−F
E、T16およびn−FET19の一方電極との接続点
は、ビット線7へ接続される。p−FET15,16の
他方電極はともに第1のセンスアンプ駆動信号φえを伝
達する信号線14に接続される。n−FET18,1’
9の他方電極はともに第2のセンスアンプ駆動信号φ8
を伝達する信号線17に接続される。
ランジスタ(以下、p−FETと称す)15、.15と
、n−FET18,19を含む。センスアンプ50は、
0MO8構成のフリップフロップにより構成され、p−
FET15,16のゲートとその一方電極が交差接続さ
れ、かつn−FET18,19のゲートとその一方電極
が交差接続される。p−FET15とn−FET18の
一方電極との接続点はビット線2に接続される。p−F
E、T16およびn−FET19の一方電極との接続点
は、ビット線7へ接続される。p−FET15,16の
他方電極はともに第1のセンスアンプ駆動信号φえを伝
達する信号線14に接続される。n−FET18,1’
9の他方電極はともに第2のセンスアンプ駆動信号φ8
を伝達する信号線17に接続される。
信号線14と信号線17との間には、信号線14.17
の電位を所定電位VBにプリチャージしかつイコライズ
するために、n−FET26,27および28が設けら
れる。n−FET26は、信号線11を介して伝達され
るプリチャージ信号φPに応答してオン状態となり、信
号線8を介して伝達される所定の一定電位のプリチャー
ジ電圧■らを信号線14上へ伝達する。n−FET27
は信号線11を介して伝達されるプリチャージ信号φP
に応答してオン状態となり、信号線8を介して伝達され
るプリチャージ電圧■8を信号線17上へ伝達する。n
−FET28は、信号線11を介して伝達されるプリチ
ャージ信号φPに応答してオン状態となり、信号線14
.17を電気的に短絡して、信号線14.17は電位を
平衡化する。
の電位を所定電位VBにプリチャージしかつイコライズ
するために、n−FET26,27および28が設けら
れる。n−FET26は、信号線11を介して伝達され
るプリチャージ信号φPに応答してオン状態となり、信
号線8を介して伝達される所定の一定電位のプリチャー
ジ電圧■らを信号線14上へ伝達する。n−FET27
は信号線11を介して伝達されるプリチャージ信号φP
に応答してオン状態となり、信号線8を介して伝達され
るプリチャージ電圧■8を信号線17上へ伝達する。n
−FET28は、信号線11を介して伝達されるプリチ
ャージ信号φPに応答してオン状態となり、信号線14
.17を電気的に短絡して、信号線14.17は電位を
平衡化する。
センスアンプ50を駆動するために、信号線14と第1
の電源電位供給端子24(第12図に示すパッドPAに
対応)との間に、第1のセンスアンプ活性化信号77に
応答してオン状態となり、信号線14を第1の電源線3
1へ接続するp−FET22が設けられる。
の電源電位供給端子24(第12図に示すパッドPAに
対応)との間に、第1のセンスアンプ活性化信号77に
応答してオン状態となり、信号線14を第1の電源線3
1へ接続するp−FET22が設けられる。
同様に、信号線17と第2の電源電位供給端子29との
間に、第2のセンスアンプ活性化信号φ8に応答してオ
ン状態となり、信号線17を第2の電源線30へ接続す
るn−FET25が設けられる。
間に、第2のセンスアンプ活性化信号φ8に応答してオ
ン状態となり、信号線17を第2の電源線30へ接続す
るn−FET25が設けられる。
センスアンプ活性化信号φ5.φ8はそれぞれ信号入力
端子23a、23bを介してp−FET22およびn−
FET25のゲートへ与えられる。
端子23a、23bを介してp−FET22およびn−
FET25のゲートへ与えられる。
電源端子24.29は、DRAM外部から所定の電位供
給を受けるために、DRAMが形成される半導体チップ
C1周辺に形成されたボンディングパッドにより形成さ
れる。端子24はパッドPAに対応する。
給を受けるために、DRAMが形成される半導体チップ
C1周辺に形成されたボンディングパッドにより形成さ
れる。端子24はパッドPAに対応する。
ビット線2は寄生容量20を有し、ビット線7は寄生容
量21を有する。
量21を有する。
なお、第14図に示す構成においては、図面の煩雑化を
避けるために、1本のワード線3と、このワード線3に
接続されたメモリセル1のみが代表的に示される。また
、ビット線2,7および信号線14.17を所定電位に
プリチャージするプリチャージ電圧VBは通常動作電源
電圧Vccの約2分の1の一定の電位に設定される。
避けるために、1本のワード線3と、このワード線3に
接続されたメモリセル1のみが代表的に示される。また
、ビット線2,7および信号線14.17を所定電位に
プリチャージするプリチャージ電圧VBは通常動作電源
電圧Vccの約2分の1の一定の電位に設定される。
第15図は第14図に示す回路構成の動作を示す信号波
形図である。第15図においては、第14図に示すメモ
リセル1に論理“1”の情報が記憶されており、この記
憶情報“1”を読出す場合の動作の信号波形が示される
。次に、第14図および第15図を参照してメモリセル
データの読出動作について説明する。
形図である。第15図においては、第14図に示すメモ
リセル1に論理“1”の情報が記憶されており、この記
憶情報“1”を読出す場合の動作の信号波形が示される
。次に、第14図および第15図を参照してメモリセル
データの読出動作について説明する。
時刻toから時刻t1の間のスタンバイ状態においては
、プリチャージ信号φPおよびイコライズ信号φEはと
もに“H″レベルある。このため、n−FET9,10
.12およびn−FET26.27.28はすべてオン
状態にあり、これによりビット線2,7および信号線1
4.17はそれぞれ所定のプリチャージ電位VB (
=Vcc/2)に保持されている。
、プリチャージ信号φPおよびイコライズ信号φEはと
もに“H″レベルある。このため、n−FET9,10
.12およびn−FET26.27.28はすべてオン
状態にあり、これによりビット線2,7および信号線1
4.17はそれぞれ所定のプリチャージ電位VB (
=Vcc/2)に保持されている。
時刻t1においてスタンバイ状態が終了し、メモリサイ
クルが始まると、プリチャージ信号φPおよびイコライ
ズ信号φEはそれぞれL” レベルへ降下する。これに
よりn−FET9,10゜12.26.27および28
はすべてオフ状態となる。
クルが始まると、プリチャージ信号φPおよびイコライ
ズ信号φEはそれぞれL” レベルへ降下する。これに
よりn−FET9,10゜12.26.27および28
はすべてオフ状態となる。
時刻t2において、プリチャージ信号φPおよびイコラ
イズ信号φEが“L” レベルとなり、n−FET9,
10,12,26.27および28がすべてオフ状態と
なったとき、第12図にに示すアドレスバッファABか
ら内部行アドレスがXデコーダADXへ与えられ、メモ
リセルアレイMAにおける行選択が行なわれる。
イズ信号φEが“L” レベルとなり、n−FET9,
10,12,26.27および28がすべてオフ状態と
なったとき、第12図にに示すアドレスバッファABか
ら内部行アドレスがXデコーダADXへ与えられ、メモ
リセルアレイMAにおける行選択が行なわれる。
時刻t3において、選択されたワード線3(第一 1
4 − 14図に示すワード線3が選択されたものとする)上に
ワード線駆動信号Rnが伝達され、ワード線3の電位が
立上がる。これにより、メモリセル1の選択トランジス
タ5がオン状態となり、メモリキャパシタ6がビット線
2へ接続される。この結果、記憶ノード4に蓄えられて
いた電荷がビット線2上ぺ移動し、ビット線2の電位が
わずかΔV上昇する。このビット線2の電位上昇Δ■の
値は、メモリキャパシタ6の容量値C6とビット線2の
寄生容量20の容量値C20と記憶ノード4の記憶電圧
V4とによって決定され、通常100〜200mVの値
となる。
4 − 14図に示すワード線3が選択されたものとする)上に
ワード線駆動信号Rnが伝達され、ワード線3の電位が
立上がる。これにより、メモリセル1の選択トランジス
タ5がオン状態となり、メモリキャパシタ6がビット線
2へ接続される。この結果、記憶ノード4に蓄えられて
いた電荷がビット線2上ぺ移動し、ビット線2の電位が
わずかΔV上昇する。このビット線2の電位上昇Δ■の
値は、メモリキャパシタ6の容量値C6とビット線2の
寄生容量20の容量値C20と記憶ノード4の記憶電圧
V4とによって決定され、通常100〜200mVの値
となる。
時刻t4において、センスアンプ活性化信号φ、が上昇
し、一方センスアンプ活性化信号iが降下し、n −F
E T 25およびp−FET22がそれぞれオン状
態となり、第1の信号線14および第2の信号線17は
それぞれ第1の電源線31および第2の電源線30へそ
れぞれ接続される。
し、一方センスアンプ活性化信号iが降下し、n −F
E T 25およびp−FET22がそれぞれオン状
態となり、第1の信号線14および第2の信号線17は
それぞれ第1の電源線31および第2の電源線30へそ
れぞれ接続される。
これにより、第1の信号線14の電位が上昇し始め、か
つ第2の信号線17の電位が下降し始める。
つ第2の信号線17の電位が下降し始める。
この第1および第2の信号線14.17の電位の上昇お
よび下降により、p−FET15,16およびn−FE
T18,19からなるフリップフロップ回路(センスア
ンプ50)が活性化され、メモリセルデータのセンス動
作を開始し、ビット線2.7間の微小電位差ΔVの差動
増幅を行なう。
よび下降により、p−FET15,16およびn−FE
T18,19からなるフリップフロップ回路(センスア
ンプ50)が活性化され、メモリセルデータのセンス動
作を開始し、ビット線2.7間の微小電位差ΔVの差動
増幅を行なう。
ここで、ビット線7は選択メモリセルが接続されていな
いので、ビット線7の電位が時刻t4までプリチャージ
レベルのV c c / 2のままである。
いので、ビット線7の電位が時刻t4までプリチャージ
レベルのV c c / 2のままである。
このセンス動作の場合、ビット線2がΔVだけ電位上昇
したことにより、n−F−ET19がオン状態となると
、第2の信号線17の電位下降に伴い、寄生容量21に
与えられていた電荷がn−FET19を介して第2の信
号線17へ放電されて、時刻t5においてビット線7の
電位がほぼOV程度になる。
したことにより、n−F−ET19がオン状態となると
、第2の信号線17の電位下降に伴い、寄生容量21に
与えられていた電荷がn−FET19を介して第2の信
号線17へ放電されて、時刻t5においてビット線7の
電位がほぼOV程度になる。
一方、ビット線7の電位下降により、p−FET15が
オン状態となり、第1の信号線14上の電位がpLFE
T15を介してビット線2上へ伝達され、ビット線2の
電位がVccレベルに上昇する。ビット線2上の電位は
選択トランジスタ5を介して記憶ノード4へ伝達され、
記憶ノード4の電位レベルがVcc−VTN となり、
メモリセル1へのデータの再書込みが行なわれる。ここ
でVTNは選択トランジスタ5のしきい値電圧である。
オン状態となり、第1の信号線14上の電位がpLFE
T15を介してビット線2上へ伝達され、ビット線2の
電位がVccレベルに上昇する。ビット線2上の電位は
選択トランジスタ5を介して記憶ノード4へ伝達され、
記憶ノード4の電位レベルがVcc−VTN となり、
メモリセル1へのデータの再書込みが行なわれる。ここ
でVTNは選択トランジスタ5のしきい値電圧である。
ビット線2.7上の信号電位の増幅動作が完了し、その
電位がそれぞれ電源電位Vccレベル、接地電位GND
レベルに確定すると、時刻t8までの間に列デコーダA
DY (第12図参照)からのアドレスデコード信号に
よりメモリセルアレイの1列が選択され、ビット線2.
7がデータ入出力バスI10. Ilo (第13図
参照)に接続され、メモリセル1の情報の読出しが行な
われる。
電位がそれぞれ電源電位Vccレベル、接地電位GND
レベルに確定すると、時刻t8までの間に列デコーダA
DY (第12図参照)からのアドレスデコード信号に
よりメモリセルアレイの1列が選択され、ビット線2.
7がデータ入出力バスI10. Ilo (第13図
参照)に接続され、メモリセル1の情報の読出しが行な
われる。
以上がメモリセルからのデータの読出し、増幅および再
書込み−までの動作である。これらの一連の □動作
が終了すると、次のメモリサイクルに備えてスタンバイ
状態に入る。
書込み−までの動作である。これらの一連の □動作
が終了すると、次のメモリサイクルに備えてスタンバイ
状態に入る。
すなわち、時刻t8において、ワード線駆動信号Rnが
下降を始め、時刻t9において接地電位レベルの“L″
レベル立下がると、選択トランジスタ5がオフ状態とな
り、メモリセル1がビット線2と電気的に切り離されて
待機状態となる。
下降を始め、時刻t9において接地電位レベルの“L″
レベル立下がると、選択トランジスタ5がオフ状態とな
り、メモリセル1がビット線2と電気的に切り離されて
待機状態となる。
時刻tlOにおいて、センスアンプ活性化信号φsr<
6sがそれぞれ下降および上昇をし始め、時刻tllで
それぞれ接地電位のGNDレベルの低レベル、および電
源電圧Vccレベルの高レベルとなると、p−FET2
2およびn−FET25がオフ状態となり、センスアン
プが不活性化される。
6sがそれぞれ下降および上昇をし始め、時刻tllで
それぞれ接地電位のGNDレベルの低レベル、および電
源電圧Vccレベルの高レベルとなると、p−FET2
2およびn−FET25がオフ状態となり、センスアン
プが不活性化される。
時刻t12において、イコライズ信号φEが上昇始め、
n−FET12がオン状態となると、ビット線2.7が
電気的に接続されて電位レベルの高いビット線2から電
位レベルの低いビット線7へと電荷が移動し、はぼ時刻
t13にビット線2゜7の電位がともにプリチャージ電
圧VB(−Vc−C/2)となる。また、このとき同時
に、p−FET22およびn−、FET25がオフ状態
となったことにより、高インピーダンス状態とされた第
1の信号線14および第2の信号線17とビット線2お
よびビット線7との間に電荷の移動が生じ、信号線14
.17の電位レベルはそれぞれVcc/2+1VTPl
、Vcc/2−VTNとなる。
n−FET12がオン状態となると、ビット線2.7が
電気的に接続されて電位レベルの高いビット線2から電
位レベルの低いビット線7へと電荷が移動し、はぼ時刻
t13にビット線2゜7の電位がともにプリチャージ電
圧VB(−Vc−C/2)となる。また、このとき同時
に、p−FET22およびn−、FET25がオフ状態
となったことにより、高インピーダンス状態とされた第
1の信号線14および第2の信号線17とビット線2お
よびビット線7との間に電荷の移動が生じ、信号線14
.17の電位レベルはそれぞれVcc/2+1VTPl
、Vcc/2−VTNとなる。
ここで、VTPはp−FET16,22のしきい値電圧
であり、VTNはn−FET18,19のしきい値電圧
である。
であり、VTNはn−FET18,19のしきい値電圧
である。
時刻T14において、プリチャージ信号φPが上昇を始
めると、n−FET9,10,16.17および28が
導通し始め、時刻t15においてプリチャージ信号φP
が電源電圧Vccレベルの“H″レベルなると、n−F
ET9,10,26.27および28はすべてオン状態
となり、ビット線2,7ヘプリチヤージ電圧VBがそれ
ぞれ伝達されるとともに、信号線14.17がn−FE
T28を介して電気的に接続され、それぞれの電位が平
衡化されるとともに、n−FET26゜27を介して所
定のプリチャージ電圧VBが伝達され、これにより第1
および第2の信号線14゜17の電位がともにVcc/
2となる。
めると、n−FET9,10,16.17および28が
導通し始め、時刻t15においてプリチャージ信号φP
が電源電圧Vccレベルの“H″レベルなると、n−F
ET9,10,26.27および28はすべてオン状態
となり、ビット線2,7ヘプリチヤージ電圧VBがそれ
ぞれ伝達されるとともに、信号線14.17がn−FE
T28を介して電気的に接続され、それぞれの電位が平
衡化されるとともに、n−FET26゜27を介して所
定のプリチャージ電圧VBが伝達され、これにより第1
および第2の信号線14゜17の電位がともにVcc/
2となる。
このプリチャージ信号φPの”H”レベルへの移行によ
り、ビット線2,7および信号線14゜17上の電位が
安定化され、次の読出動作に備えることになる。
り、ビット線2,7および信号線14゜17上の電位が
安定化され、次の読出動作に備えることになる。
[発明が解決しようとする課題]
上述のようなりRAMの従来の応用分野は、小型から大
型までの計算機における主記憶装置が中心であった。し
かしながら、DRAMの記憶容量の増大に伴うビット単
価の減少により、音声データを扱う分野、たとえば電話
における留守番録音、電子手帳への録音等の分野ににも
このようなビット単価の安いDRAMの用途が拡がり始
めている。
型までの計算機における主記憶装置が中心であった。し
かしながら、DRAMの記憶容量の増大に伴うビット単
価の減少により、音声データを扱う分野、たとえば電話
における留守番録音、電子手帳への録音等の分野ににも
このようなビット単価の安いDRAMの用途が拡がり始
めている。
ところが、このような分野においては、通常、電源とし
ては電池が用いられることが多い。この場合たとえば1
.5Vの乾電池を3個直列に接続して電源として用いる
と、得られる電源電圧は4゜5vである。
ては電池が用いられることが多い。この場合たとえば1
.5Vの乾電池を3個直列に接続して電源として用いる
と、得られる電源電圧は4゜5vである。
一方上述のような標準的なりRAMは、通常外部回路が
TTL回路(バイポーラトランジスタから構成されるト
ランジスタ・トランジスタ・ロジック回路)であること
から、DRAMのこのよう= 20− な回路に対する適合性(コンパチビリティ)を良くする
ためにDRAMの電源電圧は5vとしてメモリに対する
設計が行なわれる。すなわちDRAMの各種仕様値は動
作電源電圧5vの下で選定され、かつDRAMを構成す
る素子の各パラメータは動作電源電圧が5vであるとし
て設計される。
TTL回路(バイポーラトランジスタから構成されるト
ランジスタ・トランジスタ・ロジック回路)であること
から、DRAMのこのよう= 20− な回路に対する適合性(コンパチビリティ)を良くする
ためにDRAMの電源電圧は5vとしてメモリに対する
設計が行なわれる。すなわちDRAMの各種仕様値は動
作電源電圧5vの下で選定され、かつDRAMを構成す
る素子の各パラメータは動作電源電圧が5vであるとし
て設計される。
上述のように、DRAMの動作xg雷電圧して乾電池を
3個直列に接続して得られる4、5vの場合既に設計値
の5Vに対し0.5Vの差があるが、電池を動作電源と
して使用する場合はその寿命による電圧降下も考慮する
必要があり、一般的には、乾電池の電圧が1.5■から
1.2vまで低下することを考慮しておく必要がある。
3個直列に接続して得られる4、5vの場合既に設計値
の5Vに対し0.5Vの差があるが、電池を動作電源と
して使用する場合はその寿命による電圧降下も考慮する
必要があり、一般的には、乾電池の電圧が1.5■から
1.2vまで低下することを考慮しておく必要がある。
このような乾電池1個の電圧が1.2vの場合、電源電
圧としては3.6vになる。すなわち、このような乾電
池を動作電源として用いる音声データ処理分野において
もDRAMを十全に機能させることができるようにする
ためには、動作電源電圧が3.6Vでも正常に動作する
ようにDRAMを設計することが必要となる。
圧としては3.6vになる。すなわち、このような乾電
池を動作電源として用いる音声データ処理分野において
もDRAMを十全に機能させることができるようにする
ためには、動作電源電圧が3.6Vでも正常に動作する
ようにDRAMを設計することが必要となる。
−21=
現在使用されているDRAMが低電源電圧で動作しない
、または動作の余裕(動作マージン)が大幅に減少する
主な要因としては2つ挙げられる。
、または動作の余裕(動作マージン)が大幅に減少する
主な要因としては2つ挙げられる。
その1つは、高速動作の必要性ということである。
たとえば標準形のDRAMにおいては、通常アクセス時
間(アドレスが与えられてからデータが読出しまたは書
込まれるまで必要とされる時間)は80n sないし1
20nsまたはサイクル時間(信号「τ否が活性化され
てから1つのメモリセルへのデータの書込み/読出しが
終了し、スタンバイ状態に移行するまでの時間)は16
0ns〜220nsとなる動作速度が要求される。
間(アドレスが与えられてからデータが読出しまたは書
込まれるまで必要とされる時間)は80n sないし1
20nsまたはサイクル時間(信号「τ否が活性化され
てから1つのメモリセルへのデータの書込み/読出しが
終了し、スタンバイ状態に移行するまでの時間)は16
0ns〜220nsとなる動作速度が要求される。
DRAMの動作速度は動作電源電圧に依存して変化し、
動作電源電圧が低下するとアクセス時間(サイクル時間
)が長くなり、上述の時間を満足することができなくな
る。たとえば、動作電源電圧が5vでアクセス時間が1
00nsのDRAMの場合、電源電圧が3.6vに低下
するとそのアクセス時間は150nsと長くなる。
動作電源電圧が低下するとアクセス時間(サイクル時間
)が長くなり、上述の時間を満足することができなくな
る。たとえば、動作電源電圧が5vでアクセス時間が1
00nsのDRAMの場合、電源電圧が3.6vに低下
するとそのアクセス時間は150nsと長くなる。
他の1つの要因は、電源電圧が低下するとメモリセルか
らの読出電圧が小さくなり、メモリセルデータの増幅が
正常に行なわれなくなるということである。
らの読出電圧が小さくなり、メモリセルデータの増幅が
正常に行なわれなくなるということである。
一般的に、アクセス時間(サイクル時間)の問題は電源
電圧が4.5v付近から起こり、メモリセルデータの増
幅の問題は電源電圧が4.Ov付近から生じ′る。
電圧が4.5v付近から起こり、メモリセルデータの増
幅の問題は電源電圧が4.Ov付近から生じ′る。
したがって、従来のDRAMをそのまま、音声データ処
理分野のような、電源として電池を用いるような低電源
電圧の用途に用いることは困難であるという問題があっ
た。
理分野のような、電源として電池を用いるような低電源
電圧の用途に用いることは困難であるという問題があっ
た。
それゆえに、この発明の目的は、低電源電圧化に対して
も容易に対処することができるDRAMを提供すること
である。
も容易に対処することができるDRAMを提供すること
である。
この発明の他の目的は、動作可能な電源電圧の範囲が広
いDRAMを提供することである。
いDRAMを提供することである。
この発明のさらに他の目的は、電源電圧に対し複数の定
格電圧を設定しても正常に動作するDRAMを提供する
ことである。
格電圧を設定しても正常に動作するDRAMを提供する
ことである。
この発明のさらに他の目的は、電源電圧の定格値に応じ
てアクセス時間の変化により対処することができるDR
AMを提供することである。
てアクセス時間の変化により対処することができるDR
AMを提供することである。
この発明のさらに他の目的は、動作電源電圧の定格値に
応じてセンスアンプの活性化タイミングおよび/または
動作速度を変化させ、これにより動作電源電圧の定格値
の切換えに対しても容易に対処することのできるDRA
Mを提供することである。
応じてセンスアンプの活性化タイミングおよび/または
動作速度を変化させ、これにより動作電源電圧の定格値
の切換えに対しても容易に対処することのできるDRA
Mを提供することである。
[課題を解決するための手段]
この発明に係るDRAMは、外部から与えられる制御信
号に応答してセンスアンプの動作速度およびタイミング
の少なくとも一方を規定する回路手段と、センスアンプ
活性化信号とこの動作規定手段出力とに応答してセンス
アンプの動作速度およびタイミングを規定された動作速
度および/またはタイミングに従ってセンスアンプを駆
動する手段とを含む。
号に応答してセンスアンプの動作速度およびタイミング
の少なくとも一方を規定する回路手段と、センスアンプ
活性化信号とこの動作規定手段出力とに応答してセンス
アンプの動作速度およびタイミングを規定された動作速
度および/またはタイミングに従ってセンスアンプを駆
動する手段とを含む。
この発明の他のDRAMは、外部から与えられる動作電
源電圧を検出する回路手段と、この電圧検出回路手段出
力に応答してセンスアンプの動作速度およびタイミング
の少なくとも一方を規定する手段と、この動作規定手段
出力とセンスアンプ活性化信号とに応答してセンスアン
プを規定された動作速度およびタイミングで駆動する回
路手段とを含む。
源電圧を検出する回路手段と、この電圧検出回路手段出
力に応答してセンスアンプの動作速度およびタイミング
の少なくとも一方を規定する手段と、この動作規定手段
出力とセンスアンプ活性化信号とに応答してセンスアン
プを規定された動作速度およびタイミングで駆動する回
路手段とを含む。
し作用]
この発明に係る動作規定手段は動作電源電圧に応じたセ
ンスアンプの動作速度およびタイミングの少なくとも一
方を規定する。センスアンプの動作速度は、その充放電
速度が遅いほどセンスアンプの感度が良くなることが知
られている。また、センス開始時刻は遅くする程読出電
圧値は大きくなる。したがって、電源電圧の定格値に応
じセンスアンプの動作速度およびタイミングの少なくと
も一方を可変とすれば、動作電源電圧が低くなったとし
ても、読出電圧および/またはセンスアンプの感度が応
じて改善されるため、メモリセルデータを確実に検知し
て増幅することが可能となり、複数の定格電圧を動作電
源電圧に対し設定したとしても、正常に機能するDRA
Mt−得ることかできる。
ンスアンプの動作速度およびタイミングの少なくとも一
方を規定する。センスアンプの動作速度は、その充放電
速度が遅いほどセンスアンプの感度が良くなることが知
られている。また、センス開始時刻は遅くする程読出電
圧値は大きくなる。したがって、電源電圧の定格値に応
じセンスアンプの動作速度およびタイミングの少なくと
も一方を可変とすれば、動作電源電圧が低くなったとし
ても、読出電圧および/またはセンスアンプの感度が応
じて改善されるため、メモリセルデータを確実に検知し
て増幅することが可能となり、複数の定格電圧を動作電
源電圧に対し設定したとしても、正常に機能するDRA
Mt−得ることかできる。
[発明の実施例コ
まず、この発明の実施例について説明する前に、この発
明を支える原理について説明する。
明を支える原理について説明する。
電源電圧として乾電池を用いるような前述の音声データ
処理分野においては計算機分野におけるほど高速性は要
求されない。通常の場合、このような音声データ処理分
野においては1μs〜10μsのアクセス(サイクル時
間)で十分要求される機能を果たすことができる。した
がって前述のような音声データ処理分野においてはアク
セス(サイクル)時間による低電源電圧化に対する障害
は取り除かれることになる。
処理分野においては計算機分野におけるほど高速性は要
求されない。通常の場合、このような音声データ処理分
野においては1μs〜10μsのアクセス(サイクル時
間)で十分要求される機能を果たすことができる。した
がって前述のような音声データ処理分野においてはアク
セス(サイクル)時間による低電源電圧化に対する障害
は取り除かれることになる。
次にDRAMの低電源電圧化に際して問題となるのは、
メモリセルデータの増幅ということである。しかしなが
ら、この問題には、上述のDRAMの高速、性という因
子が関係しており、高速性ということが要求されなくな
った場合には、このメモリセルデータの増幅という問題
も以下に述べるようにして解決することが可能となる。
メモリセルデータの増幅ということである。しかしなが
ら、この問題には、上述のDRAMの高速、性という因
子が関係しており、高速性ということが要求されなくな
った場合には、このメモリセルデータの増幅という問題
も以下に述べるようにして解決することが可能となる。
まず、本発明の原理をよりよく理解するためには第15
図に示される動作波形図における時刻t3から時刻t5
までの間におけるセンス動作に対し詳細な説明が必要と
される。
図に示される動作波形図における時刻t3から時刻t5
までの間におけるセンス動作に対し詳細な説明が必要と
される。
第16図に第15図における時刻t3から時刻t5まで
の間を拡大した動作波形図を示す。なお、第16図にお
いてはビット線2を電源電位Vccレベルにまで引上げ
る動作は説明の煩雑さを避けるために省略しているが、
この電源電圧Vccレベルにまで引上げる動作に対して
もセンス動作を行なう場合には以下に述べるものと同様
の議論が成立する。
の間を拡大した動作波形図を示す。なお、第16図にお
いてはビット線2を電源電位Vccレベルにまで引上げ
る動作は説明の煩雑さを避けるために省略しているが、
この電源電圧Vccレベルにまで引上げる動作に対して
もセンス動作を行なう場合には以下に述べるものと同様
の議論が成立する。
第16図を参照して、時刻t3においてワード線駆動信
号Rnが上昇をし始めてその電位レベルがビット線2の
電位よりもn−FET5のしきい値電圧VTNだけ高く
なる時刻t3’においてn−FETが導通をし始める。
号Rnが上昇をし始めてその電位レベルがビット線2の
電位よりもn−FET5のしきい値電圧VTNだけ高く
なる時刻t3’においてn−FETが導通をし始める。
これにより、記憶ノード4からビット線2へ電荷が移動
をし始め、ビット線2の電位が上昇し始める。ワード線
駆動信号Rnの電位上昇とともにn−FET5がさらに
導通しくさらに深いオン状態となり)、ビット線2の電
位はさらに上昇する。ビット線2の電位は時間とともに
上昇していくが、最終的に次の値で与えられる電圧Δv
1だけそのプリチャージレベルより上昇する。
をし始め、ビット線2の電位が上昇し始める。ワード線
駆動信号Rnの電位上昇とともにn−FET5がさらに
導通しくさらに深いオン状態となり)、ビット線2の電
位はさらに上昇する。ビット線2の電位は時間とともに
上昇していくが、最終的に次の値で与えられる電圧Δv
1だけそのプリチャージレベルより上昇する。
ΔV1=C6壷Vcc/2 (C6+C20)・・・(
1) なお第16図における動作波形図においてビット線2の
電位は、その変化がより明確となるように他の信号に比
べて拡大して示されている。
1) なお第16図における動作波形図においてビット線2の
電位は、その変化がより明確となるように他の信号に比
べて拡大して示されている。
なお上述の式(1)において、C6はメモリセルキャパ
シタ6の容量値であり、C20はビット線2の寄生容量
20の容量値であり、Vccは電源電圧である。
シタ6の容量値であり、C20はビット線2の寄生容量
20の容量値であり、Vccは電源電圧である。
時刻t4において、センスアンプ活性化信号φ5が上昇
し始めそのレベルがn−FET25のしきい値電圧VT
Nだけ高くなると、時刻t4’ においてn−FET2
5が導通をし始め、信号線17の電位が下降し始める。
し始めそのレベルがn−FET25のしきい値電圧VT
Nだけ高くなると、時刻t4’ においてn−FET2
5が導通をし始め、信号線17の電位が下降し始める。
時刻t4″において、信号線17の電位がVcc /
2よりn−FET19のしきい値電圧VTNだけ低下す
ると、センスアンプ50が増幅動作を開始する。この場
合、ビット線2側の電位はVcc / 2よりΔVl’
だけ高く、ビット線7側の電位はVcc/2である。し
たがってビット線2電位はビット線7より電位ΔV1′
だけ高い状態にある。活性化されたセンスアンプ50が
この電圧差を増幅することにより、ビット線7の電位が
、信号線17の電位降下に従ってn−FET19を介し
て放電を行なって降下し、時刻t5においてOvとなる
。すなわち、微小な電圧差ΔVl’がセンスアンプ50
により増幅されたことになる。
2よりn−FET19のしきい値電圧VTNだけ低下す
ると、センスアンプ50が増幅動作を開始する。この場
合、ビット線2側の電位はVcc / 2よりΔVl’
だけ高く、ビット線7側の電位はVcc/2である。し
たがってビット線2電位はビット線7より電位ΔV1′
だけ高い状態にある。活性化されたセンスアンプ50が
この電圧差を増幅することにより、ビット線7の電位が
、信号線17の電位降下に従ってn−FET19を介し
て放電を行なって降下し、時刻t5においてOvとなる
。すなわち、微小な電圧差ΔVl’がセンスアンプ50
により増幅されたことになる。
この動作における重要な点は、センスアンプ50の動作
を開始する時刻t4’においていかに大きな電圧差ΔV
l’を確保するかということである。電圧差(メモリセ
ルデータの読出電圧)Δ■1′が小さい場合には、セン
スアンプ50が誤動作を起こすことになる。
を開始する時刻t4’においていかに大きな電圧差ΔV
l’を確保するかということである。電圧差(メモリセ
ルデータの読出電圧)Δ■1′が小さい場合には、セン
スアンプ50が誤動作を起こすことになる。
理想的な増幅状態は、ビット線2とビット線7の寄生容
量20.21の容量値が同一、ビット線7とビット線7
に他のビット線から結合する電気的ノイズ電圧が同一、
n−FET18とn−FET19の電気的な素子定数(
たとえばしきい値電圧)が同一のときに得られる。この
場合においCは、センスアンプ50は極めてわずかな電
圧差、たとえば1mVでも正常に動作して検知増幅する
ことが可能である。しかしながら、実際には上述のよう
な理想的な増幅状態を与える条件は満たされず、何らか
の非平衡状態が生じており、センスアンプ50が電圧差
を検知増幅するためには数10mVの電位差が′必要と
される。したがって、この必要最小限の電圧差ΔV1′
を得るためには時刻t3’から時刻t4’までの期間に
対し成る程度の時間が必要とされる。
量20.21の容量値が同一、ビット線7とビット線7
に他のビット線から結合する電気的ノイズ電圧が同一、
n−FET18とn−FET19の電気的な素子定数(
たとえばしきい値電圧)が同一のときに得られる。この
場合においCは、センスアンプ50は極めてわずかな電
圧差、たとえば1mVでも正常に動作して検知増幅する
ことが可能である。しかしながら、実際には上述のよう
な理想的な増幅状態を与える条件は満たされず、何らか
の非平衡状態が生じており、センスアンプ50が電圧差
を検知増幅するためには数10mVの電位差が′必要と
される。したがって、この必要最小限の電圧差ΔV1′
を得るためには時刻t3’から時刻t4’までの期間に
対し成る程度の時間が必要とされる。
上述のようにこの時間を長くとればとるほどセンスアン
プ50への入力電圧差は大きくなり、センスアンプ50
が安定に動作する。しかしながら、この時間を長くとる
と、当然のことながら、メモリセルからデータを読出す
時間が長くなり、この結果アクセス時間が長くなり、同
様にサイクル時間も長くなる。したがって、一般のDR
AM (アクセス時間が80ないし120ns)におい
てはこの時間は10〜15ns程度に設定されている。
プ50への入力電圧差は大きくなり、センスアンプ50
が安定に動作する。しかしながら、この時間を長くとる
と、当然のことながら、メモリセルからデータを読出す
時間が長くなり、この結果アクセス時間が長くなり、同
様にサイクル時間も長くなる。したがって、一般のDR
AM (アクセス時間が80ないし120ns)におい
てはこの時間は10〜15ns程度に設定されている。
さらに第16図を用いて電源電圧Vccを低下させた場
合を考えてみる。式(1)より、電圧差Δv1は電源電
圧Vccに比例するので、当然のことながら電圧差ΔV
l’ もそれにつれて小さくなり、この結果センスアン
プ50の誤動作が生じやすくなる。
合を考えてみる。式(1)より、電圧差Δv1は電源電
圧Vccに比例するので、当然のことながら電圧差ΔV
l’ もそれにつれて小さくなり、この結果センスアン
プ50の誤動作が生じやすくなる。
仮に、センスアンプ50を動作させる時刻(センス開始
時刻)を遅くして、ビット線2の電位が最終レベルに近
い時刻(第16図における時刻t41)に設定すれば、
センスアンプ50への入力電圧差を大きくすることがで
き、電源電圧Vccの値を小さくすることが可能である
。
時刻)を遅くして、ビット線2の電位が最終レベルに近
い時刻(第16図における時刻t41)に設定すれば、
センスアンプ50への入力電圧差を大きくすることがで
き、電源電圧Vccの値を小さくすることが可能である
。
通常のDRAMにおいては、時刻t3’から時刻t4”
までの時間を50n s〜100nsの間の時間に設定
すれば、時刻t4”においてほぼ最終レベルのΔV1の
電位上昇をビット線2上に生じさせることができる。こ
のような長い時間は通常のDRAMの用途にとっては許
容することができないが、前述のような低電圧電源の音
声データ処理分野に用いる場合においては、その要求さ
れるアクセス時間(サイクル時間)はマイクロ秒オーダ
であるため、この時刻t3’から時刻t4”までの時間
を50ns〜100nsとしても全く問題がなく、その
要求される性能を十分に果たすことができる。
までの時間を50n s〜100nsの間の時間に設定
すれば、時刻t4”においてほぼ最終レベルのΔV1の
電位上昇をビット線2上に生じさせることができる。こ
のような長い時間は通常のDRAMの用途にとっては許
容することができないが、前述のような低電圧電源の音
声データ処理分野に用いる場合においては、その要求さ
れるアクセス時間(サイクル時間)はマイクロ秒オーダ
であるため、この時刻t3’から時刻t4”までの時間
を50ns〜100nsとしても全く問題がなく、その
要求される性能を十分に果たすことができる。
電圧差Δv1と電圧差ΔVl’ との関係をさらに詳し
く検討してみ“る。一般的にDRAMにおいては、電圧
差ΔVl’が電圧差Δv1の70ないし80%の値にな
った時点に時刻t4″が設定され、この時刻t4’にお
いてセンスアンプのセンス動作が開始される。このこと
は、時刻t4’を時刻t4”に遅延させた場合に、同一
のセンスアンプ50への入力電圧差を確保するのに必要
な電源電圧は70ないし80%低くてもよいことを意味
する。すなわち電源電圧5■の70〜80%として、3
.5〜4.Ovの電源電圧が得られる。
く検討してみ“る。一般的にDRAMにおいては、電圧
差ΔVl’が電圧差Δv1の70ないし80%の値にな
った時点に時刻t4″が設定され、この時刻t4’にお
いてセンスアンプのセンス動作が開始される。このこと
は、時刻t4’を時刻t4”に遅延させた場合に、同一
のセンスアンプ50への入力電圧差を確保するのに必要
な電源電圧は70ないし80%低くてもよいことを意味
する。すなわち電源電圧5■の70〜80%として、3
.5〜4.Ovの電源電圧が得られる。
したがって電源電圧として電池を用いるような場合にお
いてこの時刻t4”においてセンスアンプのセンス動作
が開始されるように設定すれば、メモリセルデータの検
知増幅を誤りなく行なうことが可能となる。
いてこの時刻t4”においてセンスアンプのセンス動作
が開始されるように設定すれば、メモリセルデータの検
知増幅を誤りなく行なうことが可能となる。
上述のように電源電圧が低い場合においては、センスア
ンプの活性化時刻を送らせることによりメモリセルデー
タの確実な検知増幅という問題の解決が得られるが、ま
だこれだけでは十分ではない。
ンプの活性化時刻を送らせることによりメモリセルデー
タの確実な検知増幅という問題の解決が得られるが、ま
だこれだけでは十分ではない。
より確実にメモリセルデータの検知増幅を行なうための
より改善された手法は、第16図に示されるように、信
号線17の電位下降速度を小さくしてセンスアンプ5o
の感度を改善することである(第16図の破線A)。こ
こで、第16図において信号線17の電位における破線
はそのセンスアンプのセンス開始時刻がt4’に設定さ
れた場合の電位変化を示している。信号線17における
電位下降速度を小さくすることによりセンスアンプ50
の感度が良くなることは一般的に知られている(日経エ
レクトロニクス1979年1月8日号第110頁ないし
第133頁を参照)。したがって、このように信号線1
7における電位下降速度を遅くしセンスアンプの動作速
度を小さくすることにより、センスアンプの感度が改善
され、電源電圧を3.6vに下げることが可能になる。
より改善された手法は、第16図に示されるように、信
号線17の電位下降速度を小さくしてセンスアンプ5o
の感度を改善することである(第16図の破線A)。こ
こで、第16図において信号線17の電位における破線
はそのセンスアンプのセンス開始時刻がt4’に設定さ
れた場合の電位変化を示している。信号線17における
電位下降速度を小さくすることによりセンスアンプ50
の感度が良くなることは一般的に知られている(日経エ
レクトロニクス1979年1月8日号第110頁ないし
第133頁を参照)。したがって、このように信号線1
7における電位下降速度を遅くしセンスアンプの動作速
度を小さくすることにより、センスアンプの感度が改善
され、電源電圧を3.6vに下げることが可能になる。
この電位下降速度は小さくすればするほど感度は改善さ
れるが、電位下降開始から終了までの時間が100ns
程度の下降速度でその感度はほぼ飽和する。この発明は
上述の手法に従ってDRAMの低電源電圧化に対処する
ものである。以下図面を参照してこの発明の実施例につ
いて説明する。
れるが、電位下降開始から終了までの時間が100ns
程度の下降速度でその感度はほぼ飽和する。この発明は
上述の手法に従ってDRAMの低電源電圧化に対処する
ものである。以下図面を参照してこの発明の実施例につ
いて説明する。
第1図にこ、の発明の一実施例であるDRAMの全体の
概略構成を示す。第1図に示す構成においては、センス
アンプを駆動する回路部分のみが示される。第1図を参
照して、DRAMは、センス動作速度規定回路200お
よびセンスアンプ駆動回路210を含む。
概略構成を示す。第1図に示す構成においては、センス
アンプを駆動する回路部分のみが示される。第1図を参
照して、DRAMは、センス動作速度規定回路200お
よびセンスアンプ駆動回路210を含む。
センス動作速度規定回路200は、端子220を介して
外部から与えられる動作速度指示信号Aに応答して、セ
ンスアンプSAの動作速度および動作タイミングの少な
くとも一方を規定する信号c、c’を発生する。動作速
度指示信号Aは、パッドPAへ与えられる外部電源電圧
の定格値に従って外部から与えられ、この電源電圧の定
格値に従ったセンスアンプの動作速度およびタイミング
を規定する。
外部から与えられる動作速度指示信号Aに応答して、セ
ンスアンプSAの動作速度および動作タイミングの少な
くとも一方を規定する信号c、c’を発生する。動作速
度指示信号Aは、パッドPAへ与えられる外部電源電圧
の定格値に従って外部から与えられ、この電源電圧の定
格値に従ったセンスアンプの動作速度およびタイミング
を規定する。
センスアンプ駆動回路210は、制御信号発生周辺回路
CGから所定のタイミング(これは信号「τ下を所定時
間遅延することにより与えられる)で発生されるセンス
アンプ活性化信号φSOおよびセンス動作速度規定回路
200からの動作速度およびタイミング規定信号c、c
’ に応答して、センスアンプSAを駆動する。センス
アンプSAはこの規定信号c、 c’が規定するタイ
ミングで活性化され、かつ規定された動作速度で動作す
る。
CGから所定のタイミング(これは信号「τ下を所定時
間遅延することにより与えられる)で発生されるセンス
アンプ活性化信号φSOおよびセンス動作速度規定回路
200からの動作速度およびタイミング規定信号c、c
’ に応答して、センスアンプSAを駆動する。センス
アンプSAはこの規定信号c、 c’が規定するタイ
ミングで活性化され、かつ規定された動作速度で動作す
る。
第2図にセンスアンプ駆動回路210の具体的構成の一
例を示す。第2図を参照して、センスアンプ駆動回路2
10は、動作速度規定回路200からの規定信号Cとセ
ンスアンプ活性化信号φ。
例を示す。第2図を参照して、センスアンプ駆動回路2
10は、動作速度規定回路200からの規定信号Cとセ
ンスアンプ活性化信号φ。
0を受けるANDゲートG1と、センスアンプ活性化信
号φsoを所定時間遅延させる遅延回路100と、動作
規定信号C′と遅延回路100からのセンスアンプ活性
化信号φ′50を受けるANDゲートG2とを含む。信
号線17には、センスアンプ50を活性化するためにn
−FET25゜25′が設けられる。n−FET25の
ゲートへはANDゲートG1からの第1のセンスアンプ
駆動信号φ5が与えられる。n−FET25′のゲート
へはANDゲートG2からの第2のセンスアンプ駆動信
号φ′、が与えられる。次に動作について説明する。
号φsoを所定時間遅延させる遅延回路100と、動作
規定信号C′と遅延回路100からのセンスアンプ活性
化信号φ′50を受けるANDゲートG2とを含む。信
号線17には、センスアンプ50を活性化するためにn
−FET25゜25′が設けられる。n−FET25の
ゲートへはANDゲートG1からの第1のセンスアンプ
駆動信号φ5が与えられる。n−FET25′のゲート
へはANDゲートG2からの第2のセンスアンプ駆動信
号φ′、が与えられる。次に動作について説明する。
規定信号Cは、パッドPAへ印加される電源電圧が5v
の場合に“1”となる信号であり、一方規定信号C′i
電源電圧の定格値が5■よりも低いときに“1”となる
信号である。標準電源電圧動作(Vcc=5V)の下に
おいては、規定信号Cは“1”、規定信号C′は“0”
である。この場合、ANDゲートG1がイネーブル状態
とされ、ANDゲートG2はディスエーブル状態とされ
る。
の場合に“1”となる信号であり、一方規定信号C′i
電源電圧の定格値が5■よりも低いときに“1”となる
信号である。標準電源電圧動作(Vcc=5V)の下に
おいては、規定信号Cは“1”、規定信号C′は“0”
である。この場合、ANDゲートG1がイネーブル状態
とされ、ANDゲートG2はディスエーブル状態とされ
る。
したがって、通常のタイミングで制御信号発生層辺回路
CGからセンスアンプ活性化信号φsOが発生された場
合、ANDゲートG1を介して通常の動作タイミングで
センスアンプ駆動信号φ5が発生され、n−FET25
が導通し始め、応じてセンスアンプ50が活性化されて
メモリセルデータの検知増幅動作が行なわれる。
CGからセンスアンプ活性化信号φsOが発生された場
合、ANDゲートG1を介して通常の動作タイミングで
センスアンプ駆動信号φ5が発生され、n−FET25
が導通し始め、応じてセンスアンプ50が活性化されて
メモリセルデータの検知増幅動作が行なわれる。
パッドPAへ与えられる電源電圧の定格値が低い場合(
Vcc<5V)においては、規定信号Cは“0″となり
、一方規定信号C′は“1″となる。これにより、AN
DゲートG1がディスエーブル状態、ANDゲー)G2
がディスエーブル状態とされる。したがってこの場合、
遅延回路100から発生される遅延センスアンプ駆動信
号φ′soに応答してn−FET25’が導通し始め、
応じてセンスアンプ50の検知増幅動作が行なわれる。
Vcc<5V)においては、規定信号Cは“0″となり
、一方規定信号C′は“1″となる。これにより、AN
DゲートG1がディスエーブル状態、ANDゲー)G2
がディスエーブル状態とされる。したがってこの場合、
遅延回路100から発生される遅延センスアンプ駆動信
号φ′soに応答してn−FET25’が導通し始め、
応じてセンスアンプ50の検知増幅動作が行なわれる。
この場合、遅延回路100が有する遅延時間は50n
sないし100nsであり、したがってメモリセルか選
択されて十分な時間が経過した後にビット線対間の電位
の差動増幅すなわわちメモリセルデータの増幅が行なわ
れる。これにより、電源電圧の定格値が小さい場合にお
いても、センスアンプ50は安定に動作し、メモリセル
データの正確な検知増幅を行なうことができる。
sないし100nsであり、したがってメモリセルか選
択されて十分な時間が経過した後にビット線対間の電位
の差動増幅すなわわちメモリセルデータの増幅が行なわ
れる。これにより、電源電圧の定格値が小さい場合にお
いても、センスアンプ50は安定に動作し、メモリセル
データの正確な検知増幅を行なうことができる。
なおこの場合において、通常時、ANDゲートGl、G
2から発生されるセンスアンプ活性信号φS、φ′Sの
“H”レベルは電源電圧Vccレベルである。したがっ
て、電源電圧の定格値が小さい場合においては、その“
H″レベル低い電位となっている。したがって、動作電
源電圧の定格値が低い場合においてはn−FET25’
は浅いオン状態(電源電圧5vの場合に比べて)となっ
ており、信号線17の放電に要する時間が長くなり、こ
れによりセンスアンプ50の動作速度も遅くなっており
、センスアンプの感度は改善される。
2から発生されるセンスアンプ活性信号φS、φ′Sの
“H”レベルは電源電圧Vccレベルである。したがっ
て、電源電圧の定格値が小さい場合においては、その“
H″レベル低い電位となっている。したがって、動作電
源電圧の定格値が低い場合においてはn−FET25’
は浅いオン状態(電源電圧5vの場合に比べて)となっ
ており、信号線17の放電に要する時間が長くなり、こ
れによりセンスアンプ50の動作速度も遅くなっており
、センスアンプの感度は改善される。
なお第2図に示すセンスアンプ駆動回路の構成において
は、信号線17の放電を電源電圧の定格値に従って行な
うために2個のn−FET25゜25′が設けられてい
る。これに変えて、1個のn−FETのみを用いて電源
電圧の定格値に応じたセンスアンプの駆動を実現するこ
とも可能である。第3図にこの構成を示す。
は、信号線17の放電を電源電圧の定格値に従って行な
うために2個のn−FET25゜25′が設けられてい
る。これに変えて、1個のn−FETのみを用いて電源
電圧の定格値に応じたセンスアンプの駆動を実現するこ
とも可能である。第3図にこの構成を示す。
第3図を参照して、センスアンプ駆動回路21・ 0に
は、ANDゲートG1およびANDゲート02出力を受
けるORゲートG3が設けられる。ORゲートG3の出
力がn−FET25のゲートへ与えられる。遅延回路1
00、ANDゲートGl。
は、ANDゲートG1およびANDゲート02出力を受
けるORゲートG3が設けられる。ORゲートG3の出
力がn−FET25のゲートへ与えられる。遅延回路1
00、ANDゲートGl。
G2は第2図に示す構成と同様である。この構成の場合
、ORゲートG3はANDゲートG1およびG2から与
えられるセンスアンプ駆動信号φ、。
、ORゲートG3はANDゲートG1およびG2から与
えられるセンスアンプ駆動信号φ、。
φ′、を通過させる。したがって、第3図に示す構成に
おいても、電源電圧の定格値に従ってn −FET25
の動作タイミングを異ならせることができ、第2図に示
す構成と同様の効果を得ることができる。
おいても、電源電圧の定格値に従ってn −FET25
の動作タイミングを異ならせることができ、第2図に示
す構成と同様の効果を得ることができる。
なお第2図および第3図に示す構成においてはセンスア
ンプを駆動する開始時刻に関する制御についてのみ考、
慮されている。しかしながら、前述のごとく、信号線1
7における電位下降速度をさらに遅くする方法を組合わ
せてもよい。このような構成としては、たとえば第2図
に示すn−FET25′の導通抵抗を大きくし、n−F
ET25′による信号線17の放電速度を遅くする構成
を用いればよい。
ンプを駆動する開始時刻に関する制御についてのみ考、
慮されている。しかしながら、前述のごとく、信号線1
7における電位下降速度をさらに遅くする方法を組合わ
せてもよい。このような構成としては、たとえば第2図
に示すn−FET25′の導通抵抗を大きくし、n−F
ET25′による信号線17の放電速度を遅くする構成
を用いればよい。
また1、単に信号線17における電位下降速度のみで低
電源電圧化に対処する場合においては、第2図に示す構
成において遅延回路100を除き、n−FET25’の
導通抵抗を大きくする構成とすればよい。この場合、信
号線17の放電に要する時間がたとえば100nsの場
合、このn−FET25’の導通抵抗のオーダは100
にΩである。このよ?な構成の場合、第4図の破線Bに
示すように、信号線17における放電が緩やかとなり、
センスアンプ50の感度を改善することができ、センス
アンプを安定に動作させることができる。
電源電圧化に対処する場合においては、第2図に示す構
成において遅延回路100を除き、n−FET25’の
導通抵抗を大きくする構成とすればよい。この場合、信
号線17の放電に要する時間がたとえば100nsの場
合、このn−FET25’の導通抵抗のオーダは100
にΩである。このよ?な構成の場合、第4図の破線Bに
示すように、信号線17における放電が緩やかとなり、
センスアンプ50の感度を改善することができ、センス
アンプを安定に動作させることができる。
規定信号c、c’の供給手段としては、半導体チップC
Hに専用の外部リード端子を設け、電源電圧の定格値に
応じて動作速度およびタイミングを切換える信号Aを与
えるのが1つの簡単な方法である。この場合、第1図に
示すように、センス動作速度規定回路200は、たとえ
ば2段の縦続接続されたインバータにより構成される。
Hに専用の外部リード端子を設け、電源電圧の定格値に
応じて動作速度およびタイミングを切換える信号Aを与
えるのが1つの簡単な方法である。この場合、第1図に
示すように、センス動作速度規定回路200は、たとえ
ば2段の縦続接続されたインバータにより構成される。
この2段のインバータの各々から出力信号を取出すこと
により規定信号c、c’を得ることができる。
により規定信号c、c’を得ることができる。
上′述の説明においては、まず最初に電源電圧の定格値
を設定し、その設定された電源電圧値に応じてDRAM
のデータ読出/書込動作を正確に行なう手法について述
べている。しかしながら、通常の計算機にDRAMを記
憶装置として用いる場合、データの読出/書込時以外に
単にデータを保持するだけの用い方が行なわれる場合が
ある。この場合、DRAMはリフレッシュ動作のみを行
なうことになる。このときのリフレッシュ動作時におけ
るサイクル時間は通常15.6μsに設定され、高速動
作を必要としない。したがって、上述のようにこのよう
な高速動作を必要としないリフレッシュサイクル時にお
いてセンスアンプの動作タイミングおよび動作速度を遅
くすれば、電源電圧を低減することができ、メモリシス
テムの消費電力を低減することが可能となる。すなわち
、DRAMの動作モードに応じて電源電圧を変化させ、
この変化させた電源電圧に応じてセンスアンプの動作タ
イミングおよび動作速度をも変化させ低消費電力化を図
る。この構成について以下に説明する。第5図にこの動
作モードに応じて電源電圧の定格値を変化させ、これに
応じてセンスアンプの動作速度および動作タイミングを
も変化させる構成における制御信号と電源電圧との関係
について示す。
を設定し、その設定された電源電圧値に応じてDRAM
のデータ読出/書込動作を正確に行なう手法について述
べている。しかしながら、通常の計算機にDRAMを記
憶装置として用いる場合、データの読出/書込時以外に
単にデータを保持するだけの用い方が行なわれる場合が
ある。この場合、DRAMはリフレッシュ動作のみを行
なうことになる。このときのリフレッシュ動作時におけ
るサイクル時間は通常15.6μsに設定され、高速動
作を必要としない。したがって、上述のようにこのよう
な高速動作を必要としないリフレッシュサイクル時にお
いてセンスアンプの動作タイミングおよび動作速度を遅
くすれば、電源電圧を低減することができ、メモリシス
テムの消費電力を低減することが可能となる。すなわち
、DRAMの動作モードに応じて電源電圧を変化させ、
この変化させた電源電圧に応じてセンスアンプの動作タ
イミングおよび動作速度をも変化させ低消費電力化を図
る。この構成について以下に説明する。第5図にこの動
作モードに応じて電源電圧の定格値を変化させ、これに
応じてセンスアンプの動作速度および動作タイミングを
も変化させる構成における制御信号と電源電圧との関係
について示す。
第5図に示すように、時刻TO〜時刻T1の間において
は通常のデータの続出/書込動作が行なわれる。この動
作は高速で行なう必要があるため、電源電圧Vccは5
vに設定されており、応じて規定信号C′が“0”、規
定信号Cは“1”に設定され、センスアンプも高速で動
作している。
は通常のデータの続出/書込動作が行なわれる。この動
作は高速で行なう必要があるため、電源電圧Vccは5
vに設定されており、応じて規定信号C′が“0”、規
定信号Cは“1”に設定され、センスアンプも高速で動
作している。
時刻T1より時刻T2の間はデータ保持動作のみが行な
われる期間である。この場合、時刻T1の直前に規定信
号C′を“1”、規定信号Cを“0″に設定し、センス
アンプの動作を遅くし、次いで電源電圧Vccを3.6
■に降下させる。
われる期間である。この場合、時刻T1の直前に規定信
号C′を“1”、規定信号Cを“0″に設定し、センス
アンプの動作を遅くし、次いで電源電圧Vccを3.6
■に降下させる。
これによりDRAMは低電源電圧動作状態となり、低消
費電力で動作する。
費電力で動作する。
時刻T2から再び通常のデータ読出し/書込みを行なう
場合には、この時刻T2直前に電源電圧Vccを3.6
Vから5vに上昇させ、次に規定信号C′を“O“、規
定信号Cを“1”とし、センスアンプを高速で動作させ
る。
場合には、この時刻T2直前に電源電圧Vccを3.6
Vから5vに上昇させ、次に規定信号C′を“O“、規
定信号Cを“1”とし、センスアンプを高速で動作させ
る。
この場合、DRAMの動作モードに応じてセンスアンプ
の動作速度/タイミングを規定する信号c、c’を発生
する必要がある。この場合、電源電圧の定格値の変化は
、外部でたとえばCPU(図示せず)により行なわれる
が、同様にこの動作モードを規定する信号により、セン
スアンプの動作を切換えるタイミングを与える信号が発
生される。
の動作速度/タイミングを規定する信号c、c’を発生
する必要がある。この場合、電源電圧の定格値の変化は
、外部でたとえばCPU(図示せず)により行なわれる
が、同様にこの動作モードを規定する信号により、セン
スアンプの動作を切換えるタイミングを与える信号が発
生される。
第6図に上述のようなりRAMの動作モードに応じてセ
ンスアンプの動作を規定する信号C1C′の状態を切換
える構成を示す。
ンスアンプの動作を規定する信号C1C′の状態を切換
える構成を示す。
第6図を参照して、タイミング検出回路13〇は、入力
端子81を介して与えられる列アドレスストローブ信号
CAS、外部端子82を介して与えられる行アドレスス
トローブ信号RAS、および外部端子83を介して与え
らる書込信号Wとを受け、この受けた信号のタイミング
に応じて動作モードを規定する信号Tを発生する。この
タイミング検出回路130は、列アドレスストローブ信
号CAS、行アドレスストローブ信号■τ茗および書込
信号Wの変化タイミングが通常のタイミングとは異なる
タイミングである場合に、モード指示信号Tが発生する
。たとえば列アドレスストローブ信号CASがL″ レ
ベルへの立下がった後に、書込信号Wおよび行アドレス
ストローブ信号RASがともに“L”レベルとなる場合
に指示信号Tが発生される。他のタイミングとしては、
たとえばオートリフレッシュ動作時などにおいて行なわ
れているCASビフォアRASかつ書込指示状態におい
て信号Tが発生される。切換信号発生回路120は、タ
イミング検出回路130からのモード指示信号Tと外部
端子POを介して与えられる外部アドレス信号AOとに
応答して、規定信号c、c’を発生する。この場合、デ
ータ保持動作モードにおいては外部ドレスピンPOは未
使用状態となるので、このアドレス入力ピン端子POが
センスアンプ動作規定指示信号入力端子として用いられ
る。切換信号発生回路120は、外部アドレス信号AO
が“H”の場合に信号Tに応答して規定信号C,C’が
それぞれ“0”、“1”となる信号を発生する。
端子81を介して与えられる列アドレスストローブ信号
CAS、外部端子82を介して与えられる行アドレスス
トローブ信号RAS、および外部端子83を介して与え
らる書込信号Wとを受け、この受けた信号のタイミング
に応じて動作モードを規定する信号Tを発生する。この
タイミング検出回路130は、列アドレスストローブ信
号CAS、行アドレスストローブ信号■τ茗および書込
信号Wの変化タイミングが通常のタイミングとは異なる
タイミングである場合に、モード指示信号Tが発生する
。たとえば列アドレスストローブ信号CASがL″ レ
ベルへの立下がった後に、書込信号Wおよび行アドレス
ストローブ信号RASがともに“L”レベルとなる場合
に指示信号Tが発生される。他のタイミングとしては、
たとえばオートリフレッシュ動作時などにおいて行なわ
れているCASビフォアRASかつ書込指示状態におい
て信号Tが発生される。切換信号発生回路120は、タ
イミング検出回路130からのモード指示信号Tと外部
端子POを介して与えられる外部アドレス信号AOとに
応答して、規定信号c、c’を発生する。この場合、デ
ータ保持動作モードにおいては外部ドレスピンPOは未
使用状態となるので、このアドレス入力ピン端子POが
センスアンプ動作規定指示信号入力端子として用いられ
る。切換信号発生回路120は、外部アドレス信号AO
が“H”の場合に信号Tに応答して規定信号C,C’が
それぞれ“0”、“1”となる信号を発生する。
第7図に第13図に示される切換信号発生回路120の
構成の一例を示す。第7図を参照して、切換信号発生回
路120は、n−FETQ96、p−FETQ97、イ
ンバータ05〜G8およびワンショットパルス発生回路
123を含む。
構成の一例を示す。第7図を参照して、切換信号発生回
路120は、n−FETQ96、p−FETQ97、イ
ンバータ05〜G8およびワンショットパルス発生回路
123を含む。
ワンショットパルス発生回路123は、端子124を介
して与えられるモード検出信号Tに応答して所定のパル
ス幅を有する正極性のパルスを発生する。n−FETQ
96は、ワンショットパルス発生回路123からのパル
ス信号に応答してオン状態となり、端子POを介して与
えられるアトレス信号AOを通過させる。インバータG
5.G6はラッチ回路125を構成しており、n−FE
TQ96を介して与えられたアドレス信号AOをラッチ
する。
して与えられるモード検出信号Tに応答して所定のパル
ス幅を有する正極性のパルスを発生する。n−FETQ
96は、ワンショットパルス発生回路123からのパル
ス信号に応答してオン状態となり、端子POを介して与
えられるアトレス信号AOを通過させる。インバータG
5.G6はラッチ回路125を構成しており、n−FE
TQ96を介して与えられたアドレス信号AOをラッチ
する。
p−FETQ97は、端子124を介して与えられる動
作モード指示信号Tが“L”のときにオン状態となり、
ラッチ回路125の出力部であるノードN5を電源電圧
Vccレベルに充電する。
作モード指示信号Tが“L”のときにオン状態となり、
ラッチ回路125の出力部であるノードN5を電源電圧
Vccレベルに充電する。
ラッチ回路125の出力ノードN5に2段の縦続接続さ
れたインバータG7.G8が設けられる。
れたインバータG7.G8が設けられる。
インバータG7から規定信号C′が出力され、インバー
タG8から規定信号Cが出力される。次に動作について
説明する。
タG8から規定信号Cが出力される。次に動作について
説明する。
電源電圧Vccが5vの通常の動作時におけるデータの
読出/書込動作モード時においては、信号Tは“L”
レベルである。これにより、ワンショットパルス発生回
路123の出力も“L”レベルであり、n−FETQ9
6はオフ状態である。
読出/書込動作モード時においては、信号Tは“L”
レベルである。これにより、ワンショットパルス発生回
路123の出力も“L”レベルであり、n−FETQ9
6はオフ状態である。
一方、p−FETQ97はオン状態であり、これにより
ラッチ回路125の出力ノードN5は電源電圧Vccレ
ベルの′H″レベルに固定される。
ラッチ回路125の出力ノードN5は電源電圧Vccレ
ベルの′H″レベルに固定される。
この結果、インバータG7から出力される規定信号C′
が“L”レベルとなり、インバータG8から出力される
規定信号Cは“H”レベルとなる。
が“L”レベルとなり、インバータG8から出力される
規定信号Cは“H”レベルとなる。
これにより、センスアンプは前述のごとく高速で動作す
る。
る。
データ保持動作モード時などの低電源電圧動作時におい
ては、信号Tが“L”レベルから”H”レベルに変化す
る。この信号Tのレベル変化に応答してワンショットパ
ルス発生回路123から正極性の単発パルスが発生され
、n−FETQ96がオン状態となる。一方、p−FE
TQ97はオフ状態となっている。このとき、外部ピン
端子POヘアドレス信号AOが与えられていると、この
与えられているアドレス信号AOはラッチ回路125に
取込まれてラッチされる。アドレス信号AOが“H”レ
ベルのときには、出力ノードN5の電位は“L”レベル
となり、応じて規定信号C′が“H”レベル、規定信号
Cが“L”レベルとなる。これにより、センスアンプの
動作タイミングおよび動作速度が遅くされる。
ては、信号Tが“L”レベルから”H”レベルに変化す
る。この信号Tのレベル変化に応答してワンショットパ
ルス発生回路123から正極性の単発パルスが発生され
、n−FETQ96がオン状態となる。一方、p−FE
TQ97はオフ状態となっている。このとき、外部ピン
端子POヘアドレス信号AOが与えられていると、この
与えられているアドレス信号AOはラッチ回路125に
取込まれてラッチされる。アドレス信号AOが“H”レ
ベルのときには、出力ノードN5の電位は“L”レベル
となり、応じて規定信号C′が“H”レベル、規定信号
Cが“L”レベルとなる。これにより、センスアンプの
動作タイミングおよび動作速度が遅くされる。
一方、この場合においてアドレス信号AOが“L”レベ
ルであれば、ラッチ回路125の出力ノードN5は“H
″レベルあり、規定信号Cは“I(” レベル、規定信
号C′は″L″L″ルのままであり、通常動作時と同様
の状態を保持する。
ルであれば、ラッチ回路125の出力ノードN5は“H
″レベルあり、規定信号Cは“I(” レベル、規定信
号C′は″L″L″ルのままであり、通常動作時と同様
の状態を保持する。
なお、ラッチ回路125の出力ノードN5はたとえば電
源投入時または5V電源への復帰時に発生されるリセッ
ト信号Re5etに応答してリセットされ、5v電源動
作時および電源投入直後は″L″L″ルに設定される。
源投入時または5V電源への復帰時に発生されるリセッ
ト信号Re5etに応答してリセットされ、5v電源動
作時および電源投入直後は″L″L″ルに設定される。
第8図に、第6図のタイミング検出回路130の具体的
構成の一例を示す。
構成の一例を示す。
第8図を参照して、タイミング検出回路130は、n−
FETQ101〜Q104、インバータ09〜G13、
G16、G17、ANDゲート14.15およびワンシ
ョットパルス発生回路131を含む。
FETQ101〜Q104、インバータ09〜G13、
G16、G17、ANDゲート14.15およびワンシ
ョットパルス発生回路131を含む。
ワンショットパルス発生回路131は、外部端子82を
介して与えられる行アドレスストローブ信号RASをイ
ンバータ01Bを介して受け、信号■τ百の“L”レベ
ルへの移行(インバータ613出力の“H”レベルへの
移行)に応答して所定のパルス幅を有する正極性の単発
パルスを発生する。
介して与えられる行アドレスストローブ信号RASをイ
ンバータ01Bを介して受け、信号■τ百の“L”レベ
ルへの移行(インバータ613出力の“H”レベルへの
移行)に応答して所定のパルス幅を有する正極性の単発
パルスを発生する。
ANDゲートG14は、列アドレスストローブ信号CA
Sおよび書込指示信号WをそれぞれインバータG17.
G16を介して受けるとともにワンショットパルス発生
回路131からの出力を受ける。したがって、ANDゲ
ートG14からは信号CAS、Wがともに“L”レベル
のときにワンショットパルス発生回路131からの単発
パルスを通過させる。
Sおよび書込指示信号WをそれぞれインバータG17.
G16を介して受けるとともにワンショットパルス発生
回路131からの出力を受ける。したがって、ANDゲ
ートG14からは信号CAS、Wがともに“L”レベル
のときにワンショットパルス発生回路131からの単発
パルスを通過させる。
n−FETQIOIは、ANDゲートG14からのワン
ショットパルスOPに応答してオン状態となり、外部端
子81からの信号CASを通過させる。n−FETQ1
02は、ANDゲートG14からのワンショットパルス
OPに応答してオン状態となり、外部端子83を介して
与えられる信号Wを通過させる。
ショットパルスOPに応答してオン状態となり、外部端
子81からの信号CASを通過させる。n−FETQ1
02は、ANDゲートG14からのワンショットパルス
OPに応答してオン状態となり、外部端子83を介して
与えられる信号Wを通過させる。
インバータG9.GIOはインバータラッチ132を構
成し、n−FETQIOI出力をラッチする。インバー
タGll、G12はインバークラッチ133を構成しn
−FETQ102出力をラッチする。
成し、n−FETQIOI出力をラッチする。インバー
タGll、G12はインバークラッチ133を構成しn
−FETQ102出力をラッチする。
ANDゲートG15はインバータラッチ132゜133
の出力をそれぞれ受け、モード指示信号Tを出力する。
の出力をそれぞれ受け、モード指示信号Tを出力する。
インバータラッチ132,133の各々にはリセット信
号Re5etに応答してオン状態となり、各出力ノード
N7.N8を接地電位GNDレベルに設定するn−FE
TQ103.Q104が設けられる。次に、第8図に示
すタイミング検出回路130の動作をその動作波形図で
ある第9図および第10図を参照して説明する。
号Re5etに応答してオン状態となり、各出力ノード
N7.N8を接地電位GNDレベルに設定するn−FE
TQ103.Q104が設けられる。次に、第8図に示
すタイミング検出回路130の動作をその動作波形図で
ある第9図および第10図を参照して説明する。
まず電源投入または5V電源復帰直後においてはリセッ
ト信号Re5etによりn −F E T Q 103
、Q104はオン状態となり、ノードN7゜N8電位を
“L”レベルに設定する。これにより信号Tのレベルは
“L″ レベルとなる。
ト信号Re5etによりn −F E T Q 103
、Q104はオン状態となり、ノードN7゜N8電位を
“L”レベルに設定する。これにより信号Tのレベルは
“L″ レベルとなる。
外部端子82に印加される行アドレスストローブ信号R
ASが“L”レベルに立下がると、ワンショットパルス
発生回路131から単発パルスが発生される。このとき
既に信号CAS、Wがともに“L“レベルにあれば、A
NDゲー1−014からは単発パルスOPが出力される
。これによりn−FETQIOI、Q102がオン状態
となる。
ASが“L”レベルに立下がると、ワンショットパルス
発生回路131から単発パルスが発生される。このとき
既に信号CAS、Wがともに“L“レベルにあれば、A
NDゲー1−014からは単発パルスOPが出力される
。これによりn−FETQIOI、Q102がオン状態
となる。
これに応答して外部端子81.83にそれぞれ与えられ
ている列アドレスストローブ信号CASおよび書込指示
信号Wがそれぞれラッチ回路132゜133に取込まれ
る。
ている列アドレスストローブ信号CASおよび書込指示
信号Wがそれぞれラッチ回路132゜133に取込まれ
る。
DRAMが通常のデータの読出/書込動作を行なう場合
においては、列アドレスストローブ信号CASは行アド
レスストローブ信号RASが“L″レベル立下がった後
にのみ、″L″レベルへ移行することが許される。した
がってこの通常のデータ読出/書込動作モード時(電源
電圧Vccが5vの場合)、行アドレスストローブ信号
RASが“L″レベル立下がった時点tにおいては、列
アドレスストローブ信号CASおよび書込信号Wはとも
に“H” レベルである。このため、ANDゲートG1
4からはワンショットパルスoPは発生サレず、n−F
ETQIOI、Q102はともにオフ状態にある。した
がって、インバータラッチ132,133の出力ノード
N7.N8はリセット信号Re5etに応答して既にL
”レベルとなった状態を保持している。これにより、A
NDゲートG15からは“L”レベルの信号が出力され
る。
においては、列アドレスストローブ信号CASは行アド
レスストローブ信号RASが“L″レベル立下がった後
にのみ、″L″レベルへ移行することが許される。した
がってこの通常のデータ読出/書込動作モード時(電源
電圧Vccが5vの場合)、行アドレスストローブ信号
RASが“L″レベル立下がった時点tにおいては、列
アドレスストローブ信号CASおよび書込信号Wはとも
に“H” レベルである。このため、ANDゲートG1
4からはワンショットパルスoPは発生サレず、n−F
ETQIOI、Q102はともにオフ状態にある。した
がって、インバータラッチ132,133の出力ノード
N7.N8はリセット信号Re5etに応答して既にL
”レベルとなった状態を保持している。これにより、A
NDゲートG15からは“L”レベルの信号が出力され
る。
なお、この場合通常の動作モード時においては、信号C
AS、信号Wがともにデータ書込時において“L”レベ
ルに移行する状態が存在する。しがしながら、ワンショ
ットパルス発生回路131が発生するパルス幅がこの信
号■τ百が“L″レベル立下がってから次に信号CAS
、Wが“L”レベルに立下がるまでの間の時間よりも短
い時間に設定されておれば、上述のごと、く、n−FE
TQIOI、Q102はともにオフ状態となり、信号T
は“L” レベルのままである。
AS、信号Wがともにデータ書込時において“L”レベ
ルに移行する状態が存在する。しがしながら、ワンショ
ットパルス発生回路131が発生するパルス幅がこの信
号■τ百が“L″レベル立下がってから次に信号CAS
、Wが“L”レベルに立下がるまでの間の時間よりも短
い時間に設定されておれば、上述のごと、く、n−FE
TQIOI、Q102はともにオフ状態となり、信号T
は“L” レベルのままである。
データ保持などの低電源電圧動作時においては、第10
図に示すように、信号RASが“L″レベル立下がる時
点tよりも先に信号CAS、W力(ともに“L”レベル
に設定される。これにより、信号πτ1の立下がりに応
答してワンショットパルス発生回路131から発生され
たパルスはANDゲートG14を通過し、単発パルスo
Pとしてn−FETQIOI、Q102のゲートへ伝達
される。これにより、外部端子81..83へ印加され
ていた信号Uτ下、Vがそれぞれインバータラッチ13
2,133に取込まれてラッチされる。
図に示すように、信号RASが“L″レベル立下がる時
点tよりも先に信号CAS、W力(ともに“L”レベル
に設定される。これにより、信号πτ1の立下がりに応
答してワンショットパルス発生回路131から発生され
たパルスはANDゲートG14を通過し、単発パルスo
Pとしてn−FETQIOI、Q102のゲートへ伝達
される。これにより、外部端子81..83へ印加され
ていた信号Uτ下、Vがそれぞれインバータラッチ13
2,133に取込まれてラッチされる。
この信号CAS、Wがともに“L”レベルにあるため、
ノードN7.N8電位はともに“H” レベルとなり、
ANDゲートG15がら発生されるタイミング検出信号
Tの電位レベルも“H” レベルとなる。これにより、
センスアンプの動作タイミングおよび動作速度が低電源
電圧に対応したものに設定される。
ノードN7.N8電位はともに“H” レベルとなり、
ANDゲートG15がら発生されるタイミング検出信号
Tの電位レベルも“H” レベルとなる。これにより、
センスアンプの動作タイミングおよび動作速度が低電源
電圧に対応したものに設定される。
この低電源電圧動作から通常のデータ読出/書込動作モ
ードに復帰するためには、リセットパルスRe5etを
発生させることにより行なわれる。
ードに復帰するためには、リセットパルスRe5etを
発生させることにより行なわれる。
なお上記実施例においてはいずれの場合においてもセン
スアンプの動作速度および/または動作タイミングを規
定するために電源電圧の定格値に応じた制御信号Aを外
部1″′″′う介ビ与える構成内部で発生させることも
゛可能である。このセンスアンプ動作規定信号を内部で
発生させる構成の一例を第11図に示す。
スアンプの動作速度および/または動作タイミングを規
定するために電源電圧の定格値に応じた制御信号Aを外
部1″′″′う介ビ与える構成内部で発生させることも
゛可能である。このセンスアンプ動作規定信号を内部で
発生させる構成の一例を第11図に示す。
第11図を参照してこの発明のさらに他の実施例である
DRAMでは、外部から印加される電源電圧Vccを受
けるパッドPAに電位検出回路300が接続される。電
位検出回路300はパッドPAからの電源電圧Vccが
通常の電源電圧であるか低電源電圧であるかを判定し、
この判定結果ニ応じた信号をセンス動作指示信号として
センス動作速度規定回路200へ印加する。この電位検
出回路300の構成としては、通常の動作電源電圧(5
V)と低電源電圧(たとえば3.6V)との間の電圧値
を基準電圧として用い、この基準電−54= 圧とパッドP’Aに与えられる動作電源電圧Vccとの
大小比較を行ない、この比較結果に基づいて動作指示信
号Aを発生する構成が最も単純な形態として考えられる
。
DRAMでは、外部から印加される電源電圧Vccを受
けるパッドPAに電位検出回路300が接続される。電
位検出回路300はパッドPAからの電源電圧Vccが
通常の電源電圧であるか低電源電圧であるかを判定し、
この判定結果ニ応じた信号をセンス動作指示信号として
センス動作速度規定回路200へ印加する。この電位検
出回路300の構成としては、通常の動作電源電圧(5
V)と低電源電圧(たとえば3.6V)との間の電圧値
を基準電圧として用い、この基準電−54= 圧とパッドP’Aに与えられる動作電源電圧Vccとの
大小比較を行ない、この比較結果に基づいて動作指示信
号Aを発生する構成が最も単純な形態として考えられる
。
この構成の場合、センスアンプの動作を電源電圧の定格
値に応じて規定するために外部ピン端子を設ける必要が
なく、電源電圧Vccのレベルに応じて正確にセンスア
ンプの動作速度およびタイミングを規定することが可能
となる。この第11図に示す回路構成は、第6図に示す
回路にも適用可能であり、この電位検出回路300出力
を第6図の切換信号発生回路120へ印加する構成とす
れば特にDRAMの動作モードに応じてアドレス信号を
設定する必要はなく、単に電源電圧の切換えおよび制御
信号CAS、RASおよび恥タイミング設定のみでセン
スアンプの動作を規定することが可能となり、より簡易
な制御回路でセンスアンプを駆動することが可能となる
。
値に応じて規定するために外部ピン端子を設ける必要が
なく、電源電圧Vccのレベルに応じて正確にセンスア
ンプの動作速度およびタイミングを規定することが可能
となる。この第11図に示す回路構成は、第6図に示す
回路にも適用可能であり、この電位検出回路300出力
を第6図の切換信号発生回路120へ印加する構成とす
れば特にDRAMの動作モードに応じてアドレス信号を
設定する必要はなく、単に電源電圧の切換えおよび制御
信号CAS、RASおよび恥タイミング設定のみでセン
スアンプの動作を規定することが可能となり、より簡易
な制御回路でセンスアンプを駆動することが可能となる
。
なお上記実施例のいずれにおいても電源電圧の定格値と
して2種類が用いられ、この2種類の電源電圧でDRA
Mを動作させる場合の構成について説明している。しか
しながら、3種類の電源電圧の定格値の各々に対してD
RAMを正確に動作させることも、センスアンプの動作
開始タイミングをそれぞれに応じて設定することができ
れば容易に可能となる。
して2種類が用いられ、この2種類の電源電圧でDRA
Mを動作させる場合の構成について説明している。しか
しながら、3種類の電源電圧の定格値の各々に対してD
RAMを正確に動作させることも、センスアンプの動作
開始タイミングをそれぞれに応じて設定することができ
れば容易に可能となる。
なお、上記実施例においてはセンスアンプとしては低電
位側のビット線の放電動作についてのみ説明している。
位側のビット線の放電動作についてのみ説明している。
しかしながらこの場合、高電位側ビット線充電用pチャ
ネルFETからなるセンスアンプの動作タイミングおよ
び動作速度もn−FETセンスアンプ動作に適合するよ
うにされ、同様に遅くされる。この構成は、たとえばp
チャネルMO8FETセンスアンプの駆動信号線に対し
ても第2図または第3図に示す構成と同様の構成が接続
される。
ネルFETからなるセンスアンプの動作タイミングおよ
び動作速度もn−FETセンスアンプ動作に適合するよ
うにされ、同様に遅くされる。この構成は、たとえばp
チャネルMO8FETセンスアンプの駆動信号線に対し
ても第2図または第3図に示す構成と同様の構成が接続
される。
[発明の効果]
以上のようにこの発明によればセンスアンプの動作速度
および/または動作タイミングをDRAM電源電圧の定
格値に応じて変更可能なようにし= 56 = たので、複数の定格値の電源電圧の各々に対しても正常
にメモリセルデータの検知増幅を行なうことができ、1
個の同一のチップ設計仕様で複数の定格電源電圧を有す
るDRAMを得ることが可能となる。
および/または動作タイミングをDRAM電源電圧の定
格値に応じて変更可能なようにし= 56 = たので、複数の定格値の電源電圧の各々に対しても正常
にメモリセルデータの検知増幅を行なうことができ、1
個の同一のチップ設計仕様で複数の定格電源電圧を有す
るDRAMを得ることが可能となる。
また、DRAMの動作モードに応じてその電源電圧定格
値を変更し応じてセンスアンプの動作も遅くするように
構成した場合、DRAMに、おける。
値を変更し応じてセンスアンプの動作も遅くするように
構成した場合、DRAMに、おける。
消費電力を大幅に低減することができる。
第1図はこの発明の一実施例であるI)RAMの要部の
構成を概略的に示す図である。第2図は第1図に示すセ
ンスアンプ駆動回路の具体的構成の一例を示す図である
。第3図は第1図に示すセンスアンプ駆動回路の具体的
構成の他の例を示す図である。第4図はセンスアンプの
動作速度を遅くさせた場合におけるセンスアンプ駆動信
号線の電位変化を概略的に示す図である。第5図は動作
モードに応じて電源電圧の定格値およびセンスアンプの
動作速度および/または動作タイミングを異ならせる際
の制御信号(センスアンプ活性化タイミング/速度規定
信号)と電源電圧との関係を示す図である。第6図は第
5図に示す踏査波形を実現するための回路構成を概略的
に示す図である。 第7図は第6図に示す切換信号発生回路の具体的構成の
一例を示す図である。第8図は第6図に示すタイミング
検出回路の具岬的構成の一例を示す図である。第9図お
よび第10図は第8図に示すタイミング検出回路の動作
を示す信号波形図であり、第9図は通常動作時(電源電
圧が5V)の場合の動作波形図であり、第10図は低電
源電圧時における動作を示す信号波形図である。第11
図はこの発明の他の実施例であるDRAMの全体の構成
を概略的に示す図である。第12図は従来のDRAMの
全体の構成を概略的に示す図である。 第13図は従来のDRAMのメモリセルアレイ部および
それに関連の回路の構成を概略的に示す図である。第1
4図は1対のビット線とそれに関連するセンスアンプお
よびセンスアンプ駆動回路の構成を具体的に示す図であ
る。第15図は第14図に示す回路構成の動作を示す信
号波形図である。 第16図は第14図に示す回路構成の動作におけるメモ
リセルデータ読比時における動作波形を拡大して詳細に
示す図である。 図において、17はセンスアンプ駆動信号線、25、
25’ はセンスアンプ活性化用のMOSトランジスタ
、50はセンスアンプ、120は切換信号発生回路、1
30はタイミング検出回路、200はセンス動作速度規
定回路、210はセンスアンプ駆動回路、PAは電源用
パッド、300は電源電圧検出回路、CBは半導体チッ
プ、MAはメモリセルアレイ、SAはセンスアンプであ
る。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
構成を概略的に示す図である。第2図は第1図に示すセ
ンスアンプ駆動回路の具体的構成の一例を示す図である
。第3図は第1図に示すセンスアンプ駆動回路の具体的
構成の他の例を示す図である。第4図はセンスアンプの
動作速度を遅くさせた場合におけるセンスアンプ駆動信
号線の電位変化を概略的に示す図である。第5図は動作
モードに応じて電源電圧の定格値およびセンスアンプの
動作速度および/または動作タイミングを異ならせる際
の制御信号(センスアンプ活性化タイミング/速度規定
信号)と電源電圧との関係を示す図である。第6図は第
5図に示す踏査波形を実現するための回路構成を概略的
に示す図である。 第7図は第6図に示す切換信号発生回路の具体的構成の
一例を示す図である。第8図は第6図に示すタイミング
検出回路の具岬的構成の一例を示す図である。第9図お
よび第10図は第8図に示すタイミング検出回路の動作
を示す信号波形図であり、第9図は通常動作時(電源電
圧が5V)の場合の動作波形図であり、第10図は低電
源電圧時における動作を示す信号波形図である。第11
図はこの発明の他の実施例であるDRAMの全体の構成
を概略的に示す図である。第12図は従来のDRAMの
全体の構成を概略的に示す図である。 第13図は従来のDRAMのメモリセルアレイ部および
それに関連の回路の構成を概略的に示す図である。第1
4図は1対のビット線とそれに関連するセンスアンプお
よびセンスアンプ駆動回路の構成を具体的に示す図であ
る。第15図は第14図に示す回路構成の動作を示す信
号波形図である。 第16図は第14図に示す回路構成の動作におけるメモ
リセルデータ読比時における動作波形を拡大して詳細に
示す図である。 図において、17はセンスアンプ駆動信号線、25、
25’ はセンスアンプ活性化用のMOSトランジスタ
、50はセンスアンプ、120は切換信号発生回路、1
30はタイミング検出回路、200はセンス動作速度規
定回路、210はセンスアンプ駆動回路、PAは電源用
パッド、300は電源電圧検出回路、CBは半導体チッ
プ、MAはメモリセルアレイ、SAはセンスアンプであ
る。 なお、図中、同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (2)
- (1)行列状に配列された複数のメモリセルと、各々に
前記複数のメモリセルの1列が接続される複数のビット
線とを有するダイナミック・ランダム・アクセス・メモ
リであって、 前記複数のビット線の各々に設けられ、対応のビット線
上の電位を検知し増幅する手段、 外部から与えられる動作速度指示信号に応答して、前記
検知増幅手段の動作速度およびタイミングの少なくとも
一方を規定する手段、前記動作速度指示信号は前記複数
の定格電圧の各々に対応して発生され、および 前記動作規定手段出力とセンスアンプ活性化信号とに応
答して、前記動作速度指示信号が規定する動作速度およ
びタイミングに従って前記検知・増幅手段を駆動する手
段とを含む、動作電源電圧として複数の定格電圧を有す
るダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ。 - (2)行列状に配列された複数のメモリセルと、各々に
前記複数のメモリセルの1列が接続される複数のビット
線とを有するダイナミック・ランダム・アクセス・メモ
リであって、前記ダイナミック・ランダム・アクセス・
メモリは動作電源電圧として複数の定格電圧を有してお
り、 前記複数のビット線の各々に対応して設けられ、対応の
ビット線の電位を検知し増幅する手段、前記ダイナミッ
ク・ランダム・アクセス・メモリに外部から印加される
電源電圧を検出する手段、前記電源電圧検出手段出力に
応答して、前記検知増幅手段の動作速度およびタイミン
グの少なくとも一方を規定する手段、および センスアンプ活性化信号と前記動作規定手段出力とに応
答して、前記検知増幅手段を駆動する手段を含み、前記
駆動手段は前記規定手段が規定する動作速度およびタイ
ミングで前記検知増幅手段を動作させる、動作電源電圧
として複数の定格電圧を有するダイナミック・ランダム
・アクセス・メモリ。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1127114A JP2614514B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ |
| US07/437,425 US5132932A (en) | 1989-05-19 | 1989-11-16 | Dynamic random access memory having a plurality of rated voltages as operation supply voltage and operating method thereof |
| DE4003824A DE4003824A1 (de) | 1989-05-19 | 1990-02-08 | Dynamischer speicher mit wahlfreiem zugriff mit einer mehrzahl von nennspannungen als betriebsversorgungsspannung und verfahren fuer dessen betreibung |
| KR1019900006249A KR930010938B1 (ko) | 1989-05-19 | 1990-05-03 | 동작전원 전압으로써 복수의 정격 전압을 가지는 다이나믹 · 랜덤 · 액세스 · 메모리 |
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| US08/220,649 US5418747A (en) | 1989-05-19 | 1994-03-31 | Dynamic random access memory having a plurality of rated voltages as operation supply voltage and operating method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1127114A JP2614514B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02306492A true JPH02306492A (ja) | 1990-12-19 |
| JP2614514B2 JP2614514B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=14951955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1127114A Expired - Fee Related JP2614514B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5132932A (ja) |
| JP (1) | JP2614514B2 (ja) |
| KR (1) | KR930010938B1 (ja) |
| DE (1) | DE4003824A1 (ja) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
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|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |