JPH085547Y2 - 縦型拡散装置 - Google Patents
縦型拡散装置Info
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- JPH085547Y2 JPH085547Y2 JP1988030852U JP3085288U JPH085547Y2 JP H085547 Y2 JPH085547 Y2 JP H085547Y2 JP 1988030852 U JP1988030852 U JP 1988030852U JP 3085288 U JP3085288 U JP 3085288U JP H085547 Y2 JPH085547 Y2 JP H085547Y2
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- Japan
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- reaction tube
- pedestal
- packing
- receiving plate
- wafer
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- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims description 6
- 238000012856 packing Methods 0.000 claims description 35
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 18
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 16
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 11
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、半導体製造プロセスで使用される縦型拡散
装置に関する。
装置に関する。
従来、縦型拡散装置は第2図のような構成となってい
る。
る。
第2図中、1は縦型管状ヒータ、2はこの管状ヒータ
1の重量をささえる金属製のヒータベース、3は管状ヒ
ータ1の内側に設けられた石英反応管、4はこの石英反
応管3の重量を保持している金属製の受けフランジで、
ヒータベース2に固定されている。5はウェーハボート
をのせる石英受台、6はこの受台5をのせている受けプ
レート、7は石英製のキャップで、受けプレート6に保
持されたバネ8により反応管3の端面に密着される。9
はエレベータアームで、受台5、受けプレート6、キャ
ップ7、バネ8を保持し、エレベータ駆動部により上下
動する。
1の重量をささえる金属製のヒータベース、3は管状ヒ
ータ1の内側に設けられた石英反応管、4はこの石英反
応管3の重量を保持している金属製の受けフランジで、
ヒータベース2に固定されている。5はウェーハボート
をのせる石英受台、6はこの受台5をのせている受けプ
レート、7は石英製のキャップで、受けプレート6に保
持されたバネ8により反応管3の端面に密着される。9
はエレベータアームで、受台5、受けプレート6、キャ
ップ7、バネ8を保持し、エレベータ駆動部により上下
動する。
このような従来の装置において、受台5に載置したボ
ート上のシリコンウェーハは、反応管3の上方より導入
され、反応管3の下方の排気ボート10より排気される反
応ガスと管状ヒータ1により加熱処理される。反応ガス
は腐食性のガスを使用することがあり、特に受けプレー
ト6は直接、腐食性ガスにさらされてしまう。更に、炉
口部は排気ガスがもれない構造であることが要求されて
いる。
ート上のシリコンウェーハは、反応管3の上方より導入
され、反応管3の下方の排気ボート10より排気される反
応ガスと管状ヒータ1により加熱処理される。反応ガス
は腐食性のガスを使用することがあり、特に受けプレー
ト6は直接、腐食性ガスにさらされてしまう。更に、炉
口部は排気ガスがもれない構造であることが要求されて
いる。
しかしながら、上記の従来装置においては、反応管3
とキャップ7の接触部および、キャップ7と受けプレー
ト6の隙間より腐食性ガスがもれ、安全性に欠けるばか
りでなく、受けプレート6を含めた周辺の部品を腐食さ
せるという課題がある。
とキャップ7の接触部および、キャップ7と受けプレー
ト6の隙間より腐食性ガスがもれ、安全性に欠けるばか
りでなく、受けプレート6を含めた周辺の部品を腐食さ
せるという課題がある。
本考案装置は上記の課題を解決するため、第1図示の
ように、ウェーハを熱処理するための処理領域を形成す
る石英反応管3と、前記ウェーハを所定の温度まで加熱
する,ヒータベース2に支持されたヒータ1と、前記ウ
ェーハを複数枚保持するウェーハボートと、前記ウェー
ハボートを保持し、受けプレート6により支持される,
前記ボートの石英受台5とを有する縦型拡散装置におい
て、前記反応管3のフランジ部と前記受台5のフランジ
部との間に耐腐食性の弾性気密パッキン11を介在させて
該受台5に保持し、前記反応管3のフランジ部を上側よ
り前記ヒータベース2に固定された押え具14で押さえ、
この押え具14と前記受けプレート6に、それぞれ冷却水
通路12,13を設けることを特徴とするものである。
ように、ウェーハを熱処理するための処理領域を形成す
る石英反応管3と、前記ウェーハを所定の温度まで加熱
する,ヒータベース2に支持されたヒータ1と、前記ウ
ェーハを複数枚保持するウェーハボートと、前記ウェー
ハボートを保持し、受けプレート6により支持される,
前記ボートの石英受台5とを有する縦型拡散装置におい
て、前記反応管3のフランジ部と前記受台5のフランジ
部との間に耐腐食性の弾性気密パッキン11を介在させて
該受台5に保持し、前記反応管3のフランジ部を上側よ
り前記ヒータベース2に固定された押え具14で押さえ、
この押え具14と前記受けプレート6に、それぞれ冷却水
通路12,13を設けることを特徴とするものである。
エレベータにより耐腐食性の弾性気密パッキン11を保
持した受台5,受けプレート6を上動させ、受台5上のウ
ェーハボートを反応管3内にセットした状態では、パッ
キン11の弾性により反応管3とパッキン11との間及び受
台5とパッキン11との間が密着されるため、腐食性の排
ガスが炉口外部に漏れることはない。
持した受台5,受けプレート6を上動させ、受台5上のウ
ェーハボートを反応管3内にセットした状態では、パッ
キン11の弾性により反応管3とパッキン11との間及び受
台5とパッキン11との間が密着されるため、腐食性の排
ガスが炉口外部に漏れることはない。
また、パッキン11は押え具14と受けプレート6の冷却
水通路12,13により冷却されるので、正常なシール作用
を維持する役目を果たすことになると共に、冷却水通路
12,13は、既存の部品に設けるだけで済み、別に冷却水
通路を有する冷却部を設ける必要はない。
水通路12,13により冷却されるので、正常なシール作用
を維持する役目を果たすことになると共に、冷却水通路
12,13は、既存の部品に設けるだけで済み、別に冷却水
通路を有する冷却部を設ける必要はない。
更に腐食性排ガスが接触する部材、即ち反応管3,受台
5とパッキン11を耐腐食性のパッキンとすることにより
これらが腐食することはない。
5とパッキン11を耐腐食性のパッキンとすることにより
これらが腐食することはない。
以下図面に基づいて本考案の実施例を説明する。
第1図は本考案装置の一実施例の構成を示す断面図で
ある。
ある。
台1図中、2は縦型管状ヒータ1を支える金属製のヒ
ータベース、3は下部をフランジ状にした石英反応管
で、管状ヒータ1の内側に設けられている。4は反応管
3を保持している金属製の受けフランジで、ヒータベー
ス2に固定されている。5はウェーハボート(図示せ
ず)をのせる石英受台で、下部に耐腐食性のガス漏れ防
止用弾性気密パッキン11を装着できる構造になってい
る。6は受台5を保持している水冷構造の受けプレート
であり、エレベータアーム9に保持されている。14は、
反応管3のフランジ部を受けフランジ4に押えるため
の、水冷構造の押えリングであり、受けフランジ4に固
定されている。
ータベース、3は下部をフランジ状にした石英反応管
で、管状ヒータ1の内側に設けられている。4は反応管
3を保持している金属製の受けフランジで、ヒータベー
ス2に固定されている。5はウェーハボート(図示せ
ず)をのせる石英受台で、下部に耐腐食性のガス漏れ防
止用弾性気密パッキン11を装着できる構造になってい
る。6は受台5を保持している水冷構造の受けプレート
であり、エレベータアーム9に保持されている。14は、
反応管3のフランジ部を受けフランジ4に押えるため
の、水冷構造の押えリングであり、受けフランジ4に固
定されている。
11は反応管3は受台5との間に介在された耐腐食性の
ガス漏れ防止用弾性気密パッキンで、受台5に保持され
ている。12,13はそれぞれ押えリング14と受けプレート
6に設けられた冷却水通路で、当該各通路12,13に冷却
水が流通される。
ガス漏れ防止用弾性気密パッキンで、受台5に保持され
ている。12,13はそれぞれ押えリング14と受けプレート
6に設けられた冷却水通路で、当該各通路12,13に冷却
水が流通される。
パッキン11の材質としては、ゴムのような弾力性のあ
るものが必要であり、パッキンの形状は本例では角形で
あるが、角形である必要はなく、円形であってもよい。
るものが必要であり、パッキンの形状は本例では角形で
あるが、角形である必要はなく、円形であってもよい。
上記の構成においてエレベータ(駆動部)によりガス
漏れ防止用弾性気密パッキン11を保持した受台5,受けプ
レート6を上動させ、受台5上のウェーハボートを反応
管3内にセットした第1図示の状態で、反応ガスを反応
管3の上方より導入し、反応管3の下方の排気ボート10
より排気して受台5上のウェーハボートに載置されたウ
ェーハを反応ガスと管状ヒータ1により熱処理すること
になる。
漏れ防止用弾性気密パッキン11を保持した受台5,受けプ
レート6を上動させ、受台5上のウェーハボートを反応
管3内にセットした第1図示の状態で、反応ガスを反応
管3の上方より導入し、反応管3の下方の排気ボート10
より排気して受台5上のウェーハボートに載置されたウ
ェーハを反応ガスと管状ヒータ1により熱処理すること
になる。
この場合、パッキン11の弾性により反応管3とパッキ
ン11との間及び受台5とパッキン11との間が密着される
ため、腐食性の排ガスが炉口外部に漏れることはない。
ン11との間及び受台5とパッキン11との間が密着される
ため、腐食性の排ガスが炉口外部に漏れることはない。
また、パッキン11の周辺の温度は非常に高温になる
が、パッキン11は水冷構造の押えリング14と受けプレー
ト6の冷却水通路12,13に流通する冷却水により冷却さ
れるので、正常なシール作用を保持する役目を果たすこ
とになる。
が、パッキン11は水冷構造の押えリング14と受けプレー
ト6の冷却水通路12,13に流通する冷却水により冷却さ
れるので、正常なシール作用を保持する役目を果たすこ
とになる。
更に腐食性排ガスが接触する部材、即ち反応管3,受台
5とパッキン11を耐腐食性の石英製と耐腐食性のパッキ
ンとすることによりこれらが腐食することはない。
5とパッキン11を耐腐食性の石英製と耐腐食性のパッキ
ンとすることによりこれらが腐食することはない。
上述のように本実施例によれば、石英反応管3と受台
5との間に介在された耐腐食性のガス漏れ防止用弾性気
密パッキン11を受台5に保持したので、パッキン11の弾
性により反応管3とパッキン11との間及び受台5とパッ
キン11との間が密着されるため、腐食性の排ガスが炉口
外部に漏れることはなく、安全であり周囲の部品を腐食
させるおそれもない。
5との間に介在された耐腐食性のガス漏れ防止用弾性気
密パッキン11を受台5に保持したので、パッキン11の弾
性により反応管3とパッキン11との間及び受台5とパッ
キン11との間が密着されるため、腐食性の排ガスが炉口
外部に漏れることはなく、安全であり周囲の部品を腐食
させるおそれもない。
また水冷構造の押えリング14と受けプレート6の冷却
水通路12,13によりパッキン11を冷却することができる
ので、パッキン11の耐熱性が問題となることはなく、正
常なシール作用を維持することができ、又、冷却水通路
12,13は既存の部品に設けるだけでよく、経済的である
ばかりでなく、腐食性排ガスが接触する部材、即ち反応
管3,受台5とパッキン11を耐腐食性の石英製と耐腐食性
のパッキンとすることによりこれらが腐食することはな
い。
水通路12,13によりパッキン11を冷却することができる
ので、パッキン11の耐熱性が問題となることはなく、正
常なシール作用を維持することができ、又、冷却水通路
12,13は既存の部品に設けるだけでよく、経済的である
ばかりでなく、腐食性排ガスが接触する部材、即ち反応
管3,受台5とパッキン11を耐腐食性の石英製と耐腐食性
のパッキンとすることによりこれらが腐食することはな
い。
そのため、腐食性ガスが反応管3,受台5及びパッキン
11を腐食して炉口外部に漏洩することはないから、安全
を長期に亘って確保し、受けプレート6を含む周囲の部
品を腐食させることを回避することができる。
11を腐食して炉口外部に漏洩することはないから、安全
を長期に亘って確保し、受けプレート6を含む周囲の部
品を腐食させることを回避することができる。
以上の説明より理解されるように本考案によれば、石
英反応管3のフランジ部と、ボートを保持する石英受台
5のフランジ部との間に、耐腐食性の弾性気密パッキン
11を介在したので、腐食性の排ガスが炉口外部に漏れる
ことはなく、安全であり、周囲の部品を腐食させるおそ
れがないばかりでなく、気密パッキン11を冷却水通路1
2,13により冷却するようにしたので、パッキン11の耐久
性が大幅に向上し、シール性を維持することができると
共に、冷却水通路12,13はそれぞれ既存の部品、即ち押
え具14と受けプレート6に設けるだけで済み、別に冷却
水通路を有する冷却部を設ける必要はなく経済的であ
る。
英反応管3のフランジ部と、ボートを保持する石英受台
5のフランジ部との間に、耐腐食性の弾性気密パッキン
11を介在したので、腐食性の排ガスが炉口外部に漏れる
ことはなく、安全であり、周囲の部品を腐食させるおそ
れがないばかりでなく、気密パッキン11を冷却水通路1
2,13により冷却するようにしたので、パッキン11の耐久
性が大幅に向上し、シール性を維持することができると
共に、冷却水通路12,13はそれぞれ既存の部品、即ち押
え具14と受けプレート6に設けるだけで済み、別に冷却
水通路を有する冷却部を設ける必要はなく経済的であ
る。
第1図は本考案装置の一実施例の構成を示す断面図、第
2図は従来装置の一例の構成を示す断面図である。 1……縦型管状ヒータ、2……ヒータベース、3……石
英反応管、4……受けフランジ、5……石英受台、6…
…受けプレート、9……エレベータアーム、10……排気
ボート、11……耐腐食性のガス漏れ防止用弾性気密パッ
キン、12……冷却水通路、13……冷却水通路、14……押
えリング(具)。
2図は従来装置の一例の構成を示す断面図である。 1……縦型管状ヒータ、2……ヒータベース、3……石
英反応管、4……受けフランジ、5……石英受台、6…
…受けプレート、9……エレベータアーム、10……排気
ボート、11……耐腐食性のガス漏れ防止用弾性気密パッ
キン、12……冷却水通路、13……冷却水通路、14……押
えリング(具)。
Claims (1)
- 【請求項1】ウェーハを熱処理するための処理領域を形
成する石英反応管と、前記ウェーハを所定の温度まで加
熱する,ヒータベースに支持されたヒータと、前記ウェ
ーハを複数枚保持するウェーハボートと、前記ウェーハ
ボートを保持し、受けプレートにより支持される,前記
ボートの石英受台とを有する縦型拡散装置において、前
記反応管のフランジ部と前記受台のフランジ部との間に
耐腐食性の弾性気密パッキンを介在させて該受台に保持
し、前記反応管のフランジ部を上側より前記ヒータベー
スに固定された押え具で押さえ、この押え具と前記受け
プレートに、それぞれ冷却水通路を設けることを特徴と
する縦型拡散装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988030852U JPH085547Y2 (ja) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | 縦型拡散装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988030852U JPH085547Y2 (ja) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | 縦型拡散装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01133728U JPH01133728U (ja) | 1989-09-12 |
| JPH085547Y2 true JPH085547Y2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=31256273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988030852U Expired - Lifetime JPH085547Y2 (ja) | 1988-03-07 | 1988-03-07 | 縦型拡散装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH085547Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5535740B2 (ja) * | 2010-04-14 | 2014-07-02 | 三菱重工業株式会社 | 熱媒体加熱装置およびそれを用いた車両用空調装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61100141U (ja) * | 1984-12-07 | 1986-06-26 | ||
| JPS62166624U (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | ||
| JP2502977B2 (ja) * | 1986-04-18 | 1996-05-29 | 株式会社日立製作所 | 熱処理装置 |
| JPS63161610A (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-05 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ウエ−ハボ−ト |
-
1988
- 1988-03-07 JP JP1988030852U patent/JPH085547Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01133728U (ja) | 1989-09-12 |
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