JPH0858252A - 熱転写受像体 - Google Patents

熱転写受像体

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JPH0858252A
JPH0858252A JP6195608A JP19560894A JPH0858252A JP H0858252 A JPH0858252 A JP H0858252A JP 6195608 A JP6195608 A JP 6195608A JP 19560894 A JP19560894 A JP 19560894A JP H0858252 A JPH0858252 A JP H0858252A
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JP6195608A
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Katsuji Nakahara
勝次 中原
Tomoko Mikami
友子 三上
Kazuo Matsuura
和夫 松浦
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

(57)【要約】 【構成】基材の少なくとも片面に受容層を被覆してなる
熱転写受像体において、該受容層の孔径分布曲線におけ
るピーク孔径が0.05〜5.0μmであり、かつ該受
容層の平滑度が100秒以上であり、該受容層の吸油量
が5ml/m2 以上であることを特徴とする熱転写受像
体。 【効果】インクドット再現性、インク転写性が良好で鮮
明性、階調性とも優れた熱転写受像体を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、熱転写記録方式に適し
た熱転写受像体に関する。詳しくは、高度な階調性が要
求される熱転写記録方式に適した熱転写受像体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、OAの普及によりカラー記録、高
解像度記録等の印字品質に優れたプリンタが求められて
いる。これらの要求を満たすプリンタのひとつとして熱
転写プリンタが実用化されている。
【0003】従来、熱転写記録方式に用いられる受像体
としては、普通紙や印刷用紙などが用いられていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、プリンタの高
速記録化、高解像度化等の要求に伴い記録画像の抜けや
鮮明さや表面光沢に欠ける等の欠点がでてきている。す
なわち普通紙の場合、白抜けの発生や転写する熱溶融イ
ンクが紙繊維方向に浸透し、転写像のエッジがぼけた
り、濃度むらや鮮明性が悪く十分に高い転写濃度が得ら
れない欠点がある。一方、印刷用紙は平滑性を確保する
ために被覆されたコート層に吸収性がないことから熱溶
融インクが基紙側に浸透する恐れはないが、多色の熱溶
融インク層を重ね合わせてフルカラー転写画像を記録す
る場合、2色目や3色目の熱溶融インクが転写され難
く、また転写された画像も表面光沢に劣るなどの欠点が
あった。そのためインクドナーシートの改善や装置の改
良が提案されているが、満足できるものが得られていな
いのが現状である。
【0005】本発明はかかる欠点を改良し、高速記録に
おいてもインクのドット再現性が良好で鮮明性や階調性
や表面光沢の良好な画像が得られるフルカラーの熱転写
受像体を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成、すなわち、基材の少なくとも片面に
受容層を被覆してなる熱転写受像体において、該受容層
の孔径分布曲線におけるピーク孔径が0.05〜5.0
μmであり、かつ該受容層の平滑度が100秒以上であ
り、該受容層の吸油量が5ml/m2 以上であることを
特徴とする熱転写受像体をその骨子とするものである。
【0007】本発明における基材としては、紙(上質
紙)、塗工紙、和紙、不織布やプラスチックフィルムを
使用することができるが、中でもプラスチックフィルム
が好ましい。
【0008】本発明におけるプラスチックフィルムとし
ては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ル、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリエーテル、
ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ポリ−
P−フェニレンスルフィド、ポリエーテルエステル、ポ
リ(メタ)アクリル酸エステルなどが好ましい。さらに
これらの共重合体やブレンド物やさらに架橋したものを
用いることもできる。中でもポリエステル、好ましくは
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン2,6−ナ
フタレート、ポリエチレンα,β−ビス(2−クロルフ
ェノキシ)エタン4,4’−ジカルボキシレート、ポリ
ブチレンテレフタレートが好ましく、これらの中でも機
械的特性、作業性などの品質、経済性などを総合的に勘
案すると、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
2,6−ナフタレートが好ましい。
【0009】本発明においていうポリエステルとは、周
知のもの、具体的には例えば、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビス−α,β(2−ク
ロルフェノキシ)エタン−4,4’−ジカルボン酸、ア
ジピン酸、セバシン酸等の2官能カルボン酸の少なくと
も1種と、エチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール、デカメチレングリコール等のグリコールの少なく
とも1種とを重縮合して得られるポリエステルを挙げる
ことができる。また、該ポリエステルには本発明の目的
を阻害しない範囲内で他種ポリマをブレンドしたり、共
重合してもよいし、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、顔
料、紫外線吸収剤などが含まれていてもよい。ポリエス
テルの固有粘度(25℃オルトクロルフェノール中で測
定)は0.4〜2.0であり、好ましくは0.5〜1.
0の範囲のものが通常用いられる。
【0010】本発明に用いるポリエステルフィルムに
は、ポリエステル中に白色無機粒子を含有させることに
より白色化させているものを用いることもできる。
【0011】白色無機粒子とは、公知の無着色に近い無
機粒子をいい、例えば炭酸カルシウム、非晶質ゼオライ
ト粒子、アナターゼ型の二酸化チタン、リン酸カルシウ
ム、シリカ、カオリン、タルク、クレーなどが挙げられ
る。又このような微粒子以外にもポリエステル重合反応
系で触媒残渣とリン化合物との反応により析出した微粒
子を用いることもできる。
【0012】また本発明に用いるポリエステルフィルム
は、フィルム内部に微細な気泡を含有させ、該気泡で光
を散乱させることにより白色化させているものを用いる
こともできる。この微細な気泡の形成は、フィルム母
材、例えばポリエステル中に、非相溶ポリマ、例えばポ
リ−3−メチルブテン−1、ポリ−4−メチルペンテン
−1、ポリプロピレン、ポリビニル−t−ブタン、1,
4−トランス−ポリ−2,3−ジメチルブタジエン、セ
ルローストリアセテート、セルローストリプロピオネー
ト、ポリクロロトリフルオロエチレン等を細かく分散さ
せる、あるいは上記白色化微粒子を添加して、それを一
軸または二軸に延伸することにより形成される。延伸に
際して、非相溶ポリマ粒子や白色微粒子の周りにボイド
(気泡)が形成され、これが光の散乱作用を発揮するた
め白色化される。また微細気泡を有するため比重が低く
なり、クッション性も有し、感熱記録ヘッドとの密着性
も良くなり鮮明な画像が得られる。
【0013】このような気泡含有ポリエステルフィルム
を用いる場合、該気泡含有ポリエステルフィルムの見掛
け比重は0.4以上1.3以下が好ましく、さらに好ま
しくは0.6以上1.2以下であるのが望ましい。見掛
け比重が上記範囲より低いと機械的性質や熱寸法安定性
が劣り好ましくない。
【0014】ポリエステルフィルムには公知の方法で表
面処理、すなわちコロナ放電処理(空気中、窒素中、炭
酸ガス中など)や易接着処理が施されたフィルムである
場合、受容層との密着性、耐水性、耐溶剤性などが改良
されるのでより好ましく使用される。易接着処理は公知
の各種の方法を用いることができ、フィルム工程中でア
クリル系、ウレタン系、ポリエステル系などの各種易接
着剤を塗布したもの、あるいは一軸または二軸延伸後の
フィルムに上記のような各種易接着剤を塗布したものな
どが好適に用いうる。
【0015】また基材フィルムは透明フィルムでも着色
されたフィルムでも良い。
【0016】この基材の厚みは特に限定されないが、通
常10μm以上500μm以下が好ましく、さらに好ま
しくは20μm以上300μm以下、より好ましくは3
0μm以上250μm以下であるのが望ましい。
【0017】本発明において受容層の孔の孔径分布曲線
におけるピーク孔径は0.05〜5.0μm、好ましく
は0.07〜4.0μmである。孔径分布曲線における
ピーク孔径が0.05μmに満たない場合にはインクな
どの吸収性が不十分であり、孔径分布曲線におけるピー
ク孔径が5.0μmを超える場合にはインクなどの転写
抜けが発生しやすいという欠点を生じる。
【0018】また本発明において受容層表面の平滑度は
100秒以上、好ましくは200秒以上である場合イン
クなどの転写性がよく、ピンホール状の印字抜けが少な
くなり、さらに表面光沢性にも優れるので好ましい。
【0019】また本発明において受容層の吸油量は5m
l/m2 以上、好ましくは6ml/m2 以上である場合
インクなどの吸収性がよく、印字後もフラットな面が得
られ表面光沢性にも優れるので好ましい。
【0020】本発明において受容層は平均分子量100
0〜100万のポリアルキレンオキシドとコロイダルシ
リカと第4級アンモニウム塩重合物を主成分とする層
(A)と、数珠状に連結および/または分岐した形状の
コロイダルシリカと水溶性高分子を主成分とする層
(B)を積層したものが好ましく用いられ、さらには平
均分子量1000〜100万のポリアルキレンオキシド
とイソシアネート化合物を反応させて得られる架橋ポリ
アルキレンオキシドとコロイダルシリカと第4級アンモ
ニウム塩重合物を主成分とする層(A)と、数珠状に連
結および/または分岐した形状のコロイダルシリカと水
溶性高分子を主成分とする層(B)を積層したものがよ
り好ましく用いられる。
【0021】本発明におけるポリアルキレンオキサイド
としては、重量平均分子量1000〜100万のものが
好ましく、例として挙げれば、ポリエチレンオキサイ
ド、ポリプレピレンオキサイド、ポリブチレンオキサイ
ド、およびこれらの単量体の共重合物、これらの混合物
等を用いることができる。
【0022】さらに、その中でも、重量平均分子量20
00〜10万のものが好ましい。重量平均分子量が10
00以下の場合、インク吸収性が低下し好ましくない。
また、重量平均分子量が100万以上の場合、得られる
架橋ポリアルキレンオキサイドの架橋密度が低くなり、
受容層の強度が低下するため、好ましくない。
【0023】本発明におけるイソシアネート化合物と
は、イソシアネート基を1個または2個以上有するもの
であって、例えば、n−プロピルイソシアネート、n−
ブチルイソシアネート、n−ヘキシルイソシアネート、
ドデシルイソシアネート、シクロヘキシルイソシアネー
ト、ベンジルイソシアネート、フェニルイソシアネー
ト、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキ
サメチレンジイソシアネート、1,8−ジメチルベンゾ
ール2,4−ジイソシアネート、2,4−トリレンジイ
ソシアネート、ポリメチレンポリフェニルイソシアネー
ト、トリメチロールプロパンなどのポリオールとその活
性水素に対応するモル数のジイソシアネートを反応させ
て得られるウレタンイソシアネート化合物、およびポリ
イソシアネートアダクトからなる群から選ばれる少なく
とも1種が挙げられる。
【0024】さらに上記ポリオールの中でも、4,4−
ジフェニスメタンジイソシサネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートが
好ましく用いられる。
【0025】イソシアネート化合物の使用量はイソシア
ネート化合物の種類反応条件等によっても異なり、特に
限定されないが、ポリアルキレンオキサイド100重量
部に対して、1〜80重量部が好ましく、さらに好まし
くは5〜50重量部の範囲から選ばれる。1重量部より
少ないと得られる架橋ポリアルキレンオキサイドの架橋
密度が低くなり、記録層の強度が低下するため好ましく
ない。また80重量部を超える場合、塗布性が悪化し、
均一層を形成しにくいため、好ましくない。
【0026】本発明において、架橋ポリアルキレンオキ
サイドのゲル強度を高め、シートやフィルム等への加工
性を向上させるために、微粒子状無機酸化物を架橋する
際に添加するか、架橋して得られた架橋ポリアルキレン
オキサイドに添加するのが好ましい。
【0027】本発明における微粒子状無機酸化物として
は、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウ
ム、酸化アルミニウム等を用いることが出来る。
【0028】さらに、上記微粒子状無機酸化物の中で
も、シリカ、または酸化チタンが好ましく用いられる。
【0029】シリカとしては、例えば粉末状の二酸化珪
素を主成分とするアモルファスシリカ、表面をメチル
基、オクチルシリル基、またはトリメチルシリル基で覆
った表面疎水化アモルファスシリカ等の微粒子シリカが
挙げられる。酸化チタンとしては、例えば、ルチル型酸
化チタンを主成分とする微粒子酸化チタンが挙げられ
る。これらの微粒子状無機酸化物の粒径は、通常100
μm以下が好ましく、さらに好ましくは80μm以下で
あることが望ましい。
【0030】微粒子状無機酸化物の添加量は用いるポリ
アルキレンオキサイド100重量部に対して、0.1〜
20重量部が好ましく、さらに好ましくは0.5〜10
重量部である。0.1重量部未満では十分な効果が得ら
れず、20重量部を超える場合には添加量に見合った効
果が得られないだけでなく、得られる架橋ポリアルキレ
ンオキサイドの加工性が低下するため、好ましくない。
【0031】ポリアルキレンオキサイドにイソシアネー
ト化合物を反応させる方法は特に限定されないが、溶液
状で反応させる方法、分散状で反応させる方法、粉末状
又は固体状で両者を均一に混合した後、所定温度に加熱
して架橋反応させる方法など、公知の方法を適用するこ
とが出来る。反応温度は通常、50〜150℃である。
【0032】微粒子状無機酸化物の架橋ポリアルキレン
オキサイドへの添加方法は、架橋ポリアルキレンオキサ
イドの製造時、すなわち、ポリアルキレンオキサイドと
イソシアネート化合物との架橋反応時に添加するか、ま
たは、該反応により架橋ポリアルキレンオキサイドを製
造した後に添加する方法のいずれであっても良い。
【0033】本発明のポリアルキレンオキサイドとイソ
シアネート化合物の架橋反応において、反応をより促進
させるために、トリエチルアミン、トリエタノールアミ
ン、ジブチルスズラウレート、ジブチルスズアセテー
ト、トリエチレンジアミンなどを添加することもでき
る。
【0034】本発明におけるコロイダルシリカとは、シ
リカの超微粒子を安定に水、あるいは溶媒に分散させた
コロイド状分散液である。このようなコロイダルシリカ
の製法としては、各種公知の方法があるが、一般的には
イオン交換樹脂を用いる方法が用いられる。通常これら
のコロイダルシリカは各粒子が互いに反発し合うのに十
分なアニオン性を持たせている。
【0035】本発明で用いられるコロイダルシリカのイ
オン性はカチオン性であることが望ましい。カチオン性
のコロイダルシリカとは、シリカにアルミニウムイオン
等の多価金属イオンの混合物を反応させて得られたもの
で、少なくともシリカ粒子表面をカチオン性に荷電した
ものである。コロイダルシリカのイオン性がカチオン性
の場合、相溶性が向上するため、好ましく用いられる。
【0036】コロイダルシリカの粒径が5〜100nm
が好ましく、さらに好ましくは7〜50nm、より好ま
しくは8〜30nmである場合、受容層のインク吸収性
を大きくする点で好ましい。
【0037】第4級アンモニウム塩重合物とは、繰り返
し単位鎖中に少なくとも1個の第4級アンモニウム塩を
有する高分子で、例として挙げれば、ポリ(2−ヒドロ
キシ3−メタクリロキシプロピルトリメチルアンモニウ
ムクロライド)、ポリ(2−ヒドロキシ3−メタクリロ
キシプロピルトリエチルアンモニウムクロライド)、ポ
リ(2−ヒドロキシ3−アクリロキシプロピルトリメチ
ルアンモニウムクロライド)、ポリ(2−ヒドロキシ3
−アクリロキシプロピルトリエチルアンモニウムクロラ
イド)、ポリ(2−メタクリロキシエチルトリメチルア
ンモニウムクロライド)、ポリ(2−メタクリロキシエ
チルトリエチルアンモニウムクロライド)、ポリ(2−
アクリロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド)、ポリ(2−アクリロキシエチルトリエチルアンモ
ニウムクロライド)、ポリ(ビニルベンジルトリメチル
アンモニウムクロライド)、ポリ(ビニルベンジルトリ
エチルアンモニウムクロライド)、ポリ(ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート)の塩、ポリ(ジエチルアミノ
エチルメタクリレート)の塩、ポリ(ジエチルアミノエ
チルアクリレート)の塩、ポリ(ジメチルアミノエチル
メタクリレート)の塩、ポリ(ジメチルアミノエチルア
クリレート)の塩、ポリ(4−ビニルNメチルピリジニ
ウムクロライド)、N,N−ジメチル置換3,5−メチ
ルピペリジニウムクロライド樹脂、ポリ(ジメチルジア
リルアンモニウムクロライド)、ポリ(ジエチルジアリ
ルアンモニウムクロライド)ポリエチレンイミンハイド
ロクロライドなどや界面活性剤便覧(産業図書1960
年)記載の各種第4級アンモニウム塩やピペリジニウム
塩の重合物があるが、その他公知の各種の第4級アンモ
ニウム塩を有する高分子が使用出来る。
【0038】特に、ポリ(2−ヒドロキシ3−メタクリ
ロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライド)、
ポリ(2−ヒドロキシ3−メタクリロキシプロピルトリ
エチルアンモニウムクロライド)、ポリ(2−ヒドロキ
シ3−アクリロキシプロピルトリメチルアンモニウムク
ロライド)、ポリ(2−ヒドロキシ3−アクリロキシプ
ロピルトリエチルアンモニウムクロライド)、ポリ(2
−メタクリロキシエチルトリメチルアンモニウムクロラ
イド)、ポリ(2−メタクロリキシエチルトリエチルア
ンモニウムクロライド)、ポリ(2−アクリロキシエチ
ルトリメチルアンモニウムクロライド)、ポリ(2−ア
クリロキシエチルトリエチルアンモニウムクロライ
ド)、ポリ(ジメチルアミノエチルメタクリレート)の
塩、ポリ(ジエチルアミノエチルメタクリレート)の
塩、ポリ(ジメチルアミノエチルアクリレート)の塩、
ポリ(ジエチルアミノエチルアクリレート)の塩が好ま
しい高分子である。
【0039】また、第4級アンモニウム塩重合物は単独
でも、2種以上の混合系で用いても良い。さらに、第4
級アンモニウム塩とスチレンやアクリル酸系エステルと
の共重合物であっても良い。ここでいうアクリル酸系エ
ステルとは、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エ
ステルを指すもので、好ましくは脂肪族アルコールのエ
ステルである。例えば、メチルアクリレート、エチルア
クリレート、ブチルアクリレート、プロピルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、プロピルメタクリレート、2−ヒ
ドロキエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート等が挙げられる。
【0040】本発明に使用される第4級アンモニウム塩
重合物の具体例としては、例えば、“サフトマー”(三
菱油化(株)製)、“エレコンド”(綜研化学(株)
製)、“ケミスタット”(三洋化成(株)製)、“コル
コート”(コルコート社製)、“SAT−5”(日本純
薬(株)製)、“ダウECR”(ダウ・ケミカル社製)
等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
【0041】層(A)の塗布厚さは特に限定されない
が、1〜20μmが好ましく、さらに好ましくは2〜1
5μmである。これより薄いと得られる受容層のインク
吸収性が劣り、これより厚いと作業性が悪くなったり、
ブロッキングを生じやすくなり好ましくない。
【0042】本発明の熱転写受像体においては上記層
(A)の上にさらに層(B)を設けることが好ましい。
【0043】本発明の層(B)は、数珠状に連結および
/または分岐した形状のコロイダルシリカ(以下、数珠
状コロイダルシリカ)と水溶性高分子を主成分とする塗
膜である。
【0044】本発明における数珠状コロイダルシリカ
は、数珠状に連結および/または分岐した形状を持ち、
具体的には例えば、球状のコロイダルシリカが数珠状に
連結した長鎖の構造を有するもの、および連結したシリ
カが分岐したものなどを挙げることができる。上記数珠
状コロイダルシリカは球状シリカの1次粒子を2価以上
の金属イオンを介在させ粒子−粒子間を結合させたもの
で、少なくとも3個以上、好ましくは5個以上、さらに
好ましくは7個以上連結したものをいい、さらには数珠
状に連結した粒子が分岐したものも含包する。
【0045】また、コロイダルシリカと他の無機粒子、
例えばアルミナ、セリア、チタニアなどの複合あるいは
混合粒子であってもよく、これらを介在させて連結させ
たものでも良い。介在させる金属イオンとしては2価以
上の金属イオンが好ましく、例えばCa2+、Zn2+、M
2+、Ba2+、Al3+、Ti4+などである。特にCa2+
とした場合には、数珠状に連結および/または分岐した
コロイダルシリカを作成するのに好適である。
【0046】また、コロイダルシリカの1次粒子径は5
〜100nmが好ましく、さらに好ましくは7〜50n
m、より好ましくは8nm〜30nmである場合、記録
層のインク吸収性を大きくする点で好ましい。
【0047】さらに、受容層のインク吸収性はシリカ粒
子が数珠状に連結および/または分岐している場合に大
きくなり、連結したシリカの1次粒子数が多いほど好ま
しいが、通常は3〜100個が好ましく、さらに好まし
くは5〜50個、より好ましくは7〜30個の範囲から
選ばれる。3個未満ではインク吸収性の発現が不十分で
あり、100個を超える場合にはシリカ粒子が増粘しや
すく水分散性が悪くなるため、好ましくない。
【0048】また、本発明における数珠状コロイダルシ
リカのpHは酸性であることが望ましく、pHが2〜6
が好ましく、さらに好ましくは2〜4の範囲から選ばれ
る。この範囲を超える場合には水溶性高分子と混合した
時に塗液が増粘しやすく、作業性が悪くなり好ましくな
い。
【0049】本発明における水溶性高分子とは常温で水
に可溶な高分子をいうが、例えば、酸化でんぷん、エー
テル化でんぷん、デキストリンなどのでんぷん類、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース
などのセルロース誘導体、カゼイン、ゼラチン、ポリビ
ニルアルコールおよびその誘導体、ポリビニルピロリド
ン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸またはそのエス
テル、塩類およびそれらの共重合体、ポリヒドロキシエ
チルメタクリレートおよびその共重合体などのビニル系
重合体、あるいはこれらの各種重合体のカルボキシル基
など官能基変性重合体などが挙げられる。
【0050】本発明で好ましく用いられる水溶性高分子
はポリビニルアルコールおよびその誘導体であり、酢酸
ビニル単位のけん化度は通常70モル%以上が好まし
く、さらに好ましくは80モル%以上の範囲から選ばれ
る。
【0051】また、ポリビニルアルコールの重合度は通
常1000〜3000が好ましく、さらに好ましくは1
500〜2500の範囲のものが用いられる。
【0052】数珠状コロイダルシリカと水溶性高分子
は、数珠状コロイダルシリカ/水溶性高分子が重量比で
1/1〜10/1が好ましく、さらに好ましくは2/1
〜8/1、より好ましくは3/1〜5/1の範囲から選
ばれる。数珠状コロイダルシリカ/水溶性高分子が1/
1未満では形成される受容層の耐水性が悪く、10/1
を超える場合には形成される受容層の強度が低下した
り、さらには塗布性が悪化し、均一層を形成しにくいた
め、好ましくない。
【0053】本発明で好ましく用いられる溶媒はアルコ
ールであり、さらに炭素数が1〜5のアルコールが好ま
しく用いられる。
【0054】溶媒としてのアルコールの量は、全溶媒中
の3〜30%が好ましく、さらに好ましくは5〜20%
の範囲から選ばれる。
【0055】層(B)の塗布厚さは特に限定されない
が、1〜50μmが好ましく、さらに好ましくは3〜3
0μmである。これより薄いとインク吸収性が劣り、こ
れより厚いと記録層の強度が低下したり、作業性が悪く
なり好ましくない。
【0056】本発明における受容層の表面抵抗値は5×
1013Ω/□以下であることが好ましい。さらに好まし
くは5×1012Ω/□以下である。受容層の表面抵抗値
が5×1013Ω/□より高いと、得られる熱転写受像体
の走行性が不良となり好ましくない。
【0057】本発明において、受容層の記録特性をより
高めるために、無機/およびまたは有機粒子を分散させ
ても良い。無機粒子としては例えば、本発明の主成分と
して用いられる以外のシリカ、クレー、タルク、ケイソ
ウ土、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ケイ酸アルミ、
合成ゼオライト、アルミナ、酸化亜鉛、雲母などが挙げ
られる。有機粒子としては例えば、ポリメチルメタクリ
レート、ポリスチレン、それらの共重合体、ポリ塩化ビ
ニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリカーボネートなどのプラスチックピグメント
を好ましく用いることができるが、これらに限定される
ものではない。
【0058】本発明における熱転写受像体の受容層に
は、本発明の特性を損なわない範囲で公知の添加剤、例
えば消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、帯電防止剤、酸化
防止剤、紫外線防止剤、染料などを含有せしめてもよ
い。
【0059】本発明において、熱転写受像体の走行性、
重走性を改良するために受容層と反対面のプラスチック
表面に帯電防止剤を塗布したり、無機や有機の微粒子を
含む塗剤を塗布したものがより好ましく用いられる。
【0060】受容層の塗布方法は特に限定されないが、
グラビアコート法、リバースコート法、キスコート法、
ダイコート法、バーコート法など公知の方法を適用する
ことができる。この際、フィルム上には塗布する前に必
要に応じて空気中あるいはそのほかの雰囲気中でのコロ
ナ放電処理や、プライマー処理など公知の表面処理を施
すことによって、塗布性が良化するのみならず、受容層
をより強固にフィルム上に形成することができる。尚、
塗剤濃度、塗膜乾燥条件は特に限定されるものではない
が、塗膜乾燥条件は基材の諸特性に悪影響を及ぼさない
範囲で行うのが望ましい。
【0061】
【特性の評価方法】まず本発明における各種特性の評価
方法について説明する。
【0062】(1)孔径分布曲線 1万倍で撮影した電子顕微鏡表面写真の孔の部分をマー
キングし、Quantmet−720型イメージアナラ
イザー(イメージアナライジングコンピュータ社製)を
用いて画像処理を行い、各孔径を真円に換算した時の最
小孔径と最大孔径の間を10μm単位で分割し、各分割
部における孔の個数を測定した。この測定値から縦軸を
単位面積あたりの孔数、横軸を孔径として孔径分布曲線
を描きピ−クにおける孔径を求めた。
【0063】(2)平滑度 旭精工(株)製王研式透気度平滑度試験機(型式KB1
5)で測定した。n=5の平均値で示した。
【0064】(3)吸油量 試料10×10cm2 の初期重量をW0 とし、受容層面
に十分量のオレイン酸を浸透させた後、過剰のオレイン
酸を完全に拭き取った後の重量をWとし、次式により吸
油量Q(ml/m2 )を算出した。
【0065】 Q=[(W−W0 )/0.866]×100 但し、0.866はオレイン酸の比重。
【0066】(4)印字特性 カラーポイント2(セイコー電子工業(株)製高精細プ
リンタ)を用い付属の8階調のソフト(PALMIX)
で印字テストを行なった。熱転写インクリボンは専用の
CH737(4色、セイコー・アイ・サプライ(株)
製)を用いた。
【0067】階調性 ○:5階調以上が再現できる △:3階調以上が再現できる ×:階調性がでない
【0068】ドット再現性 上記方法によってプリントした印字面の表面を25倍の
拡大かがみで観察し、転写ぬけ(インクが転写しない部
分)の有無、表面光沢を下記で基準で判定した。
【0069】 ◎:転写ぬけが認められず、表面光沢性に優れる ○:転写ぬけはないが表面光沢が若干低下 △:転写ぬけが1〜5個/10cm2 存在し、表面光沢
もかなり低下 ×:無数の転写ぬけがあり、表面光沢性も悪い
【0070】(5)受容層および熱転写インクの密着性 密着力は、受容層上またはインキ上に“セロテープ”C
T−24(ニチバン(株)を貼り、ハンドローラーを用
いて約5kgの荷重をかけ、5回往復して圧着させ、
“セロテープ”を手で180゜方向に強制剥離し、被覆
層の全剥離面積に対する剥離度合いを観察し評価した。
判定基準は、 ○:良好(剥離面積5%未満) △:やや劣る(剥離面積5%以上20%未満) ×:不良(剥離面積20%以上) であり、△以上を合格とした。
【0071】(6)pH pHメーター(HORIBA(株)製pHMETER
F−14)を用いて測定した。
【0072】(7)表面抵抗値 ULTRA HIGH RESISTANCE MET
ER(ADVANTEST R8340)を用いて、電
圧100V、Carge5秒の条件で、20℃、60%
RHの環境で測定した。
【0073】(8)比重 フィルムを100×100mm角に切り、ダイアルゲー
ジ(三豊製作所製No.2109−10)に直径10m
mの測定子(No.7002)を取り付けたものにて最
低10点の厚みを測定し、厚みの平均値d(μm)を計
算する。また、このフィルムを直示天秤にて秤量し、重
さw(g)を10−4 gの単位まで読み取る。この時 比重=(w/d)×100 とした。
【0074】
【実施例】次に実施例により具体的に説明するが、これ
に限定されるものではない。また重量部は固型分重量部
である。
【0075】実施例1 (1)層(A)塗剤の製造 2−ヒドロキシ3−メタクリロキシプロピルトリメチル
アンモニウムクロライドと2−ヒドロキシエチルアクリ
レートを常法のラジカル重合法により重合し、第4級ア
ンモニウム塩重合物を作製した。該第4級アンモニウム
塩重合物と架橋ポリアルキレンオキサイド(住友精化
(株)製“アクアコーク”)とコロイダルシリカ(日産
化学(株)製“スノーテックス”AK カチオン性、p
H:4.5)が固形分比で1/1/2となるようにメタ
ノール溶媒に溶解し、固形分15%の溶液とした。
【0076】(2)層(B)塗剤の製造 ポリビニルアルコール(電気化学(株)製PVA−K−
24E けん化度:98.0%、重合度:2400)と
数珠状コロイダルシリカ(日産化学(株)製“スノーテ
ックス”OUP アニオン性、pH:2.9)が固形分
比で1/5となるように水に溶解し、固形分15%の塗
料とした。
【0077】(3)熱転写受像体の製造 常法によって製造されたポリエチレンテレフタレートの
ホモポリマーチップ(固有粘度:0.62、融点:25
9℃)を用いて、常法によって厚み150μm、比重
1.4の二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。このよ
うにして得られたポリエステルフィルムの上にコロナ放
電処理を行った。次にコロナ放電処理面に前記層(A)
塗剤を乾燥後の厚みが10μmになるようにリバースコ
ーターにて塗布し、120℃で2分間乾燥させた。次に
層(B)塗剤を乾燥後の厚みが20μmになるようにリ
バースコーターにて塗布し、120℃で2分間乾燥さ
せ、本発明の熱転写受像体を得た。かくして得られた熱
転写受像体の特性は表1に示した通りで、ドット再現
性、インク転写性が良好で鮮明性、階調性とも優れた特
性を示し、インク密着性も十分なものであり、熱転写受
像体として優れた特性を示した。
【0078】実施例2 実施例1において層(B)組成物としてポリビニルアル
コール(電気化学(株)製PVA−K−24E けん化
度:98.0%、重合度:2400)と数珠状コロイダ
ルシリカ(日産化学(株)製“スノーテックス”OUP
アニオン性、pH:2.9)とさらにシリカ粒子(徳
山曹達(株)製“ファインシール”3.5μm)が固形
分比で1/4/0.2となるようにした以外は同様にし
て本発明の熱転写受像体を得た。かくして得られた熱転
写受像体の特性は表1に示した通りで、ドット再現性、
インク転写性が良好で鮮明性、階調性とも優れた特性を
示し、インク密着性も十分なものであり、熱転写受像体
として優れた特性を示した。
【0079】実施例3 実施例1において層(A)組成物として第4級アンモニ
ウム塩重合物を変更(三菱油化(株)製“サフトマー”
ST−2500)した以外は同様にして本発明の記録シ
ートを得た。かくして得られた記録シートの特性は表1
に示した通りで、ドット再現性、インク転写性が良好で
鮮明性、階調性とも優れた特性を示し、インク密着性も
十分なものであり、熱転写受像体として優れた特性を示
した。
【0080】実施例4 (1)層(A)塗剤の製造 第4級アンモニウム塩重合物(三菱油化(株)製“サフ
トマー”ST−2500)と架橋ポリアルキレンオキサ
イド(住友精化(株)製“アクアコーク”)とコロイダ
ルシリカ(日産化学(株)製“スノーテックス”AK
カチオン性、pH:4.5)が固形分比で1/1/2と
なるようにメタノール溶媒に溶解し、固形分15%の溶
液とした。
【0081】(2)層(B)塗剤の製造 ポリビニルアルコール(電気化学(株)製PVA−K−
24E けん化度:98.0%、重合度:2400)と
数珠状コロイダルシリカ(日産化学(株)製“スノーテ
ックス”OUP アニオン性、pH:2.9)が固形分
比で1/4となるように水/イソプロピルアルコール
(重量比:1/2)に溶解し、固形分13%の塗料とし
た。
【0082】(3)熱転写受像体の製造 ポリエテレンテレフタレートのチップおよび分子量40
00のポリエチレングリコールをポリエチレンテレフタ
レートの重合時に添加したマスターチップを180℃で
真空乾燥した後に、ポリエチレンテレフタレート89重
量%、ポリエチレングリコール1重量%、ポリメチルペ
ンテン10重量%となるように混合し、270〜300
℃に加熱された押出機Bに供給する。また、平均粒子径
1.0μmの炭酸カルシウムを10重量%含有したポリ
エチレンテレフタレートを上記のように乾燥した後に、
押出機Aに供給する。押出機A、Bより押出されたポリ
マーをA/B/Aの3層構成となるように積層し、Tダ
イよりシート状に成形した。
【0083】さらにこのフィルムを表面温度25℃の冷
却ドラムで冷却固化した未延伸フィルムを85〜95℃
に加熱したロール群に導き、長手方向に3.4倍延伸
し、25℃のロール群で冷却した。続いて縦延伸したフ
ィルムの両端をクリップで把持しながらテンターに導
き、130℃に加熱された雰囲気中で長手に垂直な方向
に3.6倍延伸した。その後テンター内で230℃の熱
固定を行い、均一冷却後、室温まで冷やして巻き取り、
厚み150μm、比重1.0の白色フィルムを得た。該
フィルムの積層構成は7.5/135/7.5μmであ
った。このようにして得られたポリエステルフィルムの
上にコロナ放電処理を行った。次にコロナ放電処理面に
前記層(A)塗剤を乾燥後の厚みが5μmになるように
リバースコーターにて塗布し、120℃で2分間乾燥さ
せた。次に前記層(B)塗剤を乾燥後の厚みが20μm
になるようにリバースコーターにて塗布し、120℃で
2分間乾燥させ、本発明の熱転写受像体を得た。かくし
て得られた熱転写受像体の特性は表1に示した通りで、
ドット再現性、インク転写性が良好で鮮明性、階調性と
も優れた特性を示し、インク密着性も十分なものであ
り、熱転写受像体として優れた特性を示した。
【0084】実施例5 実施例1において、層(B)組成としてポリエチレング
リコール(分子量300)と数珠状コロイダルシリカ
(日産化学(株)製“スノーテックス”OUPアニオン
性、pH:2.9)とさらにシリカ粒子(徳山曹達
(株)製“ファインシ−ル”1.0μm)が固形分比で
1/4/0.2となるようにした以外は同様にして本発
明の熱転写受像体を得た。かくして得られた熱転写受像
体の特性は表1、表2に示した通りで、ドット再現性、
インク転写性が良好で鮮明性、階調性とも優れた特性を
示し、インク密着性も十分なものであり、熱転写受像体
として優れた特性を示した。
【0085】実施例6 実施例4において、数珠状コロイダルシリカを変更(日
産化学(株)製“スノーテックス”UP アニオン性、
pH:10.3)した以外は同様にして本発明の熱転写
受像体を得た。かくして得られた熱転写受像体の特性は
表1に示した通りで、ドット再現性、インク転写性が良
好で鮮明性、階調性とも優れた特性を示し、インク密着
性も十分なものであり、熱転写受像体として優れた特性
を示した。
【0086】実施例7 常法によって製造されたポリエチレン2,6−ナフタレ
ートのホモポリマーチップ(極限粘度[η]=0.7)
を十分に真空乾燥後、押出機に供給して295℃で溶融
押出し、10μmカットの金属燒結フィルターで濾過し
た後、T字型口金からシート状に押出し、これを表面温
度50℃の冷却ドラムに巻き付け冷却固化した。この間
のシートと冷却ドラム表面との密着性を向上させるた
め、シート側にワイヤー電極を配置して、6000Vの
直流電圧を印加した。かくして得られた未延伸ポリエチ
レン2,6−ナフタレートフィルムを120℃に加熱し
たロール群で長手方向に4.5倍延伸して、25℃に冷
却し一軸延伸フィルムを得た。
【0087】さらに、該延伸フィルムをテンターに導き
125℃に保たれた雰囲気中で幅方向に4.3倍延伸
し、225℃で熱固定を行ない、厚さ100μm、比重
1.35の二軸延伸フィルムを得た。こうして得たフィ
ルム表面上に実施例2と同様にして熱転写受像体を得
た。
【0088】この熱転写受像体の特性を表1に示した。
表1から明らかなように、その特性はドット再現性、イ
ンク転写性が良好で鮮明性、階調性とも優れた特性を示
し、インク密着性も十分なものであり、熱転写受像体と
して優れた特性を示した。
【0089】さらに基材として二軸延伸ポリエチレン
2,6−ナフタレートフィルムを用いているため耐熱性
にも優れていることがわかった。
【0090】実施例8 ポリエチレン2、6−ナフタレート(極限粘度[η]=
0.7)を94重量%、ポリ−4−メチルペンテン−1
(三井石油化学(株))TPX−D820)5重量%、
分子量4000のポリエチレングリコール1重量%の割
合で予めペレタイズした原料を押出機Aに供給し、常法
により295゜Cで溶融してTダイ3層口金の中央部に
導入した。
【0091】一方、上記ポリエチレン2、6−ナフタレ
ート86重量%に炭酸カルシウム(平均粒径0.8μ
m)を14重量%添加した原料を押出機Bに供給し、常
法により295゜Cで溶融しTダイ3層口金の両表層に
ラミネートして、該溶融体シートを表面温度25゜Cに
保たれた冷却ドラム上に静電荷法で密着冷却固化させ
た。続いて該キャストシートを常法に従い長手方向に1
20゜Cに加熱されたロール群を用いて3.5倍に延伸
し、25゜Cに冷却した。さらに、該延伸フィルムをテ
ンターに導き125゜Cに加熱された雰囲気中で幅方向
に3.2倍延伸し、225゜Cで熱固定を行ない、厚さ
100μm、比重1.0の二軸延伸フィルムを得た。各
フィルム層の厚みは表層6μmずつ、中央層88μmの
構成であった。こうして得たフィルム表面上に実施例2
と同様にして熱転写受像体を得た。
【0092】この熱転写受像体の特性を表1に示した。
表1から明らかなように、その特性はドット再現性、イ
ンク転写性が良好で鮮明性、階調性とも優れた特性を示
し、インク密着性も十分なものであり、熱転写受像体と
して優れた特性を示した。
【0093】さらに基材として二軸延伸ポリエチレン
2,6−ナフタレートフィルムを用いているため耐熱性
にも優れていることがわかった。
【0094】比較例1 実施例1において層(B)組成物として数珠状コロイダ
ルシリカ(日産化学(株)製“スノーテックス”OUP
アニオン性、pH:2.9)を用いない以外は同様に
して熱転写受像体を得た。
【0095】この熱転写受像体の特性を表1に示した。
表1から明らかなように、その特性は受容層が多孔質で
ないため吸油量が低く、階調性が劣るものであった。ま
た走行性も不良であった。
【0096】比較例2 実施例1において層(B)組成物として数珠状コロイダ
ルシリカ(日産化学(株)製“スノーテックス”OUP
アニオン性、pH:2.9)に代えて平均粒径7.0
μmのシリカ粒子(例えば富士シリシア化学(株)製
“サイリシア”)を用いた以外は同様にして熱転写受像
体を得たが、平滑度が50秒と受容層表面が粗れてお
り、印字画像のドット再現性、インク転写性が悪く鮮明
性にも劣るものであった。
【0097】
【表1】
【0098】
【発明の効果】本発明は基材の少なくとも片面にインク
受容層を設けた積層フィルムにおいて、特定の受容層を
適用することにより良好な熱転写印字性を有し、ドット
再現性、インク転写性が良好で鮮明性、階調性とも優れ
た熱転写受像体を得たものである。
【0099】かくして得られた本発明の熱転写受像体は
優れた特性を有するので、昇華型を含む感熱インク受容
体、電子写真トナー受容体、ファブリックリボンインク
受容体などの他のインクやトナー受容体としても有効に
適用できる。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材の少なくとも片面に受容層を被覆し
    てなる熱転写受像体において、該受容層の孔径分布曲線
    におけるピーク孔径が0.05〜5.0μmであり、か
    つ該受容層の平滑度が100秒以上であり、該受容層の
    吸油量が5ml/m2 以上であることを特徴とする熱転
    写受像体。
  2. 【請求項2】 受容層が平均分子量1000〜100万
    のポリアルキレンオキシドとコロイダルシリカと第4級
    アンモニウム塩重合物を主成分とする層(A)と、数珠
    状に連結および/または分岐した形状のコロイダルシリ
    カと水溶性高分子を主成分とする層(B)を積層してな
    ることを特徴とする請求項1に記載の熱転写受像体。
  3. 【請求項3】 受容層が平均分子量1000〜100万
    のポリアルキレンオキシドとイソシアネート化合物を反
    応させて得られる架橋ポリアルキレンオキシドとコロイ
    ダルシリカと第4級アンモニウム塩重合物を主成分とす
    る層(A)と、数珠状に連結および/または分岐した形
    状のコロイダルシリカと水溶性高分子を主成分とする層
    (B)を積層してなることを特徴とする請求項1に記載
    の熱転写受像体。
  4. 【請求項4】 層(B)が少なくとも1種以上のアルコ
    ールを全溶媒中の3〜30%含有する塗剤を塗布乾燥し
    て得られた塗膜であることを特徴とする請求項2または
    請求項3に記載の熱転写受像体。
  5. 【請求項5】 アルコールの炭素数が1〜5であること
    を特徴とする請求項4に記載の熱転写受像体。
  6. 【請求項6】 架橋ポリアルキレンオキシドが架橋する
    際、あるいはその後に微粒子状無機酸化物を添加したも
    のであることを特徴とする請求項3に記載の熱転写受像
    体。
  7. 【請求項7】 コロイダルシリカがカチオン性であるこ
    とを特徴とする請求項2または請求項3に記載の熱転写
    受像体。
  8. 【請求項8】 コロイダルシリカのpHが酸性であるこ
    とを特徴とする請求項2または請求項3に記載の熱転写
    受像体。
  9. 【請求項9】 水溶性高分子がポリビニルアルコールで
    あることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の
    熱転写受像体。
  10. 【請求項10】 ポリビニルアルコールがけん化度70
    モル%以上、重合度1000〜3000であることを特
    徴とする請求項9に記載の熱転写受像体。
  11. 【請求項11】 受容層の表面抵抗値が5×1013Ω/
    □以下であることを特徴とする請求項1〜請求項3のい
    ずれかに記載の熱転写受像体。
  12. 【請求項12】 基材がポリエステルフィルムであるこ
    とを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれかに記載
    の熱転写受像体。
  13. 【請求項13】 基材が白色ポリエステルフィルムであ
    ることを特徴とする請求項1〜請求項11のいずれかに
    記載の熱転写受像体。
  14. 【請求項14】 基材が見かけ比重0.4以上1.3以
    下の白色ポリエステルフィルムであることを特徴とする
    請求項12に記載の熱転写受像体。
  15. 【請求項15】 基材が一方の面に受容層を有し、他方
    の面に帯電防止層を有することを特徴とする請求項1〜
    請求項14のいずれかに記載の熱転写受像体。
  16. 【請求項16】 基材がポリエチレン2,6−ナフタレ
    ートであることを特徴とする請求項1〜請求項15のい
    ずれかに記載の熱転写受像体。
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