JPH085983A

JPH085983A - 液晶表示装置およびその製造方法

Info

Publication number: JPH085983A
Application number: JP13741994A
Authority: JP
Inventors: Makoto Oue; 誠大植; Shinji Shimada; 伸二島田
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1994-06-20
Filing date: 1994-06-20
Publication date: 1996-01-12
Anticipated expiration: 2015-08-21
Also published as: JP3077960B2

Abstract

(57)【要約】【目的】視角特性を改善できると共に、製造コストを
低減し、スループットを向上させることができる液晶表
示装置およびその製造方法を提供する。【構成】一対の基板間隙に高分子相１５と液晶相１６
とを含む表示媒体が狭持されている。絵素部内では液晶
分子が放射状、同心円状または渦巻状に配列した少なく
とも１個のドメインが形成されている。また、黒色フィ
ラーを含む高分子相１５はＴＦＴ１３上を含む絵素部以
外の領域に形成され、遮光膜として機能する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、対向配設された一対の
基板の間に表示媒体が挟持され、絵素部がマトリクス状
に配された液晶表示装置およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶表示装置としては種々の表示
モードを利用したものが存在し、例えば電気光学効果を
利用した液晶表示素子としては、ネマティック液晶を用
いたツイスティッドネマティック（ＴＮ）モードやスー
パーツイスティッドネマティック（ＳＴＮ）モードの液
晶表示装置が実用化されている。また、強誘電性液晶
（ＦＬＣ）モードを用いた液晶表示装置も提案されてい
る。これら従来の表示モードの液晶表示装置は偏光板を
必要とするので光の利用効率が低く、配向処理を必要と
するので製造工程が繁雑になる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
表示モードの液晶表示装置においては、視角特性が悪い
ことが問題となっている。例えば、ＴＮモードでは、電
圧無印加時に液晶分子の初期配向が一対の基板間で９０
°捩れ、かつ、液晶分子の長軸方向が一方の基板側に或
る角度（プレチルト角）で立ち上がった構造となってい
る。また、電圧印加時には、同一方向に液晶分子が立ち
上がっていくように配向処理が行われている。このた
め、中間調において液晶分子が立ち上がる場合、同一方
向に液晶分子が傾くので、液晶分子を見る方向によって
見かけ上の屈折率が異なる。このため、見る方向によっ
てコントラストが大きく異なり、極端な場合には反転現
象等の表示異常が発生する。

【０００４】さらに、このような液晶表示装置のうちア
クティブマトリクス駆動型液晶表示装置においては、一
方の基板上に、液晶に電圧を印加するための画素電極が
複数形成され、各画素電極を選択駆動するスイッチング
素子として薄膜トランジスタ等の非線形素子が形成され
る。このような非線形素子は、光照射に対する特性依存
性および特性劣化が大きいので、通常、非線形素子上に
樹脂遮光膜を形成して非線形素子に対する遮光を行って
いる。このようなＴＦＴ−ＬＣＤ上の樹脂遮光膜につい
ては、ＳＩＤ’９２ＤＩＧＥＳＴｐｐ７８９〜７８２
に報告されているが、形成方法については記載されてい
ない。一般に、このような樹脂遮光膜はスピンコート法
で形成されるので材料費や装置費用が高く、またスルー
プットが低いという問題があった。

【０００５】本発明は、このような従来技術の問題点を
解決すべくなされたものであり、視角特性を改善できる
と共に、製造コストを低減し、スループットを向上させ
ることができる液晶表示装置およびその製造方法を提供
することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、各々電極が形成された一対の基板が互いに該電極を
内側にして対向配置され、該一対の基板の間に表示媒体
が狭持されていると共にマトリクス状に存在する電極対
向部が絵素部となっている液晶表示装置において、該表
示媒体が該絵素部に主として液晶相を有し、かつ、該絵
素部以外の部分に高分子相を有し、該絵素部内には液晶
分子が放射状、同心円状または渦巻状に配列した少なく
とも１個のドメインが形成され、該高分子相には黒色フ
ィラーが分散されているので、そのことにより上記目的
が達成される。

【０００７】ある実施態様では、前記一対の基板のう
ち、一方の基板上に絵素を選択的に駆動するための薄膜
トランジスタ素子が形成され、前記黒色フィラーが分散
された高分子相が薄膜トランジスタ素子上に形成されて
遮光膜としても機能している。

【０００８】本発明の液晶表示装置の製造方法は、各々
電極が形成された一対の基板が互いに該電極を内側にし
て対向配置され、該一対の基板の間に表示媒体が狭持さ
れていると共にマトリクス状に存在する電極対向部が絵
素部となっている液晶表示装置の製造方法において、該
一対の基板の間に、光重合性樹脂または感光性樹脂中に
少なくとも黒色フィラーを混入した材料と液晶化合物と
の混合物を注入する工程と、該混合物に、マスクを介し
て光エネルギーを照射し、光重合により液晶相と高分子
相とを相分離させて、該絵素部内に液晶分子が放射状、
同心円状または渦巻状に配列した少なくとも１個のドメ
インを有する表示媒体を得る工程とを含むので、そのこ
とにより上記目的が達成される。

【０００９】なお、ある実施態様では、一対の基板の少
なくとも一方が透明な基板からなり、この透明基板の上
に形成された電極が紫外線透過率の低い材料からなる構
成とすることができる。また、ある実施態様では、一対
の基板の少なくとも一方が透明な基板からなり、この透
明基板の上に紫外線吸収剤を含むカラーフィルターが形
成されている構成とすることができる。

【００１０】

【作用】本発明の液晶表示装置にあっては、各々電極が
形成された少なくとも一方が透明な一対の絶縁性基板の
間隙に高分子相と液晶相とを含む表示媒体が狭持されて
いる。絵素部内では、図６に示すように液晶分子が高分
子相の壁方向に向いた放射状、同心円状または渦巻状に
配列した少なくとも１個のドメインを形成している。図
６（ａ）は液晶分子の配列が放射状の場合を示し、
（ｂ）は同心円状を、（ｃ）は渦巻状を示す。このよう
な液晶分子の配列は、例えば一例として、配向膜に球晶
を形成することにより得ることが可能である。

【００１１】上記の液晶セルに電圧を印加すると、液晶
分子が放射状、同心円上または渦巻状に立ち上がる。こ
のため、各方向からの見かけ上の屈折率がほぼ同じ状態
になって、視角特性の改善に大きな効果がある。

【００１２】更には、高分子相には黒色フィラーが分散
されており、この黒色フィラーを含む高分子相は遮光膜
として機能することとなる。

【００１３】また、本発明方法にあっては、光硬化性樹
脂または感光性樹脂のモノマーまたはオリゴマー中に黒
色フィラーを混入した材料と液晶化合物との混合物を一
対の基板の間隙に注入し、その混合物に光エネルギーを
照射すると光重合により液晶相と高分子相とが相分離す
る。この時、上述したように球晶の形成された配向膜等
の作用により、液晶分子の配列が放射状、同心円上また
は渦巻状となったドメインが形成されることになる。上
記混合物中には、光開始材等の重合開始剤を含んでいて
もよい。

【００１４】混合物にマスクを介して光エネルギーを照
射すると、被照射部分に高分子相が形成され、他の部分
が液晶相となる。よって、マスクの形成位置によって
は、黒色フィラーが分散された高分子相を薄膜トランジ
スタ素子上に形成して遮光膜として用いることができ
る。

【００１５】一対の基板の少なくとも一方が透明なの
で、この基板裏面にマスクをセットしてもよいが、透明
な一方の基板上に形成されるカラーフィルターを紫外線
吸収剤を含む材料から形成すると、この基板側から光エ
ネルギーを照射する場合にこれをマスクとして用いるこ
とができる。よって、セルフアラインメントで相分離を
行うことができ、位置合わせ精度の高い液晶表示装置と
することができる。また、一方の基板上に形成される電
極を紫外線透過率の低い材料から作製すると、これをマ
スクとして用いることができる上に、露光時に問題とな
るカラーフィルターの褪色を防ぐこともできる。

【００１６】絵素電極上の液晶部分には黒色フィラーが
残ることも考えられるが、この黒色フィラーは、感光性
樹脂に均一に分散されており、感光性樹脂との密着性が
高まっているため、不純物として液晶に溶出することは
なく、また、高抵抗であるので表示に際して問題はな
い。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。

【００１８】（実施例１）図１は、実施例１の液晶表示
装置を示す断面図である。この液晶表示装置は、ガラス
板等からなる一対の基板１、１０が対向配設され、その
間隙に高分子相１５と液晶相１６とを有する表示媒体が
設けられている。一方（下側）の基板１の表示媒体側表
面には絵素電極９が形成され、他方の基板１０の表示媒
体側表面には対向電極１２が形成されて、両電極９、１
２が対向する部分が絵素部となっている。ＴＦＴ１３形
成領域を含む絵素部以外の領域には、主として高分子相
１５が形成され、この高分子相１５には黒色フィラーが
分散されている。また、絵素部には主として液晶相１６
が形成され、例えば図６（ａ）に示すように、液晶分子
が高分子相１５の壁方向に向いた放射状や、同心円状ま
たは渦巻状に配列されたドメインが形成されている。

【００１９】この液晶表示装置は、以下のようにして製
造される。

【００２０】まず、ＴＦＴ形成側基板の作製工程につい
て説明する。絶縁性表面を有する基板１上に、ｐ−Ｓｉ
膜等の半導体膜を減圧化学気相成長法（ＬＰＣＶＤ）等
により２５ｎｍ〜２００ｎｍ、好ましくは７０〜１００
ｎｍ程度の厚みに堆積させてパターニングし、半導体層
２を形成する。

【００２１】次に、半導体層２上に、ＳｉＯ₂膜をＰＣ
ＶＤ法等により２００〜５００ｎｍ、好ましくは２００
ｎｍ程度の厚みに堆積させてパターニングし、ゲート絶
縁膜３を形成する。その上に、金属膜をスパッタリング
法等により２００〜４００ｎｍ程度の厚みに堆積させて
ゲート電極４を形成する。

【００２２】次に、ゲート電極４上からチャネル領域
に、リン等のＶ族元素またはその化合物やボロン等のＩ
ＩＩ族元素またはその化合物の不純物を加速電圧５０〜
１００ｋｅＶ程度でイオン注入してコンタクト層５を形
成する。

【００２３】次に、その上に、ＳｉＮ_xまたはＳｉＯ₂膜
等をプラズマＣＶＤ法等により３００〜５００ｎｍ程度
の厚みに堆積させ、所定の箇所をエッチングしてコンタ
クトホールを開口し、層間絶縁膜６を形成する。

【００２４】次に、その上に、導電膜をスパッタリング
法等により２００〜７００ｎｍ程度の厚みに堆積させて
ソース電極７およびドレイン電極８を形成する。さら
に、インジウム錫酸化膜（ＩＴＯ）等の透明導電膜をス
パッタリング法等により５０〜１００ｎｍ程度の厚みに
堆積させて絵素電極９を形成してＴＦＴ１３を完成させ
る。

【００２５】次に、対向側基板の作製工程について説明
する。まず、絶縁性表面を有する基板１０上に、印刷
法、電着法またはスピンコーター等により顔料分散型カ
ラーフィルター１１を形成して所定の形状にパターニン
グする。その上にＩＴＯ等の透明導電膜をスパッタリン
グ法等により５０〜１００ｎｍ程度の厚みに堆積させて
対向電極１２を形成する。

【００２６】以上のようにして得られたＴＦＴ形成側基
板の絵素電極９上と、対向側基板のカラーフィルター１
１上とに、配向膜（図示せず）を形成する。この配向膜
には、例えばナイロン６．６を配向膜として塗布し、焼
成を行って溶剤を除去し、その後除去することで球晶を
形成する。その後、対向基板上に４．５μｍのプラスチ
ックビーズを散布し、両基板をシール樹脂を用いて貼り
合わせて図２（ａ）に示すような液晶セルを作製する。

【００２７】次に、表示媒体の形成工程について説明す
る。まず、光重合性樹脂または感光性樹脂中に少なくと
も黒色フィラーを混入した材料と液晶化合物との混合物
を、上記一対の基板の間隙に注入し、混合物にマスクを
介して光エネルギーを照射する。これにより、光重合性
樹脂または感光性樹脂が光重合すると共に、重合により
得られる高分子化合物と液晶化合物とが相分離し、光照
射部に高分子相１５が形成され、非照射部に液晶相１６
が形成される。このとき、配向膜に球晶が形成されてい
るので、その球晶に基づいて液晶相中の液晶分子が放射
状となったドメインが１つ液晶相１６に形成される。

【００２８】上記光硬化性樹脂としては、Ｒ−６８４
（日本化薬製）、スチレン、イソボルニルメタクリレー
ト等のモノマーまたはオリゴマーを用いることができ
る。また、感光性樹脂としては、ネガ型あるいはポジ型
のものを使用できる。

【００２９】黒色フィラーとしては、カーボンフラッ
ク、またはチタンブラック、アニリンブラック、酸化
鉄、酸化マンガン、硫化ビスマス等の顔料等を用いるこ
とができる。

【００３０】上記液晶化合物としては、常温付近で液晶
状態を示す材料であればいずれも用いることができ、従
来のＴＮモード、ＳＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電
性液晶表示モード、光散乱モード等に用いられる液晶材
料のいずれも用いることができる。例えば、カイラル剤
（Ｓ−８１１）を０．４重量％含有したＺＬＩ−４７９
２（メルク社製）等が挙げられる。

【００３１】上記混合物には、予め黒色フィラーを分散
させた光硬化性樹脂または感光性樹脂、および液晶材料
の他に光開始剤等を含んでもよい。光開始剤としては、
例えばＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー製）等を
用いることができる。

【００３２】上記マスクとしては、対向基板側に形成さ
れたカラーフィルター１１や対向電極１２を利用するこ
ともできる。

【００３３】この実施例では、以下のようにして表示媒
体を形成した。

【００３４】まず、上述のようにして貼り合わせた基板
間隙に、図２（ｂ）に示すように、光硬化性樹脂として
Ｒ−６８４（日本化薬製）０．１ｇ中にカーボンブラッ
クまたは顔料等からなる黒色フィラーを３５〜４５ｗｔ
％分散させたものと、スチレン０．０５ｇとイソボルニ
ルメタクリレート０．８５ｇとを、液晶材料としてカイ
ラル剤（Ｓ−８１１）を０．４重量％含有したＺＬＩ−
４７９２（メルク社製）４ｇを、また、光開始剤として
Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー製）０．００２
５ｇを混合した混合物１４を透明状態（約３５℃）で注
入する。

【００３５】次に、対向基板側にＴＦＴ形成側基板の絵
素電極９に光が当たらないような遮光性を有するマスク
１７をセットする。その後、同じ温度を保ちながら、平
行光線が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が１
０ｍＷ／ｃｍ²の位置で、対向基板側から１秒照射−３
０秒無照射のサイクルを２０回繰り返し、次いで１０分
間照射する。これにより光硬化性樹脂が光重合されて、
図２（ｃ）に示すように、黒色フィラーが分散された高
分子相１５と液晶相１６とに相分離される。

【００３６】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極９のドットパターンと同じ規則性（絵素
と同じ規則性）を有する液晶ドメイン１６と、ＴＦＴ１
３上を含むラインパターンの高分子相１５（遮光層）が
確認された。また、液晶ドメイン１６において、液晶分
子の配列は放射状となっていた。

【００３７】（実施例２）この実施例では、光硬化性樹
脂としてネガ型感光性樹脂を用いて表示媒体を作製し
た。

【００３８】実施例１と同様の手順で両基板を作製し、
図３（ａ）に示すように貼り合わせ、図３（ｂ）に示す
ように、基板間隙に、ネガ型感光性樹脂としてのＯＭＲ
−８３（東京応化製）０．１ｇ中にカーボンブラックま
たは顔料等からなる黒色フィラーを３５〜４５ｗｔ％分
散させたものと、スチレン０．０５ｇとイソボルニルメ
タクリレート０．８５ｇとを、液晶材料としてカイラル
剤（Ｓ−８１１）を０．４重量％含有したＺＬＩ−４７
９２（メルク社製）４ｇを、また、光開始剤としてＩｒ
ｇａｃｕｒｅ６５１（チバガイギー製）０．００２５ｇ
を混合した混合物２４を透明状態（約３５℃）で注入す
る。

【００３９】次に、対向基板側にＴＦＴ形成側基板の絵
素電極９に光が当たらないような遮光性を有するマスク
２７をセットする。その後、同じ温度を保ちながら、平
行光線が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が１
０ｍＷ／ｃｍ²の位置で、対向基板側から１秒照射−３
０秒無照射のサイクルを２０回繰り返し、次いで１０分
間照射する。これにより光硬化性樹脂が光重合されて、
図３（ｃ）に示すように、黒色フィラーが分散された高
分子相２５と液晶相２６とに相分離される。

【００４０】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極９のドットパターンと同じ規則性（絵素
と同じ規則性）を有する液晶ドメイン２６と、ＴＦＴ１
３上を含むラインパターンの高分子相２５（遮光層）が
確認された。また、液晶ドメイン２６において、液晶分
子の配列は高分子相２５の壁方向に向いた放射状となっ
ていた。

【００４１】（実施例３）この実施例では、対向基板側
にマスクを形成する代わりに、対向基板上のカラーフィ
ルターに紫外線吸収剤を混入させ、これをマスクとして
紫外線照射を行った。

【００４２】対向基板上のカラーフィルター３１に紫外
線吸収剤を混入させる以外は、実施例１と同様の手順で
ＴＦＴ形成側基板と対向側基板とを作製する。

【００４３】得られたＴＦＴ形成側基板の絵素電極９上
と、対向側基板のカラーフィルター上とに、前述の配向
膜（図示せず）を形成する。その後、対向基板上に４．
５μｍのプラスチックビーズを散布し、両基板をシール
樹脂を用いて貼り合わせて図４（ａ）に示すような液晶
セルを作製する。

【００４４】次に、図４（ｂ）に示すように、基板間隙
に、光硬化性樹脂としてＲ−６８４（日本化薬製）０．
１ｇ中にカーボンブラックまたは顔料等からなる黒色フ
ィラーを３５〜４５ｗｔ％分散させたものと、スチレン
０．０５ｇとイソボルニルメタクリレート０．８５ｇと
を、液晶材料としてカイラル剤（Ｓ−８１１）を０．４
重量％含有したＺＬＩ−４７９２（メルク社製）４ｇ
を、また、光開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（チ
バガイギー製）０．００２５ｇを混合した混合物３４を
透明状態（約３５℃）で注入する。

【００４５】その後、同じ温度を保ちながら、平行光線
が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が１０ｍＷ
／ｃｍ²の位置で、対向基板側から１秒照射−３０秒無
照射のサイクルを２０回繰り返し、次いで１０分間照射
する。この時、紫外線吸収剤が混入されたカラーフィル
ター３１がマスクとして機能し、光硬化性樹脂が光重合
されて、図４（ｃ）に示すように、黒色フィラーが分散
された高分子相３５と液晶相３６とに相分離される。

【００４６】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極９のドットパターンと同じ規則性（絵素
と同じ規則性）を有する液晶ドメイン３６と、ＴＦＴ１
３上を含むラインパターンの高分子相３５（遮光層）が
確認された。また、液晶ドメイン３６において、液晶分
子の配列は高分子相３５の壁方向に向いた放射状となっ
ていた。

【００４７】（実施例４）この実施例では、対向基板側
にマスクを形成する代わりに、ＺｎＯ等の紫外線透過率
の低い材料を用いて対向電極４２を形成し、これをマス
クとして紫外線照射を行った。

【００４８】実施例１と同様の手順で形成したＴＦＴ形
成側基板上に印刷法、電着法またはスピンコーター等に
より顔料分散型カラーフィルター４１を形成し、所定の
形状にパターニングする。

【００４９】次に、透明導電膜としてＩＴＯの代わりに
酸化亜鉛（ＺｎＯ）を用いる以外は実施例１と同様の手
順で対向側基板を作製する。この対向電極４２の紫外線
透過率は、５％以下とすることができる。

【００５０】得られたＴＦＴ形成側基板の絵素電極９上
と、対向側基板の対向電極４２上とに、前述の配向膜
（図示せず）を形成する。

【００５１】その後、対向基板上に４．５μｍのプラス
チックビーズを散布し、両基板をシール樹脂を用いて貼
り合わせて図５（ａ）に示すような液晶セルを作製す
る。

【００５２】次に、図５（ｂ）に示すように、基板間隙
に、光硬化性樹脂としてＲ−６８４（日本化薬製）０．
１ｇ中にカーボンブラックまたは顔料等からなる黒色フ
ィラーを３５〜４５ｗｔ％分散させたものと、スチレン
０．０５ｇとイソボルニルメタクリレート０．８５ｇと
を、液晶材料としてカイラル剤（Ｓ−８１１）を０．４
重量％含有したＺＬＩ−４７９２（メルク社製）４ｇ
を、また、光開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ６５１（チ
バガイギー製）０．００２５ｇを混合した混合物４４を
透明状態（約３５℃）で注入する。

【００５３】その後、同じ温度を保ちながら、平行光線
が得られる高圧水銀ランプを用いて照射強度が１０ｍＷ
／ｃｍ²の位置で、対向基板側から１秒照射−３０秒無
照射のサイクルを２０回繰り返し、次いで１０分間照射
する。この時、紫外線透過率が５％以下と低い対向電極
４２がマスクとして機能し、光硬化性樹脂が光重合され
て、図５（ｃ）に示すように、黒色フィラーが分散され
た高分子相４５と液晶相４６とに相分離される。

【００５４】得られたパネルを偏光顕微鏡で観察したと
ころ、絵素電極９のドットパターンと同じ規則性（絵素
と同じ規則性）を有する液晶ドメイン４６と、ＴＦＴ１
３上を含むラインパターンの高分子相４５（遮光層）が
確認された。また、液晶ドメイン４６において、液晶分
子の配列は高分子相４５の壁方向に向いた放射状となっ
ていた。

【００５５】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明はこれに限られず種々の変更が可能である。

【００５６】上記実施例では配向膜に球晶を形成するこ
とにより液晶分子の配列を放射状としているが、本発明
はこれに限らず、同様に配向膜に球晶を形成して液晶分
子の配列を同心円状や渦巻状にしてもよい。また、配向
膜に球晶を形成することに代えて、他の方式により液晶
分子の配列を放射状、同心円状または渦巻状にできる総
ての方式を採用できる。例えば、上述の液晶分子の配列
と同様の配列に凹凸を配向膜に形成する方式や、配向膜
の絵素部中央部に対応する位置に山状突起を形成する方
式などが採用できる。また、配向膜の下地膜に同様のも
のを形成してその形状を配向膜に伝え、結果として配向
膜に所望の形状を作製する方式を採用できることはもち
ろんである。

【００５７】また、上記実施例では絵素部に１つのドメ
インを形成するようにしているが、本発明はこれに限ら
ず、各絵素部に、液晶分子の配列が放射状、同心円状ま
たは渦巻状となったドメインを２以上有するような構成
としてもよいことはもちろんである。

【００５８】上記実施例においてはＴＦＴを用いたアク
ティブマトリクス駆動により表示が行われる液晶表示装
置について説明したが、本発明はこれに限らず、ＭＩＭ
（ＭｅｔａｌＩｎｓｕｌａｔｏｒＭｅｔａｌ）等を用
いたアクティブマトリクス駆動により表示が行われる液
晶表示装置、または単純マトリクス駆動の液晶表示装置
などにも適用できる。

【００５９】液晶材料としては、従来のＴＮモード、Ｓ
ＴＮモード、ＥＣＢモード、強誘電性液晶表示モード、
光散乱モード等の液晶表示装置に用いられる液晶材料の
いずれでも用いることができ、偏光板を形成した構成も
可能である。さらに、透過型液晶表示装置および反射型
液晶表示装置のいずれにも適用することができる。

【００６０】基板材料としては、少なくとも一対の内の
一方が透明で、絶縁表面を有する基板であればいずれも
用いることができ、ガラス基板の他にプラスチックフィ
ルム基板等を使用してもよく、基板上に絶縁膜が形成さ
れたものであってもよい。

【００６１】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
においては液晶分子が絵素部内で放射状、同心円状また
は渦巻状に配列しているので、従来の液晶表示装置にお
いて問題となっていた視角方向によるコントラストの変
化や反転現象などの表示異常が生じず、視角特性を改善
させることができる。偏光板を設ける必要が無いので光
の利用効率を高めることができ、配向膜の配向処理を行
う必要が無いので製造工程を簡便にすることができる。

【００６２】黒色フィラーを分散させた高分子相と液晶
相とを相分離させているので、遮光膜の形成コストを低
減し、スループットを向上させることができる。また、
マスクを介して光エネルギーを照射することにより、絵
素電極上に液晶ドメインを形成し、ＴＦＴ上に遮光膜を
形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の液晶表示装置を示す断面図である。

【図２】実施例１の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。

【図３】実施例２の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。

【図４】実施例３の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。

【図５】実施例４の液晶表示装置の製造工程を示す断面
図である。

【図６】絵素部内における液晶分子の配列状態を示す図
である。

【符号の説明】

１、１０絶縁性基板２半導体層３ゲート絶縁膜４ゲート電極５コンタクト層６層間絶縁膜７ソース電極８ドレイン電極９絵素電極１１、３１、４１カラーフィルター１２、４２対向電極１３ＴＦＴ素子１４、２４、３４、４４混合物１５、２５、３５、４５高分子相１６、２６、３６、４６液晶相１７、２７マスク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】各々電極が形成された一対の基板が互い
に該電極を内側にして対向配置され、該一対の基板の間
に表示媒体が狭持されていると共にマトリクス状に存在
する電極対向部が絵素部となっている液晶表示装置にお
いて、該表示媒体が該絵素部に主として液晶相を有し、かつ、
該絵素部以外の部分に高分子相を有し、該絵素部内には
液晶分子が放射状、同心円状または渦巻状に配列した少
なくとも１個のドメインが形成され、該高分子相には黒
色フィラーが分散されている液晶表示装置。
【請求項２】前記一対の基板のうち、一方の基板上に
絵素を選択的に駆動するための薄膜トランジスタ素子が
形成され、前記黒色フィラーが分散された高分子相が薄
膜トランジスタ素子上に形成されて遮光膜としても機能
している請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】各々電極が形成された一対の基板が互い
に該電極を内側にして対向配置され、該一対の基板の間
に表示媒体が狭持されていると共にマトリクス状に存在
する電極対向部が絵素部となっている液晶表示装置の製
造方法において、該一対の基板の間に、光重合性樹脂または感光性樹脂中
に少なくとも黒色フィラーを混入した材料と液晶化合物
との混合物を注入する工程と、該混合物に、マスクを介して光エネルギーを照射し、光
重合により液晶相と高分子相とを相分離させて、該絵素
部内に液晶分子が放射状、同心円状または渦巻状に配列
した少なくとも１個のドメインを有する表示媒体を得る
工程とを含む液晶表示装置の製造方法。