JPH0861510A - シール部材 - Google Patents
シール部材Info
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- JPH0861510A JPH0861510A JP6210683A JP21068394A JPH0861510A JP H0861510 A JPH0861510 A JP H0861510A JP 6210683 A JP6210683 A JP 6210683A JP 21068394 A JP21068394 A JP 21068394A JP H0861510 A JPH0861510 A JP H0861510A
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Landscapes
- Sealing Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シール部材１０の耐ガス透過性を向上させ
て、エラストマ１１中のガス透過によるガス漏洩を低減
させる。 【構成】 対向する二部材間に圧縮状態に介在される環
状エラストマ１１の内部に、密封対象ガスＧの透過を遮
断するガス遮蔽層１２を、密封対象ガスＧの漏洩方向に
対して交差した状態に設ける。
て、エラストマ１１中のガス透過によるガス漏洩を低減
させる。 【構成】 対向する二部材間に圧縮状態に介在される環
状エラストマ１１の内部に、密封対象ガスＧの透過を遮
断するガス遮蔽層１２を、密封対象ガスＧの漏洩方向に
対して交差した状態に設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガスを密封対象とする
シール部材であって、例えばピストン型アキュムレータ
のピストン外周部に圧縮状態で装着されるものに関す
る。
シール部材であって、例えばピストン型アキュムレータ
のピストン外周部に圧縮状態で装着されるものに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】図４に一部を示すピストン型アキュムレ
ータにおいて、筒状シェル１と、その内周に軸方向移動
自在に配置されて前記筒状シェル１の内周空間をガスＧ
が封入されたガス室２及び外部の液圧が導入される液室
３に区画するピストン４との間には、例えばＯリング等
のシール部材５が介在されている。この種のシール部材
５は、従来、典型的には環状に成形された例えばニトリ
ルゴム（ＮＢＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）あるいはエチ
レン・プロピレンゴム（ＥＰＤＭ）等のエラストマ単体
からなるものであって、可動側であるピストン４の外周
面に形成された溝４ａ内に保持され、静止側である筒状
シェル１の内周面との間で径方向に適宜圧縮された状態
に介在されることによって所要の密封機能が与えられて
いる。
ータにおいて、筒状シェル１と、その内周に軸方向移動
自在に配置されて前記筒状シェル１の内周空間をガスＧ
が封入されたガス室２及び外部の液圧が導入される液室
３に区画するピストン４との間には、例えばＯリング等
のシール部材５が介在されている。この種のシール部材
５は、従来、典型的には環状に成形された例えばニトリ
ルゴム（ＮＢＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）あるいはエチ
レン・プロピレンゴム（ＥＰＤＭ）等のエラストマ単体
からなるものであって、可動側であるピストン４の外周
面に形成された溝４ａ内に保持され、静止側である筒状
シェル１の内周面との間で径方向に適宜圧縮された状態
に介在されることによって所要の密封機能が与えられて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のシール部材
５においては、そのエラストマ材料中をガスＧが透過す
ることによって、僅かではあるが、経時的なガス漏れが
発生するという問題が指摘されている。図５は、温度９
０℃、ガス圧力１００ kgf／cm2 の条件で、ピストン４
の停止状態でのガス漏洩試験を行った結果を示すもの
で、漏洩量は、各エラストマ材料の標準条件でのガス透
過量であるガス透過係数に比例すると考えられる。ま
た、特に上述のピストン型アキュムレータのように封入
ガス圧を利用した装置の場合には、このようなガス漏洩
によって性能の経時変化を来すことから、シール部材５
における耐ガス透過性の向上が要求される。
５においては、そのエラストマ材料中をガスＧが透過す
ることによって、僅かではあるが、経時的なガス漏れが
発生するという問題が指摘されている。図５は、温度９
０℃、ガス圧力１００ kgf／cm2 の条件で、ピストン４
の停止状態でのガス漏洩試験を行った結果を示すもの
で、漏洩量は、各エラストマ材料の標準条件でのガス透
過量であるガス透過係数に比例すると考えられる。ま
た、特に上述のピストン型アキュムレータのように封入
ガス圧を利用した装置の場合には、このようなガス漏洩
によって性能の経時変化を来すことから、シール部材５
における耐ガス透過性の向上が要求される。
【０００４】本発明は、上記のような事情のもとになさ
れたもので、その技術的課題とするところは、シール部
材の耐ガス透過性を向上させて、シール部材中をガスが
透過することによるガス漏洩を防止させることにある。
れたもので、その技術的課題とするところは、シール部
材の耐ガス透過性を向上させて、シール部材中をガスが
透過することによるガス漏洩を防止させることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述した技術的課題は、
本発明によって有効に解決することができる。すなわち
本発明に係るシール部材は、互いに対向する二部材間に
圧縮状態に介在される環状エラストマの内部に、密封対
象ガスの漏洩方向に対して交差した状態でガス遮蔽層が
埋設又は挟設されたものである。また、本発明において
一層好ましくは、前記ガス遮蔽層が前記環状エラストマ
の圧縮方向に対して傾斜した状態に形成される。
本発明によって有効に解決することができる。すなわち
本発明に係るシール部材は、互いに対向する二部材間に
圧縮状態に介在される環状エラストマの内部に、密封対
象ガスの漏洩方向に対して交差した状態でガス遮蔽層が
埋設又は挟設されたものである。また、本発明において
一層好ましくは、前記ガス遮蔽層が前記環状エラストマ
の圧縮方向に対して傾斜した状態に形成される。
【０００６】
【作用】環状エラストマの内部に存在するガス遮蔽層
は、密封対象ガスの透過を遮断するものであって、前記
密封対象ガスの漏洩方向に対して交差するように形成さ
れているため、シール部材におけるガス透過面積が減少
する。このため、高圧のガス雰囲気側から環状エラスト
マ中に浸透した密封対象ガスが、その反対側へ透過する
のを有効に防止することができる。この場合、ガス遮蔽
層を、環状エラストマの圧縮方向に対して傾斜した形状
とすれば、当該シール部材の装着状態において環状エラ
ストマが圧縮されるのに伴う剪断力によって、ガス遮蔽
層が屈曲変形を受けたり破断されるのを防止することが
できる。
は、密封対象ガスの透過を遮断するものであって、前記
密封対象ガスの漏洩方向に対して交差するように形成さ
れているため、シール部材におけるガス透過面積が減少
する。このため、高圧のガス雰囲気側から環状エラスト
マ中に浸透した密封対象ガスが、その反対側へ透過する
のを有効に防止することができる。この場合、ガス遮蔽
層を、環状エラストマの圧縮方向に対して傾斜した形状
とすれば、当該シール部材の装着状態において環状エラ
ストマが圧縮されるのに伴う剪断力によって、ガス遮蔽
層が屈曲変形を受けたり破断されるのを防止することが
できる。
【０００７】
【実施例】図１は、本発明に係るシール部材の第一実施
例を示すものである。この実施例のシール部材１０は、
無荷重状態（未装着状態）において、軸心Ｏを通る平面
で切断した断面（以下、単に断面という）が円形を呈す
る環状エラストマ１１の内部に、ガスの透過を遮断する
合成樹脂膜又は金属箔からなり、円周方向に連続した可
撓膜体であるガス遮蔽層１２が埋設されたものである。
すなわちこのシール部材１０の外観は、通常のＯリング
状を呈するものであって、ガス遮蔽層１２として用いら
れる合成樹脂膜は、例えばポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）あるいはポ
リ塩化ビニリデン（ＰＵｄＣ）等が好適であり、金属箔
を用いる場合は、例えばアルミニウム、銅あるいは鉄か
らなるものが好適である。また、このガス遮蔽層１２
は、環状エラストマ１１の円形断面をその直径方向に延
び、幅方向両端１２ａ，１２ｂが前記環状エラストマ１
１の表面近傍に達している。
例を示すものである。この実施例のシール部材１０は、
無荷重状態（未装着状態）において、軸心Ｏを通る平面
で切断した断面（以下、単に断面という）が円形を呈す
る環状エラストマ１１の内部に、ガスの透過を遮断する
合成樹脂膜又は金属箔からなり、円周方向に連続した可
撓膜体であるガス遮蔽層１２が埋設されたものである。
すなわちこのシール部材１０の外観は、通常のＯリング
状を呈するものであって、ガス遮蔽層１２として用いら
れる合成樹脂膜は、例えばポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）あるいはポ
リ塩化ビニリデン（ＰＵｄＣ）等が好適であり、金属箔
を用いる場合は、例えばアルミニウム、銅あるいは鉄か
らなるものが好適である。また、このガス遮蔽層１２
は、環状エラストマ１１の円形断面をその直径方向に延
び、幅方向両端１２ａ，１２ｂが前記環状エラストマ１
１の表面近傍に達している。
【０００８】上述のシール部材１０は、図２に示すよう
に、例えばピストン型アキュムレータのピストン４の外
周面に形成された溝４ａの溝底部と、筒状シェル１の内
周面との間で径方向に適宜圧縮された状態に装着され、
ガスＧが封入されたガス室２を密封するものである。ガ
ス遮蔽層１２は、図１に示す未装着状態において、密封
対象ガスＧの漏洩方向すなわち軸心Ｏと平行な方向に対
して角度θで交差した状態にあり、図２に示す圧縮装着
状態において角度θ1 となるように形成されている。
に、例えばピストン型アキュムレータのピストン４の外
周面に形成された溝４ａの溝底部と、筒状シェル１の内
周面との間で径方向に適宜圧縮された状態に装着され、
ガスＧが封入されたガス室２を密封するものである。ガ
ス遮蔽層１２は、図１に示す未装着状態において、密封
対象ガスＧの漏洩方向すなわち軸心Ｏと平行な方向に対
して角度θで交差した状態にあり、図２に示す圧縮装着
状態において角度θ1 となるように形成されている。
【０００９】ガス遮蔽層１２によるガス遮蔽面積Ｓ（ガ
ス遮蔽層１２の軸方向投影面積）はθ＝９０°の時に最
大となるが、この場合は、ピストン４の溝４ａの溝底部
と、これに径方向に対向する筒状シェル１の内周面との
間で圧縮状態に装着された時に、ガス遮蔽層１２が径方
向に大きな変形を受けてしまうことから、ガス遮蔽層１
２は圧縮方向すなわち径方向に対して適宜傾斜した形状
とし、好ましくはθを８５°以下とする。また、ガス遮
蔽層１２の角度θが小さいほどシール部材１０の軸方向
投影面積Ｓ0 に対するガス透過面積（Ｓ0 −Ｓ）の面積
比が大きくなってしまうことから、θは、前記面積比が
５０％以下となる３０°以上、好ましくは前記面積比が
１４％以下となる６０°以上とする。したがって、θの
大きさは３０°≦θ＜８５°、好ましくは６０°≦θ≦
８５°に設定される。
ス遮蔽層１２の軸方向投影面積）はθ＝９０°の時に最
大となるが、この場合は、ピストン４の溝４ａの溝底部
と、これに径方向に対向する筒状シェル１の内周面との
間で圧縮状態に装着された時に、ガス遮蔽層１２が径方
向に大きな変形を受けてしまうことから、ガス遮蔽層１
２は圧縮方向すなわち径方向に対して適宜傾斜した形状
とし、好ましくはθを８５°以下とする。また、ガス遮
蔽層１２の角度θが小さいほどシール部材１０の軸方向
投影面積Ｓ0 に対するガス透過面積（Ｓ0 −Ｓ）の面積
比が大きくなってしまうことから、θは、前記面積比が
５０％以下となる３０°以上、好ましくは前記面積比が
１４％以下となる６０°以上とする。したがって、θの
大きさは３０°≦θ＜８５°、好ましくは６０°≦θ≦
８５°に設定される。
【００１０】したがって、この実施例によれば、シール
部材１０中におけるガス透過面積が小さくなるので、ガ
ス室２から環状エラストマ１１中に浸透した密封対象ガ
スＧが液室３側へ透過することによって漏れるのを有効
に抑えることができる。またこのため、ガス室２内の封
入ガス量の減少によるアキュムレータの性能の経時変化
が有効に防止される。
部材１０中におけるガス透過面積が小さくなるので、ガ
ス室２から環状エラストマ１１中に浸透した密封対象ガ
スＧが液室３側へ透過することによって漏れるのを有効
に抑えることができる。またこのため、ガス室２内の封
入ガス量の減少によるアキュムレータの性能の経時変化
が有効に防止される。
【００１１】図３は、本発明に係るシール部材１０の他
の実施例を未装着状態で示すもので、このうち（ａ）〜
（ｄ）は、図１の第一実施例と同様、シール部材１０が
Ｏリング状の外観を呈するものである。なお、図３に示
す各実施例は、いずれも図の上方が密封対象ガス側とな
るように装着される。
の実施例を未装着状態で示すもので、このうち（ａ）〜
（ｄ）は、図１の第一実施例と同様、シール部材１０が
Ｏリング状の外観を呈するものである。なお、図３に示
す各実施例は、いずれも図の上方が密封対象ガス側とな
るように装着される。
【００１２】まず図３（ａ）は、合成樹脂膜又は金属箔
からなる円周方向に連続した可撓膜体であるガス遮蔽層
１２の両面に、断面半円状の環状エラストマ１１が一体
接着されたものであって、前記ガス遮蔽層１２は、図１
の第一実施例と同様、軸心Ｏと平行な方向に対して角度
θで交差した形状をなしており、また、その幅方向両端
１２ａ，１２ｂが環状エラストマ１１の表面に露出して
いる。図３（ｂ）は、ガス遮蔽層１２の断面形状を、そ
の幅方向両端１２ａ，１２ｂが略軸方向における互いに
背反する方向へ屈曲してなる略Ｓ字形としたものであ
り、図３（ｃ）は、ガス遮蔽層１２の断面形状を、密封
対象ガス側（図中上側）に対して凹となる湾曲形状とし
たものであり、図３（ｄ）は、ガス遮蔽層１２の断面形
状を、密封対象ガス側（図中上側）に対して凹となる略
「く」字形としたものである。
からなる円周方向に連続した可撓膜体であるガス遮蔽層
１２の両面に、断面半円状の環状エラストマ１１が一体
接着されたものであって、前記ガス遮蔽層１２は、図１
の第一実施例と同様、軸心Ｏと平行な方向に対して角度
θで交差した形状をなしており、また、その幅方向両端
１２ａ，１２ｂが環状エラストマ１１の表面に露出して
いる。図３（ｂ）は、ガス遮蔽層１２の断面形状を、そ
の幅方向両端１２ａ，１２ｂが略軸方向における互いに
背反する方向へ屈曲してなる略Ｓ字形としたものであ
り、図３（ｃ）は、ガス遮蔽層１２の断面形状を、密封
対象ガス側（図中上側）に対して凹となる湾曲形状とし
たものであり、図３（ｄ）は、ガス遮蔽層１２の断面形
状を、密封対象ガス側（図中上側）に対して凹となる略
「く」字形としたものである。
【００１３】また、図３（ｅ）〜（ｇ）は、外観がＯリ
ング以外の形状を呈するシール部材１０について、本発
明を実施したものである。
ング以外の形状を呈するシール部材１０について、本発
明を実施したものである。
【００１４】すなわち図３（ｅ）は、環状エラストマ１
１の断面形状が、外周面１１ａが半円弧状の凸形状をな
すと共に内周面１１ｂが軸心Ｏと平行な方向に延びる略
Ｄ字形であって、この環状エラストマ１１の内部に、ガ
ス遮蔽層１２が軸心Ｏと平行な方向に対して角度θで交
差した状態に埋設されたものであり、図３（ｆ）は、環
状エラストマ１１の断面形状が、外周面１１ａが軸心Ｏ
と平行な方向に延びると共に内周面１１ｂが半円弧状の
凸形状を呈するものであって、すなわち図３（ｅ）と逆
のＤ字形断面を呈する環状エラストマ１１の内部に、ガ
ス遮蔽層１２が軸心Ｏに対して角度θで交差した状態に
埋設されたものであり、更に図３（ｇ）は、断面形状が
略正方形を呈する環状エラストマ１１の内部に、ガス遮
蔽層１２が軸心Ｏに対して角度θで交差した状態に埋設
されたものである。
１の断面形状が、外周面１１ａが半円弧状の凸形状をな
すと共に内周面１１ｂが軸心Ｏと平行な方向に延びる略
Ｄ字形であって、この環状エラストマ１１の内部に、ガ
ス遮蔽層１２が軸心Ｏと平行な方向に対して角度θで交
差した状態に埋設されたものであり、図３（ｆ）は、環
状エラストマ１１の断面形状が、外周面１１ａが軸心Ｏ
と平行な方向に延びると共に内周面１１ｂが半円弧状の
凸形状を呈するものであって、すなわち図３（ｅ）と逆
のＤ字形断面を呈する環状エラストマ１１の内部に、ガ
ス遮蔽層１２が軸心Ｏに対して角度θで交差した状態に
埋設されたものであり、更に図３（ｇ）は、断面形状が
略正方形を呈する環状エラストマ１１の内部に、ガス遮
蔽層１２が軸心Ｏに対して角度θで交差した状態に埋設
されたものである。
【００１５】なお、本発明のシール部材１０は、ピスト
ン型アキュムレータ用の密封手段に限定されるものでは
なく、また、図示の各実施例以外にも、例えば図３
（ｅ）〜（ｇ）における各ガス遮蔽層１２を、図３
（ａ）〜（ｄ）に示す形状とすることなど、種々の変更
が可能である。また、シール部材１０が互いに軸方向に
対向する部材間に装着されるものである場合は、密封対
象ガスの漏洩方向は径方向となるから、この場合は、ガ
ス遮蔽層１２が、径方向に対して角度θで交差した状態
で環状エラストマ１１内に設けられる。
ン型アキュムレータ用の密封手段に限定されるものでは
なく、また、図示の各実施例以外にも、例えば図３
（ｅ）〜（ｇ）における各ガス遮蔽層１２を、図３
（ａ）〜（ｄ）に示す形状とすることなど、種々の変更
が可能である。また、シール部材１０が互いに軸方向に
対向する部材間に装着されるものである場合は、密封対
象ガスの漏洩方向は径方向となるから、この場合は、ガ
ス遮蔽層１２が、径方向に対して角度θで交差した状態
で環状エラストマ１１内に設けられる。
【００１６】
【発明の効果】本発明のシール部材によると、環状エラ
ストマの内部に設けられたガス遮蔽層が、環状エラスト
マに浸透した密封対象ガスの透過を遮断し、環状エラス
トマにおけるガス透過面積を減少させるため、シール部
材のガス透過による経時的なガス漏れを有効に防止して
密封性能の向上を図ることができる。
ストマの内部に設けられたガス遮蔽層が、環状エラスト
マに浸透した密封対象ガスの透過を遮断し、環状エラス
トマにおけるガス透過面積を減少させるため、シール部
材のガス透過による経時的なガス漏れを有効に防止して
密封性能の向上を図ることができる。
【図１】本発明に係るシール部材の第一実施例を、軸心
を通る平面で切断して示す未装着状態の半断面図であ
る。
を通る平面で切断して示す未装着状態の半断面図であ
る。
【図２】上記実施例を、軸心を通る平面で切断して示す
装着状態の半断面図である。
装着状態の半断面図である。
【図３】本発明に係るシール部材の他の複数の実施例
を、軸心を通る平面で切断して示す未装着状態の半断面
図である。
を、軸心を通る平面で切断して示す未装着状態の半断面
図である。
【図４】従来のシール部材の一例を、軸心を通る平面で
切断して示す装着状態の半断面図である。
切断して示す装着状態の半断面図である。
【図５】上記従来例についてガス漏洩試験を行った結果
を示す説明図である。
を示す説明図である。
１ 筒状シェル ２ ガス室 ３ 液室 ４ ピストン ４ａ 溝 １０ シール部材 １１ 環状エラストマ １１ａ 外周面 １１ｂ 内周面 １２ ガス遮蔽層 １２ａ，１２ｂ 幅方向両端 Ｇ 密封対象ガス
Claims (2)
- 【請求項１】 互いに対向する二部材間に圧縮状態に介
在される環状エラストマ（１１）と、 この環状エラストマ（１１）の内部に密封対象ガス
（Ｇ）の漏洩方向に対して交差した状態に埋設又は挟設
されたガス遮蔽層（１２）と、からなることを特徴とす
るシール部材。 - 【請求項２】 請求項１の記載において、 前記ガス遮蔽層（１２）が、前記環状エラストマ（１
１）の圧縮方向に対して傾斜してなることを特徴とする
シール部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6210683A JPH0861510A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | シール部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6210683A JPH0861510A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | シール部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0861510A true JPH0861510A (ja) | 1996-03-08 |
Family
ID=16593385
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6210683A Pending JPH0861510A (ja) | 1994-08-12 | 1994-08-12 | シール部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0861510A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008298225A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Kayaba Ind Co Ltd | 流体圧機器 |
| CN105065670A (zh) * | 2015-07-29 | 2015-11-18 | 平湖阿莱德实业有限公司 | 无伸缩高精度装配弹性屏蔽密封条 |
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1994
- 1994-08-12 JP JP6210683A patent/JPH0861510A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008298225A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Kayaba Ind Co Ltd | 流体圧機器 |
| CN105065670A (zh) * | 2015-07-29 | 2015-11-18 | 平湖阿莱德实业有限公司 | 无伸缩高精度装配弹性屏蔽密封条 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020213 |