JPH086412A - 加熱装置および画像形成装置 - Google Patents
加熱装置および画像形成装置Info
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- JPH086412A JPH086412A JP6160673A JP16067394A JPH086412A JP H086412 A JPH086412 A JP H086412A JP 6160673 A JP6160673 A JP 6160673A JP 16067394 A JP16067394 A JP 16067394A JP H086412 A JPH086412 A JP H086412A
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- heating
- layer
- film
- heating element
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2064—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat combined with pressure
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- Control Of Resistance Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フィルム加熱方式の加熱装置について、加熱
体の抵抗ばらつきを、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を
与えず、また歩留りを保ったまま、少なくすること。 【構成】 加熱体1は基板2上に通電により発熱する抵
抗発熱体層3を有し、基板2に対する該抵抗発熱体層3
および被加熱材の通紙域外に抵抗調整領域である抵抗層
30の形成後、該抵抗調整域である抵抗層30の一部3
2を消滅させたこと。
体の抵抗ばらつきを、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を
与えず、また歩留りを保ったまま、少なくすること。 【構成】 加熱体1は基板2上に通電により発熱する抵
抗発熱体層3を有し、基板2に対する該抵抗発熱体層3
および被加熱材の通紙域外に抵抗調整領域である抵抗層
30の形成後、該抵抗調整域である抵抗層30の一部3
2を消滅させたこと。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、固定支持された加熱体
に耐熱性のフィルムを接触摺動させ、該フィルムの加熱
体側とは反対側の面に被加熱材を密着させて該フィルム
と共に加熱体位置を移動通過させて加熱体からフィルム
を介して被加熱材に熱エネルギーを付与する、フィルム
加熱方式の加熱装置に関する。また該加熱装置を画像加
熱定着装置として備えた画像形成装置に関する。
に耐熱性のフィルムを接触摺動させ、該フィルムの加熱
体側とは反対側の面に被加熱材を密着させて該フィルム
と共に加熱体位置を移動通過させて加熱体からフィルム
を介して被加熱材に熱エネルギーを付与する、フィルム
加熱方式の加熱装置に関する。また該加熱装置を画像加
熱定着装置として備えた画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】上記のようなフィルム加熱方式の加熱装
置は本出願人の先の提案に係る特開昭63−31318
2号公報等で知られており、電子写真複写機・プリンタ
・ファックス等の画像形成装置における画像加熱定着装
置、すなわち電子写真・静電記録・磁気記録等の画像形
成プロセス手段により加熱溶融性の樹脂等より成る顕画
剤(トナー)を用いて被記録材(エレクトロファックス
シート・静電記録シート・転写材シート・印刷紙など)
の面に直接方式もしくは間接(転写)方式で形成した、
目的の画像情報に対応した未定着顕画剤画像(トナー
像)を該画像を担持している記録材に固着画像として加
熱定着処理する画像加熱定着装置として活用できる。
置は本出願人の先の提案に係る特開昭63−31318
2号公報等で知られており、電子写真複写機・プリンタ
・ファックス等の画像形成装置における画像加熱定着装
置、すなわち電子写真・静電記録・磁気記録等の画像形
成プロセス手段により加熱溶融性の樹脂等より成る顕画
剤(トナー)を用いて被記録材(エレクトロファックス
シート・静電記録シート・転写材シート・印刷紙など)
の面に直接方式もしくは間接(転写)方式で形成した、
目的の画像情報に対応した未定着顕画剤画像(トナー
像)を該画像を担持している記録材に固着画像として加
熱定着処理する画像加熱定着装置として活用できる。
【0003】また、例えば、画像を担持した被記録材を
加熱してつや等の表面性を改質する装置や仮定着処理す
る装置等として使用できる。
加熱してつや等の表面性を改質する装置や仮定着処理す
る装置等として使用できる。
【0004】より具体的には、薄肉の耐熱性フィルム
(シート)と、該フィルムの移動駆動手段と、該フィル
ムを中にしてその一方面側に固定支持して配置された加
熱体(ヒータ)と、他方面側に該加熱体に対向して配置
され該加熱体に対して該フィルムを介して画像定着する
べき被記録材の顕画剤像担持面を密着させる加圧部材を
有し、該フィルムは少なくとも画像定着実行時は該フィ
ルムと加圧部材との間に搬送導入される画像定着すべき
記録材と順方向に同一速度で走行移動させて該走行移動
フィルムを挟んで加熱体と加圧部材との圧接で形成され
る定着部としての定着ニップ部を通過させることにより
該被記録材の顕画剤像担持面を該フィルムを介して該加
熱体で加熱して顕画剤像(未定着トナー像)に熱エネル
ギーを付与して軟化・溶融せしめ、次いで定着部通過後
のフィルムと記録材を分離点で離間させることを基本と
するフィルム加熱方式の画像加熱定着装置である。
(シート)と、該フィルムの移動駆動手段と、該フィル
ムを中にしてその一方面側に固定支持して配置された加
熱体(ヒータ)と、他方面側に該加熱体に対向して配置
され該加熱体に対して該フィルムを介して画像定着する
べき被記録材の顕画剤像担持面を密着させる加圧部材を
有し、該フィルムは少なくとも画像定着実行時は該フィ
ルムと加圧部材との間に搬送導入される画像定着すべき
記録材と順方向に同一速度で走行移動させて該走行移動
フィルムを挟んで加熱体と加圧部材との圧接で形成され
る定着部としての定着ニップ部を通過させることにより
該被記録材の顕画剤像担持面を該フィルムを介して該加
熱体で加熱して顕画剤像(未定着トナー像)に熱エネル
ギーを付与して軟化・溶融せしめ、次いで定着部通過後
のフィルムと記録材を分離点で離間させることを基本と
するフィルム加熱方式の画像加熱定着装置である。
【0005】フィルムはエンドレスタイプにして回動搬
送させて繰り返して使用する装置構成とすることもでき
るし、有端のロール巻フィルムを繰り出し走行させて使
用する装置構成とすることもできる。加圧部材を回転駆
動させてフィルムの移動駆動手段とすることもできる。
送させて繰り返して使用する装置構成とすることもでき
るし、有端のロール巻フィルムを繰り出し走行させて使
用する装置構成とすることもできる。加圧部材を回転駆
動させてフィルムの移動駆動手段とすることもできる。
【0006】図9にそのような装置の要部の拡大横断面
模型図を示した。本例の装置は、加熱体と、該加熱体を
保持させたフィルムガイド部材の外側に円筒状の耐熱性
フィルムをルーズに外嵌し、加熱体に対してフィルムを
加圧ローラで圧接させ、該加圧ローラを回転駆動させる
ことによりフィルムの内面を加熱体面に密着摺動させな
がら回転駆動する、テンションレスタイプ・加圧ローラ
駆動式のフィルム加熱方式の加熱装置である。図10は
加熱体の途中省略・一部切欠き平面図である。
模型図を示した。本例の装置は、加熱体と、該加熱体を
保持させたフィルムガイド部材の外側に円筒状の耐熱性
フィルムをルーズに外嵌し、加熱体に対してフィルムを
加圧ローラで圧接させ、該加圧ローラを回転駆動させる
ことによりフィルムの内面を加熱体面に密着摺動させな
がら回転駆動する、テンションレスタイプ・加圧ローラ
駆動式のフィルム加熱方式の加熱装置である。図10は
加熱体の途中省略・一部切欠き平面図である。
【0007】1は加熱体であり、耐熱性・電気絶縁性・
低熱容量のヒータ基板(セラミック基板)2と、この基
板2の一方面に面長手に沿って具備させた抵抗発熱体層
(通電発熱体層)3と、基板2の抵抗発熱体層形成面を
被覆(コート)させた表面保護層としてのガラス層4等
からなる。
低熱容量のヒータ基板(セラミック基板)2と、この基
板2の一方面に面長手に沿って具備させた抵抗発熱体層
(通電発熱体層)3と、基板2の抵抗発熱体層形成面を
被覆(コート)させた表面保護層としてのガラス層4等
からなる。
【0008】該加熱体1のガラス層4面側がフィルム接
触摺動面であり、このガラス層4面側を外部露呈させて
加熱体1を断熱性のフィルムガイド部材(加熱体ホル
ダ)7の下面に支持させてあり、フィルムガイド部材7
は装置本体の不図示の不動部材に固定支持させてある。
触摺動面であり、このガラス層4面側を外部露呈させて
加熱体1を断熱性のフィルムガイド部材(加熱体ホル
ダ)7の下面に支持させてあり、フィルムガイド部材7
は装置本体の不図示の不動部材に固定支持させてある。
【0009】加熱体1は抵抗発熱体層3の長手方向両端
部の端末電極層(導電層)3a・3c間に通電回路8
(図10)にて電圧印加がなされ抵抗発熱体3が発熱す
ることで昇温する。
部の端末電極層(導電層)3a・3c間に通電回路8
(図10)にて電圧印加がなされ抵抗発熱体3が発熱す
ることで昇温する。
【0010】5は加熱体1のヒータ基板2の背面に接触
させて設けたサーミスタ等の温度検知素子であり、その
検知温度情報が通電回路8の加熱体温調系に入力されて
抵抗発熱体層3への通電が制御され、加熱体温度が所定
の温度に温調される。
させて設けたサーミスタ等の温度検知素子であり、その
検知温度情報が通電回路8の加熱体温調系に入力されて
抵抗発熱体層3への通電が制御され、加熱体温度が所定
の温度に温調される。
【0011】6はサーマルプロテクターとしての安全ヒ
ューズ(温度ヒューズ)であり、抵抗発熱体層3に対す
る通電路に直列に接続して加熱体1のヒータ基板2の背
面に接触させて設けてある。加熱体1が所定以上に過昇
温したとき溶断して抵抗発熱体層3への通電を断つ働き
をする。
ューズ(温度ヒューズ)であり、抵抗発熱体層3に対す
る通電路に直列に接続して加熱体1のヒータ基板2の背
面に接触させて設けてある。加熱体1が所定以上に過昇
温したとき溶断して抵抗発熱体層3への通電を断つ働き
をする。
【0012】9は厚さ40μm程度のポリイミド等の耐
熱性の円筒状フィルムである。この円筒状フィルム9を
加熱体1を保持させたフィルムガイド部材7の外側にル
ーズに外嵌させてある。
熱性の円筒状フィルムである。この円筒状フィルム9を
加熱体1を保持させたフィルムガイド部材7の外側にル
ーズに外嵌させてある。
【0013】10は該フィルム9を加熱体1のフィルム
接触摺動面であるガラス層4面に押圧する加圧部材とし
ての回転加圧ローラである。フィルム9は該加圧ローラ
10により加熱体1に押圧され、加圧ローラ10の回転
駆動力により矢示の方向に所定の速度で加熱体1面に接
触摺動しながら回転移動する。
接触摺動面であるガラス層4面に押圧する加圧部材とし
ての回転加圧ローラである。フィルム9は該加圧ローラ
10により加熱体1に押圧され、加圧ローラ10の回転
駆動力により矢示の方向に所定の速度で加熱体1面に接
触摺動しながら回転移動する。
【0014】抵抗発熱体層3に対する通電により加熱体
1を所定温度に昇温させ、フィルム9を加熱体1に摺動
移動させた状態において、フィルム9と加圧ローラ10
との圧接ニップ部(定着ニップ部)Nに被加熱材として
の被記録材Pを導入することで、被記録材Pがフィルム
9面に密着してフィルム9と共に圧接ニップ部N(加熱
体位置)を移動通過し、その移動通過過程で加熱体1か
らフィルム9を介して被記録材Pに熱エネルギーが付与
されて被記録材P上の未定着トナー画像Tが加熱溶融定
着される。
1を所定温度に昇温させ、フィルム9を加熱体1に摺動
移動させた状態において、フィルム9と加圧ローラ10
との圧接ニップ部(定着ニップ部)Nに被加熱材として
の被記録材Pを導入することで、被記録材Pがフィルム
9面に密着してフィルム9と共に圧接ニップ部N(加熱
体位置)を移動通過し、その移動通過過程で加熱体1か
らフィルム9を介して被記録材Pに熱エネルギーが付与
されて被記録材P上の未定着トナー画像Tが加熱溶融定
着される。
【0015】従来、画像加熱定着装置としては熱ローラ
方式が一般的に用いられていた。これは、金属製のロー
ラの内部にヒータを備えた定着ローラと、弾性を持つ加
圧ローラからなり、この一対のローラによりできる定着
ニップ部に被記録材を導入通過させることによりトナー
像を加熱・加圧して定着させる。
方式が一般的に用いられていた。これは、金属製のロー
ラの内部にヒータを備えた定着ローラと、弾性を持つ加
圧ローラからなり、この一対のローラによりできる定着
ニップ部に被記録材を導入通過させることによりトナー
像を加熱・加圧して定着させる。
【0016】しかし、このような熱ローラ方式の画像加
熱定着装置は、ローラの熱容量が大きいためローラが所
定の定着温度に達するのに時間(立上り時間、ウオーム
アップ時間、ウエイトタイム)がかかり、また素早く使
用するためには、機械を使用していないときにもある程
度の温度に温調していなければならない。これは熱板方
式・オーブン定着方式等の他の加熱式の定着装置につい
ても同様である。
熱定着装置は、ローラの熱容量が大きいためローラが所
定の定着温度に達するのに時間(立上り時間、ウオーム
アップ時間、ウエイトタイム)がかかり、また素早く使
用するためには、機械を使用していないときにもある程
度の温度に温調していなければならない。これは熱板方
式・オーブン定着方式等の他の加熱式の定着装置につい
ても同様である。
【0017】これに対して、前記のようなフィルム加熱
方式の装置においては、加熱体1として低熱容量ヒータ
を用いることができるため、従来の熱ローラ方式等の装
置に比べウエイトタイム短縮化(クイックスタート性)
が可能となり、またクイックスタートが可能となるため
使用していないときの予熱が必要なくなり総合的な意味
での省電力化もはかれる、その他、他の方式装置の種々
の欠点を解決できるなどの利点を有し、効果的なもので
ある。
方式の装置においては、加熱体1として低熱容量ヒータ
を用いることができるため、従来の熱ローラ方式等の装
置に比べウエイトタイム短縮化(クイックスタート性)
が可能となり、またクイックスタートが可能となるため
使用していないときの予熱が必要なくなり総合的な意味
での省電力化もはかれる、その他、他の方式装置の種々
の欠点を解決できるなどの利点を有し、効果的なもので
ある。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】このようなフィルム加
熱方式の加熱装置についての問題点として下記のような
事項が挙げられる。
熱方式の加熱装置についての問題点として下記のような
事項が挙げられる。
【0019】加熱体1は通常次のようなプロセスで作ら
れる。
れる。
【0020】.ヒータ基板としてのセラミック基板2
上にスクリーン印刷により抵抗発熱体層3及び端末電極
層3a・3cを厚さ10μm程でパターン印刷する。イ
ンクとしては導電微粒粉とガラスフリット及びエチルセ
ルロース等の有機バインダーと溶剤を混ぜた通常「厚膜
ペースト」と呼ばれるものを使用する。
上にスクリーン印刷により抵抗発熱体層3及び端末電極
層3a・3cを厚さ10μm程でパターン印刷する。イ
ンクとしては導電微粒粉とガラスフリット及びエチルセ
ルロース等の有機バインダーと溶剤を混ぜた通常「厚膜
ペースト」と呼ばれるものを使用する。
【0021】.上記の印刷済みの基板2を600℃以
上の高温で焼成して抵抗発熱体層3及び端末電極層3a
・3cを焼付ける。
上の高温で焼成して抵抗発熱体層3及び端末電極層3a
・3cを焼付ける。
【0022】.冷却後、基板2の抵抗発熱体層3を覆
わせてガラスペーストを印刷付着させ、高温で焼成して
表面保護層としてのガラス層4を形成する。
わせてガラスペーストを印刷付着させ、高温で焼成して
表面保護層としてのガラス層4を形成する。
【0023】.これに温度検知素子5・安全ヒューズ
6等を組付けて加熱体1を完成させるものである。
6等を組付けて加熱体1を完成させるものである。
【0024】しかし出来上がった加熱体1個々の抵抗発
熱体層3の抵抗値は、該層3の厚さ、インクのロット、
焼成条件等により実際上大きくばらつく。
熱体層3の抵抗値は、該層3の厚さ、インクのロット、
焼成条件等により実際上大きくばらつく。
【0025】抵抗値が小さく発熱量の大きいときは加熱
体温度のオーバーシュート、リップルが大きくなり、逆
に抵抗値が大きく発熱量の小さいときには加熱体が所定
の温度に達するのに時間がかかる。
体温度のオーバーシュート、リップルが大きくなり、逆
に抵抗値が大きく発熱量の小さいときには加熱体が所定
の温度に達するのに時間がかかる。
【0026】このような加熱体個々間の特性のばらつき
を防止するために加熱体を選別して抵抗値ばらつきを少
なくするようにすると、製作加熱体の歩留りが低くなる
ことでコストが高くなるという問題点があった。
を防止するために加熱体を選別して抵抗値ばらつきを少
なくするようにすると、製作加熱体の歩留りが低くなる
ことでコストが高くなるという問題点があった。
【0027】そこで本発明は、フィルム加熱方式の加熱
装置、該加熱装置を画像加熱定着装置をして備えた画像
形成装置についての上記の問題を解消する、即ち加熱体
の抵抗ばらつきを、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を与
えず、また歩留りを保ったまま、少なくすることを目的
とする。
装置、該加熱装置を画像加熱定着装置をして備えた画像
形成装置についての上記の問題を解消する、即ち加熱体
の抵抗ばらつきを、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を与
えず、また歩留りを保ったまま、少なくすることを目的
とする。
【0028】
【課題を解決するための手段】本発明は下記の構成を特
徴とする加熱装置および画像形成装置である。
徴とする加熱装置および画像形成装置である。
【0029】(1)固定支持された加熱体にフィルムを
接触摺動させ、該フィルムの加熱体側とは反対側の面に
被加熱材を密着させてフィルムと共に加熱体位置を移動
通過させて加熱体からフィルムを介して被加熱材に熱エ
ネルギーを付与する加熱装置において、前記加熱体は基
板上に通電により発熱する抵抗発熱体層を有し、基板に
対する該抵抗発熱体層および被加熱材の通過域外に抵抗
調整領域である抵抗層の形成後、該抵抗調整域である抵
抗層の一部を消滅させたことを特徴とする加熱装置。
接触摺動させ、該フィルムの加熱体側とは反対側の面に
被加熱材を密着させてフィルムと共に加熱体位置を移動
通過させて加熱体からフィルムを介して被加熱材に熱エ
ネルギーを付与する加熱装置において、前記加熱体は基
板上に通電により発熱する抵抗発熱体層を有し、基板に
対する該抵抗発熱体層および被加熱材の通過域外に抵抗
調整領域である抵抗層の形成後、該抵抗調整域である抵
抗層の一部を消滅させたことを特徴とする加熱装置。
【0030】(2)固定支持された加熱体にフィルムを
接触摺動させ、該フィルムの加熱体側とは反対側の面に
被加熱材を密着させてフィルムと共に加熱体位置を移動
通過させて加熱体からフィルムを介して被加熱材に熱エ
ネルギーを付与する加熱装置において、前記加熱体は基
板上に通電により発熱する抵抗発熱体層と導電層を有
し、基板に対する該抵抗発熱体層、導電層、および被加
熱材の通過域外に抵抗調整領域である抵抗層の形成後、
該抵抗調整領域である抵抗層の一部を消滅させたことを
特徴とする加熱装置。
接触摺動させ、該フィルムの加熱体側とは反対側の面に
被加熱材を密着させてフィルムと共に加熱体位置を移動
通過させて加熱体からフィルムを介して被加熱材に熱エ
ネルギーを付与する加熱装置において、前記加熱体は基
板上に通電により発熱する抵抗発熱体層と導電層を有
し、基板に対する該抵抗発熱体層、導電層、および被加
熱材の通過域外に抵抗調整領域である抵抗層の形成後、
該抵抗調整領域である抵抗層の一部を消滅させたことを
特徴とする加熱装置。
【0031】(3)前記(1)または(2)の加熱装置
において、抵抗発熱体層と抵抗調整領域である抵抗層が
同一材質で形成されていることを特徴とする加熱装置。
において、抵抗発熱体層と抵抗調整領域である抵抗層が
同一材質で形成されていることを特徴とする加熱装置。
【0032】(4)前記(1)ないし(3)に記載の加
熱装置が、画像形成装置において加熱定着性の顕画剤像
を担持した被加熱材としての記録材を加熱して担持顕画
剤像を記録材に加熱定着する装置であることを特徴とす
る加熱装置。
熱装置が、画像形成装置において加熱定着性の顕画剤像
を担持した被加熱材としての記録材を加熱して担持顕画
剤像を記録材に加熱定着する装置であることを特徴とす
る加熱装置。
【0033】(5)前記(1)乃至(4)の何れかに記
載の加熱装置を、被記録材に未定着画像を加熱定着させ
る画像加熱定着装置として備えることを特徴とする画像
形成装置。
載の加熱装置を、被記録材に未定着画像を加熱定着させ
る画像加熱定着装置として備えることを特徴とする画像
形成装置。
【0034】
【作用】即ち、基板に対する抵抗発熱体層と抵抗調整領
域である抵抗層、もしくは抵抗発熱体層と導電層と抵抗
調整領域である抵抗層の形成後に、抵抗調整領域である
抵抗層の一部を消滅させることにより、抵抗発熱体層の
発熱分布に影響を与えることなく、また歩留りを保った
まま、加熱体としての抵抗ばらつきを少なくすることが
できる。
域である抵抗層、もしくは抵抗発熱体層と導電層と抵抗
調整領域である抵抗層の形成後に、抵抗調整領域である
抵抗層の一部を消滅させることにより、抵抗発熱体層の
発熱分布に影響を与えることなく、また歩留りを保った
まま、加熱体としての抵抗ばらつきを少なくすることが
できる。
【0035】また、基板に対する抵抗発熱体層と抵抗調
整領域である抵抗層、もしくは抵抗発熱体層と導電層と
抵抗調整領域である抵抗層の形成後に、抵抗調整領域で
ある抵抗層の一部を消滅させることにより、抵抗発熱体
層の発熱分布に影響を与えることなく、各加熱体に対し
て任意に抵抗値を設定することができる。
整領域である抵抗層、もしくは抵抗発熱体層と導電層と
抵抗調整領域である抵抗層の形成後に、抵抗調整領域で
ある抵抗層の一部を消滅させることにより、抵抗発熱体
層の発熱分布に影響を与えることなく、各加熱体に対し
て任意に抵抗値を設定することができる。
【0036】
〈実施例1〉(図1) 本実施例は前述図9と同様のテンションレスタイプ・加
圧ローラ駆動式のフィルム加熱方式の加熱装置であるの
で、該加熱装置自体の再度の説明は省略する。
圧ローラ駆動式のフィルム加熱方式の加熱装置であるの
で、該加熱装置自体の再度の説明は省略する。
【0037】本実施例では次のようにして加熱体1を作
製した。図1はその要領説明図である。
製した。図1はその要領説明図である。
【0038】1)加熱体を複数個とれる面積のヒータ基
板としてのアルミナ基板2の面に加熱体複数個分の電極
層3a・3b・3c(3a′・3b′・3c′、3a″
・3b″・3c″、・・・)を低抵抗銀パラジウムペー
ストを用いてパターン印刷し、焼成焼き付けして形成す
る。
板としてのアルミナ基板2の面に加熱体複数個分の電極
層3a・3b・3c(3a′・3b′・3c′、3a″
・3b″・3c″、・・・)を低抵抗銀パラジウムペー
ストを用いてパターン印刷し、焼成焼き付けして形成す
る。
【0039】2)電極層3a・3b間に該電極層3a・
3bに導通させて所定幅Wにて抵抗発熱体層3(3′・
3″・・・)を高抵抗銀パラジウムペーストを用いて細
帯状にパターン印刷し、焼成焼付けして形成する。
3bに導通させて所定幅Wにて抵抗発熱体層3(3′・
3″・・・)を高抵抗銀パラジウムペーストを用いて細
帯状にパターン印刷し、焼成焼付けして形成する。
【0040】3)電極層3b・3c(3b′・3c′、
3b″・3c″、・・・)間に該電極層3b・3cに導
通させて所定の原幅Woにて原抵抗層30(30′・3
0″・・・)を高抵抗銀パラジウムペーストを用いて細
帯状にパターン印刷し、焼成焼き付けして形成し、これ
を抵抗調整領域である原抵抗層30とする。
3b″・3c″、・・・)間に該電極層3b・3cに導
通させて所定の原幅Woにて原抵抗層30(30′・3
0″・・・)を高抵抗銀パラジウムペーストを用いて細
帯状にパターン印刷し、焼成焼き付けして形成し、これ
を抵抗調整領域である原抵抗層30とする。
【0041】抵抗調整領域である原抵抗層30は被加熱
材における画像領域より外側の画像域外Aに形成する。
材における画像領域より外側の画像域外Aに形成する。
【0042】4)電極層3a・3c(3a′・3c′、
3a″・3c″、・・・)間の原抵抗値Racを計測す
る。
3a″・3c″、・・・)間の原抵抗値Racを計測す
る。
【0043】また、電極層3a・3b間の抵抗値Rab
および電極層3b・3c間の原抵抗値Rbcを計測す
る。
および電極層3b・3c間の原抵抗値Rbcを計測す
る。
【0044】ここで、原抵抗値Racは Rac=Rab+Rbc となる。
【0045】5)原抵抗層30の抵抗値は該層30の原
幅WO を目標抵抗値Rxに対応する幅Wxよりも予め広
く設定して低目に設定してある。
幅WO を目標抵抗値Rxに対応する幅Wxよりも予め広
く設定して低目に設定してある。
【0046】加熱体の抵抗値を目標とする抵抗値RT に
調整するためには抵抗調整領域である抵抗層30の幅を
WoからWxにすることにより達成できる。目標抵抗値
RTと調整幅Wxの間には RT =Rab+(Wo/Wx)・Rbc という関係がある。
調整するためには抵抗調整領域である抵抗層30の幅を
WoからWxにすることにより達成できる。目標抵抗値
RTと調整幅Wxの間には RT =Rab+(Wo/Wx)・Rbc という関係がある。
【0047】これより抵抗調整領域の調整幅Wxは、 Wx=Wo・Rbc/(RT −Rab) により求めることができる。
【0048】6)抵抗調整領域である抵抗層30につい
て電極層3b・3c間の長手に沿う幅が上記計算の調整
幅Wxとなるように、抵抗層30の面にCO2 レーザー
照射加工により幅100μm程度のスリット線32(3
2′・32″・・・)を入れて余分な幅部分を切り分け
処理する。
て電極層3b・3c間の長手に沿う幅が上記計算の調整
幅Wxとなるように、抵抗層30の面にCO2 レーザー
照射加工により幅100μm程度のスリット線32(3
2′・32″・・・)を入れて余分な幅部分を切り分け
処理する。
【0049】31(31′・31″・・・)は幅Wxに
調整された抵抗調整領域の抵抗層部分、33(33′・
33″・・・)は切り分けられた余分幅部分である。ス
リット線32部分は抵抗調整領域および導電層の消滅部
分である。
調整された抵抗調整領域の抵抗層部分、33(33′・
33″・・・)は切り分けられた余分幅部分である。ス
リット線32部分は抵抗調整領域および導電層の消滅部
分である。
【0050】幅調整済みの抵抗調整領域の抵抗層部分3
1はその両端部において電極層3b・3cと導通してい
る。
1はその両端部において電極層3b・3cと導通してい
る。
【0051】しかし切り分けられた余分幅部分33はそ
の両端部が電極層3b・3cに対してスリツト線32で
非導通に分断されている。
の両端部が電極層3b・3cに対してスリツト線32で
非導通に分断されている。
【0052】従って電極層3a・3c間に電圧が印加さ
れたとき、幅調整済みの抵抗層部分31は通電するが、
切り分けられた余分幅部分33は通電されない。
れたとき、幅調整済みの抵抗層部分31は通電するが、
切り分けられた余分幅部分33は通電されない。
【0053】7)上記4)・5)・6)の処理を複数個
取りのアルミナ基板2上に形成した抵抗調整領域の抵抗
層30・30´・30″・・の全てに行う。
取りのアルミナ基板2上に形成した抵抗調整領域の抵抗
層30・30´・30″・・の全てに行う。
【0054】8)アルミナ基板2上にガラスペースト層
を印刷にて塗工し、焼成することで表面保護層としての
ガラス層(4)を形成する。
を印刷にて塗工し、焼成することで表面保護層としての
ガラス層(4)を形成する。
【0055】9)共通のアルミナ基板2上に形成された
複数個の加熱体部分2・2′・2″・・・の間にCO2
レーザー照射加工によりミシン目線2aを入れた後、ア
ルミナ基板2を該ミシン目線2aに沿って割って個々の
加熱体1・1′・1″・・・に分割する。
複数個の加熱体部分2・2′・2″・・・の間にCO2
レーザー照射加工によりミシン目線2aを入れた後、ア
ルミナ基板2を該ミシン目線2aに沿って割って個々の
加熱体1・1′・1″・・・に分割する。
【0056】10)その個々の加熱体1に温度検知素子
5・安全ヒューズ6等を組付けて加熱体1を完成させ
る。
5・安全ヒューズ6等を組付けて加熱体1を完成させ
る。
【0057】これにより、個々の加熱体1間において抵
抗発熱体層3の抵抗に厚さ、ペーストのロット、焼成条
件等によりばらつきがあっても、個々の加熱体1につい
て上記のように抵抗調整領域の原抵抗層30の原幅Wo
を切り分け処理してそれぞれ目標抵抗値RT に対応した
幅Wxに調整することで、抵抗発熱体層3の発熱分布に
影響を与えることなく、最終製品の個々の加熱体1間に
おいては電極3a・3c間の抵抗値ばらつきが極めて小
さいものとなる。
抗発熱体層3の抵抗に厚さ、ペーストのロット、焼成条
件等によりばらつきがあっても、個々の加熱体1につい
て上記のように抵抗調整領域の原抵抗層30の原幅Wo
を切り分け処理してそれぞれ目標抵抗値RT に対応した
幅Wxに調整することで、抵抗発熱体層3の発熱分布に
影響を与えることなく、最終製品の個々の加熱体1間に
おいては電極3a・3c間の抵抗値ばらつきが極めて小
さいものとなる。
【0058】従って、製作加熱体の不良率が極めて低く
なり、コストの低減化がなされる。
なり、コストの低減化がなされる。
【0059】図1において、抵抗調整領域の抵抗層30
の切り分け余分幅部分33は図のようにその両端部をそ
れぞれ電極層3b・3cに対してスリット線32で分断
して非導通とした形態以外に、余分幅部分33の一端側
はその側の電極層に対してスリツト線で分断して非導通
とするが、他端側はその側の電極層に対して導通させた
ままの形態であってもかまわない。
の切り分け余分幅部分33は図のようにその両端部をそ
れぞれ電極層3b・3cに対してスリット線32で分断
して非導通とした形態以外に、余分幅部分33の一端側
はその側の電極層に対してスリツト線で分断して非導通
とするが、他端側はその側の電極層に対して導通させた
ままの形態であってもかまわない。
【0060】ただこの場合には、端末電極層3b・3c
間に電圧の高いスパイク状のノイズがのったとき、スリ
ット線32部分で火花がとび発火トラブルを生じること
も考えられることから、電気回路上にフィルター等を介
入させる処置をしておくのがよい。
間に電圧の高いスパイク状のノイズがのったとき、スリ
ット線32部分で火花がとび発火トラブルを生じること
も考えられることから、電気回路上にフィルター等を介
入させる処置をしておくのがよい。
【0061】余分幅部分33の両端部をそれぞれ図のよ
うに電極層3b・3cに対してスリット線32で分断し
て非導通とした場合には、そのようなフィルター等の介
入処置は不要となる。
うに電極層3b・3cに対してスリット線32で分断し
て非導通とした場合には、そのようなフィルター等の介
入処置は不要となる。
【0062】また、本例では、抵抗調整領域の抵抗値を
抵抗層幅で調整したが、本来、抵抗調整領域内で抵抗値
の調整ができればよく、削除部分の形状、削除方法を限
定するものではない。
抵抗層幅で調整したが、本来、抵抗調整領域内で抵抗値
の調整ができればよく、削除部分の形状、削除方法を限
定するものではない。
【0063】〈実施例2〉(図2) 本例は前述実施例1(図1)のものにおいて、抵抗調整
領域である原抵抗層30の切り分け余分幅部分33を全
て除去・消滅させた形態としたものである。34はその
全除去部である。
領域である原抵抗層30の切り分け余分幅部分33を全
て除去・消滅させた形態としたものである。34はその
全除去部である。
【0064】余分幅部分33の全ての除去・消滅は、こ
の部分面に対してCO2 レーザー照射で幅100μmの
スリット線32を入れる処理を全面的に行えばよい。
の部分面に対してCO2 レーザー照射で幅100μmの
スリット線32を入れる処理を全面的に行えばよい。
【0065】このように余分幅部分33を全て除去・消
滅させることで、端末電極層3b・3c間にさらに高い
電圧のスパイクノイズがのったときでも火花現象の発生
を防止できる。
滅させることで、端末電極層3b・3c間にさらに高い
電圧のスパイクノイズがのったときでも火花現象の発生
を防止できる。
【0066】〈実施例3〉(図3) 本実施例では次のようにして加熱体1を作製した。
【0067】1)加熱体を複数個とれる面積のヒータ基
板としてのアルミナ基板2の面に加熱体複数個分の電極
層3a・3cを低抵抗銀パラジウムペーストを用いてパ
ターン印刷し、焼成焼き付けして形成する。
板としてのアルミナ基板2の面に加熱体複数個分の電極
層3a・3cを低抵抗銀パラジウムペーストを用いてパ
ターン印刷し、焼成焼き付けして形成する。
【0068】2)電極層3a・3c間に該電極層3a・
3cに導通させて所定長さLにて抵抗発熱体層3を、ま
た所定の原幅Wo、所定の長さLoにて抵抗調整領域で
ある原抵抗層30を高抵抗銀パラジウムペーストを用い
て細帯状にパターン印刷し、焼成焼付けして形成する。
3cに導通させて所定長さLにて抵抗発熱体層3を、ま
た所定の原幅Wo、所定の長さLoにて抵抗調整領域で
ある原抵抗層30を高抵抗銀パラジウムペーストを用い
て細帯状にパターン印刷し、焼成焼付けして形成する。
【0069】ここで、抵抗調整領域である原抵抗層30
は被加熱材における画像領域より外側に形成する。
は被加熱材における画像領域より外側に形成する。
【0070】3)電極層3a・3c間の原抵抗値Rac
を計測する。
を計測する。
【0071】電極3a・3c間の原抵抗値Racは、抵
抗発熱体層3の長手方向の長さLおよび幅W、抵抗調整
領域の原抵抗層30の長手方向の長さLoおよび原幅W
o、抵抗発熱体層3の単位長当りの抵抗をrとすると、 Rac=L・r+Lo・(W/Wo)・r の関係が得られる。
抗発熱体層3の長手方向の長さLおよび幅W、抵抗調整
領域の原抵抗層30の長手方向の長さLoおよび原幅W
o、抵抗発熱体層3の単位長当りの抵抗をrとすると、 Rac=L・r+Lo・(W/Wo)・r の関係が得られる。
【0072】4)原抵抗層30の抵抗値は該層30の原
幅Woを目標抵抗値Rxに対応する幅Wxよりも予め広
く設定して低目に設定してある。
幅Woを目標抵抗値Rxに対応する幅Wxよりも予め広
く設定して低目に設定してある。
【0073】加熱体の抵抗値を目標とする抵抗値RT に
調整するためには抵抗調整領域である抵抗層30の幅を
WoからWxにすることにより達成できる。目標抵抗値
RTと調整幅Wxの間には RT =L・r+Lo・(W/Wx)・r という関係がある。
調整するためには抵抗調整領域である抵抗層30の幅を
WoからWxにすることにより達成できる。目標抵抗値
RTと調整幅Wxの間には RT =L・r+Lo・(W/Wx)・r という関係がある。
【0074】上記2式を抵抗調整領域の調整幅Wxにつ
いて整理すると、
いて整理すると、
【0075】
【数1】 となる。
【0076】これにより、電極3a・3c間の抵抗値R
acを測定するだけで、抵抗調整領域の調整幅Wxを決
定することができる。
acを測定するだけで、抵抗調整領域の調整幅Wxを決
定することができる。
【0077】5)抵抗調整領域である抵抗層30につい
て長手に沿う幅が上記計算の調整幅Wxとなるように、
抵抗層30の面にCO2 レーザー照射加工により幅10
0μm程度のスリット線32を入れて余分な幅部分を切
り分け処理する。
て長手に沿う幅が上記計算の調整幅Wxとなるように、
抵抗層30の面にCO2 レーザー照射加工により幅10
0μm程度のスリット線32を入れて余分な幅部分を切
り分け処理する。
【0078】31は幅Wxに調整された抵抗調整領域の
抵抗層部分、33は切り分けられた余分幅部分である。
スリット線32部分は抵抗調整領域および導電層の消滅
部分である。
抵抗層部分、33は切り分けられた余分幅部分である。
スリット線32部分は抵抗調整領域および導電層の消滅
部分である。
【0079】切り分けられた余分幅部分33はその両端
部が電極層3cに対してスリツト線32で非導通に分断
されている。
部が電極層3cに対してスリツト線32で非導通に分断
されている。
【0080】従って電極層3a・3c間に電圧が印加さ
れたとき、幅調整済みの抵抗層部分31は通電するが、
切り分けられた余分幅部分33は通電されない。
れたとき、幅調整済みの抵抗層部分31は通電するが、
切り分けられた余分幅部分33は通電されない。
【0081】以下、6)からは実施例1と同様に行う。
【0082】6)上記3)・4)・5)の処理を複数個
取りのアルミナ基板2上に形成した抵抗調整領域の抵抗
層30・30´・30″・・(図1)の全てに行う。
取りのアルミナ基板2上に形成した抵抗調整領域の抵抗
層30・30´・30″・・(図1)の全てに行う。
【0083】7)アルミナ基板2上にガラスペースト層
を印刷にて塗工し、焼成することで表面保護層としての
ガラス層4を形成する。
を印刷にて塗工し、焼成することで表面保護層としての
ガラス層4を形成する。
【0084】8)共通のアルミナ基板2上に形成された
複数個の加熱体部分の間にCO2 レーザー照射加工によ
りミシン目線2a(図1)を入れた後、アルミナ基板2
を該ミシン目線2aに沿って割って個々の加熱体1に分
割する。
複数個の加熱体部分の間にCO2 レーザー照射加工によ
りミシン目線2a(図1)を入れた後、アルミナ基板2
を該ミシン目線2aに沿って割って個々の加熱体1に分
割する。
【0085】9)その個々の加熱体1に温度検知素子5
・安全ヒューズ6等(図1)を組付けて加熱体1を完成
させる。
・安全ヒューズ6等(図1)を組付けて加熱体1を完成
させる。
【0086】これにより、個々の加熱体1間において抵
抗発熱体層3の抵抗に厚さ、ペーストのロット、焼成条
件等によりばらつきがあっても、個々の加熱体1につい
て上記のように抵抗調整領域の原抵抗層30の原幅Wo
を切り分け処理してそれぞれ目標抵抗値RT に対応した
幅Wxに調整することで、抵抗発熱体層3の発熱分布に
影響を与えることなく、最終製品の個々の加熱体1間に
おいては電極3a・3c間の抵抗値ばらつきが極めて小
さいものとなる。
抗発熱体層3の抵抗に厚さ、ペーストのロット、焼成条
件等によりばらつきがあっても、個々の加熱体1につい
て上記のように抵抗調整領域の原抵抗層30の原幅Wo
を切り分け処理してそれぞれ目標抵抗値RT に対応した
幅Wxに調整することで、抵抗発熱体層3の発熱分布に
影響を与えることなく、最終製品の個々の加熱体1間に
おいては電極3a・3c間の抵抗値ばらつきが極めて小
さいものとなる。
【0087】従って、製作加熱体の不良率が極めて低く
なり、また、抵抗発熱体層と抵抗調整領域の抵抗層のペ
ーストが同一になったことと、電極3bをなくすことが
できたので、さらにコストの低減化がなされる。
なり、また、抵抗発熱体層と抵抗調整領域の抵抗層のペ
ーストが同一になったことと、電極3bをなくすことが
できたので、さらにコストの低減化がなされる。
【0088】図3において、抵抗調整領域の抵抗層30
の切り分け余分幅部分33は図のようにその端部を電極
層3cに対してスリット線32で分断して非導通とした
形態であるが、抵抗層31と、余分幅部分33が非導通
であれば電極層3cに対して導通させたままの形態であ
ってもかまわない。
の切り分け余分幅部分33は図のようにその端部を電極
層3cに対してスリット線32で分断して非導通とした
形態であるが、抵抗層31と、余分幅部分33が非導通
であれば電極層3cに対して導通させたままの形態であ
ってもかまわない。
【0089】ただこの場合には、端末電極層3a・3c
間に電圧の高いスパイク状のノイズがのったとき、スリ
ット線32部分で火花がとび発火トラブルを生じること
も考えられることから、電気回路上にフィルター等を介
入させる処置をしておくのがよい。
間に電圧の高いスパイク状のノイズがのったとき、スリ
ット線32部分で火花がとび発火トラブルを生じること
も考えられることから、電気回路上にフィルター等を介
入させる処置をしておくのがよい。
【0090】余分幅部分33の両端部をそれぞれ図のよ
うに電極層3cに対してスリット線32で分断して非導
通とした場合には、そのようなフィルターの介入処置は
不要となる。
うに電極層3cに対してスリット線32で分断して非導
通とした場合には、そのようなフィルターの介入処置は
不要となる。
【0091】また、本例では、抵抗調整領域の抵抗値を
抵抗層幅で調整したが、本来、抵抗調整領域内で抵抗値
の調整ができればよく、削除部分の形状、削除方法を限
定するものではない。
抵抗層幅で調整したが、本来、抵抗調整領域内で抵抗値
の調整ができればよく、削除部分の形状、削除方法を限
定するものではない。
【0092】〈実施例4〉(図4) 本例は前述実施例3(図3)のものにおいて、抵抗調整
領域である原抵抗層30の切り分け余分幅部分33を全
て除去・消滅させた形態としたものである。34はその
全除去部である。
領域である原抵抗層30の切り分け余分幅部分33を全
て除去・消滅させた形態としたものである。34はその
全除去部である。
【0093】余分幅部分33の全ての除去・消滅は、こ
の部分面に対してCO2 レーザー照射で幅100μmの
スリット線32を入れる処理を全面的に行えばよい。
の部分面に対してCO2 レーザー照射で幅100μmの
スリット線32を入れる処理を全面的に行えばよい。
【0094】このように余分幅部分33を全て除去・消
滅させることで、電極3a・3c間にさらに高い電圧の
スパイクノイズがのった時でも火花現象の発生を防止で
きる。 〈実施例5〉(図5) 前記実施例では抵抗調整領域あるいは電極層部分の除去
は加熱体表面保護層4の形成前に行っていたが、図5の
(A)のように抵抗調整領域の抵抗層30(または電極
層部分)を形成した後、(B)のように表面保護層とし
てのガラス層41を形成し、(C)のようにこのガラス
層41も含めて抵抗調整領域の抵抗層30にスリット4
2を形成し、(D)のようにその上に再度ガラス層43
を形成するようにしてもよい。
滅させることで、電極3a・3c間にさらに高い電圧の
スパイクノイズがのった時でも火花現象の発生を防止で
きる。 〈実施例5〉(図5) 前記実施例では抵抗調整領域あるいは電極層部分の除去
は加熱体表面保護層4の形成前に行っていたが、図5の
(A)のように抵抗調整領域の抵抗層30(または電極
層部分)を形成した後、(B)のように表面保護層とし
てのガラス層41を形成し、(C)のようにこのガラス
層41も含めて抵抗調整領域の抵抗層30にスリット4
2を形成し、(D)のようにその上に再度ガラス層43
を形成するようにしてもよい。
【0095】スリット42の形成はレーザー照射による
消滅以外の手段、例えば砥石や刃物による削り取り等で
あってもよい。
消滅以外の手段、例えば砥石や刃物による削り取り等で
あってもよい。
【0096】また、図5の(E)のように基板2上の抵
抗調整領域の抵抗層30を研磨して該抵抗層30の厚み
D1 をDX に減らすことで抵抗調整してもよい。
抗調整領域の抵抗層30を研磨して該抵抗層30の厚み
D1 をDX に減らすことで抵抗調整してもよい。
【0097】なお、実施例1・同3・同5において、抵
抗調整領域である抵抗層および電極にスリット線を入れ
る時に、該抵抗層および該電極の幅方向に対して片側に
スリット線を入れていたが、これは幅方向に対して両側
に入れてもよい。
抗調整領域である抵抗層および電極にスリット線を入れ
る時に、該抵抗層および該電極の幅方向に対して片側に
スリット線を入れていたが、これは幅方向に対して両側
に入れてもよい。
【0098】また、スリットを入れることによってでき
る余分幅部分を抵抗調整領域である抵抗層および電極の
幅の内側に設けてもよい。
る余分幅部分を抵抗調整領域である抵抗層および電極の
幅の内側に設けてもよい。
【0099】また、抵抗調整領域である抵抗層および電
極を長手方向に対して片側に設けたが両側に設けてもよ
い。要は画像域外に抵抗調整領域を設ければよく、その
形状、調整方法を規定するものではない。
極を長手方向に対して片側に設けたが両側に設けてもよ
い。要は画像域外に抵抗調整領域を設ければよく、その
形状、調整方法を規定するものではない。
【0100】実施例2・同4において、抵抗調整領域で
ある抵抗層および電極の除去時に、該抵抗層および該電
極の幅方向に対して片側を除去したが、これは幅方向に
対して両側を除去してもよい。
ある抵抗層および電極の除去時に、該抵抗層および該電
極の幅方向に対して片側を除去したが、これは幅方向に
対して両側を除去してもよい。
【0101】また、除去部を抵抗調整領域である抵抗層
および電極の幅の内側に設けてもよい。
および電極の幅の内側に設けてもよい。
【0102】実施例1から実施例5において抵抗調整領
域である抵抗層および電極を長手方向に対して片側に設
けたが両側に設けてもよい。要は画像域外Aに抵抗調整
領域を設ければよく、その形状、調整方法を規定するも
のではない。
域である抵抗層および電極を長手方向に対して片側に設
けたが両側に設けてもよい。要は画像域外Aに抵抗調整
領域を設ければよく、その形状、調整方法を規定するも
のではない。
【0103】また実施例1から実施例5において、抵抗
発熱体層自体の抵抗値調整を行っていないが、発熱分布
調整等を行うために抵抗発熱体層の抵抗値調整を行った
ものに対して、抵抗調整領域である抵抗層によって加熱
体の抵抗を調整することもできる。
発熱体層自体の抵抗値調整を行っていないが、発熱分布
調整等を行うために抵抗発熱体層の抵抗値調整を行った
ものに対して、抵抗調整領域である抵抗層によって加熱
体の抵抗を調整することもできる。
【0104】実施例1から実施例5においては、電極層
3a・3cを基板2の両端に配設したが、図6の(a)
のように基板2の片側に電極層を設けることもでき、ま
た、(b)のようにスルーホール3s(基板の上下面の
電極の導通を図るための貫通する穴)を介して基板の裏
面に電極層を設けてもよく、これら実施例が電極位置を
規定するものではない。
3a・3cを基板2の両端に配設したが、図6の(a)
のように基板2の片側に電極層を設けることもでき、ま
た、(b)のようにスルーホール3s(基板の上下面の
電極の導通を図るための貫通する穴)を介して基板の裏
面に電極層を設けてもよく、これら実施例が電極位置を
規定するものではない。
【0105】実施例1から実施例5のように抵抗発熱体
層および抵抗調整領域である抵抗層の形成後、該抵抗層
の一部を削減させることにより、製品加熱体1間の抵抗
ばらつきや発熱分布ばらつきを、歩留を保ったまま、少
なくすることができる。
層および抵抗調整領域である抵抗層の形成後、該抵抗層
の一部を削減させることにより、製品加熱体1間の抵抗
ばらつきや発熱分布ばらつきを、歩留を保ったまま、少
なくすることができる。
【0106】また、実施例1から実施例5に示した加熱
体の抵抗調整方法は、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を
与えることなく、各加熱体に対して任意に抵抗値を設定
する方法にも応用することができる。
体の抵抗調整方法は、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を
与えることなく、各加熱体に対して任意に抵抗値を設定
する方法にも応用することができる。
【0107】〈実施例6〉(図7) 図7の(a)・(b)・(c)はそれぞれフィルム加熱
方式の加熱装置の他の構成形態例を示したものである。
方式の加熱装置の他の構成形態例を示したものである。
【0108】(a)のものは、加熱体1と駆動ローラ5
1と従動ローラ(テンションローラ)52との3部材間
にエンドレスベルト状の耐熱性フィルム9を懸回張設し
て駆動ローラ51により耐熱性フィルム9を回転駆動す
る構成のものである。53はフィルム9を挟んで加熱体
1に圧接させた加圧ローラであり、フィルム9の回転移
動に伴い従動回転する。54はヒータホルダである。
1と従動ローラ(テンションローラ)52との3部材間
にエンドレスベルト状の耐熱性フィルム9を懸回張設し
て駆動ローラ51により耐熱性フィルム9を回転駆動す
る構成のものである。53はフィルム9を挟んで加熱体
1に圧接させた加圧ローラであり、フィルム9の回転移
動に伴い従動回転する。54はヒータホルダである。
【0109】(b)のものは、加熱体1と駆動ローラ5
1の2部材間にエンドレスベルト状の耐熱性フィルム9
を懸回張設して駆動ローラ51により回転駆動する構成
のものである。
1の2部材間にエンドレスベルト状の耐熱性フィルム9
を懸回張設して駆動ローラ51により回転駆動する構成
のものである。
【0110】(c)のものは、耐熱性フィルム9とし
て、エンドレスベルト状のものではなく、ロール巻きに
した長尺の有端フィルムを用い、これを繰り出し軸55
側から加熱体1を経由させて巻き取り軸56側へ所定の
速度で走行させるように構成したものである。
て、エンドレスベルト状のものではなく、ロール巻きに
した長尺の有端フィルムを用い、これを繰り出し軸55
側から加熱体1を経由させて巻き取り軸56側へ所定の
速度で走行させるように構成したものである。
【0111】〈実施例7〉(図8) 図8は前述した実施例に示したような本発明に従うフィ
ルム加熱方式の加熱装置を画像加熱定着装置60として
組み込んだ画像形成装置の一例の概略構成を示してい
る。本例の画像形成装置は原稿台往復動型・回転ドラム
型・転写式・プロセスカートリッジ着脱方式の電子写真
複写装置である。
ルム加熱方式の加熱装置を画像加熱定着装置60として
組み込んだ画像形成装置の一例の概略構成を示してい
る。本例の画像形成装置は原稿台往復動型・回転ドラム
型・転写式・プロセスカートリッジ着脱方式の電子写真
複写装置である。
【0112】61は装置機筺、62はその装置機筺の上
面板61a上に配設したガラス板等の透明板部材よりな
る往復動型の原稿載置台であり、機筺上面板61a上を
図面上右方a、左方a´に夫々所定の速度で往復移動駆
動される。
面板61a上に配設したガラス板等の透明板部材よりな
る往復動型の原稿載置台であり、機筺上面板61a上を
図面上右方a、左方a´に夫々所定の速度で往復移動駆
動される。
【0113】Gは原稿であり、複写すべき画像面側を下
向きにして原稿載置台62の上面に所定の載置基準に従
って載置し、その上に原稿圧着板62aをかぶせて押え
込むことによりセットされる。
向きにして原稿載置台62の上面に所定の載置基準に従
って載置し、その上に原稿圧着板62aをかぶせて押え
込むことによりセットされる。
【0114】61bは機筺上面板61a面に原稿載置台
62の往復移動方向とは直角の方向(紙面に垂直の方
向)を長手として開口された原稿照明部としてのスリッ
ト開口部である。
62の往復移動方向とは直角の方向(紙面に垂直の方
向)を長手として開口された原稿照明部としてのスリッ
ト開口部である。
【0115】原稿載置台62上に載置セットした原稿G
の下向き画像面は原稿載置台62の右方aへの往動移動
過程で右辺側から左辺側にかけて順次にスリット開口部
61bの位置を通過していき、その通過過程でランプ6
3の光Lをスリット開口部61b、透明な原稿載置台6
2を通して受けて照明走査され、その照明走査光の原稿
面反射光が像素子アレイ64によって感光ドラム65面
に結像露光される。
の下向き画像面は原稿載置台62の右方aへの往動移動
過程で右辺側から左辺側にかけて順次にスリット開口部
61bの位置を通過していき、その通過過程でランプ6
3の光Lをスリット開口部61b、透明な原稿載置台6
2を通して受けて照明走査され、その照明走査光の原稿
面反射光が像素子アレイ64によって感光ドラム65面
に結像露光される。
【0116】感光ドラム65は例えば酸化亜鉛感光層・
有機半導体感光層等の感光層が被覆処理され、中心支軸
65aを中心に所定の周速度で矢示bの時計方向に回転
駆動され、その回転過程で帯電器66により正極性又は
負極性の一様な帯電処理を受け、その一様帯電面に前記
の原稿画像の結像露光(スリット露光)を受けることに
より感光ドラム65面には結像露光した原稿画像に対応
した静電潜像が順次に形成されていく。
有機半導体感光層等の感光層が被覆処理され、中心支軸
65aを中心に所定の周速度で矢示bの時計方向に回転
駆動され、その回転過程で帯電器66により正極性又は
負極性の一様な帯電処理を受け、その一様帯電面に前記
の原稿画像の結像露光(スリット露光)を受けることに
より感光ドラム65面には結像露光した原稿画像に対応
した静電潜像が順次に形成されていく。
【0117】この静電潜像は現像器67により加熱で軟
化溶融する樹脂等より成るトナーにて順次に顕像化さ
れ、該顕像たるトナー画像が転写部としての転写放電器
68の配設部位へ移行していく。
化溶融する樹脂等より成るトナーにて順次に顕像化さ
れ、該顕像たるトナー画像が転写部としての転写放電器
68の配設部位へ移行していく。
【0118】Sは記録材としての転写材シートPを積載
収納したカセットであり、該カセット内のシートが給送
ローラ70の回転により1枚宛繰出し給送され、次いで
レジストローラ71により、ドラム65上のトナー画像
形成部の先端が転写放電器68の部位に到達したとき転
写材シートPの先端も転写放電器68と感光ドラム65
との間位置に丁度到達して両者一致するようにタイミン
グどりされて同期給送される。
収納したカセットであり、該カセット内のシートが給送
ローラ70の回転により1枚宛繰出し給送され、次いで
レジストローラ71により、ドラム65上のトナー画像
形成部の先端が転写放電器68の部位に到達したとき転
写材シートPの先端も転写放電器68と感光ドラム65
との間位置に丁度到達して両者一致するようにタイミン
グどりされて同期給送される。
【0119】そしてその給送シートの面に対して転写放
電器68により感光ドラム65側のトナー画像が順次に
転写されていく。
電器68により感光ドラム65側のトナー画像が順次に
転写されていく。
【0120】転写部でトナー画像転写を受けたシートは
不図示の分離手段で感光ドラム65面から順次に分離さ
れて搬送装置72によって前述の定着装置60に導かれ
て担持している未定着トナー画像Tの加熱定着を受け、
画像形成物(コピー)として排出ローラ73を通って機
外の排紙トレイ74上に排出される。
不図示の分離手段で感光ドラム65面から順次に分離さ
れて搬送装置72によって前述の定着装置60に導かれ
て担持している未定着トナー画像Tの加熱定着を受け、
画像形成物(コピー)として排出ローラ73を通って機
外の排紙トレイ74上に排出される。
【0121】画像転写後の感光ドラム65の面はクリー
ニング装置69により転写残りトナー等の付着汚染物の
除去を受けて繰り返して画像形成に使用される。
ニング装置69により転写残りトナー等の付着汚染物の
除去を受けて繰り返して画像形成に使用される。
【0122】PCは装置本体61内のカートリッジ着脱
部75に着脱されるプロセスカートリッジであり、本例
の場合は、像担持体としての感光ドラム65、帯電器6
6、現像器67、クリーニング装置69の4つのプロセ
ス機器を包含させて一括して装置本体61に対して着脱
交換自在としてある。
部75に着脱されるプロセスカートリッジであり、本例
の場合は、像担持体としての感光ドラム65、帯電器6
6、現像器67、クリーニング装置69の4つのプロセ
ス機器を包含させて一括して装置本体61に対して着脱
交換自在としてある。
【0123】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、フィルム
加熱方式の加熱装置の加熱体について、基板に対する抵
抗発熱体層と抵抗調整領域である抵抗層、もしくは抵抗
発熱体層と導電層と抵抗調整領域である抵抗層の形成後
に、抵抗調整領域である抵抗層の一部を削減させること
により、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を与えることな
く、また、歩留りを保ったまま、加熱体としての抵抗ば
らつきを少なくすることができる。
加熱方式の加熱装置の加熱体について、基板に対する抵
抗発熱体層と抵抗調整領域である抵抗層、もしくは抵抗
発熱体層と導電層と抵抗調整領域である抵抗層の形成後
に、抵抗調整領域である抵抗層の一部を削減させること
により、抵抗発熱体層の発熱分布に影響を与えることな
く、また、歩留りを保ったまま、加熱体としての抵抗ば
らつきを少なくすることができる。
【0124】また、フィルム加熱方式の加熱装置の加熱
体について、基板に対する抵抗発熱体層と抵抗調整領域
である抵抗層、もしくは抵抗発熱体層と導電層と抵抗調
整領域である抵抗層の形成後に、抵抗調整領域である抵
抗層の一部を削減させることにより、抵抗発熱体層の発
熱分布に影響を与えることなく、各加熱体に対して任意
に抵抗値を設定することができる。
体について、基板に対する抵抗発熱体層と抵抗調整領域
である抵抗層、もしくは抵抗発熱体層と導電層と抵抗調
整領域である抵抗層の形成後に、抵抗調整領域である抵
抗層の一部を削減させることにより、抵抗発熱体層の発
熱分布に影響を与えることなく、各加熱体に対して任意
に抵抗値を設定することができる。
【図1】 実施例1における加熱体の構成説明図
【図2】 実施例2における加熱体の構成説明図
【図3】 実施例3における加熱体の構成説明図
【図4】 実施例4における加熱体の構成説明図
【図5】 (A)乃至(E)は実施例5における加熱体
の構成説明図
の構成説明図
【図6】 (a)・(b)はそれぞれ加熱体の他の構成
例の説明図
例の説明図
【図7】 (a)乃至(c)はそれぞれフィルム加熱方
式の加熱装置の他の構成形態例の略図
式の加熱装置の他の構成形態例の略図
【図8】 画像形成装置例の略図
【図9】 フィルム加熱方式の加熱装置例の概略断面図
【図10】 加熱体の途中省略・一部切欠き平面図
1 加熱体 2 ヒータ基板 3 抵抗発熱体 30 抵抗調整領域の原抵抗層 31 抵抗調整領域の抵抗調整後の抵抗層 32 抵抗調整領域の抵抗層の余分幅部分 3a〜3c 電極層 W 抵抗発熱体層の幅 Wo 抵抗調整領域の原抵抗層の幅 Wx 抵抗調整領域の抵抗層の計算調整幅 4 表面保護層(ガラス層) 41・43 ガラス層 42 スリット線 Do 抵抗調整領域の抵抗層の厚さ Dx 抵抗調整領域の抵抗層の計算調整厚さ 5 温度検知素子(サーミスタ) 6 安全ヒューズ 7 フィルムガイド部材(加熱体ホルダ) 8 通電回路 9 耐熱性フィルム 10 加圧ローラ P 被加熱材(記録材) T トナー
Claims (5)
- 【請求項1】 固定支持された加熱体にフィルムを接触
摺動させ、該フィルムの加熱体側とは反対側の面に被加
熱材を密着させてフィルムと共に加熱体位置を移動通過
させて加熱体からフィルムを介して被加熱材に熱エネル
ギーを付与する加熱装置において、 前記加熱体は基板上に通電により発熱する抵抗発熱体層
を有し、基板に対する該抵抗発熱体層および被加熱材の
通過域外に抵抗調整領域である抵抗層の形成後、該抵抗
調整域である抵抗層の一部を消滅させたことを特徴とす
る加熱装置。 - 【請求項2】 固定支持された加熱体にフィルムを接触
摺動させ、該フィルムの加熱体側とは反対側の面に被加
熱材を密着させてフィルムと共に加熱体位置を移動通過
させて加熱体からフィルムを介して被加熱材に熱エネル
ギーを付与する加熱装置において、 前記加熱体は基板上に通電により発熱する抵抗発熱体層
と導電層を有し、基板に対する該抵抗発熱体層、導電
層、および被加熱材の通過域外に抵抗調整領域である抵
抗層の形成後、該抵抗調整領域である抵抗層の一部を消
滅させたことを特徴とする加熱装置。 - 【請求項3】 請求項1または請求項2の加熱装置にお
いて、抵抗発熱体層と抵抗調整領域である抵抗層が同一
材質で形成されていることを特徴とする加熱装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし同3に記載の加熱装置
が、画像形成装置において加熱定着性の顕画剤像を担持
した被加熱材としての記録材を加熱して担持顕画剤像を
記録材に加熱定着する装置であることを特徴とする加熱
装置。 - 【請求項5】 前記請求項1乃至同4の何れかに記載の
加熱装置を、被記録材に未定着画像を加熱定着させる画
像加熱定着装置として備えることを特徴とする画像形成
装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6160673A JPH086412A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 加熱装置および画像形成装置 |
| US08/491,373 US5966577A (en) | 1994-06-20 | 1995-06-19 | Heater and heat fixing apparatus having a resistance adjustment portion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6160673A JPH086412A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 加熱装置および画像形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH086412A true JPH086412A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15720011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6160673A Pending JPH086412A (ja) | 1994-06-20 | 1994-06-20 | 加熱装置および画像形成装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5966577A (ja) |
| JP (1) | JPH086412A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011033939A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Sharp Corp | ヒータ、このヒータを用いた定着装置及び帯電装置、並びにこの定着装置または帯電装置を用いた画像形成装置 |
| US8881991B2 (en) | 2006-05-18 | 2014-11-11 | Airbus Deutschland Gmbh | Wiring arrangement for protecting a bleed air supply system of an aircraft against overheating and bleed air supply incorporating such a wiring arrangement |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19750123C2 (de) * | 1997-11-13 | 2000-09-07 | Heraeus Electro Nite Int | Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung für die Temperaturmessung |
| JP3647290B2 (ja) * | 1998-11-30 | 2005-05-11 | キヤノン株式会社 | 像加熱装置及び画像形成装置 |
| JP2000321895A (ja) | 1999-05-07 | 2000-11-24 | Canon Inc | 像加熱装置及び画像形成装置 |
| JP4136210B2 (ja) | 1999-07-30 | 2008-08-20 | キヤノン株式会社 | 加熱装置及び画像形成装置 |
| JP2002056960A (ja) | 2000-08-08 | 2002-02-22 | Canon Inc | 加熱装置及び画像形成装置 |
| JO2409B1 (en) * | 2000-11-21 | 2007-06-17 | شركة جانسين فارماسوتيكا ان. في | Second-phenyl carboxy amides are useful as lipid-lowering agents |
| JP4717292B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2011-07-06 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
| US6947699B2 (en) * | 2002-02-05 | 2005-09-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Image heating apparatus with projection extending in longitudinal direction of supporting member |
| JP2005159120A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Disco Abrasive Syst Ltd | チップ抵抗器の製造方法 |
| JP4187208B2 (ja) * | 2004-01-09 | 2008-11-26 | 日本碍子株式会社 | ヒーター |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2516886B2 (ja) * | 1987-06-16 | 1996-07-24 | キヤノン株式会社 | 像加熱装置 |
| US4998121A (en) * | 1988-10-03 | 1991-03-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus |
| DE69110523T2 (de) * | 1990-04-09 | 1995-11-30 | Seiko Instr Inc | Ansteuerverfahren für ein thermisches Druckelement. |
| US5148124A (en) * | 1991-10-03 | 1992-09-15 | Lockheed Sanders, Inc. | Monolithic microwave integrated circuit noise generator and variable resistance device |
| US5338919A (en) * | 1991-12-28 | 1994-08-16 | Rohm Co., Ltd. | Heater for sheet material and method for adjusting resistance of same |
| US5466484A (en) * | 1993-09-29 | 1995-11-14 | Motorola, Inc. | Resistor structure and method of setting a resistance value |
-
1994
- 1994-06-20 JP JP6160673A patent/JPH086412A/ja active Pending
-
1995
- 1995-06-19 US US08/491,373 patent/US5966577A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8881991B2 (en) | 2006-05-18 | 2014-11-11 | Airbus Deutschland Gmbh | Wiring arrangement for protecting a bleed air supply system of an aircraft against overheating and bleed air supply incorporating such a wiring arrangement |
| JP2011033939A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Sharp Corp | ヒータ、このヒータを用いた定着装置及び帯電装置、並びにこの定着装置または帯電装置を用いた画像形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5966577A (en) | 1999-10-12 |
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