JPH0865950A - モータ及びモータを使用した光学走査装置 - Google Patents
モータ及びモータを使用した光学走査装置Info
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- JPH0865950A JPH0865950A JP21671594A JP21671594A JPH0865950A JP H0865950 A JPH0865950 A JP H0865950A JP 21671594 A JP21671594 A JP 21671594A JP 21671594 A JP21671594 A JP 21671594A JP H0865950 A JPH0865950 A JP H0865950A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 長期間、安定した高速回転を維持し、かつ動
圧軸受け面間の接触による焼き付けが生じないようにす
る。 【構成】 モータは、マグネット21を保持する第一の
保持部材2と、コイル31を保持する第二の保持部材3
とを流体を介して軸受けする動圧軸受け部を有し、コイ
ル31に通電することにより、第一の保持部材2と第二
の保持部材3とを相対回転させるようにしている。この
モータの動圧軸受け部は、第一の保持部材2の外周面2
3と第二の保持部材3の内周面35とで構成され、両面
23,35の少なくとも一方の軸受け面に、ポリテトラ
フルオロエチレンを分散させたニッケル−燐メッキ25
aを施している。また、このモータには、光源からの光
束を走査するポリゴンミラー1が、第一の保持部材2の
小径部24に取り付けられている。
圧軸受け面間の接触による焼き付けが生じないようにす
る。 【構成】 モータは、マグネット21を保持する第一の
保持部材2と、コイル31を保持する第二の保持部材3
とを流体を介して軸受けする動圧軸受け部を有し、コイ
ル31に通電することにより、第一の保持部材2と第二
の保持部材3とを相対回転させるようにしている。この
モータの動圧軸受け部は、第一の保持部材2の外周面2
3と第二の保持部材3の内周面35とで構成され、両面
23,35の少なくとも一方の軸受け面に、ポリテトラ
フルオロエチレンを分散させたニッケル−燐メッキ25
aを施している。また、このモータには、光源からの光
束を走査するポリゴンミラー1が、第一の保持部材2の
小径部24に取り付けられている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、動圧軸受けを有するモ
ータ及びそのモータでポリゴンミラーを回転駆動するよ
うにした光学走査装置に関する。
ータ及びそのモータでポリゴンミラーを回転駆動するよ
うにした光学走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ走査用モータ、磁気ドラム用モー
タ、ジャイロモータあるいは高速スピンドルモータのよ
うな高速で回転するモータ等には、高速回転を可能とす
るため、回転に伴って発生する動圧流体でロータ(回転
軸)部を支持する動圧流体軸受が採用されている。例え
ば、ポリゴンミラーを拘束回転させるレーザ走査用のモ
ータは、図5に示すように、ポリゴンミラー1と回転駆
動用のマグネット21が取り付けられて回転する第一の
保持部材(ロータ)2と、駆動用のコイル31を保持し
軸受部材となる第二の保持部材(ステータ)3とから成
り、僅かな隙間8を以て対向する第一の保持部材2の外
周面23と第二の保持部材3の内周面35との間で動圧
軸受が構成されている。第一の保持部材2には、更に、
ポリゴンミラー1の回転バランスを矯正するバランスプ
レート11とスラストマグネット22が取り付けられ、
第二の保持部材3には、スラストマグネット22と協働
して第一の保持部材2に浮動力を発生させるためのスラ
ストマグネット32と、第二の保持部材3の一部を構成
するステータコア33とケース体34とが取り付けられ
ている。なお、第二の保持部材3は、ホルダー4に嵌合
固定されている。
タ、ジャイロモータあるいは高速スピンドルモータのよ
うな高速で回転するモータ等には、高速回転を可能とす
るため、回転に伴って発生する動圧流体でロータ(回転
軸)部を支持する動圧流体軸受が採用されている。例え
ば、ポリゴンミラーを拘束回転させるレーザ走査用のモ
ータは、図5に示すように、ポリゴンミラー1と回転駆
動用のマグネット21が取り付けられて回転する第一の
保持部材(ロータ)2と、駆動用のコイル31を保持し
軸受部材となる第二の保持部材(ステータ)3とから成
り、僅かな隙間8を以て対向する第一の保持部材2の外
周面23と第二の保持部材3の内周面35との間で動圧
軸受が構成されている。第一の保持部材2には、更に、
ポリゴンミラー1の回転バランスを矯正するバランスプ
レート11とスラストマグネット22が取り付けられ、
第二の保持部材3には、スラストマグネット22と協働
して第一の保持部材2に浮動力を発生させるためのスラ
ストマグネット32と、第二の保持部材3の一部を構成
するステータコア33とケース体34とが取り付けられ
ている。なお、第二の保持部材3は、ホルダー4に嵌合
固定されている。
【0003】この動圧流体軸受は、回転時に動圧を発生
させて回転軸を浮揚させて支持するため、回転軸と軸受
部材との間には、極めて狭い一定の軸受隙間が形成され
ている。このため、回転軸の外周面(軸受面)と軸受部
材の内周面(軸受面)とに不要な凸起が生じないように
精密に仕上げなければ、回転中に回転軸と軸受部材とが
接触して摩擦熱を発生し、接触部分の溶融により軸と軸
受が凝着する、いわゆる焼付現象を惹き起こす危険があ
る。この焼き付き現象は、一般には起動停止時の軸受負
荷能力の低い状態での接触による摩耗が焼付の引き金と
なるが、また外力を受けた際の振動等によって、高速回
転時に接触する場合にも起こる。
させて回転軸を浮揚させて支持するため、回転軸と軸受
部材との間には、極めて狭い一定の軸受隙間が形成され
ている。このため、回転軸の外周面(軸受面)と軸受部
材の内周面(軸受面)とに不要な凸起が生じないように
精密に仕上げなければ、回転中に回転軸と軸受部材とが
接触して摩擦熱を発生し、接触部分の溶融により軸と軸
受が凝着する、いわゆる焼付現象を惹き起こす危険があ
る。この焼き付き現象は、一般には起動停止時の軸受負
荷能力の低い状態での接触による摩耗が焼付の引き金と
なるが、また外力を受けた際の振動等によって、高速回
転時に接触する場合にも起こる。
【0004】一方、この種の高速回転モータにおいて
は、軽量化を図って立ち上がり時間を短くすると共に、
動圧軸受を構成する部分の内側に回転駆動用のマグネッ
ト21と駆動用のコイル31を配置してモータのコンパ
クト化と回転軸の振れや傾きを極力小さくすることが求
められる。このような構造の動圧軸受の場合、軸受の形
状・構造が複雑になるためアルミ合金を旋削加工する方
が加工コストの点で遥かに有利であることから、第一の
保持部材2と第二の保持部材3の双方をアルミニウムな
どで作成することが望まれている。
は、軽量化を図って立ち上がり時間を短くすると共に、
動圧軸受を構成する部分の内側に回転駆動用のマグネッ
ト21と駆動用のコイル31を配置してモータのコンパ
クト化と回転軸の振れや傾きを極力小さくすることが求
められる。このような構造の動圧軸受の場合、軸受の形
状・構造が複雑になるためアルミ合金を旋削加工する方
が加工コストの点で遥かに有利であることから、第一の
保持部材2と第二の保持部材3の双方をアルミニウムな
どで作成することが望まれている。
【0005】そこで、アルミニウムの耐摩耗性等を向上
させるため、軸受部材となる第二の保持部材3の内周面
35には硬質アルマイト処理、ロータとなる第一の保持
部材2の外周面23にはSiC微粒子を含むNi−P無
電解メッキが従来施されている。
させるため、軸受部材となる第二の保持部材3の内周面
35には硬質アルマイト処理、ロータとなる第一の保持
部材2の外周面23にはSiC微粒子を含むNi−P無
電解メッキが従来施されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、硬質ア
ルマイト処理とSiC微粒子を含むNi−P無電解メッ
キを施す場合、両材料とも非常に硬度が高く耐摩耗性に
は優れるものの、めっき反応においては不純物ともいえ
るSiCを多量に分散させたメッキ液であるため反応む
らを起こし易く皮膜に突起が発生することから、ロータ
となる第一の保持部材2の高回転中における衝撃や姿勢
変化による両面23、35の接触が焼き付けを起こす問
題を有している。そして、メッキの反応むらが起きない
ようにするには、工程管理を非常に厳しくする必要があ
り、しかも歩留まりが悪くなる。
ルマイト処理とSiC微粒子を含むNi−P無電解メッ
キを施す場合、両材料とも非常に硬度が高く耐摩耗性に
は優れるものの、めっき反応においては不純物ともいえ
るSiCを多量に分散させたメッキ液であるため反応む
らを起こし易く皮膜に突起が発生することから、ロータ
となる第一の保持部材2の高回転中における衝撃や姿勢
変化による両面23、35の接触が焼き付けを起こす問
題を有している。そして、メッキの反応むらが起きない
ようにするには、工程管理を非常に厳しくする必要があ
り、しかも歩留まりが悪くなる。
【0007】特に、光学走査装置のようにモータの動圧
軸受の外にポリゴンミラー1のような質量の大きな部材
を取り付ける場合には、ポリゴンミラー1の回転偏心や
取り付け作業の不安定性により、接触による焼き付けが
生じ易い。焼き付けが生じると、モータの発熱により周
辺の精密部材であるレンズ等への悪影響が出てくる危険
性が生ずる。
軸受の外にポリゴンミラー1のような質量の大きな部材
を取り付ける場合には、ポリゴンミラー1の回転偏心や
取り付け作業の不安定性により、接触による焼き付けが
生じ易い。焼き付けが生じると、モータの発熱により周
辺の精密部材であるレンズ等への悪影響が出てくる危険
性が生ずる。
【0008】本発明は、長期間、安定した高速回転を維
持し、かつ動圧軸受け面間の接触による焼き付けが生じ
ないモータを提供することを目的とする。また、本発明
は、動圧軸受け面間に焼き付けが生じないモータを使用
して長期間安定した品質を維持できる光学走査装置を提
供することを目的とする。
持し、かつ動圧軸受け面間の接触による焼き付けが生じ
ないモータを提供することを目的とする。また、本発明
は、動圧軸受け面間に焼き付けが生じないモータを使用
して長期間安定した品質を維持できる光学走査装置を提
供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、請求項1の発明は、マグネットを保持する第一の保
持部材と、コイルを保持する第二の保持部材とを流体を
介して軸受けする動圧軸受け部を有し、コイルに通電す
ることにより、第一の保持部材と第二の保持部材とを相
対回転させてなるモータにおいて、動圧軸受け部の少な
くとも一方の軸受け面に、ポリテトラフルオロエチレン
を分散させたニッケル−燐メッキを施している。
め、請求項1の発明は、マグネットを保持する第一の保
持部材と、コイルを保持する第二の保持部材とを流体を
介して軸受けする動圧軸受け部を有し、コイルに通電す
ることにより、第一の保持部材と第二の保持部材とを相
対回転させてなるモータにおいて、動圧軸受け部の少な
くとも一方の軸受け面に、ポリテトラフルオロエチレン
を分散させたニッケル−燐メッキを施している。
【0010】また、請求項2の発明は、光源からの光束
を走査するポリゴンミラーと、マグネットを保持する第
一の保持部材とコイルを保持する第二の保持部材とを流
体を介して軸受けする動圧軸受け部を有し、コイルに通
電することにより第一の保持部材と第二の保持部材とを
相対回転させてなるモータとを備え、ポリゴンミラーを
このモータで回転駆動するようになした光学走査装置に
おいて、モータの動圧軸受け部の少なくとも一方の軸受
け面に、ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッ
ケル−燐メッキを施している。
を走査するポリゴンミラーと、マグネットを保持する第
一の保持部材とコイルを保持する第二の保持部材とを流
体を介して軸受けする動圧軸受け部を有し、コイルに通
電することにより第一の保持部材と第二の保持部材とを
相対回転させてなるモータとを備え、ポリゴンミラーを
このモータで回転駆動するようになした光学走査装置に
おいて、モータの動圧軸受け部の少なくとも一方の軸受
け面に、ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッ
ケル−燐メッキを施している。
【0011】更に、請求項3の発明は、請求項2の光学
走査装置において、ポリテトラフルオロエチレンを分散
させたニッケル−燐メッキの膜厚を10μm以下として
いる。
走査装置において、ポリテトラフルオロエチレンを分散
させたニッケル−燐メッキの膜厚を10μm以下として
いる。
【0012】
【作用】したがって、請求項1のモータでは、その軸受
け面に摩擦係数の低いポリテトラフルオロエチレンを分
散させたニッケル−燐メッキを施しているので、硬度が
高く、耐摩耗性に優れ、かつ摩擦係数の低い軸受けとす
ることができる。しかも、運転時、軸受け面間の接触に
よる部分的な発熱により、軸受け表面に析出したポリテ
トラフルオロエチレンが溶融し、潤滑皮膜を形成するの
で、摩擦係数が非常に低い軸受けとすることができる。
また、仮にその皮膜が摩耗してもメッキ中に析出したポ
リテトラフルオロエチレンが連続的に露出してくるの
で、低摩擦係数を維持することができる。
け面に摩擦係数の低いポリテトラフルオロエチレンを分
散させたニッケル−燐メッキを施しているので、硬度が
高く、耐摩耗性に優れ、かつ摩擦係数の低い軸受けとす
ることができる。しかも、運転時、軸受け面間の接触に
よる部分的な発熱により、軸受け表面に析出したポリテ
トラフルオロエチレンが溶融し、潤滑皮膜を形成するの
で、摩擦係数が非常に低い軸受けとすることができる。
また、仮にその皮膜が摩耗してもメッキ中に析出したポ
リテトラフルオロエチレンが連続的に露出してくるの
で、低摩擦係数を維持することができる。
【0013】加えて、請求項2の発明では、ポリゴンミ
ラーを駆動するモータとして、その軸受け面に摩擦係数
の低いポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッケ
ル−燐メッキを施しているので、回転がロックされるこ
とによる無用な発熱での他の精密部品への悪影響や修理
作業が生じない。
ラーを駆動するモータとして、その軸受け面に摩擦係数
の低いポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッケ
ル−燐メッキを施しているので、回転がロックされるこ
とによる無用な発熱での他の精密部品への悪影響や修理
作業が生じない。
【0014】また、請求項3の発明では、同様に、回転
がロックされることによる無用な発熱での他の精密部品
への悪影響や修理作業が生じることがないうえに、メッ
キの膜厚を10μm以下としているので、メッキ面の面
粗度が悪くならず、摩耗が生じにくい。また、仮にメッ
キ面が摩耗によりほとんど滅失しても、軸受け面間の寸
法精度は、10μm以下の値のみの変化であり、動圧特
性への影響は少ない。
がロックされることによる無用な発熱での他の精密部品
への悪影響や修理作業が生じることがないうえに、メッ
キの膜厚を10μm以下としているので、メッキ面の面
粗度が悪くならず、摩耗が生じにくい。また、仮にメッ
キ面が摩耗によりほとんど滅失しても、軸受け面間の寸
法精度は、10μm以下の値のみの変化であり、動圧特
性への影響は少ない。
【0015】
【実施例】以下、本発明の構成を図面に示す実施例に基
づいて詳細に説明する。
づいて詳細に説明する。
【0016】図1に本発明のモータおよび光学走査装置
の一実施例を示す。このモータは、図示しない光源から
の光束を、回転多面鏡であるポリゴンミラー1で反射さ
せ、図示しないFθレンズ等の各種レンズにより感光ド
ラム上に微小のビーム径として収束させ、静電潜像を書
き込む光学走査装置に使用されるものである。
の一実施例を示す。このモータは、図示しない光源から
の光束を、回転多面鏡であるポリゴンミラー1で反射さ
せ、図示しないFθレンズ等の各種レンズにより感光ド
ラム上に微小のビーム径として収束させ、静電潜像を書
き込む光学走査装置に使用されるものである。
【0017】このモータの主要構成は、従来と同様に、
ポリゴンミラー1と回転駆動用のマグネット21が取り
付けられて回転する第一の保持部材2と、駆動用のコイ
ル31を保持する第二の保持部材3とからなっている。
第一の保持部材2には、更に、ポリゴンミラー1の回転
バランスを矯正するバランスプレート11とスラストマ
グネット22が取り付けられ、第二の保持部材3には、
スラストマグネット22と協働して第一の保持部材2に
浮動力を発生させるためのスラストマグネット32と、
第二の保持部材3の一部を構成するステータコア33と
ケース体34とが取り付けられている。なお、第二の保
持部材3は、ホルダー4に嵌合固定されている。
ポリゴンミラー1と回転駆動用のマグネット21が取り
付けられて回転する第一の保持部材2と、駆動用のコイ
ル31を保持する第二の保持部材3とからなっている。
第一の保持部材2には、更に、ポリゴンミラー1の回転
バランスを矯正するバランスプレート11とスラストマ
グネット22が取り付けられ、第二の保持部材3には、
スラストマグネット22と協働して第一の保持部材2に
浮動力を発生させるためのスラストマグネット32と、
第二の保持部材3の一部を構成するステータコア33と
ケース体34とが取り付けられている。なお、第二の保
持部材3は、ホルダー4に嵌合固定されている。
【0018】ポリゴンミラー1は、第一の保持部材2の
小径部24にはめ込まれ、その小径部24と大径部25
とをつなぐ連結部28に、ミラー1の平面部を突き当て
ることにより、位置決めされている。そして、バランス
プレート11を、ネジ14により、第一の保持部材2の
小径部24に取り付けることにより、ミラー1は、ミラ
ー押さえ板12と板バネ13とを介して、バランスプレ
ート11と連結部28に挟み込まれ固定される。このバ
ランスプレート11は、第一の保持部材2の加工誤差又
はポリゴンミラー1やマグネット21等を取り付ける際
の組み付け誤差等により、回転体全体の重心位置が正規
な位置からずれた場合の調整部材である。その調整は、
バランスプレート11の外周寄りの位置に、径や深さが
設定された一個又は複数個の凹孔11aを形成すること
により行われる。この調整により、ワウフラッタ等の振
動や軸受け面間の衝突等を解消し、減少させている。ま
た、このバランスプレート11の中心付近には、後述す
る動圧軸受け部と連通し、モータ内部の空気を外部に逃
がす孔11bが、外周端には、回転体全体を着脱する際
に使用する把持部11cがそれぞれ設けられている。
小径部24にはめ込まれ、その小径部24と大径部25
とをつなぐ連結部28に、ミラー1の平面部を突き当て
ることにより、位置決めされている。そして、バランス
プレート11を、ネジ14により、第一の保持部材2の
小径部24に取り付けることにより、ミラー1は、ミラ
ー押さえ板12と板バネ13とを介して、バランスプレ
ート11と連結部28に挟み込まれ固定される。このバ
ランスプレート11は、第一の保持部材2の加工誤差又
はポリゴンミラー1やマグネット21等を取り付ける際
の組み付け誤差等により、回転体全体の重心位置が正規
な位置からずれた場合の調整部材である。その調整は、
バランスプレート11の外周寄りの位置に、径や深さが
設定された一個又は複数個の凹孔11aを形成すること
により行われる。この調整により、ワウフラッタ等の振
動や軸受け面間の衝突等を解消し、減少させている。ま
た、このバランスプレート11の中心付近には、後述す
る動圧軸受け部と連通し、モータ内部の空気を外部に逃
がす孔11bが、外周端には、回転体全体を着脱する際
に使用する把持部11cがそれぞれ設けられている。
【0019】第一の保持部材2は、アルミ材で構成され
ており、その大径部25の内周面にはヨーク27を介し
て回転駆動用のマグネット21が取り付けられ、大径部
25のミラー1が取り付けられた面とは反対の面には周
波数発電機用マグネット26が取り付けられている。第
一の保持部材2の外周面23には、動圧発生用のくの字
状の複数の溝29が設けられ、動圧軸受け部の軸受け面
の一方を構成している。この溝29を含む外周面23全
体には、後述する方法でポリテトラフルオロエチレンを
分散させたニッケル−燐メッキ25aが施されている。
第一の保持部材2の小径部24の内周面には、第二の保
持部材3の一端に取り付けられたスラストマグネット3
2に対向する位置にスラストマグネット22が取り付け
られており、両マグネット22,32の吸引力により、
第一の保持部材2は、第二の保持部材3に対し、スラス
ト方向について非接触な状態が維持される。この吸引力
は、両マグネット22,32の対向する磁極の極性を図
1に示されるように逆にすることで発生している。
ており、その大径部25の内周面にはヨーク27を介し
て回転駆動用のマグネット21が取り付けられ、大径部
25のミラー1が取り付けられた面とは反対の面には周
波数発電機用マグネット26が取り付けられている。第
一の保持部材2の外周面23には、動圧発生用のくの字
状の複数の溝29が設けられ、動圧軸受け部の軸受け面
の一方を構成している。この溝29を含む外周面23全
体には、後述する方法でポリテトラフルオロエチレンを
分散させたニッケル−燐メッキ25aが施されている。
第一の保持部材2の小径部24の内周面には、第二の保
持部材3の一端に取り付けられたスラストマグネット3
2に対向する位置にスラストマグネット22が取り付け
られており、両マグネット22,32の吸引力により、
第一の保持部材2は、第二の保持部材3に対し、スラス
ト方向について非接触な状態が維持される。この吸引力
は、両マグネット22,32の対向する磁極の極性を図
1に示されるように逆にすることで発生している。
【0020】第二の保持部材3の一端に位置する最小径
部3aには、上述したようにスラストマグネット32が
スラストマグネット22に対向するように、最小径部3
aに隣接する小径部3bには、周波数発電機用回路基板
36が周波数発電機用マグネット26に対向するよう
に、小径部3bに隣接する中径部3cには、駆動用のコ
イル31を保持し第二の保持部材3の一部を構成するス
テータコア33がマグネット21に対向するようにそれ
ぞれ取り付けられている。第二の保持部材3の他端に位
置する大径部3dには、第二の保持部材3の一部を構成
する円筒状のケース体34が第一の保持部材2の外周面
23に対し間隙8をもって囲む形で取り付けられてい
る。更に、大径部3dには、ケース体34の取り付け面
と反対の面に、駆動コイル31への通電用回路パターン
が形成された駆動用回路基板37が取り付けられてい
る。
部3aには、上述したようにスラストマグネット32が
スラストマグネット22に対向するように、最小径部3
aに隣接する小径部3bには、周波数発電機用回路基板
36が周波数発電機用マグネット26に対向するよう
に、小径部3bに隣接する中径部3cには、駆動用のコ
イル31を保持し第二の保持部材3の一部を構成するス
テータコア33がマグネット21に対向するようにそれ
ぞれ取り付けられている。第二の保持部材3の他端に位
置する大径部3dには、第二の保持部材3の一部を構成
する円筒状のケース体34が第一の保持部材2の外周面
23に対し間隙8をもって囲む形で取り付けられてい
る。更に、大径部3dには、ケース体34の取り付け面
と反対の面に、駆動コイル31への通電用回路パターン
が形成された駆動用回路基板37が取り付けられてい
る。
【0021】ケース体34は、アルミ材で構成されてお
り、ケース体34には、軸方向に貫通する複数の通気孔
34aと、その通気孔34aと間隙8とを連通する複数
の連通孔34b(本実施例では内周面の対向する位置に
二つ設置)とが設けられている。このケース体34の内
周面35は、動圧軸受け部の軸受け面の他方を構成する
ものであり、その面は、後述する方法でポリテトラフル
オロエチレンを分散させたニッケル−燐メッキ25aが
施されている。ケース体34は、ネジ7により、ホルダ
ー4に固定される。
り、ケース体34には、軸方向に貫通する複数の通気孔
34aと、その通気孔34aと間隙8とを連通する複数
の連通孔34b(本実施例では内周面の対向する位置に
二つ設置)とが設けられている。このケース体34の内
周面35は、動圧軸受け部の軸受け面の他方を構成する
ものであり、その面は、後述する方法でポリテトラフル
オロエチレンを分散させたニッケル−燐メッキ25aが
施されている。ケース体34は、ネジ7により、ホルダ
ー4に固定される。
【0022】ホルダー4は、底付き円筒形状とされ、そ
の中心にケース体34が入れられる。そして、ホルダー
4には、ホルダー4とケース体34との間にできる空間
に連通する通気孔4aと、第二の保持部材3に取り付け
られた駆動用回路基板37に接する形でモータを載置す
る載置部4bと、ケース体34の被固定部34cが載置
される円形の固定部4cと、ケース体34を固定するた
めにネジ7が入る孔4dが設けられている。
の中心にケース体34が入れられる。そして、ホルダー
4には、ホルダー4とケース体34との間にできる空間
に連通する通気孔4aと、第二の保持部材3に取り付け
られた駆動用回路基板37に接する形でモータを載置す
る載置部4bと、ケース体34の被固定部34cが載置
される円形の固定部4cと、ケース体34を固定するた
めにネジ7が入る孔4dが設けられている。
【0023】図2に第一の保持部材2の外周面23の表
面処理工程図を示す。まず、第一の保持部材2を水洗−
酸洗い−水洗の工程により表面を洗浄する。次に、第一
の保持部材2を、次亜燐酸ニッケル液にポリテトラフル
オロエチレンを分散させて得たメッキ材料中に浸漬し、
ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐
メッキを無電解にて施す(以下、無電解Ni−P−PT
FEメッキと呼ぶ)。この無電解Ni−P−PTFEメ
ッキは、支持台9に未貫通の穴91を設け、その穴91
に第一の保持部材2の小径部24を入れ、大径部25の
外周面23をメッキする。なお、この無電解Ni−P−
PTFEメッキは、ポリテトラフルオロエチレンを20
容積%以上含有し、PHが5〜5.5で、かつ約90℃
の液中で行われる。その後、水洗−乾燥の工程を経て表
面処理が終わる。なお、ケース体34の内周面35への
メッキも、使用する治具は異なるが、同様な工程で表面
処理される。
面処理工程図を示す。まず、第一の保持部材2を水洗−
酸洗い−水洗の工程により表面を洗浄する。次に、第一
の保持部材2を、次亜燐酸ニッケル液にポリテトラフル
オロエチレンを分散させて得たメッキ材料中に浸漬し、
ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐
メッキを無電解にて施す(以下、無電解Ni−P−PT
FEメッキと呼ぶ)。この無電解Ni−P−PTFEメ
ッキは、支持台9に未貫通の穴91を設け、その穴91
に第一の保持部材2の小径部24を入れ、大径部25の
外周面23をメッキする。なお、この無電解Ni−P−
PTFEメッキは、ポリテトラフルオロエチレンを20
容積%以上含有し、PHが5〜5.5で、かつ約90℃
の液中で行われる。その後、水洗−乾燥の工程を経て表
面処理が終わる。なお、ケース体34の内周面35への
メッキも、使用する治具は異なるが、同様な工程で表面
処理される。
【0024】上記表面処理工程によって得られた軸受け
面23,35は、一般的に行われているバレルメッキ方
法に比べ、メッキ面の凹凸が非常に少なくなる。即ち、
バレルメッキ方法では、かごの中に入れられた部材同士
がメッキの最中に接触するため、そのメッキ面は、大き
さは微小ではあるが、メッキがつかない部分を海島状に
有する状態となる。図3にその断面状態を示す。第一の
保持部材2の大径部25は、アルミ材の素地上に、無電
解Ni−P−PTFEメッキが施された層(以下、PT
FE層と呼ぶ)25aが載置される二層構造になってお
り、その構造により外周面23が構成されている。PT
FE層25aのところどころにはメッキが付いていない
部分25bがある。そしてメッキ面の表面に生じた凹凸
の差の平均(以下、面粗度と呼ぶ)は、大きくなり、い
わゆる面粗度が悪い状態となる。これに対し、上記の実
施例の工法では、メッキ面同志が接触することは無いの
で、そのメッキ面は、断面状態を示す図4に見られるよ
うに、メッキがつかない部分はほとんど無い状態とな
る。そして、PTFE層25aの厚さは、約5μmとな
っている。PTFE層25aの厚さが、10μmを超す
と面粗度が悪くなり、摩耗の原因となる。また、隙間8
は約10μmを越えると動圧の発生が悪化してまうの
で、10μmを越える肉厚のPTFE層25aを形成し
ても完全なPTFE層が残っていても動圧軸受として機
能せずに無駄となることがある。そこで、PTFE層2
5aの肉厚は10μm以下とするのが好ましい。また、
PTFE層25aの摩耗を考慮すれば、このPTFE層
25aを厚くすることは、間隙8の寸法精度の点でも好
ましいものではない。なお、このPTFE層25aを
0.5μmを下回る値にすると、面粗度上は好ましい
が、摩耗のためPTFE層25aの役割が早く終わって
しまいがちなので、0.5μm以上とするのが好まし
い。また、仮にそのメッキ面が摩耗によりほとんど滅失
しても、軸受け面間の寸法精度は、10μm以下の値の
みの変化であり、動圧特性への影響は少ない。なお、両
面23,35に、共に10μmのメッキを行うと計20
μm以下の値の変化となり、軸受け面間の寸法精度上は
若干問題ではあるが、許容範囲内である。しかし、好ま
しくは、両面23,35のメッキ面の厚さを合わせて計
10μm以下にするのが好ましい。
面23,35は、一般的に行われているバレルメッキ方
法に比べ、メッキ面の凹凸が非常に少なくなる。即ち、
バレルメッキ方法では、かごの中に入れられた部材同士
がメッキの最中に接触するため、そのメッキ面は、大き
さは微小ではあるが、メッキがつかない部分を海島状に
有する状態となる。図3にその断面状態を示す。第一の
保持部材2の大径部25は、アルミ材の素地上に、無電
解Ni−P−PTFEメッキが施された層(以下、PT
FE層と呼ぶ)25aが載置される二層構造になってお
り、その構造により外周面23が構成されている。PT
FE層25aのところどころにはメッキが付いていない
部分25bがある。そしてメッキ面の表面に生じた凹凸
の差の平均(以下、面粗度と呼ぶ)は、大きくなり、い
わゆる面粗度が悪い状態となる。これに対し、上記の実
施例の工法では、メッキ面同志が接触することは無いの
で、そのメッキ面は、断面状態を示す図4に見られるよ
うに、メッキがつかない部分はほとんど無い状態とな
る。そして、PTFE層25aの厚さは、約5μmとな
っている。PTFE層25aの厚さが、10μmを超す
と面粗度が悪くなり、摩耗の原因となる。また、隙間8
は約10μmを越えると動圧の発生が悪化してまうの
で、10μmを越える肉厚のPTFE層25aを形成し
ても完全なPTFE層が残っていても動圧軸受として機
能せずに無駄となることがある。そこで、PTFE層2
5aの肉厚は10μm以下とするのが好ましい。また、
PTFE層25aの摩耗を考慮すれば、このPTFE層
25aを厚くすることは、間隙8の寸法精度の点でも好
ましいものではない。なお、このPTFE層25aを
0.5μmを下回る値にすると、面粗度上は好ましい
が、摩耗のためPTFE層25aの役割が早く終わって
しまいがちなので、0.5μm以上とするのが好まし
い。また、仮にそのメッキ面が摩耗によりほとんど滅失
しても、軸受け面間の寸法精度は、10μm以下の値の
みの変化であり、動圧特性への影響は少ない。なお、両
面23,35に、共に10μmのメッキを行うと計20
μm以下の値の変化となり、軸受け面間の寸法精度上は
若干問題ではあるが、許容範囲内である。しかし、好ま
しくは、両面23,35のメッキ面の厚さを合わせて計
10μm以下にするのが好ましい。
【0025】次に、以上のように構成されたポリゴンミ
ラーモータの駆動について説明する。
ラーモータの駆動について説明する。
【0026】駆動用回路基板37の駆動回路に駆動信号
が入力されると、駆動用のコイル31への通電が開始さ
れる。そして、コイル31とマグネット21の相互作用
により、第二の保持部材3が回転し始め、それと一体固
定されているポリゴンミラー1も回転し始める。すると
動圧の媒体となる空気が、図1の矢印で示されるよう
に、ケース体34に設けられた複数の通気孔34aから
連通孔34bを通り、間隙8に取り込まれる。なお、こ
の空気は、図1の矢印で示されるように、ホルダー4の
通気孔4aから取り込まれたもので、ケース体34に取
り付けられたフィルター38を通り、複数の通気孔34
a内に入ってきたものである。間隙8に取り込まれた空
気は、動圧発生用のくの字状の複数の溝29に供給さ
れ、ケース体34の内周面35との間で動圧力を発生し
ている。これにより、ラジアル方向の軸受けがなされる
と共に、ポリゴンミラー1の高速回転が達成される。こ
の回転は、通常、1〜3万rpmであるが、ポリゴンミ
ラー1の面数や印字密度等に合せ、数千rpmから10
万rpm程度まで対応が可能となっている。ポリゴンミ
ラー1が高速回転されると、ポリゴンミラー1の下部の
空気も粘性により外に飛ばされ、その部分が負圧とな
り、図1の矢印で示されるように、複数の通気孔34a
内の空気と間隙8内の空気が取り込まれる。このように
して、連続した空気の流れができ、動圧による高速回転
が維持される。
が入力されると、駆動用のコイル31への通電が開始さ
れる。そして、コイル31とマグネット21の相互作用
により、第二の保持部材3が回転し始め、それと一体固
定されているポリゴンミラー1も回転し始める。すると
動圧の媒体となる空気が、図1の矢印で示されるよう
に、ケース体34に設けられた複数の通気孔34aから
連通孔34bを通り、間隙8に取り込まれる。なお、こ
の空気は、図1の矢印で示されるように、ホルダー4の
通気孔4aから取り込まれたもので、ケース体34に取
り付けられたフィルター38を通り、複数の通気孔34
a内に入ってきたものである。間隙8に取り込まれた空
気は、動圧発生用のくの字状の複数の溝29に供給さ
れ、ケース体34の内周面35との間で動圧力を発生し
ている。これにより、ラジアル方向の軸受けがなされる
と共に、ポリゴンミラー1の高速回転が達成される。こ
の回転は、通常、1〜3万rpmであるが、ポリゴンミ
ラー1の面数や印字密度等に合せ、数千rpmから10
万rpm程度まで対応が可能となっている。ポリゴンミ
ラー1が高速回転されると、ポリゴンミラー1の下部の
空気も粘性により外に飛ばされ、その部分が負圧とな
り、図1の矢印で示されるように、複数の通気孔34a
内の空気と間隙8内の空気が取り込まれる。このように
して、連続した空気の流れができ、動圧による高速回転
が維持される。
【0027】なお、駆動開始時のモータの姿勢や回転中
の外部からの衝撃、姿勢変化により、軸受け面23,3
5が接触したとしても、その両面23,35に無電解N
i−P−PTFEメッキ25aが施されているので、摩
擦係数の低いポリテトラフルオロエチレンの効果によ
り、その両面23,35が焼き付くことはほとんどなく
なり、モータの回転が停止するという事態もなくなる。
そして、その両面23,35の接触がたびたび起こった
としても、その接触による部分的な発熱により、ポリテ
トラフルオロエチレンが溶融し、潤滑皮膜が形成される
ので、焼き付きは生じない。また、仮にPTFE層25
aが摩耗しても、連続的にポリテトラフルオロエチレン
が露出してくるので、低摩擦係数を維持することができ
る。
の外部からの衝撃、姿勢変化により、軸受け面23,3
5が接触したとしても、その両面23,35に無電解N
i−P−PTFEメッキ25aが施されているので、摩
擦係数の低いポリテトラフルオロエチレンの効果によ
り、その両面23,35が焼き付くことはほとんどなく
なり、モータの回転が停止するという事態もなくなる。
そして、その両面23,35の接触がたびたび起こった
としても、その接触による部分的な発熱により、ポリテ
トラフルオロエチレンが溶融し、潤滑皮膜が形成される
ので、焼き付きは生じない。また、仮にPTFE層25
aが摩耗しても、連続的にポリテトラフルオロエチレン
が露出してくるので、低摩擦係数を維持することができ
る。
【0028】また、間隙8は、駆動用のコイル31や各
種マグネット21,26,22,32,36が存置され
る空間と連通しており、更には、バランスプレート11
の孔11bを介して外部と連通している。これにより、
図1の矢印で示されるような内部空間の空気流路が出来
る。そして、この内部空間に導入された空気は、動圧軸
受け部の空気の逃がしとモータの冷却という二つの役割
に加え、第一の保持部材2を正規位置に保持する役割を
担っている。即ち、第一の保持部材2に対して、軸方向
の外乱が加わり、第一の保持部材2が上方又は下方に変
位しようとすると、バランスプレート11の孔11bの
オリフィス効果により、その変位が抑止される。
種マグネット21,26,22,32,36が存置され
る空間と連通しており、更には、バランスプレート11
の孔11bを介して外部と連通している。これにより、
図1の矢印で示されるような内部空間の空気流路が出来
る。そして、この内部空間に導入された空気は、動圧軸
受け部の空気の逃がしとモータの冷却という二つの役割
に加え、第一の保持部材2を正規位置に保持する役割を
担っている。即ち、第一の保持部材2に対して、軸方向
の外乱が加わり、第一の保持部材2が上方又は下方に変
位しようとすると、バランスプレート11の孔11bの
オリフィス効果により、その変位が抑止される。
【0029】本実施例では、複数の通気孔34aを通る
空気の流れにより、モータの熱が奪われるので、ファン
等の部品を付加することなく、冷却効果を上げることが
出来る。本実施例のPTFE層25aは、塗装と異な
り、無電解メッキにて処理されるので、被膜厚さのコン
トロ−ルができ、間隙8の寸法精度や軸受け面23,3
5の面粗度が管理し易くなり、後加工も不要もしくは低
減される。
空気の流れにより、モータの熱が奪われるので、ファン
等の部品を付加することなく、冷却効果を上げることが
出来る。本実施例のPTFE層25aは、塗装と異な
り、無電解メッキにて処理されるので、被膜厚さのコン
トロ−ルができ、間隙8の寸法精度や軸受け面23,3
5の面粗度が管理し易くなり、後加工も不要もしくは低
減される。
【0030】なお、上述の実施例は、本発明の好適な実
施例の一例ではあるが、これに限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変形実
施可能である。例えば、無電解Ni−P−PTFEメッ
キの代わりにポリテトラフルオロエチレンを分散した無
電解ニッケル−ほう素メッキでも同様に焼き付きが防止
される。また、無電解Ni−P−PTFEメッキを施し
たした後、熱処理を行うことによって、ベースとなるN
i−P膜の更なる硬度アップが可能となる。また、熱処
理の温度によっては、ポリテトラフルオロエチレンのみ
が溶融し、ベースとなるNi−P膜を覆うこととなり、
面粗度が良くなる。
施例の一例ではあるが、これに限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変形実
施可能である。例えば、無電解Ni−P−PTFEメッ
キの代わりにポリテトラフルオロエチレンを分散した無
電解ニッケル−ほう素メッキでも同様に焼き付きが防止
される。また、無電解Ni−P−PTFEメッキを施し
たした後、熱処理を行うことによって、ベースとなるN
i−P膜の更なる硬度アップが可能となる。また、熱処
理の温度によっては、ポリテトラフルオロエチレンのみ
が溶融し、ベースとなるNi−P膜を覆うこととなり、
面粗度が良くなる。
【0031】更に、上述の実施例では、両軸受け面2
3,35に無電解Ni−P−PTFEメッキが施されて
おり、焼き付き防止の面で非常に優れたものとなってい
るが、両軸受け面23,35の一方のみに無電解Ni−
P−PTFEメッキを施し、他方には、従来のシリカ微
粒子を含むニッケル−燐無電解メッキや硬質アルマイト
処理をしたものであっても、従来構成に比べ、焼き付き
防止の改善効果がある。また、無電解Ni−P−PTF
Eメッキを施す際、そのメッキの密着力を向上させるた
め、アルミ材の素地上に下地メッキとしてニッケル−燐
メッキを無電解等によりメッキした上にこの無電解Ni
−P−PTFEメッキを施しても良い。更には、従来の
シリカ微粒子を含むニッケル−燐無電解メッキや硬質ア
ルマイト処理をしたものに、この無電解Ni−P−PT
FEメッキを施しても良い。
3,35に無電解Ni−P−PTFEメッキが施されて
おり、焼き付き防止の面で非常に優れたものとなってい
るが、両軸受け面23,35の一方のみに無電解Ni−
P−PTFEメッキを施し、他方には、従来のシリカ微
粒子を含むニッケル−燐無電解メッキや硬質アルマイト
処理をしたものであっても、従来構成に比べ、焼き付き
防止の改善効果がある。また、無電解Ni−P−PTF
Eメッキを施す際、そのメッキの密着力を向上させるた
め、アルミ材の素地上に下地メッキとしてニッケル−燐
メッキを無電解等によりメッキした上にこの無電解Ni
−P−PTFEメッキを施しても良い。更には、従来の
シリカ微粒子を含むニッケル−燐無電解メッキや硬質ア
ルマイト処理をしたものに、この無電解Ni−P−PT
FEメッキを施しても良い。
【0032】第一の保持部材2やケース体34は、アル
ミ材ではなく、ステンレスやSK材などでも良いが、ア
ルミ材が加工性や駆動性等の面で優れており、コスト低
減が可能となる。また、第二の保持部材3の一部がステ
ータコア33やケース体34とされ、第二の保持部材3
は、三つの別部材となっているが、一部又は全部を一体
化し、二部材又は一部材としても良い。
ミ材ではなく、ステンレスやSK材などでも良いが、ア
ルミ材が加工性や駆動性等の面で優れており、コスト低
減が可能となる。また、第二の保持部材3の一部がステ
ータコア33やケース体34とされ、第二の保持部材3
は、三つの別部材となっているが、一部又は全部を一体
化し、二部材又は一部材としても良い。
【0033】また、動圧を発生させる流体としては、空
気等の気体ではなく、油等の液体でも良い。実施例で
は、マグネットを保持する第一の保持部材を回転させて
いるが、コイルを保持する第二の保持部材を回転させる
ようにしても良い。
気等の気体ではなく、油等の液体でも良い。実施例で
は、マグネットを保持する第一の保持部材を回転させて
いるが、コイルを保持する第二の保持部材を回転させる
ようにしても良い。
【0034】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1の発明のモータでは、その軸受け面に摩擦係数の低い
ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐
メッキを施しているので、硬度が高く、耐摩耗性に優
れ、かつ摩擦係数の低い軸受けとすることができる。し
かも、運転時、軸受け面間の接触による部分的な発熱に
より、軸受け表面のポリテトラフルオロエチレンが溶融
し、潤滑皮膜を形成するので、摩擦係数が非常に低い軸
受けとすることができる。また、仮にその皮膜が摩耗し
てもポリテトラフルオロエチレンが連続的に露出してく
るので、低摩擦係数を維持する事が出来る。このため、
長期間、安定した高速回転を維持し、かつ軸受け面間の
接触による焼き付けが生じないモータを提供することが
できる。
1の発明のモータでは、その軸受け面に摩擦係数の低い
ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐
メッキを施しているので、硬度が高く、耐摩耗性に優
れ、かつ摩擦係数の低い軸受けとすることができる。し
かも、運転時、軸受け面間の接触による部分的な発熱に
より、軸受け表面のポリテトラフルオロエチレンが溶融
し、潤滑皮膜を形成するので、摩擦係数が非常に低い軸
受けとすることができる。また、仮にその皮膜が摩耗し
てもポリテトラフルオロエチレンが連続的に露出してく
るので、低摩擦係数を維持する事が出来る。このため、
長期間、安定した高速回転を維持し、かつ軸受け面間の
接触による焼き付けが生じないモータを提供することが
できる。
【0035】加えて、請求項2の発明では、ポリゴンミ
ラーを駆動するモータの軸受け面に摩擦係数の低いポリ
テトラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐メッ
キを施しているので、回転がロックされることによる無
用な発熱で、装置内の他の精密部品へ悪影響を及ぼすこ
とはなくなり、余分な修理作業も生じない。このため、
長期間安定した品質を維持できる光学走査装置を提供す
ることができる。
ラーを駆動するモータの軸受け面に摩擦係数の低いポリ
テトラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐メッ
キを施しているので、回転がロックされることによる無
用な発熱で、装置内の他の精密部品へ悪影響を及ぼすこ
とはなくなり、余分な修理作業も生じない。このため、
長期間安定した品質を維持できる光学走査装置を提供す
ることができる。
【0036】また、請求項3の発明では、更に、ポリテ
トラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐メッキ
の膜厚を10μm以下としているので、メッキ面の面粗
度が悪くならず、摩耗が生じにくい。また、仮にそのメ
ッキ面が摩耗によりほとんど滅失しても、軸受け面間の
寸法精度は、10μm以下の値のみの変化であり、動圧
特性への影響は少ない。このため、より一層安定した品
質を維持できる光学走査装置を提供することができる。
トラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐メッキ
の膜厚を10μm以下としているので、メッキ面の面粗
度が悪くならず、摩耗が生じにくい。また、仮にそのメ
ッキ面が摩耗によりほとんど滅失しても、軸受け面間の
寸法精度は、10μm以下の値のみの変化であり、動圧
特性への影響は少ない。このため、より一層安定した品
質を維持できる光学走査装置を提供することができる。
【図1】本発明の実施例の要部の一部切欠き断面図であ
る。
る。
【図2】本発明の実施例で使用されている軸受け面の表
面処理工程図である。
面処理工程図である。
【図3】バレルメッキ方法でメッキされた軸受け面の表
面状況を示す断面図である。
面状況を示す断面図である。
【図4】本発明の実施例で示された方法によってメッキ
された軸受け面の表面状況を示す断面図である。
された軸受け面の表面状況を示す断面図である。
【図5】光学走査装置に使用されるポリゴンミラーモー
タの要部断面図である。
タの要部断面図である。
1 ポリゴンミラー 2 第一の保持部材 3 第二の保持部材 21 マグネット 23 軸受け面 25a ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッ
ケル−燐メッキ(PTFE層) 31 コイル 35 軸受け面
ケル−燐メッキ(PTFE層) 31 コイル 35 軸受け面
Claims (3)
- 【請求項1】 マグネットを保持する第一の保持部材
と、コイルを保持する第二の保持部材とを流体を介して
軸受けする動圧軸受け部を有し、前記コイルに通電する
ことにより、上記第一の保持部材と第二の保持部材とを
相対回転させてなるモータにおいて、上記動圧軸受け部
の少なくとも一方の軸受け面に、ポリテトラフルオロエ
チレンを分散させたニッケル−燐メッキを施したことを
特徴とするモータ。 - 【請求項2】 光源からの光束を走査するポリゴンミラ
ーと、マグネットを保持する第一の保持部材とコイルを
保持する第二の保持部材とを流体を介して軸受けする動
圧軸受け部を有し、前記コイルに通電することにより、
上記第一の保持部材と第二の保持部材とを相対回転させ
てなるモータとを備え、上記ポリゴンミラーをこのモー
タで回転駆動するようになした光学走査装置において、
前記モータの動圧軸受け部の少なくとも一方の軸受け面
に、ポリテトラフルオロエチレンを分散させたニッケル
−燐メッキを施したことを特徴とする光学走査装置。 - 【請求項3】 請求項2の光学走査装置において、ポリ
テトラフルオロエチレンを分散させたニッケル−燐メッ
キの膜厚を10μm以下としたことを特徴とする光学走
査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21671594A JPH0865950A (ja) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | モータ及びモータを使用した光学走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21671594A JPH0865950A (ja) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | モータ及びモータを使用した光学走査装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001289768A Division JP2002174793A (ja) | 2001-09-21 | 2001-09-21 | モータ及びモータを使用した光学走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0865950A true JPH0865950A (ja) | 1996-03-08 |
Family
ID=16692789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21671594A Pending JPH0865950A (ja) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | モータ及びモータを使用した光学走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0865950A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001200838A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-07-27 | Seiko Instruments Inc | 流体動圧軸受、流体動圧軸受装置、流体動圧軸受の製造方法、及び軸受表面加工方法 |
| JP2002199654A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 流体軸受モータとその製造方法 |
-
1994
- 1994-08-19 JP JP21671594A patent/JPH0865950A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001200838A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-07-27 | Seiko Instruments Inc | 流体動圧軸受、流体動圧軸受装置、流体動圧軸受の製造方法、及び軸受表面加工方法 |
| JP2002199654A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 流体軸受モータとその製造方法 |
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