JPH0873493A - １７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製造方法 - Google Patents
１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製造方法Info
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- JPH0873493A JPH0873493A JP6208542A JP20854294A JPH0873493A JP H0873493 A JPH0873493 A JP H0873493A JP 6208542 A JP6208542 A JP 6208542A JP 20854294 A JP20854294 A JP 20854294A JP H0873493 A JPH0873493 A JP H0873493A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Steroid Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記の式
【化１】
で示される１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−
トリエン−３，２０−ジオンの製造方法。 【効果】 抗男性ホルモン剤として有用な酢酸ゲストロ
キサンの合成中間体として有用な１７α−ヒドロキシプ
レグナン−３，２０−ジオンを短工程で収率よく製造す
ることができる。
トリエン−３，２０−ジオンの製造方法。 【効果】 抗男性ホルモン剤として有用な酢酸ゲストロ
キサンの合成中間体として有用な１７α−ヒドロキシプ
レグナン−３，２０−ジオンを短工程で収率よく製造す
ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、１７α−ヒドロキシプ
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製
造方法およびその中間体に関する。本発明により製造さ
れる１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエ
ン−３，２０−ジオンは、抗男性ホルモン剤として有用
な酢酸ゲストロキサンの合成中間体として有用である。
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製
造方法およびその中間体に関する。本発明により製造さ
れる１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエ
ン−３，２０−ジオンは、抗男性ホルモン剤として有用
な酢酸ゲストロキサンの合成中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】強い抗男性ホルモン剤として有用な化合
物である酢酸ゲストロキサンは、１７α−アセトキシプ
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンから
容易に製造されることが知られている（特開昭６１−２
０４１９８号公報参照）。従来、１７α−アセトキシプ
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製
造方法としては、ドイツ特許出願公開明細書第１，１１
９，２２６号に記載された１７α−アセトキシプレグナ
−４−エン−３−オンを原料とする方法が知られてい
る。
物である酢酸ゲストロキサンは、１７α−アセトキシプ
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンから
容易に製造されることが知られている（特開昭６１−２
０４１９８号公報参照）。従来、１７α−アセトキシプ
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製
造方法としては、ドイツ特許出願公開明細書第１，１１
９，２２６号に記載された１７α−アセトキシプレグナ
−４−エン−３−オンを原料とする方法が知られてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の文献には、生成
物である１７α−アセトキシプレグナ−１，４，６−ト
リエン−３，２０−ジオンの収率は記載されていない
が、ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサエ
ティー（Journal of American Chemical Society）、72
巻、4534頁（1950年）に記載されている類似の反応例か
ら推測すれば、その収率は低い。
物である１７α−アセトキシプレグナ−１，４，６−ト
リエン−３，２０−ジオンの収率は記載されていない
が、ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサエ
ティー（Journal of American Chemical Society）、72
巻、4534頁（1950年）に記載されている類似の反応例か
ら推測すれば、その収率は低い。
【０００４】しかして、本発明の１つの目的は、酢酸ゲ
ストロキサンの合成中間体として有用な１７α−アセト
キシプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオ
ンへ容易に変換可能な１７α−ヒドロキシプレグナ−
１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンを、短工程で
収率よく得る方法を提供することにある。本発明の他の
目的は、１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−ト
リエン−３，２０−ジオンを与える新規な合成中間体を
提供することにある。
ストロキサンの合成中間体として有用な１７α−アセト
キシプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオ
ンへ容易に変換可能な１７α−ヒドロキシプレグナ−
１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンを、短工程で
収率よく得る方法を提供することにある。本発明の他の
目的は、１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−ト
リエン−３，２０−ジオンを与える新規な合成中間体を
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、下記の一般式（Ｉ）
目的は、下記の一般式（Ｉ）
【０００６】
【化８】
【０００７】（式中、Ｒは水素原子または水酸基の保護
基を表す。）で示される化合物［以下、化合物（Ｉ）と
略記する。］を、銅触媒の存在下に分子状酸素により酸
化して下記の一般式（II）
基を表す。）で示される化合物［以下、化合物（Ｉ）と
略記する。］を、銅触媒の存在下に分子状酸素により酸
化して下記の一般式（II）
【０００８】
【化９】
【０００９】（式中、Ｒは前記定義のとおりである。）
で示される２０−ケトン体［以下、２０−ケトン体（I
I）と略記する。］を得、該２０−ケトン体（II）を酸
触媒の存在下に脱水反応に付すことにより下記の式（II
I ）
で示される２０−ケトン体［以下、２０−ケトン体（I
I）と略記する。］を得、該２０−ケトン体（II）を酸
触媒の存在下に脱水反応に付すことにより下記の式（II
I ）
【００１０】
【化１０】
【００１１】で示されるプレグナ−１，４，６−トリエ
ン−３，２０−ジオン（III ）を得、該プレグナ−１，
４，６−トリエン−３，２０−ジオン（III ）を塩基お
よび還元剤の存在下に分子状酸素により酸化することを
特徴とする下記の式（IV）
ン−３，２０−ジオン（III ）を得、該プレグナ−１，
４，６−トリエン−３，２０−ジオン（III ）を塩基お
よび還元剤の存在下に分子状酸素により酸化することを
特徴とする下記の式（IV）
【００１２】
【化１１】
【００１３】で示される１７α−ヒドロキシプレグナ−
１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン（IV）の製造
方法および２０−ケトン体（II）を提供することにより
達成される。
１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン（IV）の製造
方法および２０−ケトン体（II）を提供することにより
達成される。
【００１４】前記一般式（Ｉ）および（II）において、
Ｒが示す水酸基の保護基としては、水酸基の保護の役割
を果たす基であれば特に制限されないが、例えば、メチ
ル基、第三級ブチル基、トリフェニルメチル基などの置
換基を有していてもよいアルキル基；ベンジル基などの
アラルキル基；アリル基などのアルケニル基；メトキシ
メチル基、１−エトキシエチル基、メトキシエトキシメ
チル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニ
ル基などの置換基を有していてもよいアルコキシメチル
基；ベンジルオキシメチル基などのアラルキルオキシメ
チル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、イ
ソプロピルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル
基、第三級ブチルジメチルシリル基、第三級ブチルジフ
ェニルシリル基、トリフェニルシリル基などの三置換シ
リル基などを挙げることができる。
Ｒが示す水酸基の保護基としては、水酸基の保護の役割
を果たす基であれば特に制限されないが、例えば、メチ
ル基、第三級ブチル基、トリフェニルメチル基などの置
換基を有していてもよいアルキル基；ベンジル基などの
アラルキル基；アリル基などのアルケニル基；メトキシ
メチル基、１−エトキシエチル基、メトキシエトキシメ
チル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニ
ル基などの置換基を有していてもよいアルコキシメチル
基；ベンジルオキシメチル基などのアラルキルオキシメ
チル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、イ
ソプロピルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル
基、第三級ブチルジメチルシリル基、第三級ブチルジフ
ェニルシリル基、トリフェニルシリル基などの三置換シ
リル基などを挙げることができる。
【００１５】本発明の製造方法の各工程を詳細に説明す
る。化合物（Ｉ）から２０−ケトン体（II）を得る工程
において、反応系に存在させる銅触媒としては、酢酸銅
（II）、硫酸銅（II）などが使用される。銅触媒の使用
量は化合物（Ｉ）に対して１モル％から７モル％の範囲
が好ましく、３モル％から５モル％の範囲がより好まし
い。この反応は、２，２’−ジピリジルおよび塩基の存
在下に行うことが良好な結果を与える。２，２’−ジピ
リジルの使用量は、化合物（Ｉ）に対して１モル％から
１０モル％の範囲が好ましく、３モル％から５モル％の
範囲がより好ましい。塩基としては、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、１，４−ジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどが用いられる。
塩基の使用量は、化合物（Ｉ）に対して０．２当量から
１．５当量の範囲が好ましく、０．４当量から０．７当
量の範囲がより好ましい。反応は、反応液中に空気、好
ましくは酸素を吹き込むことによって行われる。反応
は、０℃から３０℃の範囲の温度で行うのが好ましい。
る。化合物（Ｉ）から２０−ケトン体（II）を得る工程
において、反応系に存在させる銅触媒としては、酢酸銅
（II）、硫酸銅（II）などが使用される。銅触媒の使用
量は化合物（Ｉ）に対して１モル％から７モル％の範囲
が好ましく、３モル％から５モル％の範囲がより好まし
い。この反応は、２，２’−ジピリジルおよび塩基の存
在下に行うことが良好な結果を与える。２，２’−ジピ
リジルの使用量は、化合物（Ｉ）に対して１モル％から
１０モル％の範囲が好ましく、３モル％から５モル％の
範囲がより好ましい。塩基としては、トリエチルアミ
ン、ジイソプロピルエチルアミン、１，４−ジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどが用いられる。
塩基の使用量は、化合物（Ｉ）に対して０．２当量から
１．５当量の範囲が好ましく、０．４当量から０．７当
量の範囲がより好ましい。反応は、反応液中に空気、好
ましくは酸素を吹き込むことによって行われる。反応
は、０℃から３０℃の範囲の温度で行うのが好ましい。
【００１６】２０−ケトン体（II）からプレグナ−１，
４，６−トリエン−３，２０−ジオン（III ）を得る工
程において、反応系に存在させる酸触媒としては、硫
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸などを使用するこ
とができる。酸触媒の使用量は、２０−ケトン体（II）
に対して０．１当量から１当量の範囲が好ましく、０．
３当量から０．５当量の範囲がより好ましい。かかる反
応は、ベンゼンまたはトルエンを反応溶媒として用い、
加熱環流下に行うのが良好な結果を与える。
４，６−トリエン−３，２０−ジオン（III ）を得る工
程において、反応系に存在させる酸触媒としては、硫
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、リン酸などを使用するこ
とができる。酸触媒の使用量は、２０−ケトン体（II）
に対して０．１当量から１当量の範囲が好ましく、０．
３当量から０．５当量の範囲がより好ましい。かかる反
応は、ベンゼンまたはトルエンを反応溶媒として用い、
加熱環流下に行うのが良好な結果を与える。
【００１７】プレグナ−１，４，６−トリエン−３，２
０−ジオン（III ）から１７α−ヒドロキシプレグナ−
１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン（IV）を得る
工程において、反応系に存在させる塩基としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ
金属の水酸化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムｔ
−ブトキシドなどのアルコキシドなどが用いられる。塩
基の使用量はプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２
０−ジオン（III ）に対して１当量から５当量の範囲が
好ましく、２当量から４当量の範囲がより好ましい。
０−ジオン（III ）から１７α−ヒドロキシプレグナ−
１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン（IV）を得る
工程において、反応系に存在させる塩基としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ
金属の水酸化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムｔ
−ブトキシドなどのアルコキシドなどが用いられる。塩
基の使用量はプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２
０−ジオン（III ）に対して１当量から５当量の範囲が
好ましく、２当量から４当量の範囲がより好ましい。
【００１８】また、還元剤としては、ジメチルスルフィ
ド、ジエチルスルフィドなどのジアルキルスルフィド；
テトラヒドロチオフェン；亜リン酸トリメチル、亜リン
酸トリエチルなどの亜リン酸トリアルキル；亜リン酸ト
リフェニル；またはトリフェニルホスフィンなどの過酸
化物を還元する能力のある化合物が使用される。還元剤
の使用量はプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０
−ジオン（III ）に対して１当量から１０当量の範囲が
好ましく、２当量から５当量の範囲がより好ましい。
ド、ジエチルスルフィドなどのジアルキルスルフィド；
テトラヒドロチオフェン；亜リン酸トリメチル、亜リン
酸トリエチルなどの亜リン酸トリアルキル；亜リン酸ト
リフェニル；またはトリフェニルホスフィンなどの過酸
化物を還元する能力のある化合物が使用される。還元剤
の使用量はプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０
−ジオン（III ）に対して１当量から１０当量の範囲が
好ましく、２当量から５当量の範囲がより好ましい。
【００１９】かかる反応は、反応溶液中に空気、好まし
くは酸素を吹き込むことにより行われる。反応は−１５
℃から−２５℃の範囲の温度で行うのが好ましい。
くは酸素を吹き込むことにより行われる。反応は−１５
℃から−２５℃の範囲の温度で行うのが好ましい。
【００２０】このようにして得られた１７α−ヒドロキ
シプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン
（IV）の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機化
合物の単離・精製において用いられるのと同様の方法で
行われる。例えば、反応混合物を水、塩化アンモニウム
水溶液または重曹水溶液に注ぎ、ジエチルエーテル、塩
化メチレン、酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、該抽出
液を水、食塩水で洗浄したのち、乾燥、濃縮して粗生成
物を得、該粗生成物を必要に応じて再結晶、クロマチグ
ラフィー等により生成することにより行われる。
シプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン
（IV）の反応混合物からの単離・精製は、通常の有機化
合物の単離・精製において用いられるのと同様の方法で
行われる。例えば、反応混合物を水、塩化アンモニウム
水溶液または重曹水溶液に注ぎ、ジエチルエーテル、塩
化メチレン、酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、該抽出
液を水、食塩水で洗浄したのち、乾燥、濃縮して粗生成
物を得、該粗生成物を必要に応じて再結晶、クロマチグ
ラフィー等により生成することにより行われる。
【００２１】本発明により得られる１７α−ヒドロキシ
プレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン
（IV）は、特開昭５４−１０９９５９号公報に記載の方
法により１７α−アセトキシプレグナ−１，４，６−ト
リエン−３，２０−ジオンに容易に変換することができ
る。さらに、１７α−アセトキシプレグナ−１，４，６
−トリエン−３，２０−ジオンは、特開昭６１−２０４
１９８号公報に記載の方法により、酢酸ゲストロキサン
に導くことができる。
プレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン
（IV）は、特開昭５４−１０９９５９号公報に記載の方
法により１７α−アセトキシプレグナ−１，４，６−ト
リエン−３，２０−ジオンに容易に変換することができ
る。さらに、１７α−アセトキシプレグナ−１，４，６
−トリエン−３，２０−ジオンは、特開昭６１−２０４
１９８号公報に記載の方法により、酢酸ゲストロキサン
に導くことができる。
【００２２】また、本発明の出発物質である化合物
（Ｉ）は、国際特許出願公開第８８/ ０７５４５号明細
書記載の方法に従って製造することができる。
（Ｉ）は、国際特許出願公開第８８/ ０７５４５号明細
書記載の方法に従って製造することができる。
【００２３】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
する。なお、本発明はこれらの実施例によって制限され
るものではない。
する。なお、本発明はこれらの実施例によって制限され
るものではない。
【００２４】実施例１ ７α−ヒドロキシプレグナ−１，４−ジエン−３，２０
−ジオンの合成 室温下、７α−ヒドロキシプレグナ−２０−ホルミル−
１，４−ジエン−３−オン（１０ｇ、２９．２ｍｍｏ
ｌ）のN,N-ジメチルホルムアミド（２００ｍｌ）溶液に
酢酸第一銅一水和物（１７０ｍｇ、０．８５ｍｍｏ
ｌ）、２，２’−ジピリジル（１４０ｍｇ、０．９０ｍ
ｍｏｌ）および１，８−ジアザビシクロ[ ５．４．０]
ウンデカ−７−エン（２．０ｍｌ、１４．６ｍｍｏｌ）
を加え、室温下、空気を吹き込みながら２０時間撹拌し
た。反応溶液を減圧下に濃縮した後に、酢酸エチル（３
００ｍｌ）により希釈し、水（２００ｍｌ）により洗浄
した。得られた水層を酢酸エチル（１００ｍｌ）により
２度抽出し、有機層を先に得られた有機層に加えた。有
機層は水（２００ｍｌ）で２度洗浄し、次いで飽和食塩
水（２００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより
乾燥した後に、減圧下に溶媒を溜去した。得られた残査
を塩化メチレン（４０ｍｌ）に溶解して得られた溶液
に、ヘキサン（８０ｍｌ）を加え、生成した沈澱を濾過
することにより、下記の物性値を示す７α−ヒドロキシ
プレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン７．９５
ｇ（収率８３％）を得た。13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ） 209.2 、185.6 、164.5 、155.4 、127.6 、127.2 、6
9.4、63.2、50.4、44.1、43.9、43.4、41.0、39.7、38.
0、31.4、23.9、22.8、22.4、18.3、13.2
−ジオンの合成 室温下、７α−ヒドロキシプレグナ−２０−ホルミル−
１，４−ジエン−３−オン（１０ｇ、２９．２ｍｍｏ
ｌ）のN,N-ジメチルホルムアミド（２００ｍｌ）溶液に
酢酸第一銅一水和物（１７０ｍｇ、０．８５ｍｍｏ
ｌ）、２，２’−ジピリジル（１４０ｍｇ、０．９０ｍ
ｍｏｌ）および１，８−ジアザビシクロ[ ５．４．０]
ウンデカ−７−エン（２．０ｍｌ、１４．６ｍｍｏｌ）
を加え、室温下、空気を吹き込みながら２０時間撹拌し
た。反応溶液を減圧下に濃縮した後に、酢酸エチル（３
００ｍｌ）により希釈し、水（２００ｍｌ）により洗浄
した。得られた水層を酢酸エチル（１００ｍｌ）により
２度抽出し、有機層を先に得られた有機層に加えた。有
機層は水（２００ｍｌ）で２度洗浄し、次いで飽和食塩
水（２００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより
乾燥した後に、減圧下に溶媒を溜去した。得られた残査
を塩化メチレン（４０ｍｌ）に溶解して得られた溶液
に、ヘキサン（８０ｍｌ）を加え、生成した沈澱を濾過
することにより、下記の物性値を示す７α−ヒドロキシ
プレグナ−１，４−ジエン−３，２０−ジオン７．９５
ｇ（収率８３％）を得た。13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ） 209.2 、185.6 、164.5 、155.4 、127.6 、127.2 、6
9.4、63.2、50.4、44.1、43.9、43.4、41.0、39.7、38.
0、31.4、23.9、22.8、22.4、18.3、13.2
【００２５】実施例２ プレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの
合成 窒素雰囲気下、７α−ヒドロキシプレグナ−１，４−ジ
エン−３，２０−ジオン（６. ２８ｇ、１９．１ｍｍｏ
ｌ）をトルエン（５０ｍｌ）およびN,N-ジメチルホルム
アミド（１０ｍｌ）の混合溶媒に溶解して得られた溶液
に、ｐ−トルエンスルホン酸（１．１ｇ、５．７４ｍｍ
ｏｌ）を加え、還流下脱水装置を用いて２０時間反応さ
せた。反応溶液を、酢酸エチル（５０ｍｌ）により希釈
し、続いて、水（１００ｍｌ）により洗浄した。得られ
た水層を酢酸エチル（１００ｍｌ）で２度抽出し、有機
層を先に得られた有機層に加えた。有機層は１規定水酸
化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）で３度洗浄し、飽和食
塩水（５０ｍｌ）で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウム
により乾燥し、減圧下に溶媒を溜去することにより、下
記の物性値を示すプレグナ−１，４，６−トリエン−
３，２０−ジオン５．４ｇ（収率９１％）を得た。13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ） 208.9 、186.3 、162.2 、152.7 、137.8 、128.3 、12
7.9 、124.0 、63.1、53.8、48.2、44.3、41.1、38.5、
38.1、31.5、23.9、22.9、21.8、20.7
合成 窒素雰囲気下、７α−ヒドロキシプレグナ−１，４−ジ
エン−３，２０−ジオン（６. ２８ｇ、１９．１ｍｍｏ
ｌ）をトルエン（５０ｍｌ）およびN,N-ジメチルホルム
アミド（１０ｍｌ）の混合溶媒に溶解して得られた溶液
に、ｐ−トルエンスルホン酸（１．１ｇ、５．７４ｍｍ
ｏｌ）を加え、還流下脱水装置を用いて２０時間反応さ
せた。反応溶液を、酢酸エチル（５０ｍｌ）により希釈
し、続いて、水（１００ｍｌ）により洗浄した。得られ
た水層を酢酸エチル（１００ｍｌ）で２度抽出し、有機
層を先に得られた有機層に加えた。有機層は１規定水酸
化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）で３度洗浄し、飽和食
塩水（５０ｍｌ）で洗浄した後に、無水硫酸ナトリウム
により乾燥し、減圧下に溶媒を溜去することにより、下
記の物性値を示すプレグナ−１，４，６−トリエン−
３，２０−ジオン５．４ｇ（収率９１％）を得た。13 Ｃ−ＮＭＲ（６７．５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ） 208.9 、186.3 、162.2 、152.7 、137.8 、128.3 、12
7.9 、124.0 、63.1、53.8、48.2、44.3、41.1、38.5、
38.1、31.5、23.9、22.9、21.8、20.7
【００２６】実施例３ １７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエン−
３，２０−ジオンの合成 窒素雰囲気下、粗プレグナ−１，４，６−トリエン−
３，２０−ジオン（５．６ｇ、１８．１ｍｍｏｌ）のN,
N-ジメチルホルムアミド（２２５ｍｌ）溶液に亜リン酸
トリエチル（８．４ｍｌ）および水酸化ナトリウム
（２．２４ｇ）のメタノール（１１．２ｍｌ）溶液を−
２０℃で加え、酸素を吹き込みながら−２０℃で６時間
撹拌した。反応溶液に−２０℃で窒素を３０分間吹き込
んだ後に、水（５００ｍｌ）に注ぎ込み、塩化メチレン
（１５０ｍｌ）で３度抽出した。得られた有機層を飽和
チオ硫酸ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）で２回、１規
定水酸化ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）で２回、水
（２００ｍｌ）で２回、次いで飽和食塩水（２００ｍ
ｌ）で１回洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムにより乾
燥し、減圧下に溶媒を溜去した。得られた残査を塩化メ
チレン（２０ｍｌ）加熱下に溶解して得られた溶液に、
ヘキサン（１００ｍｌ）を加え、生成した沈澱を濾過す
ることにより下記の物性値を示す１７α−ヒドロキシプ
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン３.
８５ｇ（収率６５％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ） 7.06(1H, d, J = 10.37Hz)、6.24-6.32(2H, m)、6.03(1
H, bd, J = 11.59Hz)、6.01(1H, bs)、2.74(1H, m) 、
2.28(3H, s) 、1.20(3H, s) 、0.90(3H, s) 、1.2-2.15
(10H, m)
３，２０−ジオンの合成 窒素雰囲気下、粗プレグナ−１，４，６−トリエン−
３，２０−ジオン（５．６ｇ、１８．１ｍｍｏｌ）のN,
N-ジメチルホルムアミド（２２５ｍｌ）溶液に亜リン酸
トリエチル（８．４ｍｌ）および水酸化ナトリウム
（２．２４ｇ）のメタノール（１１．２ｍｌ）溶液を−
２０℃で加え、酸素を吹き込みながら−２０℃で６時間
撹拌した。反応溶液に−２０℃で窒素を３０分間吹き込
んだ後に、水（５００ｍｌ）に注ぎ込み、塩化メチレン
（１５０ｍｌ）で３度抽出した。得られた有機層を飽和
チオ硫酸ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）で２回、１規
定水酸化ナトリウム水溶液（２００ｍｌ）で２回、水
（２００ｍｌ）で２回、次いで飽和食塩水（２００ｍ
ｌ）で１回洗浄した後に、無水硫酸ナトリウムにより乾
燥し、減圧下に溶媒を溜去した。得られた残査を塩化メ
チレン（２０ｍｌ）加熱下に溶解して得られた溶液に、
ヘキサン（１００ｍｌ）を加え、生成した沈澱を濾過す
ることにより下記の物性値を示す１７α−ヒドロキシプ
レグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン３.
８５ｇ（収率６５％）を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3 ） 7.06(1H, d, J = 10.37Hz)、6.24-6.32(2H, m)、6.03(1
H, bd, J = 11.59Hz)、6.01(1H, bs)、2.74(1H, m) 、
2.28(3H, s) 、1.20(3H, s) 、0.90(3H, s) 、1.2-2.15
(10H, m)
【００２７】
【発明の効果】抗男性ホルモン剤として有用な酢酸ゲス
トロキサンの合成中間体として有用な１７α−ヒドロキ
シプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン
を、短工程で収率よく製造することができる。
トロキサンの合成中間体として有用な１７α−ヒドロキ
シプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオン
を、短工程で収率よく製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原田 美穂 岡山県倉敷市酒津2045番地の１ 株式会社 クラレ内
Claims (3)
- 【請求項１】 下記の一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒは水素原子または水酸基の保護基を表す。）
で示される化合物を、銅触媒の存在下に分子状酸素によ
り酸化して下記の一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒは前記定義のとおりである。）で示される２
０−ケトン体を得、該２０−ケトン体を酸触媒の存在下
に脱水反応に付すことにより下記の式（III ） 【化３】 で示されるプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０
−ジオンを得、該プレグナ−１，４，６−トリエン−
３，２０−ジオンを塩基および還元剤の存在下に分子状
酸素により酸化することを特徴とする下記の式（IV） 【化４】 で示される１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−
トリエン−３，２０−ジオンの製造方法。 - 【請求項２】 下記の式（III ） 【化５】 で示されるプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０
−ジオンを、塩基および還元剤の存在下に分子状酸素に
より酸化することを特徴とする下記の式（IV） 【化６】 で示される１７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−
トリエン−３，２０−ジオンの製造方法。 - 【請求項３】 下記の一般式（II） 【化７】 （式中、Ｒは水素原子または水酸基の保護基を表す。）
で示される化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20854294A JP3665091B2 (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | １７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20854294A JP3665091B2 (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | １７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0873493A true JPH0873493A (ja) | 1996-03-19 |
| JP3665091B2 JP3665091B2 (ja) | 2005-06-29 |
Family
ID=16557918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20854294A Expired - Fee Related JP3665091B2 (ja) | 1994-09-01 | 1994-09-01 | １７α−ヒドロキシプレグナ−１，４，６−トリエン−３，２０−ジオンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3665091B2 (ja) |
-
1994
- 1994-09-01 JP JP20854294A patent/JP3665091B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3665091B2 (ja) | 2005-06-29 |
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