JPH0876368A - 水なし平版印刷版原版 - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】基板上に少なくともキノンジアジド化合物およ
びバインダポリマを含有する感光層、インキ反撥層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
感光層の引張特性が (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 、さらに
は (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【効果】本発明の水なし平版印刷版原版は画像再現性お
よび耐刷性に優れているので、高耐刷力の要求される商
業オフ輪印刷および新聞オフ輪印刷においても好適に用
いることが出来る。
びバインダポリマを含有する感光層、インキ反撥層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
感光層の引張特性が (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 、さらに
は (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 【効果】本発明の水なし平版印刷版原版は画像再現性お
よび耐刷性に優れているので、高耐刷力の要求される商
業オフ輪印刷および新聞オフ輪印刷においても好適に用
いることが出来る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水なし平版印刷版に関す
るものであり、さらに詳しくは耐刷性の著しく向上した
水なし平版印刷版に関するものである。
るものであり、さらに詳しくは耐刷性の著しく向上した
水なし平版印刷版に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来から、シリコーンゴム層をインキ反
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。
発層として使用し、湿し水を用いずに平版印刷を行うた
めの印刷版が種々提案されている。
【0003】例えば、ポジ型感光性平版印刷版として
は、特公昭54−26923号公報あるいは特公昭56
−23150号公報などの基板上に光重合性接着層とシ
リコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また
特公平3−56622号公報および特開昭61−153
655号公報などの基板上に光二量化型感光層とシリコ
ーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版などが提案
されている。
は、特公昭54−26923号公報あるいは特公昭56
−23150号公報などの基板上に光重合性接着層とシ
リコーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版、また
特公平3−56622号公報および特開昭61−153
655号公報などの基板上に光二量化型感光層とシリコ
ーンゴム層とが積層された水なし平版印刷版などが提案
されている。
【0004】また、ネガ型感光性平版印刷版としては特
公昭61−616号公報や特公昭61−54218号公
報などの基板上にオルトキノンジアジド化合物を含む感
光層とその上に接着層を介してシリコーンゴム層を設け
た水なし平版印刷版が、特公昭61−54222号公報
などの光剥離性感光層上にシリコーンゴム層を設けた水
なし平版印刷版などが提案されており、実用上優れた性
能を有するものとして知られている。これらの中でも特
に特公昭61−54222号公報には、基板上に、ナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド
とフェノールノボラック樹脂の部分エステル化物を多官
能イソシアネ−トで架橋した光剥離性感光層、およびそ
の上にインキ反発層としてのシリコーンゴム層を設けた
ネガ型水なし平版印刷版が開示されている。
公昭61−616号公報や特公昭61−54218号公
報などの基板上にオルトキノンジアジド化合物を含む感
光層とその上に接着層を介してシリコーンゴム層を設け
た水なし平版印刷版が、特公昭61−54222号公報
などの光剥離性感光層上にシリコーンゴム層を設けた水
なし平版印刷版などが提案されており、実用上優れた性
能を有するものとして知られている。これらの中でも特
に特公昭61−54222号公報には、基板上に、ナフ
トキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸クロリド
とフェノールノボラック樹脂の部分エステル化物を多官
能イソシアネ−トで架橋した光剥離性感光層、およびそ
の上にインキ反発層としてのシリコーンゴム層を設けた
ネガ型水なし平版印刷版が開示されている。
【0005】しかしながら、これらの感光性平版印刷版
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のシリコーンゴム層下の感光層に
損傷が起こり、これがシリコーンゴム層にまで拡大し画
像の再現性が低下するなどの問題が生じる。結果とし
て、版の耐刷力不足という問題として現れる。
は感光層が比較的硬くて脆いため、オフセット印刷時、
版面に加わる応力により損傷しやすく、印刷枚数が増え
るにしたがい非画線部のシリコーンゴム層下の感光層に
損傷が起こり、これがシリコーンゴム層にまで拡大し画
像の再現性が低下するなどの問題が生じる。結果とし
て、版の耐刷力不足という問題として現れる。
【0006】これまで上記耐刷力を改良することを目的
として、様々な検討がなされてきた。特開平5−533
06号公報、特開平5−53307号公報などでは基板
と感光層の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あ
るいはポリウレタンとシランカップリング剤を含有する
柔軟なプライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案され
ているが、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られ
ないだけでなく、感光層の物性をカバーするだけの十分
なプライマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキ
ュア不足に起因するシリコーンゴム層剥がれや感光層剥
がれ、さらにひどい場合にはプライマ層自体が基板から
剥がれるといった問題があった。
として、様々な検討がなされてきた。特開平5−533
06号公報、特開平5−53307号公報などでは基板
と感光層の間に天然タンパクとウレタンエラストマ、あ
るいはポリウレタンとシランカップリング剤を含有する
柔軟なプライマ層を設けた水なし平版印刷版が提案され
ているが、いずれの場合も実用上十分な耐刷力が得られ
ないだけでなく、感光層の物性をカバーするだけの十分
なプライマ層膜厚が必要とされるため、プライマ層のキ
ュア不足に起因するシリコーンゴム層剥がれや感光層剥
がれ、さらにひどい場合にはプライマ層自体が基板から
剥がれるといった問題があった。
【0007】シリコーンゴム層を厚くするという手法も
試みられてきたが、それに伴う現像性の低下、さらには
インキマイレージの低下が問題となる。
試みられてきたが、それに伴う現像性の低下、さらには
インキマイレージの低下が問題となる。
【0008】特開平1−154158号公報、特開平1
−154159号公報などはシリコーンゴム層を厚膜化
し、それに伴うインキマイレージの低下をインキ着肉性
物質の埋め込みなどによるセル深度の調整でカバーしよ
うとするものであるが、現像性の低下は依然として存在
し、またインキ着肉性物質の埋め込みなどという新たな
行程が加わったことにより実用上扱いにくいという問題
を有する。
−154159号公報などはシリコーンゴム層を厚膜化
し、それに伴うインキマイレージの低下をインキ着肉性
物質の埋め込みなどによるセル深度の調整でカバーしよ
うとするものであるが、現像性の低下は依然として存在
し、またインキ着肉性物質の埋め込みなどという新たな
行程が加わったことにより実用上扱いにくいという問題
を有する。
【0009】特開平1−1612421号公報では、イ
ンキ着肉層(感光層)を最上層に有する版を画像露光し
現像した後、インキ反発層(シリコーンゴム層)を塗布
し、その後さらに現像することで得られる厚膜のシリコ
ーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、この手法で得られた版は画線部のイ
ンキ着肉性が悪いという問題を有しているばかりでな
く、感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版に
つき2回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。
ンキ着肉層(感光層)を最上層に有する版を画像露光し
現像した後、インキ反発層(シリコーンゴム層)を塗布
し、その後さらに現像することで得られる厚膜のシリコ
ーンゴム層を有する水なし平版印刷版が提案されてい
る。しかしながら、この手法で得られた版は画線部のイ
ンキ着肉性が悪いという問題を有しているばかりでな
く、感光層現像後のシリコーンゴム層塗布、一枚の版に
つき2回の現像と作業行程が多くなり実用的でない。
【0010】シリコーンゴム層の物性を向上させる検討
もなされている。フィラーの添加やポリジメチルシロキ
サンの高分子量化、また、特開平2−32349号公報
ではインキ反発性物質の硬化物をふくむ微多孔質層を有
する水なし平版印刷版、特開平2−8847号公報では
ポリオルガノシロキサンを枝にもつグラフトポリマをシ
リコーンゴム層に含有する水なし平版印刷版が提案され
ている。しかしながら、これらはいずれも耐傷性の向上
こそなされてはいるが、耐刷性の向上は不十分であっ
た。そればかりか、シリコーンゴム層が本来備えていな
ければならないインキ反発性を低下させるという問題を
有していた。
もなされている。フィラーの添加やポリジメチルシロキ
サンの高分子量化、また、特開平2−32349号公報
ではインキ反発性物質の硬化物をふくむ微多孔質層を有
する水なし平版印刷版、特開平2−8847号公報では
ポリオルガノシロキサンを枝にもつグラフトポリマをシ
リコーンゴム層に含有する水なし平版印刷版が提案され
ている。しかしながら、これらはいずれも耐傷性の向上
こそなされてはいるが、耐刷性の向上は不十分であっ
た。そればかりか、シリコーンゴム層が本来備えていな
ければならないインキ反発性を低下させるという問題を
有していた。
【0011】特開昭63−213848号公報には感光
層にアクリル酸誘導体共重合体を含有させたものが記載
されているが、アクリル酸誘導体共重合体を感光層中に
50wt%以上含有させると画像再現性やシリコーンゴ
ム層との接着性を損なうという問題があり、また50w
t%以下では耐刷力が不十分となるという問題を有して
いた。
層にアクリル酸誘導体共重合体を含有させたものが記載
されているが、アクリル酸誘導体共重合体を感光層中に
50wt%以上含有させると画像再現性やシリコーンゴ
ム層との接着性を損なうという問題があり、また50w
t%以下では耐刷力が不十分となるという問題を有して
いた。
【0012】また、特開平3−20741号公報には感
光層にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分
子化合物を含有させたもの、特開平3−68946号公
報には感光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘
導体共重合体を含有させたものが記載され、水系現像液
で現像可能で耐刷力の優れた版が得られるとされてい
る。しかしながら、これらの版はプレートクリーナー等
の版洗浄溶剤やUVインキ等に対する感光層の耐溶剤性
が不十分であるため、画線部が印刷中に破壊されるだけ
でなく、非画線部の感光層が溶剤に侵されることによる
耐刷性の低下という問題を有していた。
光層にカルボン酸ビニルエステル重合単位を有する高分
子化合物を含有させたもの、特開平3−68946号公
報には感光層にヒドロキシフェニルメタクリルアミド誘
導体共重合体を含有させたものが記載され、水系現像液
で現像可能で耐刷力の優れた版が得られるとされてい
る。しかしながら、これらの版はプレートクリーナー等
の版洗浄溶剤やUVインキ等に対する感光層の耐溶剤性
が不十分であるため、画線部が印刷中に破壊されるだけ
でなく、非画線部の感光層が溶剤に侵されることによる
耐刷性の低下という問題を有していた。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の諸欠点に鑑み創案されたもので、感光層の引張特性
を初期弾性率、さらには10%応力、破断伸度で規定し
柔軟化することによって、版の現像性、画像再現性、印
刷特性、耐溶剤性などを低下させることなく、大幅に耐
刷力の改善された水なし平版印刷版原版を提供すること
にある。
術の諸欠点に鑑み創案されたもので、感光層の引張特性
を初期弾性率、さらには10%応力、破断伸度で規定し
柔軟化することによって、版の現像性、画像再現性、印
刷特性、耐溶剤性などを低下させることなく、大幅に耐
刷力の改善された水なし平版印刷版原版を提供すること
にある。
【0014】
【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、 (1) 基板上に少なくともキノンジアジド化合物およ
びバインダポリマを含有する感光層、インキ反撥層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
感光層の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
びバインダポリマを含有する感光層、インキ反撥層をこ
の順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、該
感光層の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【0015】(2) 該感光層の引張特性が 10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする(1)記載の水なし平
版印刷版原版。
版印刷版原版。
【0016】(3) 該感光層の引張特性が 破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする(1)記載の水なし平
版印刷版原版。
版印刷版原版。
【0017】(4) 基板上に、プライマ層、少なくと
もキノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有す
る感光層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし
平版印刷版原版において、該プライマ層の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
もキノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有す
る感光層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし
平版印刷版原版において、該プライマ層の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【0018】(5) 該プライマ層の引張特性が 10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする(4)記載の水なし平
版印刷版原版。
版印刷版原版。
【0019】(6) 該プライマ層の引張特性が 破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする(4)記載の水なし平
版印刷版原版。
版印刷版原版。
【0020】(7) 基板上に、プライマ層、少なくと
もキノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有す
る感光層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし
平版印刷版原版において、該プライマ層と該感光層を合
わせた層の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
もキノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有す
る感光層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし
平版印刷版原版において、該プライマ層と該感光層を合
わせた層の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【0021】(8) 該プライマ層と該感光層を合わせ
た層の引張特性が 10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする(7)記載の水なし平
版印刷版原版。
た層の引張特性が 10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする(7)記載の水なし平
版印刷版原版。
【0022】(9) 該プライマ層と該感光層を合わせ
た層の引張特性が 破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする(7)記載の水なし平
版印刷版原版。
た層の引張特性が 破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする(7)記載の水なし平
版印刷版原版。
【0023】(10) 基板上に少なくともキノンジア
ジド化合物およびバインダポリマを含有する感光層、イ
ンキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
版において、該感光層の露光後の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
ジド化合物およびバインダポリマを含有する感光層、イ
ンキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原
版において、該感光層の露光後の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【0024】(11) 該感光層の露光後の引張特性が 10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする(10)記載の水なし
平版印刷版原版。
平版印刷版原版。
【0025】(12) 該感光層の露光後の引張特性が 破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする(10)記載の水なし
平版印刷版原版。
平版印刷版原版。
【0026】(13) 基板上に、プライマ層、少なく
ともキノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有
する感光層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水な
し平版印刷版原版において、該プライマ層と該感光層を
合わせた層の露光後の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
ともキノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有
する感光層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水な
し平版印刷版原版において、該プライマ層と該感光層を
合わせた層の露光後の引張特性が 初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。
【0027】(14) 該プライマ層と該感光層を合わ
せた層の露光後の引張特性が 10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする(13)記載の水なし
平版印刷版原版。
せた層の露光後の引張特性が 10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする(13)記載の水なし
平版印刷版原版。
【0028】(15) 該プライマ層と該感光層を合わ
せた層の露光後の引張特性が 破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする(13)記載の水なし
平版印刷版原版。
せた層の露光後の引張特性が 破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする(13)記載の水なし
平版印刷版原版。
【0029】により達成される。
【0030】以下に、本発明の構成について、さらに具
体的に説明する。
体的に説明する。
【0031】本発明の特徴とするところは、前記感光
層、あるいはプライマ層を設ける場合のプライマ層、も
しくはこの両方の層を合わせた層の引張特性が、露光前
及び露光後において (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有する点にあり、好ましくは、 (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有するものである。
層、あるいはプライマ層を設ける場合のプライマ層、も
しくはこの両方の層を合わせた層の引張特性が、露光前
及び露光後において (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有する点にあり、好ましくは、 (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有するものである。
【0032】これらの引張特性の初期弾性率は、5kg
f/mm2 以上50kgf/mm2以下、好ましくは7
kgf/mm2 以上45kgf/mm2 以下、さらに好
ましくは10kgf/mm2 以上40kgf/mm2 以
下にすることが重要である。初期弾性率が5kgf/m
m2 未満の場合は感光層がベタつき印刷時にヒッキーの
原因になる。
f/mm2 以上50kgf/mm2以下、好ましくは7
kgf/mm2 以上45kgf/mm2 以下、さらに好
ましくは10kgf/mm2 以上40kgf/mm2 以
下にすることが重要である。初期弾性率が5kgf/m
m2 未満の場合は感光層がベタつき印刷時にヒッキーの
原因になる。
【0033】また、10%応力値は、0.05kgf/
mm2 以上3.0kgf/mm2 以下が好ましく、より
好ましくは0.1kgf/mm2 以上2.0kgf/m
m2以下、さらに好ましくは0.1kgf/mm2 以上
1.5kgf/mm2 以下にすることが重要である。1
0%応力値が0.05kgf/mm2 未満の場合は感光
層がベタつき印刷時にヒッキーの原因になる。逆に、1
0%応力値が3.0kgf/mm2 をこえる場合には、
オフセット印刷時に生じる繰り返し応力により、感光層
とシリコーンゴム層の接着界面で破壊が起こるため、高
耐刷力が得られない。
mm2 以上3.0kgf/mm2 以下が好ましく、より
好ましくは0.1kgf/mm2 以上2.0kgf/m
m2以下、さらに好ましくは0.1kgf/mm2 以上
1.5kgf/mm2 以下にすることが重要である。1
0%応力値が0.05kgf/mm2 未満の場合は感光
層がベタつき印刷時にヒッキーの原因になる。逆に、1
0%応力値が3.0kgf/mm2 をこえる場合には、
オフセット印刷時に生じる繰り返し応力により、感光層
とシリコーンゴム層の接着界面で破壊が起こるため、高
耐刷力が得られない。
【0034】また、破断伸度は、10%以上が好まし
く、より好ましくは15%以上、さらに好ましくは20
%以上にすることが重要である。破断伸度が10%未満
の場合は感光層が脆くなり、オフセット印刷を行った場
合に感光層が破壊され高耐刷力が得られない。
く、より好ましくは15%以上、さらに好ましくは20
%以上にすることが重要である。破断伸度が10%未満
の場合は感光層が脆くなり、オフセット印刷を行った場
合に感光層が破壊され高耐刷力が得られない。
【0035】初期弾性率が50kgf/mm2 をこえ、
破断伸度10%未満の場合は、例えば特公昭61−54
222号公報の実施例1に記載の感光層の引張り初期弾
性率は56kgf/mm2 、破断伸度5.0%で硬い感
光層であるため、オフセット印刷を行った場合に感光層
とシリコーンゴム層との間で繰り返し応力がかかり、感
光層自体の破壊およびそれに引き続くシリコーンゴム層
との接着界面での破壊が起こり高耐刷力が得られない。
破断伸度10%未満の場合は、例えば特公昭61−54
222号公報の実施例1に記載の感光層の引張り初期弾
性率は56kgf/mm2 、破断伸度5.0%で硬い感
光層であるため、オフセット印刷を行った場合に感光層
とシリコーンゴム層との間で繰り返し応力がかかり、感
光層自体の破壊およびそれに引き続くシリコーンゴム層
との接着界面での破壊が起こり高耐刷力が得られない。
【0036】引張特性は、JIS K6301にしたが
って測定することができる。
って測定することができる。
【0037】露光前の引張特性については、ガラス板上
に感光液を塗布し、溶媒を揮散させた後、115℃で加
熱硬化させる。この後、ガラス板よりシートを剥がすこ
とで約100ミクロンの厚さの感光層シートを得る。こ
のシートから5mm×40mmの短冊状サンプルを切り
取り、テンシロン RTM−100(オリエンテック
(株)製)を用い、引張速度20cn/分で初期弾性率、
10%応力値、破断伸度を測定する。
に感光液を塗布し、溶媒を揮散させた後、115℃で加
熱硬化させる。この後、ガラス板よりシートを剥がすこ
とで約100ミクロンの厚さの感光層シートを得る。こ
のシートから5mm×40mmの短冊状サンプルを切り
取り、テンシロン RTM−100(オリエンテック
(株)製)を用い、引張速度20cn/分で初期弾性率、
10%応力値、破断伸度を測定する。
【0038】プライマ層の引張特性を測定する場合は、
上記の感光液の代わりにプライマ液を用いる。プライマ
層と感光層を合わせた層の引張特性を測定する場合に
は、上記の方法でプライマ層の上に感光層を形成し、同
様に測定する。
上記の感光液の代わりにプライマ液を用いる。プライマ
層と感光層を合わせた層の引張特性を測定する場合に
は、上記の方法でプライマ層の上に感光層を形成し、同
様に測定する。
【0039】露光後の引張特性については、ガラス板上
に感光液を塗布し、溶媒を揮散させた後、115℃で加
熱硬化させる。その後、3kWの超高圧水銀灯(オーク
製作所製)を用いて、UVメーター(オーク製作所ライ
トメジャータイプUV365)で12mW/cm2 の照
度で10分間露光する。この後、ガラス板よりシートを
剥がすことで約100ミクロンの厚さの感光層シートを
得る。このシートから5mm×40mmの短冊状サンプ
ルを切り取り、テンシロン RTM−100(オリエン
テック(株)製)を用い、引張速度20cn/分で初期弾
性率、10%応力値、破断伸度を測定する。
に感光液を塗布し、溶媒を揮散させた後、115℃で加
熱硬化させる。その後、3kWの超高圧水銀灯(オーク
製作所製)を用いて、UVメーター(オーク製作所ライ
トメジャータイプUV365)で12mW/cm2 の照
度で10分間露光する。この後、ガラス板よりシートを
剥がすことで約100ミクロンの厚さの感光層シートを
得る。このシートから5mm×40mmの短冊状サンプ
ルを切り取り、テンシロン RTM−100(オリエン
テック(株)製)を用い、引張速度20cn/分で初期弾
性率、10%応力値、破断伸度を測定する。
【0040】プライマ層の引張特性を測定する場合は、
上記の感光液の代わりにプライマ液を用いる。プライマ
層と感光層を合わせた層の引張特性を測定する場合に
は、上記の方法でプライマ層の上に感光層を形成し、同
様に測定する。
上記の感光液の代わりにプライマ液を用いる。プライマ
層と感光層を合わせた層の引張特性を測定する場合に
は、上記の方法でプライマ層の上に感光層を形成し、同
様に測定する。
【0041】露光後の引張特性を水なし平版印刷版原版
から測定する場合には、メタルハライドランプ(岩崎電
気(株)製アイドルフィン2000)を用い、UVメー
ター(オーク製作所製ライトメジャータイプUV−40
2A)で11mW/cm2 の照度で10分間露光する。
露光後、カバーフィルムがある場合にはこれを剥離し、
室温32℃、湿度80%の条件で、“アイソパーH”/
ジエチレングリコールジメチルエーテル/エチルセロソ
ルブ/N−メチルジエタノールアミン=87/7/3/
3(重量比)からなる処理液をブラシを用いて版面に塗
布する。1分間処理後、ゴムスキージで版面に付着した
処理液を除去し、ついで版面と現像パッドに現像液(水
/ブチルカルビトール/2−エチル酢酸=70/30/
2)(重量比)を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこす
り、シリコーンゴム層を除去し、感光層表面を露出させ
る。このような処理を施した版の裏側の支持体を適当な
方法により除去して感光層またはプライマ層と感光層を
合わせた層のシートを得ることができる。支持体が金属
板の場合には、金属用の研磨機により該金属板を削り取
り、プラスチックフィルムないしはシートの場合にはプ
ラスチック用の研磨機によりプラスチック支持体を削り
取る方法が一つの例として挙げられるが、場合によって
は適当な溶剤を用いて支持体から感光層シートを除去し
てもよい。ゴム弾性を有する支持体や紙などの場合には
適当な溶剤を用いるか、あるいは上記と同様に物理的な
方法により支持体を除去する。このようにして、露光済
み感光層シートを得ることができる。このようにして得
たシートを用いて上述の方法により初期弾性率、破断伸
度、10%応力値を測定する。
から測定する場合には、メタルハライドランプ(岩崎電
気(株)製アイドルフィン2000)を用い、UVメー
ター(オーク製作所製ライトメジャータイプUV−40
2A)で11mW/cm2 の照度で10分間露光する。
露光後、カバーフィルムがある場合にはこれを剥離し、
室温32℃、湿度80%の条件で、“アイソパーH”/
ジエチレングリコールジメチルエーテル/エチルセロソ
ルブ/N−メチルジエタノールアミン=87/7/3/
3(重量比)からなる処理液をブラシを用いて版面に塗
布する。1分間処理後、ゴムスキージで版面に付着した
処理液を除去し、ついで版面と現像パッドに現像液(水
/ブチルカルビトール/2−エチル酢酸=70/30/
2)(重量比)を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこす
り、シリコーンゴム層を除去し、感光層表面を露出させ
る。このような処理を施した版の裏側の支持体を適当な
方法により除去して感光層またはプライマ層と感光層を
合わせた層のシートを得ることができる。支持体が金属
板の場合には、金属用の研磨機により該金属板を削り取
り、プラスチックフィルムないしはシートの場合にはプ
ラスチック用の研磨機によりプラスチック支持体を削り
取る方法が一つの例として挙げられるが、場合によって
は適当な溶剤を用いて支持体から感光層シートを除去し
てもよい。ゴム弾性を有する支持体や紙などの場合には
適当な溶剤を用いるか、あるいは上記と同様に物理的な
方法により支持体を除去する。このようにして、露光済
み感光層シートを得ることができる。このようにして得
たシートを用いて上述の方法により初期弾性率、破断伸
度、10%応力値を測定する。
【0042】本発明に用いられる感光層は、少なくとも
キノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有する
ものであり、光剥離性感光層が例として挙げられる。光
剥離性感光層とは、現像により、露光部感光層が実質的
に除去されることなく、その上のシリコーンゴム層が除
去されるものを言う。このような光剥離性感光層は、キ
ノンジアジド化合物を多官能化合物で架橋せしめて架橋
構造とするか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性
基を単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液
に難溶もしくは不溶とすることにより得ることができ
る。好ましくは、キノンジアジド化合物を多官能化合物
で架橋せしめたものである。
キノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有する
ものであり、光剥離性感光層が例として挙げられる。光
剥離性感光層とは、現像により、露光部感光層が実質的
に除去されることなく、その上のシリコーンゴム層が除
去されるものを言う。このような光剥離性感光層は、キ
ノンジアジド化合物を多官能化合物で架橋せしめて架橋
構造とするか、あるいはキノンジアジド化合物中の活性
基を単官能化合物と結合させるなどして変性し、現像液
に難溶もしくは不溶とすることにより得ることができ
る。好ましくは、キノンジアジド化合物を多官能化合物
で架橋せしめたものである。
【0043】ここでいうキノンジアジド化合物として
は、ポジ型PS版、ワイポン版、フォトレジストなどに
用いられているキノンジアジド類等を言う。具体的には
例えば、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン
酸クロライド、1,2−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸クロライド、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルホン酸クロライド、1,2−ナフトキノンジア
ジド−6−スルホン酸クロライドと水酸基および/また
はアミノ基含有化合物の縮合物が好適に用いられる。
は、ポジ型PS版、ワイポン版、フォトレジストなどに
用いられているキノンジアジド類等を言う。具体的には
例えば、1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン
酸クロライド、1,2−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸クロライド、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルホン酸クロライド、1,2−ナフトキノンジア
ジド−6−スルホン酸クロライドと水酸基および/また
はアミノ基含有化合物の縮合物が好適に用いられる。
【0044】水酸基含有化合物としては、例えばジヒド
ロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシア
ントラキノン、ビスフェノールA、フェノールホルムア
ルデヒドノボラック樹脂(フェノール、p−タ−シャリ
−ブチルフェノール、p−オクチルフェノール、p−ノ
ニルフェノール、カルダノール、クレゾール、キシレノ
ール、カテコールおよびピロガロールなどのフェノール
類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在化に縮合させ
て得られる可溶可融性樹脂)、レゾール樹脂(例えば、
上記フェノール類とホルムアルデヒド類とをアルカリ触
媒存在化に縮合させて得られる樹脂)、レゾルシンベン
ズアルデヒド縮合樹脂、ピロガロールアセトン樹脂、p
−ヒドロキシスチレン共重合体樹脂、ポリ−4−ビニル
フェノール、ポリ−4−オキシメタクリルアニリド、ポ
リビニルアルコール、セルロースおよびその誘導体、キ
チン、キトサン、水酸基を有するポリウレタン等があ
る。また、アミノ基含有化合物としては、例えばアニリ
ン、p−アミノジフェニルアミン、p−アミノベンゾフ
ェノン、4,4’−ジアミノジフェニルアミン、4,
4’−ジアミノベンゾフェノン、ポリ−4−アミノスチ
レン等がある。
ロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシア
ントラキノン、ビスフェノールA、フェノールホルムア
ルデヒドノボラック樹脂(フェノール、p−タ−シャリ
−ブチルフェノール、p−オクチルフェノール、p−ノ
ニルフェノール、カルダノール、クレゾール、キシレノ
ール、カテコールおよびピロガロールなどのフェノール
類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在化に縮合させ
て得られる可溶可融性樹脂)、レゾール樹脂(例えば、
上記フェノール類とホルムアルデヒド類とをアルカリ触
媒存在化に縮合させて得られる樹脂)、レゾルシンベン
ズアルデヒド縮合樹脂、ピロガロールアセトン樹脂、p
−ヒドロキシスチレン共重合体樹脂、ポリ−4−ビニル
フェノール、ポリ−4−オキシメタクリルアニリド、ポ
リビニルアルコール、セルロースおよびその誘導体、キ
チン、キトサン、水酸基を有するポリウレタン等があ
る。また、アミノ基含有化合物としては、例えばアニリ
ン、p−アミノジフェニルアミン、p−アミノベンゾフ
ェノン、4,4’−ジアミノジフェニルアミン、4,
4’−ジアミノベンゾフェノン、ポリ−4−アミノスチ
レン等がある。
【0045】ここに記載したことを含めてキノンジアジ
ド化合物に関しては永松、乾共著「感光性高分子」(講
談社、1977年発刊)、角田著「新・感光性樹脂」
(印刷学会出版部、1981年発刊)、山田、森田共
著、高分子学会編「感光性樹脂」(共立出版、1988
年発刊)および津田著、日本表面科学会編「超LSIレ
ジストの分子設計」(共立出版、1990年発刊)に記
載されたところに従うことができる。
ド化合物に関しては永松、乾共著「感光性高分子」(講
談社、1977年発刊)、角田著「新・感光性樹脂」
(印刷学会出版部、1981年発刊)、山田、森田共
著、高分子学会編「感光性樹脂」(共立出版、1988
年発刊)および津田著、日本表面科学会編「超LSIレ
ジストの分子設計」(共立出版、1990年発刊)に記
載されたところに従うことができる。
【0046】これらのキノンジアジド化合物の中では、
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂の組み合わせが好ましく、さらに好ましいのはフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂の水酸基の15%〜60%が
エステル化されたフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂の1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホン酸エステルである。
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹
脂の組み合わせが好ましく、さらに好ましいのはフェノ
ールホルムアルデヒド樹脂の水酸基の15%〜60%が
エステル化されたフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂の1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−ス
ルホン酸エステルである。
【0047】架橋構造を導入せしめるために用いられる
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
ート類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来る。
多官能化合物としては、以下に示す多官能性イソシアネ
ート類あるいは多官能エポキシ化合物等を挙げることが
出来る。
【0048】多官能イソシアネート類としては、パラフ
ェニレンジイソシアネート、2,4−または2,6−ト
ルイレンジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイ
ソシアネート(TODI)、キシリレンジイソシアネー
ト(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネ
ート(LDI)(別名2,6−ジイソシアネートメチル
カプロエート)、水素化MDI(H12MDI)(別名
4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化TDI(HTDI)(別名メチルシクロ
ヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、水素化
XDI(H6 XDI)(別名1,3−(イソシアナート
メチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMD
I)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイ
ソシアネート(DDI)、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11
−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシア
ネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,
6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
ェニレンジイソシアネート、2,4−または2,6−ト
ルイレンジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイ
ソシアネート(TODI)、キシリレンジイソシアネー
ト(XDI)、水素化キシリレンジイソシアネート、シ
クロヘキサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソ
シアネート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネ
ート(LDI)(別名2,6−ジイソシアネートメチル
カプロエート)、水素化MDI(H12MDI)(別名
4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化TDI(HTDI)(別名メチルシクロ
ヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、水素化
XDI(H6 XDI)(別名1,3−(イソシアナート
メチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMD
I)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイ
ソシアネート(DDI)、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11
−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシア
ネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,
6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
【0049】多官能エポキシ化合物としては、ポリエチ
レングリコールジグリシジルエーテル類、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフェノール
Aジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリ
グリシジルエーテルなどが挙げられる。
レングリコールジグリシジルエーテル類、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフェノール
Aジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリ
グリシジルエーテルなどが挙げられる。
【0050】これらの中で好ましいものは、多官能イソ
シアネート化合物である。
シアネート化合物である。
【0051】また、これら多官能化合物の使用量は、キ
ノンジアジド化合物100重量部に対して1〜150重
量部が好ましく、より好ましくは5〜100重量部、さ
らに好ましくは10〜80重量部である。
ノンジアジド化合物100重量部に対して1〜150重
量部が好ましく、より好ましくは5〜100重量部、さ
らに好ましくは10〜80重量部である。
【0052】これらの熱硬化はキノンジアジド化合物の
感光性を失わせない範囲、通常150℃以下で行う必要
があり、このために触媒を併用することが好ましい。
感光性を失わせない範囲、通常150℃以下で行う必要
があり、このために触媒を併用することが好ましい。
【0053】またキノンジアジド化合物に単官能化合物
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該キノンジアジド化合物の活性な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化すること
などが挙げられる。キノンジアジド化合物の活性な基と
反応させる化合物としては、低分子であっても比較的高
分子であってもよいし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させてもよい。
を反応させて変性して現像液に難溶もしくは不溶にする
方法としては、同様に該キノンジアジド化合物の活性な
基を例えばエステル化、アミド化、ウレタン化すること
などが挙げられる。キノンジアジド化合物の活性な基と
反応させる化合物としては、低分子であっても比較的高
分子であってもよいし、感光性化合物にモノマをグラフ
ト重合させてもよい。
【0054】本発明における形態保持の機能を果たすバ
インダポリマとしては、有機溶媒可溶でかつフィルム形
成能のあるものであればいずれも使用可能であるが、好
ましくはそのガラス転移温度(Tg )が0℃以下のポリ
マ、コポリマを挙げることが出来る。
インダポリマとしては、有機溶媒可溶でかつフィルム形
成能のあるものであればいずれも使用可能であるが、好
ましくはそのガラス転移温度(Tg )が0℃以下のポリ
マ、コポリマを挙げることが出来る。
【0055】ガラス転移温度Tg (glass transition t
emperature)とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に(またはその逆に)変化する転移点
(温度)のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積(比
容)ー温度曲線、熱分析(DSC,DTA等)による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的(動的粘弾性等)および誘
電的損失正接、NMRスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ(dilatometer )を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積(比容)−温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。
emperature)とは、無定型高分子材料の物性がガラス状
態からゴム状態に(またはその逆に)変化する転移点
(温度)のことをいう。転移点を中心とする比較的狭い
温度領域においては、弾性率ばかりでなく、膨張率、熱
含量、屈折率、拡散係数、誘電率などの諸性質も大きく
変化する。そのため、ガラス転移温度の測定は体積(比
容)ー温度曲線、熱分析(DSC,DTA等)による熱
含量測定、屈折率、こわさのような物質全体としての性
質を測定するものと、力学的(動的粘弾性等)および誘
電的損失正接、NMRスペクトルのような分子運動を反
映する量を測定するものとがある。慣習的にはデイラト
メータ(dilatometer )を用いて、試料の体積を温度を
上げながら測定し、体積(比容)−温度曲線の勾配が急
に変化する点として決定される。
【0056】以下にバインダポリマとなり得る代表的な
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定される
ものではない。
ポリマ類について具体的に述べるがこれらに限定される
ものではない。
【0057】(1)ビニルポリマ類 以下に示すような単量体およびそれらの誘導体から得ら
れるポリマ、およびコポリマ。
れるポリマ、およびコポリマ。
【0058】例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテ
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリ
ル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸n−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸−2−ヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−(メタ)アクリロキシエチル水
素フタレート、2−(メタ)アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、N−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、3−メチル−1−ブテン、ブチルビニ
ルエーテル、N−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、α−シアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
サイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)
アクリレート化したもの、およびこれらの誘導体を重
合、共重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダ
ポリマとして使用できる。
ン、スチレン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、
酢酸ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリ
ル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタ
クリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリ
ル酸n−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル
酸n−ヘキシル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸、
メタクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、メタクリル酸
−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アク
リル酸−2−ヒドロキシプロピル、ポリエチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−(メタ)アクリロキシエチル水
素フタレート、2−(メタ)アクリロキシエチル水素サ
クシネート、アクリルアミド、N−メチロールアクリル
アミド、ジアセトンアクリルアミド、グリシジルメタク
リレート、アクリルニトリル、スチレン、ビニルトルエ
ン、イソブテン、3−メチル−1−ブテン、ブチルビニ
ルエーテル、N−ビニルカルバゾール、メチルビニルケ
トン、ニトロエチレン、α−シアノアクリル酸メチル、
ビニリデンシアニド、ポリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)
エーテル、グリセリンやトリメチロールエタン、トリメ
チロールプロパン等の多官能アルコールにエチレンオキ
サイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)
アクリレート化したもの、およびこれらの誘導体を重
合、共重合させて得られるポリマ、コポリマをバインダ
ポリマとして使用できる。
【0059】ガラス転移温度が0℃以下のビニル系ポリ
マの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが挙
げられるが、これらに限定されるものではない。
マの具体例としては、例えば次に示すようなポリマが挙
げられるが、これらに限定されるものではない。
【0060】(a)ポリオレフィン類 例えばポリ(1−ブテン)、ポリ(5−シクロヘキシル
−1−ペンテン)、ポリ(1−デセン)、ポリ(1,1
−ジクロロエチレン)、ポリ(1,1−ジメチルブタ
ン)、ポリ(1,1−ジメチルプロパン)、ポリ(1−
ドデセン)、ポリエチレン、ポリ(1−ヘプテン)、ポ
リ(1−ヘキセン)、ポリメチレン、ポリ(6−メチル
−1−ヘプテン)、ポリ(5−メチル−1−ヘキセ
ン)、ポリ(2−メチルプロペン)、ポリ(1−ノネ
ン)、ポリ(1−オクテン)、ポリ(1−ペンテン)、
ポリ(5−フェニル−1−ペンテン)、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ(1−ブテン)等。
−1−ペンテン)、ポリ(1−デセン)、ポリ(1,1
−ジクロロエチレン)、ポリ(1,1−ジメチルブタ
ン)、ポリ(1,1−ジメチルプロパン)、ポリ(1−
ドデセン)、ポリエチレン、ポリ(1−ヘプテン)、ポ
リ(1−ヘキセン)、ポリメチレン、ポリ(6−メチル
−1−ヘプテン)、ポリ(5−メチル−1−ヘキセ
ン)、ポリ(2−メチルプロペン)、ポリ(1−ノネ
ン)、ポリ(1−オクテン)、ポリ(1−ペンテン)、
ポリ(5−フェニル−1−ペンテン)、ポリプロピレ
ン、ポリイソブチレン、ポリ(1−ブテン)等。
【0061】また、ポリ(ビニルブチルエーテル)、ポ
リ(ビニルエチルエーテル)、ポリ(ビニルイソブチル
エーテル)、ポリ(ビニルメチルエーテル)等。
リ(ビニルエチルエーテル)、ポリ(ビニルイソブチル
エーテル)、ポリ(ビニルメチルエーテル)等。
【0062】(b)ポリスチレン類 ガラス転移温度0℃以下のポリスチレン誘導体として
は、例えばポリ(4−[(2−ブトキシエトキシ)メチ
ル]スチレン)、ポリ(4−デシルスチレン)、ポリ
(4−ドデシルスチレン)、ポリ[4−(2−エトキシ
エトキシメチル)スチレン]、ポリ[4−(1−エチル
ヘキソキシメチル)スチレン]、ポリ[4−(ヘキソキ
シメチル)スチレン]、ポリ(4−ヘキシルスチレ
ン)、ポリ(4−ノニルスチレン)、ポリ[4−(オク
トキシメチル)スチレン]、ポリ(4−オクチルスチレ
ン)、ポリ(4−テトラデシルスチレン)等が挙げられ
る。
は、例えばポリ(4−[(2−ブトキシエトキシ)メチ
ル]スチレン)、ポリ(4−デシルスチレン)、ポリ
(4−ドデシルスチレン)、ポリ[4−(2−エトキシ
エトキシメチル)スチレン]、ポリ[4−(1−エチル
ヘキソキシメチル)スチレン]、ポリ[4−(ヘキソキ
シメチル)スチレン]、ポリ(4−ヘキシルスチレ
ン)、ポリ(4−ノニルスチレン)、ポリ[4−(オク
トキシメチル)スチレン]、ポリ(4−オクチルスチレ
ン)、ポリ(4−テトラデシルスチレン)等が挙げられ
る。
【0063】(c)アクリル酸エステルポリマおよびメ
タクリル酸エステルポリマ ガラス転移温度0℃以下のポリアクリレート類として
は、例えばポリ(ブチルアクリレート)、ポリ(sec ー
ブチルアクリレート)、ポリ(tert−ブチルアクリレー
ト)、ポリ[2−(2−シアノエチルチオ)エチルアク
リレート]、ポリ[3−(2−シアノエチルチオ)プロ
ピルアクリレート]、ポリ[2−(シアノメチルチオ)
エチルアクリレート]、ポリ[6−(シアノメチルチ
オ)ヘキシルアクリレート]、ポリ[2−(3−シアノ
プロピルチオ)エチルアクリレート]、ポリ(2−エト
キシエチルアクリレート)、ポリ(3−エトキシプロピ
ルアクリレート)、ポリ(エチルアクリレート)、ポリ
(2−エチルブチルアクリレート)、ポリ(2−エチル
ヘキシルアクリレート)、ポリ(5−エチル−2−ノニ
ルアクリレート)、ポリ(2−エチルチオエチルアクリ
レート)、ポリ(3−エチルチオプロピルアクリレー
ト)、ポリ(ヘプチルアクリレート)、ポリ(2−ヘプ
チルアクリレート)、ポリ(ヘキシルアクリレート)、
ポリ(イソブチルアクリレート)、ポリ(イソプロピル
アクリレート)、ポリ(2−メトキシエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メトキシプロピルアクリレート)、ポ
リ(2−メチルブチルアクリレート)、ポリ(3−メチ
ルブチルアクリレート)、ポリ(2−メチル−7−エチ
ル−4−ウンデシルアクリレート)、ポリ(2−メチル
ペンチルアクリレート)、ポリ(4−メチル−2−ペン
チルアクリレート)、ポリ(4−メチルチオブチルアク
リレート)、ポリ(2−メチルチオエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メチルチオプロピルアクリレート)、
ポリ(ノニルアクリレート)、ポリ(オクチルアクリレ
ート)、ポリ(2−オクチルアクリレート)、ポリ(3
−ペンチルアクリレート)、ポリ(プロピルアクリレー
ト)、ポリ(ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ
(ヒドロキシプロピルアクリレート)等が代表例として
挙げられる。
タクリル酸エステルポリマ ガラス転移温度0℃以下のポリアクリレート類として
は、例えばポリ(ブチルアクリレート)、ポリ(sec ー
ブチルアクリレート)、ポリ(tert−ブチルアクリレー
ト)、ポリ[2−(2−シアノエチルチオ)エチルアク
リレート]、ポリ[3−(2−シアノエチルチオ)プロ
ピルアクリレート]、ポリ[2−(シアノメチルチオ)
エチルアクリレート]、ポリ[6−(シアノメチルチ
オ)ヘキシルアクリレート]、ポリ[2−(3−シアノ
プロピルチオ)エチルアクリレート]、ポリ(2−エト
キシエチルアクリレート)、ポリ(3−エトキシプロピ
ルアクリレート)、ポリ(エチルアクリレート)、ポリ
(2−エチルブチルアクリレート)、ポリ(2−エチル
ヘキシルアクリレート)、ポリ(5−エチル−2−ノニ
ルアクリレート)、ポリ(2−エチルチオエチルアクリ
レート)、ポリ(3−エチルチオプロピルアクリレー
ト)、ポリ(ヘプチルアクリレート)、ポリ(2−ヘプ
チルアクリレート)、ポリ(ヘキシルアクリレート)、
ポリ(イソブチルアクリレート)、ポリ(イソプロピル
アクリレート)、ポリ(2−メトキシエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メトキシプロピルアクリレート)、ポ
リ(2−メチルブチルアクリレート)、ポリ(3−メチ
ルブチルアクリレート)、ポリ(2−メチル−7−エチ
ル−4−ウンデシルアクリレート)、ポリ(2−メチル
ペンチルアクリレート)、ポリ(4−メチル−2−ペン
チルアクリレート)、ポリ(4−メチルチオブチルアク
リレート)、ポリ(2−メチルチオエチルアクリレー
ト)、ポリ(3−メチルチオプロピルアクリレート)、
ポリ(ノニルアクリレート)、ポリ(オクチルアクリレ
ート)、ポリ(2−オクチルアクリレート)、ポリ(3
−ペンチルアクリレート)、ポリ(プロピルアクリレー
ト)、ポリ(ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ
(ヒドロキシプロピルアクリレート)等が代表例として
挙げられる。
【0064】ガラス転移温度0℃以下のポリメタクリレ
ート類としては、例えばポリ(デシルメタクリレー
ト)、ポリ(ドデシルメタクリレート)、ポリ(2−エ
チルヘキシルメタクリレート)、ポリ(オクタデシルメ
タクリレート)、ポリ(オクチルメタクリレート)、ポ
リ(テトラデシルメタクリレート)、ポリ(n−ヘキシ
ルメタクリレート)、ポリ(ラウリルメタクリレート)
等が挙げられる。
ート類としては、例えばポリ(デシルメタクリレー
ト)、ポリ(ドデシルメタクリレート)、ポリ(2−エ
チルヘキシルメタクリレート)、ポリ(オクタデシルメ
タクリレート)、ポリ(オクチルメタクリレート)、ポ
リ(テトラデシルメタクリレート)、ポリ(n−ヘキシ
ルメタクリレート)、ポリ(ラウリルメタクリレート)
等が挙げられる。
【0065】(2)未加硫ゴム 天然ゴム(NR)やブタジエン、イソプレン、スチレ
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン(BR)、スチレン−ブタ
ジエン共重合体(SBR)、カルボキシ変成性スチレン
−ブタジエン共重合体、ポリイソプレン(NR)、ポリ
イソブチレン、ポリクロロプレン(CR)、ポリネオプ
レン、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、メタ
クリル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エ
ステル−アクリルニトリル共重合体(ANM)、イソブ
チレン−イソプレン共重合体(IIR)、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体(NBR)、カルボキシ変性
アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニト
リル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−イソ
プレン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EP
M、EPDM)、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体などが挙げ
られる。これらの未加硫ゴムは一般的にはガラス転移温
度0℃以下である。
ン、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステルより選ばれた単独重合体又は共重合体であ
り、例えば、ポリブタジエン(BR)、スチレン−ブタ
ジエン共重合体(SBR)、カルボキシ変成性スチレン
−ブタジエン共重合体、ポリイソプレン(NR)、ポリ
イソブチレン、ポリクロロプレン(CR)、ポリネオプ
レン、アクリル酸エステル−ブタジエン共重合体、メタ
クリル酸エステル−ブタジエン共重合体、アクリル酸エ
ステル−アクリルニトリル共重合体(ANM)、イソブ
チレン−イソプレン共重合体(IIR)、アクリロニト
リル−ブタジエン共重合体(NBR)、カルボキシ変性
アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニト
リル−クロロプレン共重合体、アクリロニトリル−イソ
プレン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EP
M、EPDM)、ビニルピリジン−スチレン−ブタジエ
ン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体などが挙げ
られる。これらの未加硫ゴムは一般的にはガラス転移温
度0℃以下である。
【0066】これらの他に、ガラス転移温度0℃以下の
ゴム類の具体例としては、例えばポリ(1,3−ブタジ
エン)、ポリ(2−クロロ−1,3−ブタジエン)、ポ
リ(2−デシル−1,3−ブタジエン)、ポリ(2,3
−ジメチル−1,3−ブタジエン)、ポリ(2−エチル
−1,3−ブタジエン)、ポリ(2−ヘプチル−1,3
−ブタジエン)、ポリ(2−イソプロピル−1,3−ブ
タジエン)、ポリ(2−メチル−1,3−ブタジエ
ン)、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されるものではない。
ゴム類の具体例としては、例えばポリ(1,3−ブタジ
エン)、ポリ(2−クロロ−1,3−ブタジエン)、ポ
リ(2−デシル−1,3−ブタジエン)、ポリ(2,3
−ジメチル−1,3−ブタジエン)、ポリ(2−エチル
−1,3−ブタジエン)、ポリ(2−ヘプチル−1,3
−ブタジエン)、ポリ(2−イソプロピル−1,3−ブ
タジエン)、ポリ(2−メチル−1,3−ブタジエ
ン)、クロロスルホン化ポリエチレン等が挙げられるが
これらに限定されるものではない。
【0067】また、これらゴム類の変性物、例えばエポ
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。
キシ化、塩素化、カルボキシル化等の通常行われる変性
を行ったゴム類や、他のポリマ類とのブレンド物もまた
バインダポリマとして使用できる。
【0068】(3)ポリオキシド類(ポリエーテル類) トリオキサン、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、2,3−エポキシブタン、3,4−エポキシブテ
ン、2,3−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、2−
フェニル−1,2−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、n−ブチルグリシジルエーテル、1,4−ジ
クロロ−2,3−エポキシブタン、2,3−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、2,3−エポキシ−2−メチルプ
ロピオンアルデヒド、2,3−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。
ド、2,3−エポキシブタン、3,4−エポキシブテ
ン、2,3−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘキ
サン、エポキシシクロヘキサン、エポキシシクロヘプタ
ン、エポキシシクロオクタン、スチレンオキシド、2−
フェニル−1,2−エポキシプロパン、テトラメチルエ
チレンオキシド、エピクロルヒドリン、エピブロモヒド
リン、アリルグルシジルエーテル、フェニルグリシジル
エーテル、n−ブチルグリシジルエーテル、1,4−ジ
クロロ−2,3−エポキシブタン、2,3−エポキシプ
ロピオンアルデヒド、2,3−エポキシ−2−メチルプ
ロピオンアルデヒド、2,3−エポキシジエチルアセタ
ールなどの開環重合によりポリマ、コポリマもまたバイ
ンダポリマとして使用可能である。
【0069】ガラス転移温度0℃以下のポリオキシド類
の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポリ
(ブタジエンオキシド)、ポリ(1−ブテンオキシ
ド)、ポリ(ドデセンオキシド)、ポリ(エチレンオキ
シド)、ポリ(イソブテンオキシド)、ポリホルムアル
デヒド、ポリ(プロピレンオキシド)、ポリ(テトラメ
チレンオキシド)、ポリ(トリメチレンオキシド)等が
挙げられる。
の具体例としては、例えばポリアセトアルデヒド、ポリ
(ブタジエンオキシド)、ポリ(1−ブテンオキシ
ド)、ポリ(ドデセンオキシド)、ポリ(エチレンオキ
シド)、ポリ(イソブテンオキシド)、ポリホルムアル
デヒド、ポリ(プロピレンオキシド)、ポリ(テトラメ
チレンオキシド)、ポリ(トリメチレンオキシド)等が
挙げられる。
【0070】(4)ポリエステル類 以下に示すような多価アルコールと多価カルボン酸の重
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もまたバインダポリマとして使用可
能である。
縮合により得られるポリエステル、多価アルコールと多
価カルボン酸無水物の重合により得られるポリエステ
ル、ラクトンの開環重合などにより得られるポリエステ
ル、およびこれら多価アルコール、多価カルボン酸、多
価カルボン酸無水物、およびラクトンの混合物より得ら
れるポリエステル等もまたバインダポリマとして使用可
能である。
【0071】多価アルコールとしては、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコ
ール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、p−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
A、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等。
ール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオー
ル、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコ
ール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジ
オール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコー
ル、p−キシリレングリコール、水素化ビスフェノール
A、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル、グ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、トリスヒドロキシメチルアミノメタン、ペンタエ
リトリット、ジペンタエリトリット、ソルビトール等。
【0072】多価カルボン酸および多価カルボン酸無水
物としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。
物としては、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水
フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレ
イン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、
メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロ
メリット酸等。
【0073】ラクトンとしては、β−プロピオラクト
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等。
ン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カ
プロラクトン等。
【0074】ガラス転移温度0℃以下のポリエステルの
具体例としては、例えばポリ[1,4−(2−ブテン)
セバケート]、ポリ[1,4−(2−ブチン)セバケー
ト]、ポリ(デカメチレンアジペイト)、ポリ(エチレ
ンアジペイト)、ポリ(オキシジエチレンアジペイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンアゼラエイト)、ポリ
(オキシジエチレンドデカンジエイト)、ポリ(オキシ
ジエチレングルタレイト)、ポリ(オキシジエチレンヘ
プチルマロネイト)、ポリ(オキシジエチレンマロネイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンメチルマロネイト)、ポ
リ(オキシジエチレンノニルマロネイト)、ポリ(オキ
シジエチレンオクタデカンジエイト)、ポリ(オキシジ
エチレンオキザレイト)、ポリ(オキシジエチレンペン
チルマロネイト)、ポリ(オキシジエチレンピメレイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンプロピルマロネイト)、
ポリ(オキシジエチレンセバケート)、ポリ(オキシジ
エチレンスベレイト)、ポリ(オキシジエチレンスクシ
ネイト)、ポリ(ペンタメチレンアジペイト)、ポリ
(テトラメチレンアジペイト)、ポリ(テトラメチレン
セバケート)、ポリ(トリメチレンアジペイト)等が挙
げられが、これらに限定されるものではない。
具体例としては、例えばポリ[1,4−(2−ブテン)
セバケート]、ポリ[1,4−(2−ブチン)セバケー
ト]、ポリ(デカメチレンアジペイト)、ポリ(エチレ
ンアジペイト)、ポリ(オキシジエチレンアジペイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンアゼラエイト)、ポリ
(オキシジエチレンドデカンジエイト)、ポリ(オキシ
ジエチレングルタレイト)、ポリ(オキシジエチレンヘ
プチルマロネイト)、ポリ(オキシジエチレンマロネイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンメチルマロネイト)、ポ
リ(オキシジエチレンノニルマロネイト)、ポリ(オキ
シジエチレンオクタデカンジエイト)、ポリ(オキシジ
エチレンオキザレイト)、ポリ(オキシジエチレンペン
チルマロネイト)、ポリ(オキシジエチレンピメレイ
ト)、ポリ(オキシジエチレンプロピルマロネイト)、
ポリ(オキシジエチレンセバケート)、ポリ(オキシジ
エチレンスベレイト)、ポリ(オキシジエチレンスクシ
ネイト)、ポリ(ペンタメチレンアジペイト)、ポリ
(テトラメチレンアジペイト)、ポリ(テトラメチレン
セバケート)、ポリ(トリメチレンアジペイト)等が挙
げられが、これらに限定されるものではない。
【0075】(5)ポリウレタン類 以下に示すポリイソシアネート類と多価アルコールより
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
(あるいはメタクリル)単量体とアクリル(あるいはメ
タクリル)酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。
得られるポリウレタンもまたバインダポリマとして使用
できる。多価アルコールとしては上記ポリエステルの項
で述べた多価アルコール類および下記の多価アルコール
類、これら多価アルコールとポリエステルの項で述べた
多価カルボン酸の重縮合で得られる両端が水酸基である
ような縮合系ポリエステルポリオール、上記ラクトン類
より得られる重合ポリエステルポリオール、ポリカーボ
ネートジオール、プロピレンオキシドやテトラヒドロフ
ランの開環重合やエポキシ樹脂の変性で得られるポリエ
ーテルポリオール、あるいは水酸基を有するアクリル
(あるいはメタクリル)単量体とアクリル(あるいはメ
タクリル)酸エステルとの共重合体であるアクリルポリ
オール、ポリブタジエンポリオールなどが使用可能であ
る。
【0076】イソシアネート類としては、パラフェニレ
ンジイソシアネート、2,4−または2,6−トルイレ
ンジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェニルメ
タンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイソシア
ネート(TODI)、キシリレンジイソシアネート(X
DI)、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート
(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネート
(LDI)(別名2,6−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート)、水素化MDI(H12MDI)(別名4,
4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化TDI(HTDI)(別名メチルシクロ
ヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、水素化
XDI(H6 XDI)(別名1,3−(イソシアナート
メチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMD
I)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイ
ソシアネート(DDI)、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11
−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシア
ネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,
6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
ンジイソシアネート、2,4−または2,6−トルイレ
ンジイソシアネート(TDI)、4,4−ジフェニルメ
タンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイソシア
ネート(TODI)、キシリレンジイソシアネート(X
DI)、水素化キシリレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネ
ート(MXDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート
(HDIあるいはHMDI)、リジンジイソシアネート
(LDI)(別名2,6−ジイソシアネートメチルカプ
ロエート)、水素化MDI(H12MDI)(別名4,
4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネー
ト))、水素化TDI(HTDI)(別名メチルシクロ
ヘキサン2,4(2,6)ジイソシアネート)、水素化
XDI(H6 XDI)(別名1,3−(イソシアナート
メチル)シクロヘキサン)、イソホロンジイソシアネー
ト(IPDI)、ジフェニルエーテルイソシアネート、
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMD
I)、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ポリ
メチレンポリフェニルイソシアネート、ダイマー酸ジイ
ソシアネート(DDI)、トリフェニルメタントリイソ
シアネート、トリス(イソシアネートフェニル)チオフ
ォスフェート、テトラメチルキシリレンジイソシアネー
ト、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11
−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシア
ネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,
6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプ
タントリイソシアネート等やポリイソシアネート類の多
価アルコールアダクト体、あるいはポリイソシアネート
類の重合体等が挙げられる。
【0077】上記ポリエステルの項で述べたもの以外の
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキサイド−プロピレンオキサ
イド共重合体、テトラヒドロフラン−エチレンオキサイ
ド共重合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキサイ
ド共重合体等を、また、ポリエステルジオールとしては
ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、
ポリヘキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、
ポリエチレンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポ
リ−ε−カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレン
カーボネートジオール、ポリテトラメチレンアジペー
ト、ソルビトール、メチルグルコジット、シュクローズ
等を挙げることが出来る。
代表的な多価アルコール類としては、ポリプロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレ
ングリコール、エチレンオキサイド−プロピレンオキサ
イド共重合体、テトラヒドロフラン−エチレンオキサイ
ド共重合体、テトラヒドロフラン−プロピレンオキサイ
ド共重合体等を、また、ポリエステルジオールとしては
ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、
ポリヘキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジ
ペート、ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、
ポリエチレンヘキサメチレンアジペート等を、また、ポ
リ−ε−カプロラクトンジオール、ポリヘキサメチレン
カーボネートジオール、ポリテトラメチレンアジペー
ト、ソルビトール、メチルグルコジット、シュクローズ
等を挙げることが出来る。
【0078】また、種々の含燐ポリオール、ハロゲン含
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
有ポリオールなどもポリオールとして使用できる。
【0079】さらに、分岐したポリウレタン樹脂や水酸
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。
基等の種々の官能基を有するポリウレタン樹脂もまたバ
インダポリマとして利用可能である。
【0080】これらの他、ポリ(テトラメチレンヘキサ
メチレン−ウレタン)、ポリ(1,4−(2−ブテン)
ヘキサメチレン−ウレタン)、ポリ(1,4−(2−ブ
チン)ヘキサメチレン−ウレタン)等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
メチレン−ウレタン)、ポリ(1,4−(2−ブテン)
ヘキサメチレン−ウレタン)、ポリ(1,4−(2−ブ
チン)ヘキサメチレン−ウレタン)等も挙げられるが、
これらに限定されるものではない。
【0081】これらのポリウレタンは一般的にはガラス
転移温度0℃以下である。
転移温度0℃以下である。
【0082】(6)ポリアミド類 従来提案されているポリアミド類もまたバインダポリマ
として使用できる。
として使用できる。
【0083】基本的な組成としては、次に示すモノマ類
のコポリマーである。ε−カプロラクタム、ω−ラウロ
ラクタム、ω−アミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジ
アミン、4,4´−ビス−アミノシクロヘキシルメタ
ン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、
イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル酸、
アジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。
のコポリマーである。ε−カプロラクタム、ω−ラウロ
ラクタム、ω−アミノウンデカン酸、ヘキサメチレンジ
アミン、4,4´−ビス−アミノシクロヘキシルメタ
ン、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジアミン、
イソホロンジアミン、ジグリコール類、イソフタル酸、
アジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸など。
【0084】さらに詳しく説明すると、ポリアミドは一
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
48−72250 号公報に示されるような3,5−ジカルボキ
シベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合すること
によって得られるスルホン酸基またはスルホネート基を
含有するポリアミド、特開昭49−43465 号公報に示され
ているような分子中にエーテル結合を持つジカルボン
酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちいずれか1種
類を共重合して得られるところのエーテル結合を有する
ポリアミド、特開昭50−7605号公報に示されているよう
なN,N’−ジ(γ−アミノプロピル)ピペラジン等を
共重合して得られる塩基性窒素を含有するポリアミドお
よびこれらのポリアミドをアクリル酸等で四級化したポ
リアミド、特開昭55−74537 号公報で提案されている分
子量150〜1500のポリエーテルセグメントを含有
する共重合ポリアミド、およびα−(N,N’−ジアル
キルアミノ)−ε−カプロラクタムの開環重合またはα
−(N,N’−ジアルキルアミノ)−ε−カプロラクタ
ムとε−カプロラクタムの開環共重合で得られるところ
のポリアミド等が挙げられる。
般に水溶性ポリアミドとアルコール可溶性ポリアミドに
分類される。水溶性ポリアミドとしては、例えば特開昭
48−72250 号公報に示されるような3,5−ジカルボキ
シベンゼンスルホン酸ナトリウムなどを共重合すること
によって得られるスルホン酸基またはスルホネート基を
含有するポリアミド、特開昭49−43465 号公報に示され
ているような分子中にエーテル結合を持つジカルボン
酸、ジアミン、あるいは環状アミドのうちいずれか1種
類を共重合して得られるところのエーテル結合を有する
ポリアミド、特開昭50−7605号公報に示されているよう
なN,N’−ジ(γ−アミノプロピル)ピペラジン等を
共重合して得られる塩基性窒素を含有するポリアミドお
よびこれらのポリアミドをアクリル酸等で四級化したポ
リアミド、特開昭55−74537 号公報で提案されている分
子量150〜1500のポリエーテルセグメントを含有
する共重合ポリアミド、およびα−(N,N’−ジアル
キルアミノ)−ε−カプロラクタムの開環重合またはα
−(N,N’−ジアルキルアミノ)−ε−カプロラクタ
ムとε−カプロラクタムの開環共重合で得られるところ
のポリアミド等が挙げられる。
【0085】またアルコール可溶性ポリアミドとして
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン3、4、5、6、8、11、1
2、13、66、610、6/10、13/13、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カプロラク
タム/アジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/4,4’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
ε−カプロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチレンジア
ミン/2,4,4’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム/アジピン酸
/ヘキサメチレンジアミン/イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのN−メチロール、N−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。
は、二塩基酸脂肪酸とジアミン、ω−アミノ酸、ラクタ
ムあるいはこれらの誘導体から公知の方法によって合成
される線状ポリアミドが挙げられ、ホモポリマだけでな
くコポリマ、ブロックポリマ等も使用できる。代表的な
例としては、ナイロン3、4、5、6、8、11、1
2、13、66、610、6/10、13/13、メタ
キシリレンジアミンとアジピン酸からのポリアミド、ト
リメチルヘキサメチレンジアミンあるいはイソホロンジ
アミンとアジピン酸からのポリアミド、ε−カプロラク
タム/アジピン酸/ヘキサメチレンジアミン/4,4’
−ジアミノジシクロヘキシルメタン共重合ポリアミド、
ε−カプロラクタム/アジピン酸/ヘキサメチレンジア
ミン/2,4,4’−トリメチルヘキサメチレンジアミ
ン共重合ポリアミド、ε−カプロラクタム/アジピン酸
/ヘキサメチレンジアミン/イソホロンジアミン共重合
ポリアミド、あるいはこれらの成分を含むポリアミド、
それらのN−メチロール、N−アルコキシメチル誘導体
等も使用出来る。
【0086】以上のようなポリアミドを単独または混合
してバインダポリマとして用いることが出来る。
してバインダポリマとして用いることが出来る。
【0087】Tg0℃以下のポリアミドとしては、分子
量150〜1500のポリエーテルセグメントを含有す
る共重合ポリアミド、より具体的には末端にアミノ基を
有しポリエーテルセグメント部分の分子量が150〜1
500であるポリオキシエチレンと脂肪族ジカルボン酸
またはジアミンとから成る構成単位を30〜70重量%
含有するところの共重合ポリアミドが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
量150〜1500のポリエーテルセグメントを含有す
る共重合ポリアミド、より具体的には末端にアミノ基を
有しポリエーテルセグメント部分の分子量が150〜1
500であるポリオキシエチレンと脂肪族ジカルボン酸
またはジアミンとから成る構成単位を30〜70重量%
含有するところの共重合ポリアミドが挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。
【0088】これらバインダポリマと成りうるポリマは
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。
単独で用いても良いし、また数種のポリマを混合して用
いても良い。
【0089】これらバインダポリマの中ではポリウレタ
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
ン、ポリエステル、ビニル系ポリマ、未加硫ゴムが好ま
しい。
【0090】バインダポリマの好ましい使用量は、感光
層成分に対して15〜80wt%であることが好ましく、
より好ましい使用量は15〜65wt%、最も好ましいの
は20〜55wt%である。
層成分に対して15〜80wt%であることが好ましく、
より好ましい使用量は15〜65wt%、最も好ましいの
は20〜55wt%である。
【0091】また、感光層成分に対し15〜80wt%の
バインダポリマと、キノンジアジド化合物としてエステ
ル化率15〜60%のフェノールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂の1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸エステルの組み合わせは最も好ましい組成
となる。
バインダポリマと、キノンジアジド化合物としてエステ
ル化率15〜60%のフェノールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂の1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5
−スルホン酸エステルの組み合わせは最も好ましい組成
となる。
【0092】フェノールホルムアルデヒド樹脂の水酸基
のキノンジアジドスルホン酸エステル化率が15%未満
である場合は、感光性基の数が少ないため画像再現性、
現像性の低下という問題が生じる。一方、エステル化率
が60%より高い場合は残存水酸基、すなわち架橋点の
減少を意味するため、感光層の耐溶剤性、SK接着力
(感光層とシリコーンゴム層の間の接着力)に問題を引
き起こす。
のキノンジアジドスルホン酸エステル化率が15%未満
である場合は、感光性基の数が少ないため画像再現性、
現像性の低下という問題が生じる。一方、エステル化率
が60%より高い場合は残存水酸基、すなわち架橋点の
減少を意味するため、感光層の耐溶剤性、SK接着力
(感光層とシリコーンゴム層の間の接着力)に問題を引
き起こす。
【0093】バインダポリマが15wt%未満である場合
には、満足な感光層物性を発現させることが困難であ
り、一方、80wt%より多い場合は結果的にキノンジア
ジド化合物の減量を意味するため、画像再現性、現像
性、SK接着力などに問題を生じさせる。
には、満足な感光層物性を発現させることが困難であ
り、一方、80wt%より多い場合は結果的にキノンジア
ジド化合物の減量を意味するため、画像再現性、現像
性、SK接着力などに問題を生じさせる。
【0094】上記の諸成分に加え、必要に応じて酸、染
料、顔料、光発色剤、触媒などの添加剤を感光層組成に
加えることは任意である。
料、顔料、光発色剤、触媒などの添加剤を感光層組成に
加えることは任意である。
【0095】光剥離性感光層の厚さは0.1〜100μ
mが好ましく、より好ましくは約0.5〜10μmが適
当である。薄すぎると感光層中にピンホールを生じやす
くなり、一方厚すぎると経済的に不利であるので上記の
範囲が好ましい。
mが好ましく、より好ましくは約0.5〜10μmが適
当である。薄すぎると感光層中にピンホールを生じやす
くなり、一方厚すぎると経済的に不利であるので上記の
範囲が好ましい。
【0096】本発明に用いられるインキ反撥層として
は、例えばシリコーンゴムを用いたもの、フッ素樹脂を
用いたものが挙げられるが、これらに限定されない。
は、例えばシリコーンゴムを用いたもの、フッ素樹脂を
用いたものが挙げられるが、これらに限定されない。
【0097】インキ反撥層としてシリコーンゴムを用い
る場合、シリコーンゴム層としては、下記一般式(I)
のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線
状有機ポリシロキサンを主成分とするものがあげられ
る。
る場合、シリコーンゴム層としては、下記一般式(I)
のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線
状有機ポリシロキサンを主成分とするものがあげられ
る。
【化1】 ここでnは2以上の整数、Rは炭素数1〜10のアルキ
ル基、アルケニル基、フェニル基、あるいはシアノアル
キル基である。全体のRの40%以下がビニル、フェニ
ル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、R
の60%以上がメチル基であるものが好ましい。このよ
うな線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添加して
熱処理を施すことにより、疎らに架橋したシリコーンゴ
ムとすることもできる。
ル基、アルケニル基、フェニル基、あるいはシアノアル
キル基である。全体のRの40%以下がビニル、フェニ
ル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、R
の60%以上がメチル基であるものが好ましい。このよ
うな線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添加して
熱処理を施すことにより、疎らに架橋したシリコーンゴ
ムとすることもできる。
【0098】この線状有機ポリシロキサンには、また次
に示すような架橋剤が添加される。 Rn SiX4-n (式中、nは1〜3の整数であり、Rはアルキル基、ア
リール基、アルケニル基またはこれらの組み合わされた
一価の基を表し、それらはハロゲン原子、アミン基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、(メタ)
アクリロキシ基、チオール基等の官能基を有していても
よい。Xは−OH、−OR2 、−OAc、−O−N=C
(R2 )R3 )、−Cl、−Br、−I等の置換基を表
す。ここで、R2 、R3 は先に説明したRと同じ意味で
ありR2 とR3 はそれぞれ同じであっても異なっていて
もよい。またAcはアセチル基を表す。)架橋剤として
は、上記のようないわゆる室温(低温)硬化型のシリコ
ーンゴムに使われている多官能シラン化合物をあげるこ
とが出来る。例えば、トリメトキシシリル基、アミノ
基、グリシジル基、メタクリル基、アリル基、ビニル基
等を有するアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランなどであ
る。
に示すような架橋剤が添加される。 Rn SiX4-n (式中、nは1〜3の整数であり、Rはアルキル基、ア
リール基、アルケニル基またはこれらの組み合わされた
一価の基を表し、それらはハロゲン原子、アミン基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、(メタ)
アクリロキシ基、チオール基等の官能基を有していても
よい。Xは−OH、−OR2 、−OAc、−O−N=C
(R2 )R3 )、−Cl、−Br、−I等の置換基を表
す。ここで、R2 、R3 は先に説明したRと同じ意味で
ありR2 とR3 はそれぞれ同じであっても異なっていて
もよい。またAcはアセチル基を表す。)架橋剤として
は、上記のようないわゆる室温(低温)硬化型のシリコ
ーンゴムに使われている多官能シラン化合物をあげるこ
とが出来る。例えば、トリメトキシシリル基、アミノ
基、グリシジル基、メタクリル基、アリル基、ビニル基
等を有するアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、ア
ルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランなどであ
る。
【0099】これらは通常線状有機ポリシロキサンとし
て末端が水酸基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱ア
ミド型のシリコーンゴムとなる。
て末端が水酸基であるものと組み合わせて、各々脱酢酸
型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱ア
ミド型のシリコーンゴムとなる。
【0100】このような縮合型の架橋を行うシリコーン
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ (II)オクトエート、ナフテン酸塩など、あるいは塩化
白金酸のような触媒を添加してもよい。
ゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの
金属カルボン酸塩、例えばラウリン酸ジブチルスズ、ス
ズ (II)オクトエート、ナフテン酸塩など、あるいは塩化
白金酸のような触媒を添加してもよい。
【0101】また、SiH基と−CH=CH−基との付
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、1分子に2
個以上の−CH=CH−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分: (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(望ましくはビニル基 )を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン 100重量部 (2)1分子中に少なくともSiH結合2個有するオルガノポリシロキサン 0.1〜1000重量部 (3)付加触媒 0.00001〜10重量部 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分(1)
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の有機基としては、置換もしく
は非置換のアルキル基、アリール基である。成分(1)
には水酸基を微量含有させてもよい。成分(2)は成分
(1)と反応してシリコーンゴム層を形成するが、感光
層に対する接着性の付与の役割を果たす。成分(2)の
水酸基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても良い。水
素以外の有機基としては成分(1)と同様のものから選
ばれる。成分(1)と成分(2)の有機基はインキ反発
性向上の点で、総じて基数の60%以上がメチル基であ
ることが好ましい。成分(1)および成分(2)の分子
構造は直鎖状、環状、分岐状いずれでもよく、どちらか
少なくとも一方の分子量が1,000を越えることがゴ
ム物性の面で好ましく、更に成分(1)の分子量が1,
000を越えることが好ましい。
加反応によって架橋させた付加型シリコーンゴム層も有
用である。ここで用いる付加型シリコーンゴム層は多価
ハイドロジェンオルガノポリシロキサンと、1分子に2
個以上の−CH=CH−結合を有するポリシロキサン化
合物との反応によって得られるもので、望ましくは以下
の成分: (1)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル基(望ましくはビニル基 )を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン 100重量部 (2)1分子中に少なくともSiH結合2個有するオルガノポリシロキサン 0.1〜1000重量部 (3)付加触媒 0.00001〜10重量部 からなる組成物を架橋硬化したものである。成分(1)
のアルケニル基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても
よい。アルケニル基以外の有機基としては、置換もしく
は非置換のアルキル基、アリール基である。成分(1)
には水酸基を微量含有させてもよい。成分(2)は成分
(1)と反応してシリコーンゴム層を形成するが、感光
層に対する接着性の付与の役割を果たす。成分(2)の
水酸基は分子鎖末端、中間のいずれにあっても良い。水
素以外の有機基としては成分(1)と同様のものから選
ばれる。成分(1)と成分(2)の有機基はインキ反発
性向上の点で、総じて基数の60%以上がメチル基であ
ることが好ましい。成分(1)および成分(2)の分子
構造は直鎖状、環状、分岐状いずれでもよく、どちらか
少なくとも一方の分子量が1,000を越えることがゴ
ム物性の面で好ましく、更に成分(1)の分子量が1,
000を越えることが好ましい。
【0102】成分(1)としては、α,ω−ジビニルポ
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の(メチルシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示さ
れ、成分(2)としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α,ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の(メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示される。
リジメチルシロキサン、両末端メチル基の(メチルシロ
キサン)(ジメチルシロキサン)共重合体などが例示さ
れ、成分(2)としては、両末端水酸基のポリジメチル
シロキサン、α,ω−ジメチルポリメチルハイドロジェ
ンシロキサン、両末端メチル基の(メチルポリメチルハ
イドロジェンシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重
合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサンなどが
例示される。
【0103】成分(3)の付加触媒は公知のものの中か
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などの架橋抑制剤を添加することも可能である。
ら任意に選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく、
白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金等が例示され
る。これらの組成物の硬化速度を制御する目的で、テト
ラシクロ(メチルビニル)シロキサンなどのビニル基含
有オルガノポリシロキサン、炭素−炭素三重結合のアル
コール、アセトン、メチルエチルケトン、メタノール、
エタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル
などの架橋抑制剤を添加することも可能である。
【0104】これらの組成物の他に、アルケニルトリア
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキ
サン)を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
ルコキシシランなどの公知の接着付与剤を添加すること
や、縮合型シリコーンゴム層の組成物である水酸基含有
オルガノポリシロキサン、末端がトリメチルシリル基で
あるジメチルポリシロキサンよりなるシリコーンオイ
ル、末端がトリメチルシリル基であるジメチルポリシロ
キサン、加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキ
サン)を添加してもよい。また、ゴム強度を向上させる
ために、シリカなどの公知の充填剤を添加してもよい。
【0105】このようなシリコーンゴム層の引張特性と
しては、初期弾性率が0.008kgf/mm2 以上0.
09kgf/mm2 以下が好ましく、より好ましくは0.
012kgf/mm2 以上0.07kgf/mm2 以下、ま
た、50%応力値は、0.005kgf/mm2 以上0.
04kgf/mm2 以下が好ましく、より好ましくは0.
007kgf/mm2 以上0.025kgf/mm2 以下に
することが重要である。
しては、初期弾性率が0.008kgf/mm2 以上0.
09kgf/mm2 以下が好ましく、より好ましくは0.
012kgf/mm2 以上0.07kgf/mm2 以下、ま
た、50%応力値は、0.005kgf/mm2 以上0.
04kgf/mm2 以下が好ましく、より好ましくは0.
007kgf/mm2 以上0.025kgf/mm2 以下に
することが重要である。
【0106】上記の初期弾性率が0.008kgf/mm
2 未満、50%応力値が0.005kgf/mm2 未満の
場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が0.09
kgf/mm2 をこえる場合、50%応力値が0.04k
gf/mm2 をこえる場合は、たとえば特公昭56−23
150号公報の実施例1に記載のシリコーンゴム層の引
張り初期弾性率は0.15kgf/mm2 、50%応力値
が0.06kgf/mm2 で、シリコーンゴム層としては
硬いためにインキ反撥性および耐スクラッチ性が低下す
る。
2 未満、50%応力値が0.005kgf/mm2 未満の
場合は耐刷性が悪くなる。一方、初期弾性率が0.09
kgf/mm2 をこえる場合、50%応力値が0.04k
gf/mm2 をこえる場合は、たとえば特公昭56−23
150号公報の実施例1に記載のシリコーンゴム層の引
張り初期弾性率は0.15kgf/mm2 、50%応力値
が0.06kgf/mm2 で、シリコーンゴム層としては
硬いためにインキ反撥性および耐スクラッチ性が低下す
る。
【0107】さらにシリコーンゴム層の引張特性の破断
伸度は、100%以上が好ましく、より好ましくは15
0%以上1200%未満にすることが重要である。破断
伸度が100%以下の場合は耐刷性が悪くなる。
伸度は、100%以上が好ましく、より好ましくは15
0%以上1200%未満にすることが重要である。破断
伸度が100%以下の場合は耐刷性が悪くなる。
【0108】シリコーンゴムの引張特性は、JIS K
6301にしたがって測定することができる。例えば、
テフロン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した後、
テフロン板よりシートを剥がし、得られた約300ミク
ロンの厚さのシートから4号ダンベルでテストピースを
作製し、上記テンシロンで引張速度20cm/分で、JI
S K6301にしたがって初期弾性率、50%応力
値、破断伸度を測定すればよい。
6301にしたがって測定することができる。例えば、
テフロン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した後、
テフロン板よりシートを剥がし、得られた約300ミク
ロンの厚さのシートから4号ダンベルでテストピースを
作製し、上記テンシロンで引張速度20cm/分で、JI
S K6301にしたがって初期弾性率、50%応力
値、破断伸度を測定すればよい。
【0109】シリコーンゴム層の厚さは約0.5〜10
0μm、好ましくは約0.5〜10μmが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。
0μm、好ましくは約0.5〜10μmが適当であり、
薄すぎる場合は耐刷力およびインキ反発性の点で問題を
生じることがあり、一方厚すぎる場合は経済的に不利で
あるばかりでなく、現像時シリコーンゴム層を除去しに
くくなり、画像再現性の低下をもたらす。
【0110】本発明で用いられる基板としては、通常の
水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案され
ているものであればいずれでもよい。すなわち通常の平
版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷重
に耐えるものであれば十分である。
水なし平版印刷版で用いられるもの、あるいは提案され
ているものであればいずれでもよい。すなわち通常の平
版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷重
に耐えるものであれば十分である。
【0111】例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼など
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄等がメッキあるいは蒸着された金属板、
ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン等のようなプラスチックフィルムないしはシー
ト、クロロプレンゴム、NBRのようなゴム弾性を有す
る基板、あるいはかかるゴム弾性を有する基板、もしく
は紙、樹脂コート紙、アルミニウム等の金属箔が張られ
た紙等が挙げられる。これらの基板上にはハレーション
防止その他の目的でさらに他の物質をコーティングして
基板として用いることも可能である。これらのうち、好
ましいのはアルミニウム板である。
の金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミ
ニウム、及び鉄等がメッキあるいは蒸着された金属板、
ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン等のようなプラスチックフィルムないしはシー
ト、クロロプレンゴム、NBRのようなゴム弾性を有す
る基板、あるいはかかるゴム弾性を有する基板、もしく
は紙、樹脂コート紙、アルミニウム等の金属箔が張られ
た紙等が挙げられる。これらの基板上にはハレーション
防止その他の目的でさらに他の物質をコーティングして
基板として用いることも可能である。これらのうち、好
ましいのはアルミニウム板である。
【0112】本発明の水なし平版印刷版において、基板
と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像
再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとって非常に重
要であるので、必要に応じて各層間の接着剤層を設けた
り、各層に接着性改良成分を添加したりすることが可能
である。感光層とシリコーンゴム層間の接着のために、
層間に公知のシリコーンプライマやシランカップリング
剤を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリ
コーンプライマやシランカップリング剤を添加すると効
果的である。
と感光層、感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像
再現性、耐刷力などの基本的な版性能にとって非常に重
要であるので、必要に応じて各層間の接着剤層を設けた
り、各層に接着性改良成分を添加したりすることが可能
である。感光層とシリコーンゴム層間の接着のために、
層間に公知のシリコーンプライマやシランカップリング
剤を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリ
コーンプライマやシランカップリング剤を添加すると効
果的である。
【0113】基板と感光層間の接着のために基板自体に
対する処理は特に限定されるものではなく、各種粗面化
処理等が含まれる。
対する処理は特に限定されるものではなく、各種粗面化
処理等が含まれる。
【0114】また、基板に感光層を塗布する前に、感光
層と基板との十分な接着性を得るために基板にプライマ
層を設けてもよい。
層と基板との十分な接着性を得るために基板にプライマ
層を設けてもよい。
【0115】該プライマ層を構成する樹脂としては、ポ
リウレタン樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール
樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
アミド樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリ
レート系共重合体、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、ポリアクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体などのジエン系ゴム、ポリ酢酸ビニル−ポリ
カーボネート樹脂、セルロースおよびその誘導体、キチ
ン、キトサン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大豆タンパ
ク質、アルブミンなどを挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。これらの樹脂は単独で、あ
るいは二種以上混合して、さらには感光層で述べたよう
な他の架橋剤などと共に用いることができる。これらの
中では、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂等
を単独、または他の樹脂と混合して用いるのが好まし
い。
リウレタン樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂、フェノール
樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
アミド樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリ
レート系共重合体、アクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エチレン−
酢酸ビニル共重合体、ポリアクリロニトリル−ブタジエ
ン共重合体などのジエン系ゴム、ポリ酢酸ビニル−ポリ
カーボネート樹脂、セルロースおよびその誘導体、キチ
ン、キトサン、ミルクカゼイン、ゼラチン、大豆タンパ
ク質、アルブミンなどを挙げることができるが、これら
に限定されるものではない。これらの樹脂は単独で、あ
るいは二種以上混合して、さらには感光層で述べたよう
な他の架橋剤などと共に用いることができる。これらの
中では、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂等
を単独、または他の樹脂と混合して用いるのが好まし
い。
【0116】また上記プライマ層を構成するアンカー剤
としては、例えばシランカップリング剤を用いる事が出
来、また有機チタネート等も有効である。
としては、例えばシランカップリング剤を用いる事が出
来、また有機チタネート等も有効である。
【0117】基板からのハレーションを防止するためや
検版性の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、
酸化亜鉛のような白色顔料や黄色顔料を添加することも
できる。
検版性の向上を目的に、酸化チタンや炭酸カルシウム、
酸化亜鉛のような白色顔料や黄色顔料を添加することも
できる。
【0118】さらに、塗工性を改良する目的で、界面活
性剤等を添加することも任意である。 上記のプライマ
層を形成するための組成物は、DMF、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な
有機溶媒に溶解させることによって組成物溶液として調
製される。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必
要な温度で必要な時間加熱することによりプライマ層が
形成される。
性剤等を添加することも任意である。 上記のプライマ
層を形成するための組成物は、DMF、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン等の適当な
有機溶媒に溶解させることによって組成物溶液として調
製される。かかる組成物溶液を基板上に均一に塗布し必
要な温度で必要な時間加熱することによりプライマ層が
形成される。
【0119】プライマ層の厚さは0.2〜50μm、よ
り好ましくは0.5〜20μmが選ばれる。薄すぎると
基板表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果が劣
り、一方厚すぎると経済的に不利になるので上記の範囲
が好ましい。
り好ましくは0.5〜20μmが選ばれる。薄すぎると
基板表面の形態欠陥および化学的悪影響の遮断効果が劣
り、一方厚すぎると経済的に不利になるので上記の範囲
が好ましい。
【0120】以上説明したようにして構成された水なし
平版印刷版原版においては、表面のシリコーンゴム層保
護の目的および露光工程でのネガフイルムの真空密着性
を改善するために、シリコーンゴム層の表面にプレーン
または凹凸処理した薄い保護フィルムをラミネートまた
は薄いプラスチックシート状物を塗布または転写して保
護層とすることもできる。保護フイルム、保護層は露光
工程において有用であるが、現像工程においては、剥離
または溶解によって除去され、印刷工程においては不必
要なものである。
平版印刷版原版においては、表面のシリコーンゴム層保
護の目的および露光工程でのネガフイルムの真空密着性
を改善するために、シリコーンゴム層の表面にプレーン
または凹凸処理した薄い保護フィルムをラミネートまた
は薄いプラスチックシート状物を塗布または転写して保
護層とすることもできる。保護フイルム、保護層は露光
工程において有用であるが、現像工程においては、剥離
または溶解によって除去され、印刷工程においては不必
要なものである。
【0121】有用な保護フィルムは紫外線透過性を有
し、100ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコーテイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。
し、100ミクロン以下、好ましくは10ミクロン以下
の厚みを有するもので、その代表例として、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテ
レフタレート、セロファンなどをあげることが出来る。
これら保護フィルムの表面はフィルムとの密着性を改良
するために凹凸加工を施すことが出来る。また、保護フ
ィルムの代わりにコーテイング等の手法で保護層を形成
させておいてもよい。
【0122】本発明で用いられる水なし平版印刷版原版
は、例えば次ぎのようにして製造される。まず必要に応
じて各種粗面化処理をした基板の上に、リバースロール
コータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの通
常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用
い感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要
に応じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述した
ように基板と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設
けた後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着
層を塗布、乾燥後、シリコーンゴム溶液を感光層上また
は接着層上に同様の方法で塗布し、通常60〜130℃
の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せしめてシリ
コーンゴム層を形成する。必要ならば、保護層をさらに
塗布するか保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミ
ネータ等を用いてカバーする。
は、例えば次ぎのようにして製造される。まず必要に応
じて各種粗面化処理をした基板の上に、リバースロール
コータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの通
常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装置を用
い感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥及び必要
に応じて熱キュアを行う。なお、必要に応じて前述した
ように基板と感光層の間に同様の方法でプライマ層を設
けた後、必要に応じて該感光層の上に同様な方法で接着
層を塗布、乾燥後、シリコーンゴム溶液を感光層上また
は接着層上に同様の方法で塗布し、通常60〜130℃
の温度で数分間湿熱処理して、十分に硬化せしめてシリ
コーンゴム層を形成する。必要ならば、保護層をさらに
塗布するか保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミ
ネータ等を用いてカバーする。
【0123】このようにして製造された水なし平版印刷
版原版は、例えば、光透過性保護フィルムの場合はその
まま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合
は剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活性
光線で露光される。この露光工程で用いられる光源は、
紫外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カーボン
アーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タ
ングステンランプ、蛍光灯等を使うことができる。
版原版は、例えば、光透過性保護フィルムの場合はその
まま、あるいは剥いで、光透過性の劣るフィルムの場合
は剥いでから真空密着されたネガフィルムを通して活性
光線で露光される。この露光工程で用いられる光源は、
紫外線を豊富に発生するものであり、水銀灯、カーボン
アーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、タ
ングステンランプ、蛍光灯等を使うことができる。
【0124】次いで、保護フィルムがある時は剥いでか
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のシリコーンゴム層のみが除去され、感光層表面が露出
しインキ受容部となり、水なし平版印刷版が得られる。
ら版面を現像液を含んだ現像用パッドでこすると露光部
のシリコーンゴム層のみが除去され、感光層表面が露出
しインキ受容部となり、水なし平版印刷版が得られる。
【0125】本発明において用いられる現像液として
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパー”E,G,H(エッソ化学(株)製)ある
いはガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエ
ン、キシレンなど)あるいはハロゲン化炭化水素類(ト
リクレンなど)に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好適である。
は、水なし平版印刷版において通常提案されているもの
が使用できる。例えば、水、水に下記の極性溶剤を添加
したもの、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、
“アイソパー”E,G,H(エッソ化学(株)製)ある
いはガソリン、灯油など)、芳香族炭化水素類(トルエ
ン、キシレンなど)あるいはハロゲン化炭化水素類(ト
リクレンなど)に下記の極性溶剤または極性溶剤と水を
添加したもの、あるいは極性溶剤単独が好適である。
【0126】アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、2−メトキシエタノール、カ
ルビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール等) エーテル類(メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビト
ール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジオ
キサン等) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、4−メチル
−1,3−ジオキソラン−2−オン等) エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
セロソルブアセテート、カルビトールアセテート、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート等) その他(トリエチルフォスフェート等)
プロパノール、ベンジルアルコール、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテル、2−メトキシエタノール、カ
ルビトールモノエチルエーテル、カルビトールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール等) エーテル類(メチルセロソルブ、
エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビト
ール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ジオ
キサン等) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、4−メチル
−1,3−ジオキソラン−2−オン等) エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
セロソルブアセテート、カルビトールアセテート、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメ
チルフタレート、ジエチルフタレート等) その他(トリエチルフォスフェート等)
【0127】上記現像液にアニオン界面活性剤、ノニオ
ン界面活性剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活
性剤等種々の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加し
たものも使用する事が出来る。アルカリ剤としては、例
えば炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、あるいはモノ、ジ、またはトリエタノールアミ
ン、モノ、ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、ま
たはトリエチルアミン、モノ、またはジイソプロピルア
ミン、n−ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプ
ロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン
等の有機アミン化合物等が挙げられる。
ン界面活性剤、カチオン界面活性剤や両性イオン界面活
性剤等種々の界面活性剤、およびアルカリ剤等を添加し
たものも使用する事が出来る。アルカリ剤としては、例
えば炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、ホウ酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、あるいはモノ、ジ、またはトリエタノールアミ
ン、モノ、ジ、またはトリメチルアミン、モノ、ジ、ま
たはトリエチルアミン、モノ、またはジイソプロピルア
ミン、n−ブチルアミン、モノ、ジ、またはトリイソプ
ロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン
等の有機アミン化合物等が挙げられる。
【0128】また、クリスタルバイオレット、アストラ
ゾンレッド等の染料を現像液に加えて現像と同時に画線
部の染色を行うことも出来る。あるいは現像後の版を染
色液に浸漬することにより後処理として染色する事もで
きる。
ゾンレッド等の染料を現像液に加えて現像と同時に画線
部の染色を行うことも出来る。あるいは現像後の版を染
色液に浸漬することにより後処理として染色する事もで
きる。
【0129】現像方法としては、手による現像でも公知
の現像装置による現像でもよいが好ましくは前処理部と
現像部、及び後処理部がこの順に設けられている現像装
置を用いるのが良い。
の現像装置による現像でもよいが好ましくは前処理部と
現像部、及び後処理部がこの順に設けられている現像装
置を用いるのが良い。
【0130】
【実施例】以下実施例によって本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0131】なお、引張特性の試験方法は次の通りであ
る。
る。
【0132】[感光層、プライマ層、感光層とプライマ
層を合わせた層] 露光前の引張特性 JIS K6301にしたがって測定した。
層を合わせた層] 露光前の引張特性 JIS K6301にしたがって測定した。
【0133】ガラス板上にプライマ液または感光液を塗
布し、溶媒を揮散させた後、115℃で加熱硬化させ
た。この後、ガラス板よりシートを剥がすことで約10
0ミクロンの厚さのシートを得た。このシートから5m
m×40mmの短冊状サンプルを切り取り、テンンシロ
ン RTM−100(オリエンテック(株)製)を用
い、引張速度 20cm/分で初期弾性率、10%応力、
破断伸度を測定した。プライマ層と感光層を合わせた層
の引張特性を調べる場合には、上記の方法でプライマ層
の上に感光層を作製し、同様の方法でシートを得て試験
を行った。
布し、溶媒を揮散させた後、115℃で加熱硬化させ
た。この後、ガラス板よりシートを剥がすことで約10
0ミクロンの厚さのシートを得た。このシートから5m
m×40mmの短冊状サンプルを切り取り、テンンシロ
ン RTM−100(オリエンテック(株)製)を用
い、引張速度 20cm/分で初期弾性率、10%応力、
破断伸度を測定した。プライマ層と感光層を合わせた層
の引張特性を調べる場合には、上記の方法でプライマ層
の上に感光層を作製し、同様の方法でシートを得て試験
を行った。
【0134】露光後の引張特性 JIS K6301にしたがって測定した。ガラス板上
にプライマ液または感光液を塗布し、溶媒を揮散させた
後、115℃で加熱硬化させた。その後、3kWの超高
圧水銀灯(オーク製作所製)を用いて、UVメーター
(オーク製作所ライトメジャータイプUV365)で1
2mW/cm2 の照度で10分間露光した。この後、ガ
ラス板よりシートを剥がすことで約100ミクロンの厚
さのシートを得た。このシートから5mm×40mmの
短冊状サンプルを切り取り、テンシロン RTM−10
0(オリエンテック(株)製)を用い、引張速度20cn
/分で初期弾性率、10%応力値、破断伸度を測定し
た。プライマ層と感光層を合わせた層の引張特性を調べ
る場合には、上記の方法でプライマ層の上に感光層を作
製し、同様の方法でシートを得て試験を行った。
にプライマ液または感光液を塗布し、溶媒を揮散させた
後、115℃で加熱硬化させた。その後、3kWの超高
圧水銀灯(オーク製作所製)を用いて、UVメーター
(オーク製作所ライトメジャータイプUV365)で1
2mW/cm2 の照度で10分間露光した。この後、ガ
ラス板よりシートを剥がすことで約100ミクロンの厚
さのシートを得た。このシートから5mm×40mmの
短冊状サンプルを切り取り、テンシロン RTM−10
0(オリエンテック(株)製)を用い、引張速度20cn
/分で初期弾性率、10%応力値、破断伸度を測定し
た。プライマ層と感光層を合わせた層の引張特性を調べ
る場合には、上記の方法でプライマ層の上に感光層を作
製し、同様の方法でシートを得て試験を行った。
【0135】[シリコーンゴム層]シリコーンゴムの引
張特性は、JIS K6301にしたがって測定した。
テフロン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した後、
テフロン板よりシートを剥がし、得られた約300ミク
ロンの厚さのシートから4号ダンベルでテストピースを
作製し、上記テンシロンで引張速度20cm/分で、JI
S K6301にしたがって初期弾性率、50%応力
値、破断伸度を測定すればよい。
張特性は、JIS K6301にしたがって測定した。
テフロン板にシリコーンゴム液を塗布し、乾燥した後、
テフロン板よりシートを剥がし、得られた約300ミク
ロンの厚さのシートから4号ダンベルでテストピースを
作製し、上記テンシロンで引張速度20cm/分で、JI
S K6301にしたがって初期弾性率、50%応力
値、破断伸度を測定すればよい。
【0136】実施例1 厚さ0.3mmのアルミ板(住友金属(株)製)に下記
のプライマ組成物をバーコーターを用いて塗布し、20
0℃、2分間熱処理して5μmのプライマ層を設けた。 (a)ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”P22S (日本ミラクトラン(株)製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“タケネートB830” (武田薬品(株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール・尿素樹脂“SJ9372” (関西ペイント(株)製) 8重量部 (d)酸化チタン 10重量部 (e)ジブチル錫ジアセテート 0.5重量部 (f)モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッド ホスフェート 1重量部 (g)ジメチルホルムアミド 725重量部
のプライマ組成物をバーコーターを用いて塗布し、20
0℃、2分間熱処理して5μmのプライマ層を設けた。 (a)ポリウレタン樹脂“ミラクトラン”P22S (日本ミラクトラン(株)製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“タケネートB830” (武田薬品(株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール・尿素樹脂“SJ9372” (関西ペイント(株)製) 8重量部 (d)酸化チタン 10重量部 (e)ジブチル錫ジアセテート 0.5重量部 (f)モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッド ホスフェート 1重量部 (g)ジメチルホルムアミド 725重量部
【0137】続いてこのプライマ層上に下記の感光層組
成物をバーコータを用いて塗布し、110℃の熱風中で
1分間乾燥して厚さ1.5μmの感光層を設けた。 (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸 クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂 (住友デュレズ製:“スミライトレジン”PR50622) の部分エステル化物 (元素分析法によるエステル化度36%) 70重量部 (b)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (c)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331 (三洋化成工業(株)製) (ガラス転移点Tg:−37℃) 30重量部 (d)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (e)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (f)テトラヒドロフラン 800重量部
成物をバーコータを用いて塗布し、110℃の熱風中で
1分間乾燥して厚さ1.5μmの感光層を設けた。 (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸 クロライドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂 (住友デュレズ製:“スミライトレジン”PR50622) の部分エステル化物 (元素分析法によるエステル化度36%) 70重量部 (b)4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート 21重量部 (c)ポリウレタン樹脂“サンプレン”LQ−T1331 (三洋化成工業(株)製) (ガラス転移点Tg:−37℃) 30重量部 (d)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (e)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (f)テトラヒドロフラン 800重量部
【0138】次いでこの感光層の上に下記の組成を有す
るシリコーンゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点
30℃、3.5分間湿熱硬化させて2μmのシリコーン
ゴム層を設けた。 (a)ポリジメチルシロキサン (分子量約25,000、末端水酸基) 100重量部 (b)ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン 10重量部 (c)“アイソパー”E(エクソン化学(株)製) 1400重量部
るシリコーンゴム組成物を回転塗布後、115℃、露点
30℃、3.5分間湿熱硬化させて2μmのシリコーン
ゴム層を設けた。 (a)ポリジメチルシロキサン (分子量約25,000、末端水酸基) 100重量部 (b)ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン 10重量部 (c)“アイソパー”E(エクソン化学(株)製) 1400重量部
【0139】上記のようにして得られた積層板に、厚さ
10μmのポリプロピレンフィルム“トレファン”(東
レ(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷版原版を得た。
10μmのポリプロピレンフィルム“トレファン”(東
レ(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷版原版を得た。
【0140】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、
UVメーター(オーク製作所製、ライトメジャータイプ
UV−402A)で11mW/cm2 の照度で6秒間全
面露光を施した。
(岩崎電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、
UVメーター(オーク製作所製、ライトメジャータイプ
UV−402A)で11mW/cm2 の照度で6秒間全
面露光を施した。
【0141】上記のようにして得られた印刷用原版に1
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
【0142】次いで上記の露光済版の“トレファン”を
剥離し、室温32℃、湿度80%の条件で、“アイソパ
ー”H/ジエチレングリコールジメチルエーテル/エチ
ルセロソルブ/N−メチルジエタノールアミン=87/
7/3/3(重量比)からなる処理液をブラシを用いて
版面に塗布した。1分間処理後、ゴムスキージで版面に
付着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現
像液(水/ブチルカルビトール/2−エチル酪酸/クリ
スタルバイオレット=70/30/2/0.2(重量
比)を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこすると、画像露
光された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表
面が露出した。一方、全面露光のみがなされた非画像部
分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィ
ルムを忠実に再現した画像が得られた。
剥離し、室温32℃、湿度80%の条件で、“アイソパ
ー”H/ジエチレングリコールジメチルエーテル/エチ
ルセロソルブ/N−メチルジエタノールアミン=87/
7/3/3(重量比)からなる処理液をブラシを用いて
版面に塗布した。1分間処理後、ゴムスキージで版面に
付着した処理液を除去し、次いで版面と現像パッドに現
像液(水/ブチルカルビトール/2−エチル酪酸/クリ
スタルバイオレット=70/30/2/0.2(重量
比)を注ぎ、現像パッドで版面を軽くこすると、画像露
光された部分のシリコーンゴム層が除去され、感光層表
面が露出した。一方、全面露光のみがなされた非画像部
分はシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガフィ
ルムを忠実に再現した画像が得られた。
【0143】得られた印刷版を、オフセット印刷機(小
森スプリント4色機)に取り付け、大日本インキ化学工
業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。
16万枚印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印
刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であ
った。
森スプリント4色機)に取り付け、大日本インキ化学工
業(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、黄インキを
用いて、上質紙に印刷をおこない耐刷テストを行った。
16万枚印刷を行ったところ、良好な印刷物が刷れ、印
刷終了後の印刷版を検査したが印刷版の損傷は軽微であ
った。
【0144】この実施例に用いた各層の引張特性を測定
した結果を表2に示した。
した結果を表2に示した。
【0145】実施例2 (ジアゾ樹脂−1の合成)p−ジアゾフェニルアミン硫
酸塩14.5gを氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解
し、この液に1.0gのパラホルムアルデヒドを反応温
度が10℃を越えないようにゆっくり滴下した。その
後、2時間氷冷下にて撹拌を続けた。この反応混合物を
氷冷下、500mlのエタノールに滴下し生じた沈殿を
濾過した。エタノールで洗浄した沈殿物は、100ml
の純水に溶解し、この液に6.8gの塩化亜鉛を含む冷
濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した後、エタノ
ールで洗浄し、これを150mlの純水に溶解した。こ
の液に8gのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解
した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾取し水洗し
た後、30℃で一昼夜乾燥してジアゾ樹脂を得た。
酸塩14.5gを氷冷下で40.9gの濃硫酸に溶解
し、この液に1.0gのパラホルムアルデヒドを反応温
度が10℃を越えないようにゆっくり滴下した。その
後、2時間氷冷下にて撹拌を続けた。この反応混合物を
氷冷下、500mlのエタノールに滴下し生じた沈殿を
濾過した。エタノールで洗浄した沈殿物は、100ml
の純水に溶解し、この液に6.8gの塩化亜鉛を含む冷
濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾過した後、エタノ
ールで洗浄し、これを150mlの純水に溶解した。こ
の液に8gのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解
した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈殿を濾取し水洗し
た後、30℃で一昼夜乾燥してジアゾ樹脂を得た。
【0146】厚さ0.24mmの化成処理されたアルミ
板(住友金属(株)製)に下記のプライマ組成物をホワ
ラを用いて50℃で塗布し、さらに80℃で4分乾燥さ
せてプライマ層を設けた。 (a)ジアゾ樹脂−1 8重量部 (b)2−ヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリル酸メチル のモル比40/ 60の共重合樹脂(Mw=4.0×104 ) 90重量部 (c)γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン (東芝シリコーン製) 5重量部 (d)酸化亜鉛(堺化学(製)微細亜鉛華) 55重量部 (e)“KET−YELLOW 402” (大日本インキ化学(製)黄色顔料) 12重量部 (f)“ノニポール”(三洋化成(製)非イオン系界面活性剤) 5重量部 (g)乳酸メチル 700重量部 (h)シクロヘキサノン 100重量部
板(住友金属(株)製)に下記のプライマ組成物をホワ
ラを用いて50℃で塗布し、さらに80℃で4分乾燥さ
せてプライマ層を設けた。 (a)ジアゾ樹脂−1 8重量部 (b)2−ヒドロキシエチルメタクリレート、メタクリル酸メチル のモル比40/ 60の共重合樹脂(Mw=4.0×104 ) 90重量部 (c)γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン (東芝シリコーン製) 5重量部 (d)酸化亜鉛(堺化学(製)微細亜鉛華) 55重量部 (e)“KET−YELLOW 402” (大日本インキ化学(製)黄色顔料) 12重量部 (f)“ノニポール”(三洋化成(製)非イオン系界面活性剤) 5重量部 (g)乳酸メチル 700重量部 (h)シクロヘキサノン 100重量部
【0147】塗布、乾燥後メタルハライドランプで40
0mJ/cm2 露光し115℃で5分間乾燥を行うこと
により乾燥膜厚4.5μmのプライマ層を設けた。
0mJ/cm2 露光し115℃で5分間乾燥を行うこと
により乾燥膜厚4.5μmのプライマ層を設けた。
【0148】続いてこの上に下記の感光層組成物をバー
コータを用いて塗布し、120℃の熱風中で1分間乾燥
して厚さ1.5μmの感光層を設けた。 (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロ ライドと4,4’−ジアミノベンゾフェノンの部分アミド化物 (元素分析法によるアミド化度52%) 55重量部 (b)トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル 30重量部 (c)ポリウレタン“サンプレン”LQ−T1331 (三洋化成工業(株)製) (ガラス転移点Tg:−37℃) 20重量部 (d)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (e)4,4´−ジエチルアミノベンゾフェノン 3重量部 (f)テトラヒドロフラン 800重量部
コータを用いて塗布し、120℃の熱風中で1分間乾燥
して厚さ1.5μmの感光層を設けた。 (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロ ライドと4,4’−ジアミノベンゾフェノンの部分アミド化物 (元素分析法によるアミド化度52%) 55重量部 (b)トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル 30重量部 (c)ポリウレタン“サンプレン”LQ−T1331 (三洋化成工業(株)製) (ガラス転移点Tg:−37℃) 20重量部 (d)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (e)4,4´−ジエチルアミノベンゾフェノン 3重量部 (f)テトラヒドロフラン 800重量部
【0149】次いでこの感光層の上に次ぎの組成を有す
るシリコーンゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布し
た後、115℃、露点30℃という条件で3.5分間湿
熱硬化させて2.3μmのシリコーンゴム層を設けた。 (a)ポリジメチルシロキサン (分子量約35,000、末端水酸基) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 12重量部 (c)ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (d)“アイソパー”G(エクソン化学(株)製) 1200重量部
るシリコーンゴム組成物を乾燥窒素気流下、回転塗布し
た後、115℃、露点30℃という条件で3.5分間湿
熱硬化させて2.3μmのシリコーンゴム層を設けた。 (a)ポリジメチルシロキサン (分子量約35,000、末端水酸基) 100重量部 (b)エチルトリアセトキシシラン 12重量部 (c)ジブチル錫ジアセテート 0.1重量部 (d)“アイソパー”G(エクソン化学(株)製) 1200重量部
【0150】上記のようにして得られた積層板に、厚さ
8μmのポリエステルフィルム“ルミラー”(東レ
(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷版原版を得た。
8μmのポリエステルフィルム“ルミラー”(東レ
(株)製)をカレンダーローラーを用いてラミネート
し、水なし平版印刷版原版を得た。
【0151】かかる印刷原版にメタルハライドランプ
(岩崎電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、
UVメーター(オーク製作所製、ライトメジャータイプ
UV−402A)で11mW/cm2 の照度で6秒間全
面露光を施した。
(岩崎電気(株)製アイドルフィン2000)を用い、
UVメーター(オーク製作所製、ライトメジャータイプ
UV−402A)で11mW/cm2 の照度で6秒間全
面露光を施した。
【0152】上記のようにして得られた印刷用原版に1
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
50線/インチの網点画像を持つネガフィルムを真空密
着し、上記のメタルハライドランプを用い、1mの距離
から60秒間露光した。
【0153】次いで上記の露光済版の“ルミラー”を剥
離し、室温25℃、湿度80%の条件で、TWL116
0(東レ(株)製水なし平版印刷版の現像装置)を用い
て現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成
を有する液を用いた。 (a)ジエチレングリコール 80重量部 (b)ジグリコールアミン 14重量部 (c)水 6重量部
離し、室温25℃、湿度80%の条件で、TWL116
0(東レ(株)製水なし平版印刷版の現像装置)を用い
て現像を行った。ここで前処理液としては、以下の組成
を有する液を用いた。 (a)ジエチレングリコール 80重量部 (b)ジグリコールアミン 14重量部 (c)水 6重量部
【0154】また、現像液としては水を用いた。染色液
としては、以下の組成を有する液を用いた。 (a)エチルカルビトール 18重量部 (b)水 79.9重量部 (c)クリスタルバイオレット 0.1重量部 (d)2−エチルヘキサン酸 2重量部
としては、以下の組成を有する液を用いた。 (a)エチルカルビトール 18重量部 (b)水 79.9重量部 (c)クリスタルバイオレット 0.1重量部 (d)2−エチルヘキサン酸 2重量部
【0155】現像装置を出てきた印刷版を観察したとこ
ろ、画像露光された部分のシリコーンゴム層が除去さ
れ、感光層表面が露出していた。一方、全面露光のみが
なされた非画像部分はシリコーンゴム層が強固に残存し
ており、ネガフィルムを忠実に再現した画像が得られ
た。
ろ、画像露光された部分のシリコーンゴム層が除去さ
れ、感光層表面が露出していた。一方、全面露光のみが
なされた非画像部分はシリコーンゴム層が強固に残存し
ており、ネガフィルムを忠実に再現した画像が得られ
た。
【0156】得られた印刷版を、オフセット印刷機(小
森スプリント4色機)に取り付け、実施例1と同様に耐
刷テストを行った。17万枚印刷を行ったところ、良好
な印刷物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷
版の損傷は軽微であった。
森スプリント4色機)に取り付け、実施例1と同様に耐
刷テストを行った。17万枚印刷を行ったところ、良好
な印刷物が刷れ、印刷終了後の印刷版を検査したが印刷
版の損傷は軽微であった。
【0157】この実施例に用いた各層の引張特性を測定
した結果を表2に示した。
した結果を表2に示した。
【0158】実施例3 厚さ0.24mmのアルミ板(住友金属(株)製)に下
記のプライマ組成物をスリットダイコータを用いて塗布
し、220℃の熱風中で3分間熱処理して5μmのプラ
イマ層を設けた。 (a)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“タケネートB830” (武田薬品(株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール・尿素樹脂“SJ9372” (関西ペイント(株)製) 8重量部 (d)酸化チタン 10重量部 (e)ジブチル錫ジアセテート 0.5重量部 (f)モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッド ホスフェート 1重量部 (g)ジメチルホルムアミド 700重量部 (h)テトラヒドロフラン 50重量部
記のプライマ組成物をスリットダイコータを用いて塗布
し、220℃の熱風中で3分間熱処理して5μmのプラ
イマ層を設けた。 (a)ポリウレタン樹脂“サンプレンLQ−T1331” (三洋化成工業(株)製) 100重量部 (b)ブロックイソシアネート“タケネートB830” (武田薬品(株)製) 20重量部 (c)エポキシ・フェノール・尿素樹脂“SJ9372” (関西ペイント(株)製) 8重量部 (d)酸化チタン 10重量部 (e)ジブチル錫ジアセテート 0.5重量部 (f)モノ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッド ホスフェート 1重量部 (g)ジメチルホルムアミド 700重量部 (h)テトラヒドロフラン 50重量部
【0159】次いで、上記プライマ層上に下記の組成物
よりなる感光液(A)と感光液(B)を塗布の直前に混
合し、スリットダイコータを用いて塗布し、115℃の
熱風中で1分間乾燥して厚さ1.5μmの感光層を設け
た。 感光液(A) (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとトリ ヒドロキシベンゾフェノンの部分エステル化物 (元素分析法によるエステル化度38%) 80重量部 (b)ポリウレタン“サンプレン”LQ−T1331 (三洋化成工業(株)製) (ガラス転移点Tg:−37℃) 20重量部 (c)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (d)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (e)テトラヒドロフラン 700重量部 感光液(B) (a)イソホロンジイソシアネート 20重量部 (b)テトラヒドロフラン 100重量部
よりなる感光液(A)と感光液(B)を塗布の直前に混
合し、スリットダイコータを用いて塗布し、115℃の
熱風中で1分間乾燥して厚さ1.5μmの感光層を設け
た。 感光液(A) (a)1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとトリ ヒドロキシベンゾフェノンの部分エステル化物 (元素分析法によるエステル化度38%) 80重量部 (b)ポリウレタン“サンプレン”LQ−T1331 (三洋化成工業(株)製) (ガラス転移点Tg:−37℃) 20重量部 (c)ジブチル錫ジアセテート 0.2重量部 (d)P−トルエンスルホン酸 0.8重量部 (e)テトラヒドロフラン 700重量部 感光液(B) (a)イソホロンジイソシアネート 20重量部 (b)テトラヒドロフラン 100重量部
【0160】次いでこの感光層の上に次ぎの組成を有す
るシリコーンゴム液を、スリットダイコータを用いて塗
布した後、120℃で4分間加熱硬化させて1.8μm
のシリコーンゴム層を設けた。 (a)両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン(重合度〜700) 100重量部 (b) (CH3 ) 3 Si-O-(Si(CH 3 ) 2 -O) 30ー(SiH(CH3 )-O)10ーSi(CH3 ) 3 10重量部 (c)塩化白金酸/メチルビニルサイクリックス錯体 0.1重量部 (d)アセチルアセトンアルコール 0.1重量部 (e)ポリジメチルシロキサン(重合度〜8000) 10重量部 (f)“アイソパー”E(エクソン化学(株)製) 1000重量部
るシリコーンゴム液を、スリットダイコータを用いて塗
布した後、120℃で4分間加熱硬化させて1.8μm
のシリコーンゴム層を設けた。 (a)両末端ビニル基ポリジメチルシロキサン(重合度〜700) 100重量部 (b) (CH3 ) 3 Si-O-(Si(CH 3 ) 2 -O) 30ー(SiH(CH3 )-O)10ーSi(CH3 ) 3 10重量部 (c)塩化白金酸/メチルビニルサイクリックス錯体 0.1重量部 (d)アセチルアセトンアルコール 0.1重量部 (e)ポリジメチルシロキサン(重合度〜8000) 10重量部 (f)“アイソパー”E(エクソン化学(株)製) 1000重量部
【0161】上記のようにして得られた積層板に、実施
例2と同様厚さ8μmのポリエステルフィルム“ルミラ
ー”(東レ(株)製)をカレンダーローラーを用いてラ
ミネートし、水なし平版印刷版原版を得た。
例2と同様厚さ8μmのポリエステルフィルム“ルミラ
ー”(東レ(株)製)をカレンダーローラーを用いてラ
ミネートし、水なし平版印刷版原版を得た。
【0162】かかる印刷版原版に実施例2と同様の処理
を施した後、150線/インチの網点画像を持つネガフ
ィルムを用いて画像露光を行い、実施例2と同様に現像
を行った。
を施した後、150線/インチの網点画像を持つネガフ
ィルムを用いて画像露光を行い、実施例2と同様に現像
を行った。
【0163】得られた印刷版について、実施例1,2と
同様に耐刷テストを行ったところ、15万枚の耐刷力を
示した。
同様に耐刷テストを行ったところ、15万枚の耐刷力を
示した。
【0164】この実施例に用いた各層の引張特性を測定
した結果を表2に示した。
した結果を表2に示した。
【0165】比較例1〜3 実施例1における感光層成分(a)(b)(c)の種
類、配合量を表1に示すように変更させた以外は、実施
例1と同様にして、種々の感光層組成を有するネガ型の
水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に
実施例2と同様の処理を施した後、150線/インチの
網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行い、
実施例2と同様に現像および耐刷テストを行った。引張
特性および画像再現性、耐刷力を表2に示す。
類、配合量を表1に示すように変更させた以外は、実施
例1と同様にして、種々の感光層組成を有するネガ型の
水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に
実施例2と同様の処理を施した後、150線/インチの
網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行い、
実施例2と同様に現像および耐刷テストを行った。引張
特性および画像再現性、耐刷力を表2に示す。
【0166】比較例1においては、感光層中に占めるバ
インダポリマの量が8.2wt%と少ないため、満足な
引張特性を発現させることが出来ず、非常に堅くて脆い
感光層となった。オフセット印刷を行ったところ、6万
枚印刷した時点で非画線部に汚れが生じた。印刷機から
版を取り外し、汚れが生じた部分を顕微鏡で観察したと
ころ、感光層自体の破壊とその部分におけるシリコーン
ゴム層の破壊の様子、およびシリコーンゴム層の剥離の
様子が観察できた。
インダポリマの量が8.2wt%と少ないため、満足な
引張特性を発現させることが出来ず、非常に堅くて脆い
感光層となった。オフセット印刷を行ったところ、6万
枚印刷した時点で非画線部に汚れが生じた。印刷機から
版を取り外し、汚れが生じた部分を顕微鏡で観察したと
ころ、感光層自体の破壊とその部分におけるシリコーン
ゴム層の破壊の様子、およびシリコーンゴム層の剥離の
様子が観察できた。
【0167】比較例2においては、感光層中に占めるバ
インダポリマの量が86.5wt%と多すぎるために、
感光層の物性は柔軟すぎるものとなった。同時に、感光
成分が少ないため満足な画像再現性、現像性を得ること
が出来ず、画像露光、現像によっても画像を再現できな
い版、すなわち現像不能の版しか得られなかった。その
ため、この版については耐刷テストを行うことが出来な
かった。
インダポリマの量が86.5wt%と多すぎるために、
感光層の物性は柔軟すぎるものとなった。同時に、感光
成分が少ないため満足な画像再現性、現像性を得ること
が出来ず、画像露光、現像によっても画像を再現できな
い版、すなわち現像不能の版しか得られなかった。その
ため、この版については耐刷テストを行うことが出来な
かった。
【0168】比較例3は感光成分における感光性基の量
を多くすること、すなわち1,2−ナフトキノン−2−
ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノールホル
ムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物のエス
テル化度を70%と高くすることによって、この問題を
解決しようとした結果である。比較例2に比べ画像再現
性は若干改善されたが、感光層中におけるバインダポリ
マの量が多すぎるため、依然として満足な感光層物性を
発現することは出来ず、さらに、感光成分自体が少ない
ためにSK接着力に問題を有しており、結果として8万
枚という低い耐刷力しか得られなかった。
を多くすること、すなわち1,2−ナフトキノン−2−
ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフェノールホル
ムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物のエス
テル化度を70%と高くすることによって、この問題を
解決しようとした結果である。比較例2に比べ画像再現
性は若干改善されたが、感光層中におけるバインダポリ
マの量が多すぎるため、依然として満足な感光層物性を
発現することは出来ず、さらに、感光成分自体が少ない
ためにSK接着力に問題を有しており、結果として8万
枚という低い耐刷力しか得られなかった。
【0169】実施例4〜7 実施例1における感光層成分(a)(c)の種類、配合
量を表3に示すように変更させた以外は、実施例1と同
様にして、種々の感光層組成、引張特性を有するネガ型
の水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版
に実施例2と同様の処理を施した後、150線/インチ
の網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行
い、実施例2と同様に現像を行うことで印刷版を得た。
量を表3に示すように変更させた以外は、実施例1と同
様にして、種々の感光層組成、引張特性を有するネガ型
の水なし平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版
に実施例2と同様の処理を施した後、150線/インチ
の網点画像を持つネガフィルムを用いて画像露光を行
い、実施例2と同様に現像を行うことで印刷版を得た。
【0170】得られた印刷版をオフセット印刷機(小森
スプリント4色機)に取り付け、大日本インキ化学工業
(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、黄インキを用
いて、上質紙に印刷をおこない耐刷力テストを行った。
表2に引張特性と印刷版の画像再現性および耐刷力を示
す。
スプリント4色機)に取り付け、大日本インキ化学工業
(株)製“ドライオカラー”墨、藍、紅、黄インキを用
いて、上質紙に印刷をおこない耐刷力テストを行った。
表2に引張特性と印刷版の画像再現性および耐刷力を示
す。
【0171】実施例8〜16 実施例1における感光層成分(a)(c)の種類、配合
量を表4に示すように変更させた以外は、実施例1と同
様にして、種々のバインダポリマを有するネガ型の水な
し平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に実施
例2と同様の処理を施した後、同様に画像露光を行い、
同様に現像を行うことで印刷版を得た。得られた印刷版
についても同様に耐刷力テストを行った。表5に引張特
性と印刷版の画像再現性および耐刷力を示す。
量を表4に示すように変更させた以外は、実施例1と同
様にして、種々のバインダポリマを有するネガ型の水な
し平版印刷版原版を作製した。かかる印刷版原版に実施
例2と同様の処理を施した後、同様に画像露光を行い、
同様に現像を行うことで印刷版を得た。得られた印刷版
についても同様に耐刷力テストを行った。表5に引張特
性と印刷版の画像再現性および耐刷力を示す。
【0172】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【表7】
【0173】
【発明の効果】本発明は、基板上に少なくともキノンジ
アジド化合物およびバインダポリマを含有する感光層、
インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版
原版において、該感光層の引張特性を (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 、さらに
は (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 (3)破断伸度 :10%以上 と柔軟化することにより、画像再現性に優れかつ耐刷力
に優れた水なし平版印刷版を提供することが出来る。し
たがって、高耐刷力の要求される新聞オフ輪印刷分野や
商業オフ輪印刷分野においても好適に用いられる。
アジド化合物およびバインダポリマを含有する感光層、
インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版
原版において、該感光層の引張特性を (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 、さらに
は (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 (3)破断伸度 :10%以上 と柔軟化することにより、画像再現性に優れかつ耐刷力
に優れた水なし平版印刷版を提供することが出来る。し
たがって、高耐刷力の要求される新聞オフ輪印刷分野や
商業オフ輪印刷分野においても好適に用いられる。
Claims (20)
- 【請求項1】 基板上に少なくともキノンジアジド化合
物およびバインダポリマを含有する感光層、インキ反撥
層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版におい
て、該感光層の引張特性が (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 - 【請求項2】 該感光層の引張特性が (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする請求項1記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項3】 該感光層の引張特性が (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする請求項1記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項4】 基板上に、プライマ層、少なくともキノ
ンジアジド化合物およびバインダポリマを含有する感光
層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印
刷版原版において、該プライマ層の引張特性が (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 - 【請求項5】 該プライマ層の引張特性が (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする請求項4記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項6】 該プライマ層の引張特性が (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする請求項4記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項7】 基板上に、プライマ層、少なくともキノ
ンジアジド化合物およびバインダポリマを含有する感光
層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版印
刷版原版において、該プライマ層と該感光層を合わせた
層の引張特性が (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 - 【請求項8】 該プライマ層と該感光層を合わせた層の
引張特性が (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする請求項7記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項9】 該プライマ層と該感光層を合わせた層の
引張特性が (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする請求項7記載の水なし
平版印刷版原版。 - 【請求項10】 基板上に少なくともキノンジアジド化
合物およびバインダポリマを含有する感光層、インキ反
撥層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版にお
いて、該感光層の露光後の引張特性が (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 - 【請求項11】 該感光層の露光後の引張特性が (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする請求項10記載の水な
し平版印刷版原版。 - 【請求項12】 該感光層の露光後の引張特性が (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする請求項10記載の水な
し平版印刷版原版。 - 【請求項13】 基板上に、プライマ層、少なくともキ
ノンジアジド化合物およびバインダポリマを含有する感
光層、インキ反撥層をこの順に積層してなる水なし平版
印刷版原版において、該プライマ層と該感光層を合わせ
た層の露光後の引張特性が (1)初期弾性率 :5〜50kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする水なし平版印刷版原
版。 - 【請求項14】 該プライマ層と該感光層を合わせた層
の露光後の引張特性が (2)10%応力 :0.05〜3.0kgf/mm2 の物性を有することを特徴とする請求項13記載の水な
し平版印刷版原版。 - 【請求項15】 該プライマ層と該感光層を合わせた層
の露光後の引張特性が (3)破断伸度 :10%以上 の物性を有することを特徴とする請求項13記載の水な
し平版印刷版原版。 - 【請求項16】 バインダポリマの感光層中にしめる割
合が15〜80wt%であることを特徴とする請求項1〜
15のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項17】 バインダポリマのガラス転移点(Tg
)が0℃以下であることを特徴とする請求項1〜15
のいずれかに記載の水なし平版印刷版原版。 - 【請求項18】 感光層が架橋構造を有することを特徴
とする請求項1〜15のいずれかに記載の水なし平版印
刷版原版。 - 【請求項19】 感光層が光剥離性感光層であることを
特徴とする請求項1〜15のいずれかに記載の水なし平
版印刷版原版。 - 【請求項20】 請求項1〜19のいずれかに記載の水
なし平版印刷版原版を選択的に露光現像してなる水なし
平版印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13512695A JPH0876368A (ja) | 1994-07-07 | 1995-06-01 | 水なし平版印刷版原版 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15620694 | 1994-07-07 | ||
| JP6-156206 | 1994-07-07 | ||
| JP13512695A JPH0876368A (ja) | 1994-07-07 | 1995-06-01 | 水なし平版印刷版原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0876368A true JPH0876368A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=26469060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13512695A Pending JPH0876368A (ja) | 1994-07-07 | 1995-06-01 | 水なし平版印刷版原版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0876368A (ja) |
-
1995
- 1995-06-01 JP JP13512695A patent/JPH0876368A/ja active Pending
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