JPH0877964A - 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ質量分析装置Info
- Publication number
- JPH0877964A JPH0877964A JP6207393A JP20739394A JPH0877964A JP H0877964 A JPH0877964 A JP H0877964A JP 6207393 A JP6207393 A JP 6207393A JP 20739394 A JP20739394 A JP 20739394A JP H0877964 A JPH0877964 A JP H0877964A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mass spectrometer
- inductively coupled
- coupled plasma
- frequency inductively
- high frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】カドラポール型の質量分析部を備えた高周波誘
導結合プラズマ質量分析装置において、時間的に変動す
る現象についても２種類の元素の測定をほぼ同時に行え
るようにして、内標準分析を可能にする。 【構成】二組のＱＰフィルター５ａと検出器６ａ、およ
び、５ｂと６ｂを備えている。サンプリングコーン１か
ら導入されたイオンビーム８は別の質量数に設定された
ＱＰフィルター５ａおよび５ｂにビーム偏向器７によっ
て数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔で時分割的に送り
込まれ、検出器６ａおよび６ｂでそれぞれ計数される。
フラッシュアトマイザの手法のように短い時間で変動す
る現象についても、目的の元素と標準元素の強度がほぼ
同時に測定されることによって、内標準分析が可能とな
る。
導結合プラズマ質量分析装置において、時間的に変動す
る現象についても２種類の元素の測定をほぼ同時に行え
るようにして、内標準分析を可能にする。 【構成】二組のＱＰフィルター５ａと検出器６ａ、およ
び、５ｂと６ｂを備えている。サンプリングコーン１か
ら導入されたイオンビーム８は別の質量数に設定された
ＱＰフィルター５ａおよび５ｂにビーム偏向器７によっ
て数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔で時分割的に送り
込まれ、検出器６ａおよび６ｂでそれぞれ計数される。
フラッシュアトマイザの手法のように短い時間で変動す
る現象についても、目的の元素と標準元素の強度がほぼ
同時に測定されることによって、内標準分析が可能とな
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水質分析などに用いられ
る高周波誘導結合プラズマ質量分析装置（以下ＩＣＰ−
ＭＳという）に関する。
る高周波誘導結合プラズマ質量分析装置（以下ＩＣＰ−
ＭＳという）に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２にカドラポール型の質量分析部を備
えた従来のＩＣＰ−ＭＳを示す。ネブライザ２８によっ
て霧化された試料は高周波誘導結合プラズマ３１中でイ
オン化され、そのイオンはサンプリングコーン２１、ス
キマーコーン２２、引き出し電極２３、イオンレンズ２
４を通って質量分析部の本体であるカドラポールマスフ
ィルター２５（以下ＱＰフィルターという）に送られ、
そこで目的の質量電荷比を持ったイオンだけが選択的に
透過し、検出器２６によって計数されていた。ここで、
従来はＱＰフィルター２５および検出器２６は一組だけ
配設されている。その理由は、通常の分析ではＱＰフィ
ルターは一組だけで必要十分であると考えられていたか
らである。
えた従来のＩＣＰ−ＭＳを示す。ネブライザ２８によっ
て霧化された試料は高周波誘導結合プラズマ３１中でイ
オン化され、そのイオンはサンプリングコーン２１、ス
キマーコーン２２、引き出し電極２３、イオンレンズ２
４を通って質量分析部の本体であるカドラポールマスフ
ィルター２５（以下ＱＰフィルターという）に送られ、
そこで目的の質量電荷比を持ったイオンだけが選択的に
透過し、検出器２６によって計数されていた。ここで、
従来はＱＰフィルター２５および検出器２６は一組だけ
配設されている。その理由は、通常の分析ではＱＰフィ
ルターは一組だけで必要十分であると考えられていたか
らである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＱＰフ
ィルターは透過させる質量数を変更した後は、しばらく
安定するまでに時間が必要である。その安定時間は長け
れば０．５秒ほども必要なので、時間的に変動する現象
について２種類の元素（質量数）の測定を時分割的に行
って、ほぼ同時のデータを得ることは非常に困難であっ
た。例えば、フィラメントにのせた溶液試料をフィラメ
ントに通電加熱することにより一気に気化してプラズマ
に導入するフラッシュアトマイザと呼ばれる手法では、
試料の供給される時間は０．２〜０．５秒しかない。そ
のような場合に、目的元素と共に含有量既知の元素を同
時分析することにより導入量の誤差を補正する分析方
法、すなわち内標準分析を行おうとすると、従来装置で
は十分に良いデータを得ることができなかった。
ィルターは透過させる質量数を変更した後は、しばらく
安定するまでに時間が必要である。その安定時間は長け
れば０．５秒ほども必要なので、時間的に変動する現象
について２種類の元素（質量数）の測定を時分割的に行
って、ほぼ同時のデータを得ることは非常に困難であっ
た。例えば、フィラメントにのせた溶液試料をフィラメ
ントに通電加熱することにより一気に気化してプラズマ
に導入するフラッシュアトマイザと呼ばれる手法では、
試料の供給される時間は０．２〜０．５秒しかない。そ
のような場合に、目的元素と共に含有量既知の元素を同
時分析することにより導入量の誤差を補正する分析方
法、すなわち内標準分析を行おうとすると、従来装置で
は十分に良いデータを得ることができなかった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するために、カドラポール型の質量分析部を備えた高
周波誘導結合プラズマ質量分析装置において、二組以上
のカドラポールマスフィルターおよび検出器と、それぞ
れのカドラポールマスフィルターに入射イオンビームを
振り分けて入射させるビーム偏向手段と、前記ビーム偏
向手段のビーム偏向動作を制御する制御手段とを備えた
ものである。
決するために、カドラポール型の質量分析部を備えた高
周波誘導結合プラズマ質量分析装置において、二組以上
のカドラポールマスフィルターおよび検出器と、それぞ
れのカドラポールマスフィルターに入射イオンビームを
振り分けて入射させるビーム偏向手段と、前記ビーム偏
向手段のビーム偏向動作を制御する制御手段とを備えた
ものである。
【０００５】
【作用】イオンビームはビーム偏向手段とその制御手段
によって数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔で二つのＱ
Ｐフィルターに交互に導入されるので、二つのＱＰフィ
ルターの透過質量数をそれぞれ目的元素と標準元素に設
定しておけば、ほとんど同時に二つの元素の分析を行う
ことができる。したがって、短い時間で変動するような
現象に対しても、内標準分析を行うことができる。
によって数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔で二つのＱ
Ｐフィルターに交互に導入されるので、二つのＱＰフィ
ルターの透過質量数をそれぞれ目的元素と標準元素に設
定しておけば、ほとんど同時に二つの元素の分析を行う
ことができる。したがって、短い時間で変動するような
現象に対しても、内標準分析を行うことができる。
【０００６】
【実施例】図１に本発明の一実施例の要部を示す。試料
容器からプラズマまでの試料導入部は従来例と同様なの
で図示を省略している。また、真空排気系や電源などに
ついても図示を省略している。図１ではイオンレンズ４
ａと４ｂ、ＱＰフィルター５ａと５ｂ、検出器６ａと６
ｂがそれぞれ二つ設けられている。ＱＰフィルター５ａ
は目的元素が透過するように質量制御器１２によって印
加電圧を設定しておき、ＱＰフィルター５ｂは標準とな
る元素が透過するように設定しておく。サンプリングコ
ーン１、スキマーコーン２、引き出しレンズ３を介して
質量分析部に導入されたイオンビーム８はビーム偏向器
７によってイオンレンズ４ａまたは４ｂに時分割的に振
り分けられる。ビーム偏向器７は例えば平行平板型の静
電偏向器であって、数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔
で矩形波信号が偏向制御器１１によって与えられ、イオ
ンビーム８がイオンレンズ４ａまたは４ｂに入るように
制御される。
容器からプラズマまでの試料導入部は従来例と同様なの
で図示を省略している。また、真空排気系や電源などに
ついても図示を省略している。図１ではイオンレンズ４
ａと４ｂ、ＱＰフィルター５ａと５ｂ、検出器６ａと６
ｂがそれぞれ二つ設けられている。ＱＰフィルター５ａ
は目的元素が透過するように質量制御器１２によって印
加電圧を設定しておき、ＱＰフィルター５ｂは標準とな
る元素が透過するように設定しておく。サンプリングコ
ーン１、スキマーコーン２、引き出しレンズ３を介して
質量分析部に導入されたイオンビーム８はビーム偏向器
７によってイオンレンズ４ａまたは４ｂに時分割的に振
り分けられる。ビーム偏向器７は例えば平行平板型の静
電偏向器であって、数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔
で矩形波信号が偏向制御器１１によって与えられ、イオ
ンビーム８がイオンレンズ４ａまたは４ｂに入るように
制御される。
【０００７】制御器１０は、偏向制御器１１が出力する
電圧や矩形波信号の周期を与え、質量制御器１２には設
定する質量数を与え、さらには、偏向制御器１１が発生
する信号と検出器６ａと６ｂの出力との同期をとり、偏
向制御器１１が振り向けた方の検出器信号が信号処理器
１３で正しく計数されるようにこれらを制御する。
電圧や矩形波信号の周期を与え、質量制御器１２には設
定する質量数を与え、さらには、偏向制御器１１が発生
する信号と検出器６ａと６ｂの出力との同期をとり、偏
向制御器１１が振り向けた方の検出器信号が信号処理器
１３で正しく計数されるようにこれらを制御する。
【０００８】ＱＰフィルター５ａを透過した目的元素の
イオンは検出器６ａによって検出され信号処理器１３で
検出信号の増幅・計数などが行われる。一方、ＱＰフィ
ルター５ｂを透過した標準元素のイオンは検出器６ｂに
よって検出され、上記と同様に、信号処理器１３で検出
信号の増幅・計数などが行われる。それぞれ計数された
目的元素と標準元素の測定強度は、目的元素の強度を標
準元素の強度で割り算するなどの処理が行われ、さらに
は図示していないデータ処理装置などによって濃度に変
換されＣＲＴディスプレイやプリンタなどの出力装置に
表示される。
イオンは検出器６ａによって検出され信号処理器１３で
検出信号の増幅・計数などが行われる。一方、ＱＰフィ
ルター５ｂを透過した標準元素のイオンは検出器６ｂに
よって検出され、上記と同様に、信号処理器１３で検出
信号の増幅・計数などが行われる。それぞれ計数された
目的元素と標準元素の測定強度は、目的元素の強度を標
準元素の強度で割り算するなどの処理が行われ、さらに
は図示していないデータ処理装置などによって濃度に変
換されＣＲＴディスプレイやプリンタなどの出力装置に
表示される。
【０００９】ビーム偏向器７は一方向に偏向するものに
限らず、２次元的に偏向できるようにＸＹの両方向に電
極板をもつ構成にしてもよい。とくにＱＰフィルターを
３つ以上備えた構成にしたときには、２次元的な偏向は
必須条件である。また、偏向器を前後２段として前後に
別の電圧を与え、レンズ作用を持たせるようにしてもよ
い。さらには、ビーム偏向器７は平行平板型の静電偏向
器にかぎらず電磁偏向型でもよいことはもちろんであ
る。
限らず、２次元的に偏向できるようにＸＹの両方向に電
極板をもつ構成にしてもよい。とくにＱＰフィルターを
３つ以上備えた構成にしたときには、２次元的な偏向は
必須条件である。また、偏向器を前後２段として前後に
別の電圧を与え、レンズ作用を持たせるようにしてもよ
い。さらには、ビーム偏向器７は平行平板型の静電偏向
器にかぎらず電磁偏向型でもよいことはもちろんであ
る。
【００１０】
【発明の効果】二つのＱＰフィルターの透過質量数をそ
れぞれ目的元素と標準元素に設定し、偏向手段とその制
御手段によって数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔でイ
オンビームを二つのＱＰフィルターに交互に導入するこ
とによって、ほとんど同時に二つの元素の分析を行うこ
とができる。したがって、短い時間で変動するような現
象に対しても、内標準分析を行うことができるという顕
著な効果を奏する。
れぞれ目的元素と標準元素に設定し、偏向手段とその制
御手段によって数ミリ秒から数十ミリ秒の時間間隔でイ
オンビームを二つのＱＰフィルターに交互に導入するこ
とによって、ほとんど同時に二つの元素の分析を行うこ
とができる。したがって、短い時間で変動するような現
象に対しても、内標準分析を行うことができるという顕
著な効果を奏する。
【００１１】また、三つ以上のＱＰフィルターを設ける
と、その数に応じて内標準法で同時に分析できる元素数
が増え全体の分析時間を短くすることができる。
と、その数に応じて内標準法で同時に分析できる元素数
が増え全体の分析時間を短くすることができる。
【図１】本発明の高周波誘導結合プラズマ質量分析装置
の一実施例である。
の一実施例である。
【図２】従来の高周波誘導結合プラズマ質量分析装置の
一例である。
一例である。
１…サンプリングコーン ２…スキマーコーン
３…引き出しレンズ ４ａ…イオンレンズ ５ａ…ＱＰフィルター
６ａ…検出器 ７…ビーム偏向器 ８…イオンビーム １０…制御器 １１…偏向制御器
１２…質量制御器 １３…信号処理器 ２１…サンプリングコーン ２２…スキマーコーン
２３…引き出しレンズ ２４…イオンレンズ ２５…ＱＰフィルター
２６…検出器 ２７…試料 ２８…ネブライザ
２９…トーチ ３０…高周波コイル ３１…プラズマ
３…引き出しレンズ ４ａ…イオンレンズ ５ａ…ＱＰフィルター
６ａ…検出器 ７…ビーム偏向器 ８…イオンビーム １０…制御器 １１…偏向制御器
１２…質量制御器 １３…信号処理器 ２１…サンプリングコーン ２２…スキマーコーン
２３…引き出しレンズ ２４…イオンレンズ ２５…ＱＰフィルター
２６…検出器 ２７…試料 ２８…ネブライザ
２９…トーチ ３０…高周波コイル ３１…プラズマ
Claims (1)
- 【請求項１】カドラポール型の質量分析部を備えた高周
波誘導結合プラズマ質量分析装置において、二組以上の
カドラポールマスフィルターおよび検出器と、それぞれ
のカドラポールマスフィルターにイオンビームを振り分
けて入射させるビーム偏向手段と、前記ビーム偏向手段
のビーム偏向動作を制御する制御手段とを備えたことを
特徴とする高周波誘導結合プラズマ質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6207393A JPH0877964A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6207393A JPH0877964A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0877964A true JPH0877964A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16539000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6207393A Pending JPH0877964A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0877964A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001324476A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Murata Mfg Co Ltd | 誘導結合プラズマ質量分析方法 |
| WO2009144765A1 (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | 株式会社島津製作所 | 四重極型質量分析装置 |
| US8410436B2 (en) | 2008-05-26 | 2013-04-02 | Shimadzu Corporation | Quadrupole mass spectrometer |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP6207393A patent/JPH0877964A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001324476A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Murata Mfg Co Ltd | 誘導結合プラズマ質量分析方法 |
| WO2009144765A1 (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | 株式会社島津製作所 | 四重極型質量分析装置 |
| US8410436B2 (en) | 2008-05-26 | 2013-04-02 | Shimadzu Corporation | Quadrupole mass spectrometer |
| US9548193B2 (en) | 2008-05-26 | 2017-01-17 | Shimadzu Corporation | Quadrupole mass spectrometer with quadrupole mass filter as a mass separator |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1875486B1 (en) | Method for controlling space charge-driven ion instabilities in electron impact ion sources | |
| EP0660966B1 (en) | Reducing interferences in plasma source mass spectrometers | |
| JP5792155B2 (ja) | イオン移動度に対するイオン光学ドレイン | |
| JP6593548B2 (ja) | 質量分析装置及びイオン検出装置 | |
| US5661298A (en) | Mass spectrometer | |
| GB2307782A (en) | Structural analysis by time-of-flight mass spectrometry | |
| US7633059B2 (en) | Mass spectrometry system having ion deflector | |
| JP2817625B2 (ja) | プラズマ質量分析装置 | |
| JPH0877964A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
| US12191134B2 (en) | Compact time-of-flight mass analyzer | |
| EP0771019A1 (en) | Method and apparatus for mass analysis of solution sample | |
| CN108231530B (zh) | 用于将激光束耦合到质谱仪的系统和方法 | |
| US20240162029A1 (en) | Bifurcated Mass Spectrometer | |
| JPH0830695B2 (ja) | 液体クロマトグラフ・質量分析装置 | |
| US20240162027A1 (en) | System and Method for Variable FFT Analysis Windows in Mass Spectrometry | |
| JP2926782B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
| JPH08255576A (ja) | イオン源及びこれを用いた質量分析装置 | |
| JPH0317093B2 (ja) | ||
| JPH0342615Y2 (ja) | ||
| JPS62287562A (ja) | Ｍｓ／ｍｓ装置 | |
| JPH05275054A (ja) | タンデム形質量分析装置 | |
| JP2001135270A (ja) | 質量分析装置 | |
| JPH0227650A (ja) | Ｍｓ／ｍｓ装置 | |
| JPH041460B2 (ja) |