JPH0882402A - 液体の澱みを最小にして乾燥蒸気を発生させる方法および装置 - Google Patents
液体の澱みを最小にして乾燥蒸気を発生させる方法および装置Info
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- JPH0882402A JPH0882402A JP7090861A JP9086195A JPH0882402A JP H0882402 A JPH0882402 A JP H0882402A JP 7090861 A JP7090861 A JP 7090861A JP 9086195 A JP9086195 A JP 9086195A JP H0882402 A JPH0882402 A JP H0882402A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
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- B01D1/30—Accessories for evaporators ; Constructional details thereof
- B01D1/305—Demister (vapour-liquid separation)
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P52/00—Grinding, lapping or polishing of wafers, substrates or parts of devices
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F22—STEAM GENERATION
- F22B—METHODS OF STEAM GENERATION; STEAM BOILERS
- F22B1/00—Methods of steam generation characterised by form of heating method
- F22B1/28—Methods of steam generation characterised by form of heating method in boilers heated electrically
- F22B1/284—Methods of steam generation characterised by form of heating method in boilers heated electrically with water in reservoirs
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 液体の澱みを最小にして細菌および藻類の増
殖を制限した乾燥蒸気を発生させる。 【構成】 液体を液源から流路30を有するマニホール
ドアセンブリ10に固定された容器12に送る。容器1
2は、マニホールドアセンブリ10の流路30に接続さ
れた充填管152と、容器12の断面よりも狭い断面を
有する蒸気出口158と蒸気入口178とを有する沈降
室152を含む。ヒーター150は容器12内の液体を
加熱し蒸気を発生させ、蒸気入口178から沈降室17
2に進入させる。蒸気が沈降室172を通り抜けると、
容器12内の液滴は沈降し比較的乾燥した蒸気が沈降室
172の蒸気出口158から出て来る。更に第2の沈降
室174を第1の沈降室172上の容器内に位置させ、
蒸気中の液滴を沈降させると更に有効である。
殖を制限した乾燥蒸気を発生させる。 【構成】 液体を液源から流路30を有するマニホール
ドアセンブリ10に固定された容器12に送る。容器1
2は、マニホールドアセンブリ10の流路30に接続さ
れた充填管152と、容器12の断面よりも狭い断面を
有する蒸気出口158と蒸気入口178とを有する沈降
室152を含む。ヒーター150は容器12内の液体を
加熱し蒸気を発生させ、蒸気入口178から沈降室17
2に進入させる。蒸気が沈降室172を通り抜けると、
容器12内の液滴は沈降し比較的乾燥した蒸気が沈降室
172の蒸気出口158から出て来る。更に第2の沈降
室174を第1の沈降室172上の容器内に位置させ、
蒸気中の液滴を沈降させると更に有効である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本明細書は、1993年 3月22日に出
願された米国特許出願第08/034,066号の一部継続出願で
ある。
願された米国特許出願第08/034,066号の一部継続出願で
ある。
【0002】本発明は、一般に、水蒸気供給システムに
関し、特に、液体の澱み(liquid stagnation) を最小に
して乾燥蒸気を発生させることによって、細菌および藻
類(bacteria and algae)の増殖を制限する方法および装
置に関する。
関し、特に、液体の澱み(liquid stagnation) を最小に
して乾燥蒸気を発生させることによって、細菌および藻
類(bacteria and algae)の増殖を制限する方法および装
置に関する。
【0003】
【従来の技術】半導体回路では、一般に導体材料として
アルミニウムフィルムを利用する。アルミニウムフィル
ムを塩素化ガスを用いて腐食し、半導体回路内を接続す
る。しかし、塩素はアルミニウムフィルムの側壁内に残
留することが多く、半導体ウエハが処理されて制御室環
境から周囲大気に晒された直後に、吸着水蒸気と反応し
塩酸を生成する。塩酸はアルミニウムフィルムと反応
し、塩化アルミニウムを生成し、更に吸着水蒸気と反応
して更に多くの塩酸を生成する。この自続反応はアルミ
ニウムフィルムを腐食し、影響を受けた半導体チップを
台無しにする。
アルミニウムフィルムを利用する。アルミニウムフィル
ムを塩素化ガスを用いて腐食し、半導体回路内を接続す
る。しかし、塩素はアルミニウムフィルムの側壁内に残
留することが多く、半導体ウエハが処理されて制御室環
境から周囲大気に晒された直後に、吸着水蒸気と反応し
塩酸を生成する。塩酸はアルミニウムフィルムと反応
し、塩化アルミニウムを生成し、更に吸着水蒸気と反応
して更に多くの塩酸を生成する。この自続反応はアルミ
ニウムフィルムを腐食し、影響を受けた半導体チップを
台無しにする。
【0004】ウエハを制御室環境から搬送する前に塩素
を除去するには、アッシングによってウエハからフォト
レジストを剥離する方法がある。一般に、酸素および窒
素のプラズマは、180 ℃-260℃の温度に加熱されたウエ
ハと共に用いられる。この方法は、ある程度成功してい
る。アンモニアまたは四フッ化炭素あるいは両方を混合
すると、更に有利である。24時間の防蝕は得られたが、
このような結果は常時保証されるわけではない。
を除去するには、アッシングによってウエハからフォト
レジストを剥離する方法がある。一般に、酸素および窒
素のプラズマは、180 ℃-260℃の温度に加熱されたウエ
ハと共に用いられる。この方法は、ある程度成功してい
る。アンモニアまたは四フッ化炭素あるいは両方を混合
すると、更に有利である。24時間の防蝕は得られたが、
このような結果は常時保証されるわけではない。
【0005】塩素を除去する別の方法では、塩素を除去
する腐食工程後できるだけ速やかに、個別のウエハ洗浄
モジュールまたは腐食装置と一体のウエハ洗浄モジュー
ルを用いて、腐食ウエハを洗浄して濯ぐ(rinse) 。しか
し、このようなモジュールは一般に大型であり、コスト
が比較的高い。
する腐食工程後できるだけ速やかに、個別のウエハ洗浄
モジュールまたは腐食装置と一体のウエハ洗浄モジュー
ルを用いて、腐食ウエハを洗浄して濯ぐ(rinse) 。しか
し、このようなモジュールは一般に大型であり、コスト
が比較的高い。
【0006】最後に、水蒸気プラズマ、時には、窒素と
酸素を併用した水蒸気プラズマを利用するフォトレジス
ト剥離処理が用いられてきた。フォトレジスタ剥離装置
内の水蒸気は、プラズマによって解離させられ、水素が
塩素と結合し、気体塩酸を形成するので、塩酸を剥離室
から十分に排出することができる。この方法は、ほぼ完
全に信頼することができ、72時間よりも長く防蝕するこ
とができる。しかし、この方法で使用される水蒸気は、
周囲温度において、フォトレジスト剥離装置の要求を充
たす割合でガスを供給できるほど十分に蒸気圧が高くな
い。また、水蒸気圧が温度によって変化するので、フォ
トレジスト剥離装置の要求を充たすかそれを上回る割合
および圧力で水蒸気を絶えず供給することができる水蒸
気発生装置が必要である。
酸素を併用した水蒸気プラズマを利用するフォトレジス
ト剥離処理が用いられてきた。フォトレジスタ剥離装置
内の水蒸気は、プラズマによって解離させられ、水素が
塩素と結合し、気体塩酸を形成するので、塩酸を剥離室
から十分に排出することができる。この方法は、ほぼ完
全に信頼することができ、72時間よりも長く防蝕するこ
とができる。しかし、この方法で使用される水蒸気は、
周囲温度において、フォトレジスト剥離装置の要求を充
たす割合でガスを供給できるほど十分に蒸気圧が高くな
い。また、水蒸気圧が温度によって変化するので、フォ
トレジスト剥離装置の要求を充たすかそれを上回る割合
および圧力で水蒸気を絶えず供給することができる水蒸
気発生装置が必要である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来、フォトレジスト
剥離装置と併用される水蒸気供給システムには、容易に
入手可能な水弁、窒素弁、調整器、計器、相互接続管材
料および取付部品がすべて外部取付キャビネットにパッ
ケージ化された比較的大型のアセンブリが含まれてい
た。このようなアセンブリを形成するために使用される
部品は容易に入手することができるが、かさばってしま
うし、高価である。これらのかさばり(bulkness)によ
り、アセンブリを蒸気供給システム(VDS)エンクロ
ージャに組み込めなくなり、アセンブリのコストによっ
て、水蒸気供給システムの総コストは著しく高くなって
しまう。更に、このようなアセンブリには、「デッドレ
ッグ」すなわち定量循環水源から水蒸気発生装置までの
距離がかなりあるので、アセンブリ内で細菌や藻類が増
殖するリスクが高くなる。このデッドレッグの長さは、
6.5フィート(198.12cm)以上になることがある。
剥離装置と併用される水蒸気供給システムには、容易に
入手可能な水弁、窒素弁、調整器、計器、相互接続管材
料および取付部品がすべて外部取付キャビネットにパッ
ケージ化された比較的大型のアセンブリが含まれてい
た。このようなアセンブリを形成するために使用される
部品は容易に入手することができるが、かさばってしま
うし、高価である。これらのかさばり(bulkness)によ
り、アセンブリを蒸気供給システム(VDS)エンクロ
ージャに組み込めなくなり、アセンブリのコストによっ
て、水蒸気供給システムの総コストは著しく高くなって
しまう。更に、このようなアセンブリには、「デッドレ
ッグ」すなわち定量循環水源から水蒸気発生装置までの
距離がかなりあるので、アセンブリ内で細菌や藻類が増
殖するリスクが高くなる。このデッドレッグの長さは、
6.5フィート(198.12cm)以上になることがある。
【0008】更に、初期の水蒸気供給システムは市販の
ボイラーを内蔵していた。一般的に、このボイラーは大
型ガラス瓶であり、 1リットル以上の脱イオン水を含
み、温度調節されたエンクロージャに収容されている。
この容器のかなりの部分は、故意に空の状態に維持され
水蒸気を蓄積するようになっており、水蒸気はマスフロ
−コントロ−ラによって取り出される。マスフロ−コン
トロ−ラを通じて流れる水蒸気は、乾燥すなわち不飽和
化していなければならず、また相対的にほとんど水滴を
含んではならず、好ましくは全く水滴を含んでいてはな
らない。従って、水面から容器の蒸気出口までの距離を
かなり長く維持しなければ、水泡が上昇して生じる水滴
が蒸気出口に進入することを阻止することはできない。
しかし、従来のボイラーの容積では、問題の腐食システ
ムエンクロージャの外側にボイラーを設置する必要があ
る。このため、蒸気ラインを剥離室まで比較的長く延長
させなければならないが、加熱され絶縁された蒸気ライ
ンが装置周辺の作業員によって酷使されることになりか
ねない。
ボイラーを内蔵していた。一般的に、このボイラーは大
型ガラス瓶であり、 1リットル以上の脱イオン水を含
み、温度調節されたエンクロージャに収容されている。
この容器のかなりの部分は、故意に空の状態に維持され
水蒸気を蓄積するようになっており、水蒸気はマスフロ
−コントロ−ラによって取り出される。マスフロ−コン
トロ−ラを通じて流れる水蒸気は、乾燥すなわち不飽和
化していなければならず、また相対的にほとんど水滴を
含んではならず、好ましくは全く水滴を含んでいてはな
らない。従って、水面から容器の蒸気出口までの距離を
かなり長く維持しなければ、水泡が上昇して生じる水滴
が蒸気出口に進入することを阻止することはできない。
しかし、従来のボイラーの容積では、問題の腐食システ
ムエンクロージャの外側にボイラーを設置する必要があ
る。このため、蒸気ラインを剥離室まで比較的長く延長
させなければならないが、加熱され絶縁された蒸気ライ
ンが装置周辺の作業員によって酷使されることになりか
ねない。
【0009】
【課題を解決するための手段および作用】本発明は、小
型のアセンブリ内で液体の澱みを最小にして乾燥蒸気を
発生させる装置および方法に包含される。より具体的に
は、本発明に係る装置は、液体を液源から送る流路を有
するマニホールドアセンブリと、液体をマニホールドア
センブリから受けるマニホールドアセンブリの流路に接
続された充填管を備えて液体を保持する容器と、を有す
る。ヒーターが、容器内の液体を加熱するために含まれ
ている。液体が加熱されるにつれて、蒸気は液面から上
昇し、容器の断面よりも小さい断面を有する蒸気入口を
通じて、容器内に位置する沈降室(settlingchamber)に
進入する。蒸気が沈降室を通じて移動するにつれて、蒸
気速度が低減し、蒸気から液滴が生じ沈降する。沈降室
は、乾燥蒸気すなわち不飽和で比較的少ない、あるとし
てもごくわずかの液滴しか含まない蒸気を放出する蒸気
出口を有する。
型のアセンブリ内で液体の澱みを最小にして乾燥蒸気を
発生させる装置および方法に包含される。より具体的に
は、本発明に係る装置は、液体を液源から送る流路を有
するマニホールドアセンブリと、液体をマニホールドア
センブリから受けるマニホールドアセンブリの流路に接
続された充填管を備えて液体を保持する容器と、を有す
る。ヒーターが、容器内の液体を加熱するために含まれ
ている。液体が加熱されるにつれて、蒸気は液面から上
昇し、容器の断面よりも小さい断面を有する蒸気入口を
通じて、容器内に位置する沈降室(settlingchamber)に
進入する。蒸気が沈降室を通じて移動するにつれて、蒸
気速度が低減し、蒸気から液滴が生じ沈降する。沈降室
は、乾燥蒸気すなわち不飽和で比較的少ない、あるとし
てもごくわずかの液滴しか含まない蒸気を放出する蒸気
出口を有する。
【0010】本発明に係る、より詳細な実施例では、マ
ニホールドアセンブリは少なくとも2つのブロックを有
する。各ブロックは、入口と、出口と、入口と出口に接
続する流路と、別のブロックの接合面で接合し密閉する
接合面とを有する。このブロックは、一方のブロックの
出口部分が他方のブロックの入口部分に整合するよう
に、このような接合面で接合する。接合されていない入
口は、液源またはガス源に整合し、接合されていない出
口は容器の充填管に接続されている。
ニホールドアセンブリは少なくとも2つのブロックを有
する。各ブロックは、入口と、出口と、入口と出口に接
続する流路と、別のブロックの接合面で接合し密閉する
接合面とを有する。このブロックは、一方のブロックの
出口部分が他方のブロックの入口部分に整合するよう
に、このような接合面で接合する。接合されていない入
口は、液源またはガス源に整合し、接合されていない出
口は容器の充填管に接続されている。
【0011】本発明に係る別の詳細な実施例では、容器
の沈降室は傾斜低部壁と上部壁とを有する。沈降室の蒸
気入口は小型の開口部またはスリットであり、底部壁の
下端に位置する。沈降室の蒸気出口は、底部壁の上端上
方の上部に位置する。
の沈降室は傾斜低部壁と上部壁とを有する。沈降室の蒸
気入口は小型の開口部またはスリットであり、底部壁の
下端に位置する。沈降室の蒸気出口は、底部壁の上端上
方の上部に位置する。
【0012】本発明に係る更に他の実施例では、容器
は、更に、蒸気中の液滴を容器に沈降させる第2の沈降
室を有する。第2の沈降室は、容器内で第1の沈降室上
方に位置し、第1の沈降室から第2の沈降室まで蒸気を
輸送するために共通壁に蒸気オリフィスを有する(オリ
フィスは、第1の沈降室に対して第1の蒸気出口を形成
し、第2の沈降室に対しては第1の蒸気入口を形成す
る)。第2の沈降室もまた、乾燥蒸気を除去するために
第2の蒸気出口を含む。
は、更に、蒸気中の液滴を容器に沈降させる第2の沈降
室を有する。第2の沈降室は、容器内で第1の沈降室上
方に位置し、第1の沈降室から第2の沈降室まで蒸気を
輸送するために共通壁に蒸気オリフィスを有する(オリ
フィスは、第1の沈降室に対して第1の蒸気出口を形成
し、第2の沈降室に対しては第1の蒸気入口を形成す
る)。第2の沈降室もまた、乾燥蒸気を除去するために
第2の蒸気出口を含む。
【0013】本発明に係る他の特徴においては、容器
は、液体を容器から除去するためのドレインチュ−ブ
と、容器内の液体温度を測定する熱電対またはサーミス
ターと共に用いるサーモウェル管とを含む。更に、ポリ
テトラフルオロエチレンボールまたは別のタイプの沸騰
チップを容器内に入れて核沸騰を低減する。
は、液体を容器から除去するためのドレインチュ−ブ
と、容器内の液体温度を測定する熱電対またはサーミス
ターと共に用いるサーモウェル管とを含む。更に、ポリ
テトラフルオロエチレンボールまたは別のタイプの沸騰
チップを容器内に入れて核沸騰を低減する。
【0014】本発明に係る更に別の特徴においては、容
器の直径は、予め設定された最大の割合で水蒸気を生成
する寸法に決定されている。好適実施例では、容器の直
径を約 2インチ(5.08cm)にすれば、ガスをフォトレジス
ト剥離室に供給する既存のガスパネル内部に適合させる
ことができる。好適実施例では、 4つの覗き窓と 4つの
センサを含むが、これらは、容器の外側に位置し、容器
内の液体のレベルとオーバーフロー状態を感知する。
器の直径は、予め設定された最大の割合で水蒸気を生成
する寸法に決定されている。好適実施例では、容器の直
径を約 2インチ(5.08cm)にすれば、ガスをフォトレジス
ト剥離室に供給する既存のガスパネル内部に適合させる
ことができる。好適実施例では、 4つの覗き窓と 4つの
センサを含むが、これらは、容器の外側に位置し、容器
内の液体のレベルとオーバーフロー状態を感知する。
【0015】乾燥蒸気を供給する本発明に係る方法で
は、液体は流路を有するマニホールドアセンブリを通じ
て容器内に供給され、容器内で加熱されて蒸気が発生す
る。蒸気は容器よりも断面が実質的に小さい蒸気入口を
通じて容器内に位置する沈降室に輸送される。水蒸気の
速度が低減されることによって、液滴が蒸気から分離し
て沈降する。液滴は、容器の底に戻され、乾燥水蒸気は
沈降室から送り出される。
は、液体は流路を有するマニホールドアセンブリを通じ
て容器内に供給され、容器内で加熱されて蒸気が発生す
る。蒸気は容器よりも断面が実質的に小さい蒸気入口を
通じて容器内に位置する沈降室に輸送される。水蒸気の
速度が低減されることによって、液滴が蒸気から分離し
て沈降する。液滴は、容器の底に戻され、乾燥水蒸気は
沈降室から送り出される。
【0016】この方法に係る更に詳細な実施例では、乾
燥蒸気は第2の沈降室に輸送され、ここで更に液滴が蒸
気から分離して沈降する。更に分離した液滴も、容器底
部に戻され、乾燥蒸気は第2の沈降室から送り出され、
好ましくは剥離室に送られる。
燥蒸気は第2の沈降室に輸送され、ここで更に液滴が蒸
気から分離して沈降する。更に分離した液滴も、容器底
部に戻され、乾燥蒸気は第2の沈降室から送り出され、
好ましくは剥離室に送られる。
【0017】
【実施例】次に、図面を参照して本発明の実施例につい
て説明する。図1は、剥離室に乾燥蒸気を供給する本発
明に係る小型乾燥蒸気供給装置を示す図である。装置を
小型にすることによって、特に、限られたスペースで既
存のガスパネルや装置と併用できるようになり、蒸発液
を定期的に交換することができるようになる一方、剥離
半導体チップを含むウエハは、フォトレジスト剥離室か
ら搬出され、剥離用の別のウエハと交換される。この供
給装置は、液体を液体供給源から密閉容器12および沈
降室14に供給し乾燥蒸気を発生させる新規のマニホー
ルドアセンブリ10を有する。
て説明する。図1は、剥離室に乾燥蒸気を供給する本発
明に係る小型乾燥蒸気供給装置を示す図である。装置を
小型にすることによって、特に、限られたスペースで既
存のガスパネルや装置と併用できるようになり、蒸発液
を定期的に交換することができるようになる一方、剥離
半導体チップを含むウエハは、フォトレジスト剥離室か
ら搬出され、剥離用の別のウエハと交換される。この供
給装置は、液体を液体供給源から密閉容器12および沈
降室14に供給し乾燥蒸気を発生させる新規のマニホー
ルドアセンブリ10を有する。
【0018】一般に、マニホールドアセンブリ10は、
液体を液体供給源から密閉容器12の充填チューブに送
る流路を含む。より具体的には、マニホールドアセンブ
リ10は少なくとも2つのブロックを有し、各ブロック
は少なくとも 1つの入口と、1つの出口と、それらに接
続する流路と、 1つの接合面を有する。両ブロックは、
一方のブロックの出口が他方のブロックの入口と整合す
るように、接合面で接合している。この設計によって、
マニホールドアセンブリを小型に形成することができ、
VDSハウジング内に囲うことができる。従って、この
設計によって、従来の蒸気供給装置に見られる「デッド
レッグ」および高い部品組立費用が削減される。
液体を液体供給源から密閉容器12の充填チューブに送
る流路を含む。より具体的には、マニホールドアセンブ
リ10は少なくとも2つのブロックを有し、各ブロック
は少なくとも 1つの入口と、1つの出口と、それらに接
続する流路と、 1つの接合面を有する。両ブロックは、
一方のブロックの出口が他方のブロックの入口と整合す
るように、接合面で接合している。この設計によって、
マニホールドアセンブリを小型に形成することができ、
VDSハウジング内に囲うことができる。従って、この
設計によって、従来の蒸気供給装置に見られる「デッド
レッグ」および高い部品組立費用が削減される。
【0019】ウエハから塩素を除去するために使用され
る液体は、一般に、脱イオン水であり、テフロン配管に
よってマニホールドアセンブリ10に至り、フィルター
(図示せず)を通じて第1のブロックである液源ブロッ
ク20に供給される。図1および図2に示すように、こ
の液源ブロック20は、第1のコネクタ24を有する入
口22と、第1の出口26と、第2の出口28と、それ
ら出入口に接続する流路30と、を有する。液源ブロッ
ク20は、流路30に設けた三方弁32も含み、液体の
流れを入口22から第1の出口26または第2の出口2
8に向ける。三方弁32は、第2の出口28に対し常時
開である。マニホールドアセンブリ10に含まれる各三
方弁32は、マイクロプロセッサ(図示せず)と適切な
ソフトウェアによって制御される。
る液体は、一般に、脱イオン水であり、テフロン配管に
よってマニホールドアセンブリ10に至り、フィルター
(図示せず)を通じて第1のブロックである液源ブロッ
ク20に供給される。図1および図2に示すように、こ
の液源ブロック20は、第1のコネクタ24を有する入
口22と、第1の出口26と、第2の出口28と、それ
ら出入口に接続する流路30と、を有する。液源ブロッ
ク20は、流路30に設けた三方弁32も含み、液体の
流れを入口22から第1の出口26または第2の出口2
8に向ける。三方弁32は、第2の出口28に対し常時
開である。マニホールドアセンブリ10に含まれる各三
方弁32は、マイクロプロセッサ(図示せず)と適切な
ソフトウェアによって制御される。
【0020】液体は、液源からマニホールドアセンブリ
10に供給され、液源ブロック20の入口22を通じて
第1のコネクタ24内に進入し、流路30を通じて三方
弁32に至る。容器12内に液体を補給するために液体
が必要になるまで、液体は「液源ブロックループ」を通
じて循環する。すなわち、第1のコネクタ24から三方
弁32に続いて第2の出口28に至る。通常、液体は、
液源に戻されてリコンディショニングされるかまたはド
レインに輸送される。このように流れを継続させること
は、液体内における細菌や藻類の増殖を抑制するのに役
立つ。
10に供給され、液源ブロック20の入口22を通じて
第1のコネクタ24内に進入し、流路30を通じて三方
弁32に至る。容器12内に液体を補給するために液体
が必要になるまで、液体は「液源ブロックループ」を通
じて循環する。すなわち、第1のコネクタ24から三方
弁32に続いて第2の出口28に至る。通常、液体は、
液源に戻されてリコンディショニングされるかまたはド
レインに輸送される。このように流れを継続させること
は、液体内における細菌や藻類の増殖を抑制するのに役
立つ。
【0021】液源ブロック20は、三方弁32と第2の
出口28の間に、第2のコネクタ34と、流路30に設
置された二方弁36とを含む。液源ブロックループを通
じて流れる液体の体積は、二方弁36を手動で操作し
て、開きを狭くするか広くすることによって制御され
る。好適実施例では、ソレノイドダイヤフラム弁を用い
て、マニホールドアセンブリ10を通じて流れる液体お
よびガスの流れを制御する。ただし、二方弁36は手動
弁である。好適実施例のソレノイドダイヤフラム弁の詳
細な説明は、図7を参照して述べる。
出口28の間に、第2のコネクタ34と、流路30に設
置された二方弁36とを含む。液源ブロックループを通
じて流れる液体の体積は、二方弁36を手動で操作し
て、開きを狭くするか広くすることによって制御され
る。好適実施例では、ソレノイドダイヤフラム弁を用い
て、マニホールドアセンブリ10を通じて流れる液体お
よびガスの流れを制御する。ただし、二方弁36は手動
弁である。好適実施例のソレノイドダイヤフラム弁の詳
細な説明は、図7を参照して述べる。
【0022】容器12に液体を補給しなければならない
場合、マイクロプロセッサは液源ブロック20の三方弁
32を切り換え、三方弁32が液源ブロック20の第1
の出口26に開放されるようにする。図1および図3に
示されるように、その後液体は第2のブロックである迷
路ブロック38の第1の入口40を通じて迷路ブロック
38に進入する。
場合、マイクロプロセッサは液源ブロック20の三方弁
32を切り換え、三方弁32が液源ブロック20の第1
の出口26に開放されるようにする。図1および図3に
示されるように、その後液体は第2のブロックである迷
路ブロック38の第1の入口40を通じて迷路ブロック
38に進入する。
【0023】液源ブロック20および迷路ブロック38
は、液源ブロック20の接合面(図示せず)と図3に示
す迷路ブロック38の第1の接合面42において接合
し、液源ブロック20の第1の出口26が迷路ブロック
38の第1の入口40に整合する。マニホールドアセン
ブリ10の全てのブロックは、一方のブロックの長さを
有しかつ別のブロックに含まれるねじ付きナット46と
螺合する複数のねじ付きロッド44によって一緒に固定
される。この設計によって、ブロック間のコネクターは
必要なくなるので、従来の水供給装置に比べてマニホー
ルドアセンブリ10の距離は短くなる。
は、液源ブロック20の接合面(図示せず)と図3に示
す迷路ブロック38の第1の接合面42において接合
し、液源ブロック20の第1の出口26が迷路ブロック
38の第1の入口40に整合する。マニホールドアセン
ブリ10の全てのブロックは、一方のブロックの長さを
有しかつ別のブロックに含まれるねじ付きナット46と
螺合する複数のねじ付きロッド44によって一緒に固定
される。この設計によって、ブロック間のコネクターは
必要なくなるので、従来の水供給装置に比べてマニホー
ルドアセンブリ10の距離は短くなる。
【0024】液体は、迷路ブロック38の第1の入口4
0に進入した後、第1の入口40と第1の流路52の常
時閉の二方弁であるパルス弁50とを接続する減圧器4
8(図1および図4)を通じて移動する。好適実施例で
は、液源からの液圧は、液体が瓶からマニホールドアセ
ンブリ10に加えられる場合の大気圧から、約90psia
(絶対ポンド毎平方インチ)までの範囲である。ただ
し、液体がマニホールドアセンブリ10から出て密閉容
器12に進入する際の好ましい液圧の操作範囲は、14.7
psiaから75psiaまでの範囲である。減圧器48は、液圧
を低減することによって限られた範囲内において容器1
2に進入する液圧を調節するのに役立つ。
0に進入した後、第1の入口40と第1の流路52の常
時閉の二方弁であるパルス弁50とを接続する減圧器4
8(図1および図4)を通じて移動する。好適実施例で
は、液源からの液圧は、液体が瓶からマニホールドアセ
ンブリ10に加えられる場合の大気圧から、約90psia
(絶対ポンド毎平方インチ)までの範囲である。ただ
し、液体がマニホールドアセンブリ10から出て密閉容
器12に進入する際の好ましい液圧の操作範囲は、14.7
psiaから75psiaまでの範囲である。減圧器48は、液圧
を低減することによって限られた範囲内において容器1
2に進入する液圧を調節するのに役立つ。
【0025】図4に示すように、減圧器48は、流路5
4と、流路54を妨害する寸法および形状である少なく
とも第1のスペーサー56および第2のスペーサー58
とを含む。各第1のスペーサー56、第2のスペーサー
58は、減圧器48の流路54の直径よりも実質的に小
さい直径を有するオリフィス60を含む。好適実施例で
は、特に、厚さが0.020-0.040 インチ(0.508-1.016mm)
であり直径が0.032 インチ(0.813mm) のオリフィスを有
するスペーサーが採用されている。
4と、流路54を妨害する寸法および形状である少なく
とも第1のスペーサー56および第2のスペーサー58
とを含む。各第1のスペーサー56、第2のスペーサー
58は、減圧器48の流路54の直径よりも実質的に小
さい直径を有するオリフィス60を含む。好適実施例で
は、特に、厚さが0.020-0.040 インチ(0.508-1.016mm)
であり直径が0.032 インチ(0.813mm) のオリフィスを有
するスペーサーが採用されている。
【0026】従って、所定の量および流量の液体に関
し、液体が第1のスペーサー56のオリフィス60に入
る際の液圧は、第1のオリフィス60のより小さい断面
によって決定される。ただし、この液体が第1のオリフ
ィス60を通過した後、第1のスペーサー56と第2の
スペーサー58の間の広い断面に進入する際、同じ量の
液体が同じ流量で流れることができるが、圧力は減少す
る。好適実施例では、減圧器48はオフセットされた5
個のスペーサーを有する。各オリフィスは、液源からの
液体の圧力が効果的に最大圧力を十分下回るように、圧
力をかなり低下させる。
し、液体が第1のスペーサー56のオリフィス60に入
る際の液圧は、第1のオリフィス60のより小さい断面
によって決定される。ただし、この液体が第1のオリフ
ィス60を通過した後、第1のスペーサー56と第2の
スペーサー58の間の広い断面に進入する際、同じ量の
液体が同じ流量で流れることができるが、圧力は減少す
る。好適実施例では、減圧器48はオフセットされた5
個のスペーサーを有する。各オリフィスは、液源からの
液体の圧力が効果的に最大圧力を十分下回るように、圧
力をかなり低下させる。
【0027】本発明に係る好適実施例では、容器12内
に、ガス、好ましくは窒素ガスを定期的に充填すること
により、液体が汚れていると思われる場合は、容器12
からそれを排出することができる。図1および図5に示
されているように、ガスは入口66を有するガス源ブロ
ック64を通じてコネクタ68に供給される。ガス源ブ
ロック64は、出口70と、入口66および出口70に
接続する流路72と、接合面74とを含む。マニホール
ドアセンブリ10を通るガスの流れを調整するために、
ガス源ブロック64は、入口66と出口70の間の流路
72に位置する二方弁76を有する。
に、ガス、好ましくは窒素ガスを定期的に充填すること
により、液体が汚れていると思われる場合は、容器12
からそれを排出することができる。図1および図5に示
されているように、ガスは入口66を有するガス源ブロ
ック64を通じてコネクタ68に供給される。ガス源ブ
ロック64は、出口70と、入口66および出口70に
接続する流路72と、接合面74とを含む。マニホール
ドアセンブリ10を通るガスの流れを調整するために、
ガス源ブロック64は、入口66と出口70の間の流路
72に位置する二方弁76を有する。
【0028】図1および図3について再び説明すると、
迷路ブロック38は、第2の流路81によって直接第1
の出口80に接続される第2の入口78と、出口流路8
4とを含む。すなわち、迷路ブロック38を通じて流れ
るガスがパルス弁50により調節されることはない。し
たがって、迷路ブロック38の二方弁76が開放されて
いれば、ガスは迷路ブロック38の入口66から迷路ブ
ロック38の第1の出口80に流れる。迷路ブロック3
8は、迷路ブロック38の第2の入口78が迷路ブロッ
ク38の出口70に整合するように迷路ブロック38の
接合面74に接合する第2の接合面82(図3)も含
む。
迷路ブロック38は、第2の流路81によって直接第1
の出口80に接続される第2の入口78と、出口流路8
4とを含む。すなわち、迷路ブロック38を通じて流れ
るガスがパルス弁50により調節されることはない。し
たがって、迷路ブロック38の二方弁76が開放されて
いれば、ガスは迷路ブロック38の入口66から迷路ブ
ロック38の第1の出口80に流れる。迷路ブロック3
8は、迷路ブロック38の第2の入口78が迷路ブロッ
ク38の出口70に整合するように迷路ブロック38の
接合面74に接合する第2の接合面82(図3)も含
む。
【0029】迷路ブロック38は、第4のブロックであ
る充填ブロック86とも接合する。図6に詳細に示した
ように、充填ブロック86は、第1の入口88と、容器
12に液体またはガスを供給する第1の出口90と、そ
れらの口に接続する第1の流路92と、第1の接合面9
4とを含む。充填ブロック86の第1の接合面94は、
迷路ブロック38の第1の出口80が充填ブロック86
の第1の入口88に整合するように、迷路ブロック38
上の第3の接合面(図示せず)に接合する。
る充填ブロック86とも接合する。図6に詳細に示した
ように、充填ブロック86は、第1の入口88と、容器
12に液体またはガスを供給する第1の出口90と、そ
れらの口に接続する第1の流路92と、第1の接合面9
4とを含む。充填ブロック86の第1の接合面94は、
迷路ブロック38の第1の出口80が充填ブロック86
の第1の入口88に整合するように、迷路ブロック38
上の第3の接合面(図示せず)に接合する。
【0030】最後に、容器12で発生した蒸気とマニホ
ールドアセンブリ10を分離するには、好適実施例の充
填ブロック86は、第1の流路92に位置する二方バル
ブである最終弁96を第1の入口88と第1の出口90
の間に有する。最終弁96は蒸気がマニホールドアセン
ブリ10から進入しないように常時閉となっていて、液
体を再充填するために、または容器を空にすべくガスを
輸送するためにのみ開放される。
ールドアセンブリ10を分離するには、好適実施例の充
填ブロック86は、第1の流路92に位置する二方バル
ブである最終弁96を第1の入口88と第1の出口90
の間に有する。最終弁96は蒸気がマニホールドアセン
ブリ10から進入しないように常時閉となっていて、液
体を再充填するために、または容器を空にすべくガスを
輸送するためにのみ開放される。
【0031】従って、好適実施例では、加圧された液体
は液源からマニホールドアセンブリ10に進入し、容器
12に更に液体が必要になるまで液源ブロックループを
循環する。次に、マイクロプロセッサは、充填ブロック
86の最終弁96を開放し、液源ブロック20の三方弁
32を切り換え、液体を液源ブロック20の第1の出口
26から排出させる。次に、マイクロプロセッサが迷路
ブロック38のパルス弁50を脈動的に動かすことによ
って、所定体積の液体がパルス弁50および迷路ブロッ
ク38の出口流路84を通じて充填ブロック86の現在
開放されている最終弁96および容器12に流れること
ができる。容器12の再充填後、マイクロプロセッサは
最終弁96と迷路ブロック38のパルス弁50を閉じ、
マイクロプロセッサは、液源ブロック20の第2の出口
28に開放するように液源ブロック20の三方弁32を
元の状態に切り替える。
は液源からマニホールドアセンブリ10に進入し、容器
12に更に液体が必要になるまで液源ブロックループを
循環する。次に、マイクロプロセッサは、充填ブロック
86の最終弁96を開放し、液源ブロック20の三方弁
32を切り換え、液体を液源ブロック20の第1の出口
26から排出させる。次に、マイクロプロセッサが迷路
ブロック38のパルス弁50を脈動的に動かすことによ
って、所定体積の液体がパルス弁50および迷路ブロッ
ク38の出口流路84を通じて充填ブロック86の現在
開放されている最終弁96および容器12に流れること
ができる。容器12の再充填後、マイクロプロセッサは
最終弁96と迷路ブロック38のパルス弁50を閉じ、
マイクロプロセッサは、液源ブロック20の第2の出口
28に開放するように液源ブロック20の三方弁32を
元の状態に切り替える。
【0032】本発明は、液源ブロック20の三方弁32
から充填ブロック86の最終弁96までの「デッドレッ
グ」をかなり短縮している。マニホールドアセンブリ1
0に進入する液体の大部分は、液源ブロックループを通
じて循環する。容器12の再充填後、マニホールドアセ
ンブリ10に残存する液体だけが、液源ブロック20の
三方弁32と最終弁96の間の「デッドレッグ」内に閉
じ込められる。従って、好適実施例では、「デッドレッ
グ」の長さは、約 3.5インチ(88.9mm)である。これに対
して、従来の水蒸気供給装置の「デッドレッグ」は約
6.5フィート(198.12cm)以上であった。
から充填ブロック86の最終弁96までの「デッドレッ
グ」をかなり短縮している。マニホールドアセンブリ1
0に進入する液体の大部分は、液源ブロックループを通
じて循環する。容器12の再充填後、マニホールドアセ
ンブリ10に残存する液体だけが、液源ブロック20の
三方弁32と最終弁96の間の「デッドレッグ」内に閉
じ込められる。従って、好適実施例では、「デッドレッ
グ」の長さは、約 3.5インチ(88.9mm)である。これに対
して、従来の水蒸気供給装置の「デッドレッグ」は約
6.5フィート(198.12cm)以上であった。
【0033】好適実施例で使用されるソレノイドダイヤ
フラムバルブは、Partek, 1638 S.Research Loop Road,
Suite 100, Tucson, Arizona 85710所在のParker Hann
ifin によって製造されたSV-2シリーズまたはPV-2シリ
ーズから選択される。図7は、キャップ103とキャッ
プ口105とを有するソレノイドダイヤフラム弁101
を示す拡大図である。キャップ口105内の加圧された
空気によって、ハウジング109内のピストン107は
下方に押される。ピストン107は上部ダイヤフラム1
11に接続し、更に、上部ポペット113、下部ポペッ
ト115、下部ダイヤフラム117、付勢ばね119を
押しつける。ソレノイドダイヤフラム弁101は、第1
の出口121と、第2の出口123と、共通入口125
とを含む。下部ダイヤフラム117と下部ポペット11
5に抗する付勢ばね119の上方向の力は、下部ポペッ
トを座127に押しつけ、第1の出口121が常時閉と
なるように第1の出口121を付勢する。しかし、この
上方向への力によって、上部ポペット113がその座1
29に接触せず、第2の出口123が常時開となるよう
に、上部ポペット113は上部ダイヤフラム111へと
付勢される。
フラムバルブは、Partek, 1638 S.Research Loop Road,
Suite 100, Tucson, Arizona 85710所在のParker Hann
ifin によって製造されたSV-2シリーズまたはPV-2シリ
ーズから選択される。図7は、キャップ103とキャッ
プ口105とを有するソレノイドダイヤフラム弁101
を示す拡大図である。キャップ口105内の加圧された
空気によって、ハウジング109内のピストン107は
下方に押される。ピストン107は上部ダイヤフラム1
11に接続し、更に、上部ポペット113、下部ポペッ
ト115、下部ダイヤフラム117、付勢ばね119を
押しつける。ソレノイドダイヤフラム弁101は、第1
の出口121と、第2の出口123と、共通入口125
とを含む。下部ダイヤフラム117と下部ポペット11
5に抗する付勢ばね119の上方向の力は、下部ポペッ
トを座127に押しつけ、第1の出口121が常時閉と
なるように第1の出口121を付勢する。しかし、この
上方向への力によって、上部ポペット113がその座1
29に接触せず、第2の出口123が常時開となるよう
に、上部ポペット113は上部ダイヤフラム111へと
付勢される。
【0034】第1の出口121を開放するには、ピスト
ン107に加わる下方向の力が、Oリング131とハウ
ジング109の壁の間の摩擦力と、下部ポペット115
と座127の間の摩擦力と、付勢ばね119の上方向の
力と、共通入口125と第1の出口121との差圧と、
の合計を上回っていなければならない。この力に達した
後、下部ポペット115は座127から離れ、流体は共
通入口125から第1の出口121へと流れ始める。ピ
ストン107に対する圧力が更に増加すると、上部ポペ
ット113がその座129に接触し、共通入口125と
常時開となっている第2の出口123の間の連通を閉ざ
す。ピストン107に加わる空気圧を除去すると、上記
一連の動作とは逆の動作を生じる。
ン107に加わる下方向の力が、Oリング131とハウ
ジング109の壁の間の摩擦力と、下部ポペット115
と座127の間の摩擦力と、付勢ばね119の上方向の
力と、共通入口125と第1の出口121との差圧と、
の合計を上回っていなければならない。この力に達した
後、下部ポペット115は座127から離れ、流体は共
通入口125から第1の出口121へと流れ始める。ピ
ストン107に対する圧力が更に増加すると、上部ポペ
ット113がその座129に接触し、共通入口125と
常時開となっている第2の出口123の間の連通を閉ざ
す。ピストン107に加わる空気圧を除去すると、上記
一連の動作とは逆の動作を生じる。
【0035】好適実施例で使用される二方弁の構成によ
り、共通入口125と上部ポペット113は不要にな
る。下部ポペット115のステムは、上部ダイヤフラム
111に接触するように延びている。更に、第1の出口
121が入口として使用される。十分な圧力がピストン
107に印加された後、流体は常時閉となっている第1
の出口121から下部ポペット115の座127上を流
れ、第2の出口123を通って流出する。
り、共通入口125と上部ポペット113は不要にな
る。下部ポペット115のステムは、上部ダイヤフラム
111に接触するように延びている。更に、第1の出口
121が入口として使用される。十分な圧力がピストン
107に印加された後、流体は常時閉となっている第1
の出口121から下部ポペット115の座127上を流
れ、第2の出口123を通って流出する。
【0036】本発明に係る好適実施例は、約 60psiを上
回る差圧が弁の出口と入口との間に存在する場合、マニ
ホールドアセンブリ10に組込まれているソレノイドダ
イヤフラム弁の十分な密閉能力には限界があるので、最
終弁96を含む。しかし、これに代わる実施例では、約
90 psiの差圧に対して密閉することができる弁を液源ブ
ロック20の三方弁32とガス源ブロック64の二方弁
76に使用した場合、最終弁96とパルス弁50を省く
ことができる。この実施例では、三方弁32および二方
弁76から流出する液体およびガスが容器12に自動的
に排出されるように、三方弁32および二方弁76から
容器12への流路は、傾斜しているか垂直であることが
望ましい。この代替的な実施例のマイクロプロセッサが
三方弁32を脈動させることによって、所定の体積の液
体を容器12に流すことができる。
回る差圧が弁の出口と入口との間に存在する場合、マニ
ホールドアセンブリ10に組込まれているソレノイドダ
イヤフラム弁の十分な密閉能力には限界があるので、最
終弁96を含む。しかし、これに代わる実施例では、約
90 psiの差圧に対して密閉することができる弁を液源ブ
ロック20の三方弁32とガス源ブロック64の二方弁
76に使用した場合、最終弁96とパルス弁50を省く
ことができる。この実施例では、三方弁32および二方
弁76から流出する液体およびガスが容器12に自動的
に排出されるように、三方弁32および二方弁76から
容器12への流路は、傾斜しているか垂直であることが
望ましい。この代替的な実施例のマイクロプロセッサが
三方弁32を脈動させることによって、所定の体積の液
体を容器12に流すことができる。
【0037】この選択的な実施例では、手動の三方弁3
6と第2の出口28との間において液源ブロック20の
流路30に一方向逆止弁(図示せず)も取り入れること
ができる。逆止弁は、第2の出口28を介する排出路か
らの逆流を制限する際に役立つ。この実施例では、液源
から容器12までの「デッドレッグ」が実質的に無くな
る。しかし、容器12と三方弁32の間の流路は加熱さ
れず、容器12からマニホールドアセンブリ10に進入
する蒸気によって流路内で液滴を生じさせる凝縮器とし
ても作用し得る。流路が十分に傾斜していて液滴を密閉
容器12内へ直ちに排水し戻さない限り、この液滴は容
易によどんで汚れてしまう。
6と第2の出口28との間において液源ブロック20の
流路30に一方向逆止弁(図示せず)も取り入れること
ができる。逆止弁は、第2の出口28を介する排出路か
らの逆流を制限する際に役立つ。この実施例では、液源
から容器12までの「デッドレッグ」が実質的に無くな
る。しかし、容器12と三方弁32の間の流路は加熱さ
れず、容器12からマニホールドアセンブリ10に進入
する蒸気によって流路内で液滴を生じさせる凝縮器とし
ても作用し得る。流路が十分に傾斜していて液滴を密閉
容器12内へ直ちに排水し戻さない限り、この液滴は容
易によどんで汚れてしまう。
【0038】好適実施例の説明に戻ると、液体およびガ
スは容器連通ブロック100(図1、図8、図9)を通
じて容器12に供給される。容器連通ブロック100
は、第1の入口102と、第1の出口104と、これら
の口に接続する供給路106を有する。容器連通ブロッ
ク100は、容器連通ブロック100の第1の入口10
2が充填ブロック86の第1の出口90に整合するよう
に、充填ブロック86上の接合面110に接合する接合
面108も含む。容器連通ブロック100は、密閉容器
12の上部を受けるソケット112(図8)と、供給路
106内のフィルター114を含む。フィルター114
は、液体の密閉容器12への進入前に、液体を浄化する
ことに役立つ。
スは容器連通ブロック100(図1、図8、図9)を通
じて容器12に供給される。容器連通ブロック100
は、第1の入口102と、第1の出口104と、これら
の口に接続する供給路106を有する。容器連通ブロッ
ク100は、容器連通ブロック100の第1の入口10
2が充填ブロック86の第1の出口90に整合するよう
に、充填ブロック86上の接合面110に接合する接合
面108も含む。容器連通ブロック100は、密閉容器
12の上部を受けるソケット112(図8)と、供給路
106内のフィルター114を含む。フィルター114
は、液体の密閉容器12への進入前に、液体を浄化する
ことに役立つ。
【0039】好適実施例では、マニホールドアセンブリ
10は、密閉容器12のドレインのための更に別の構造
を含む。この機能は、通常、蒸気供給装置が数日間使用
されなかった場合、マイクロプロセッサによる制御に基
づいて自動的に行われる。容器12からのドレインを容
易に実行するために、容器12は出口および入口を有す
るドレインチュ−ブ120(図9)を含む。好適実施例
では、ドレインチュ−ブ120は容器12の上部から下
方に向けて容器12の底部上約0.070 インチ(1.778mm)
のところまで延在する。ドレインチュ−ブ120の出口
は、容器連通ブロック100内の第2の入口122に整
合する(図8、図9)。
10は、密閉容器12のドレインのための更に別の構造
を含む。この機能は、通常、蒸気供給装置が数日間使用
されなかった場合、マイクロプロセッサによる制御に基
づいて自動的に行われる。容器12からのドレインを容
易に実行するために、容器12は出口および入口を有す
るドレインチュ−ブ120(図9)を含む。好適実施例
では、ドレインチュ−ブ120は容器12の上部から下
方に向けて容器12の底部上約0.070 インチ(1.778mm)
のところまで延在する。ドレインチュ−ブ120の出口
は、容器連通ブロック100内の第2の入口122に整
合する(図8、図9)。
【0040】容器連通ブロック100は、容器12から
排出された液体を輸送する第2の出口124とドレイン
126とを含む。容器連通ブロック100の第2の出口
124は、充填ブロック86内の第2の入口128(図
1)に整合する。充填ブロック86は更に、充填ブロッ
ク86を通じて排出された液体を輸送するために第2の
出口130と、第2の流路132と、第2の入口128
と第2の出口130の間の第2の流路132内に第2の
二方弁134とを含む。
排出された液体を輸送する第2の出口124とドレイン
126とを含む。容器連通ブロック100の第2の出口
124は、充填ブロック86内の第2の入口128(図
1)に整合する。充填ブロック86は更に、充填ブロッ
ク86を通じて排出された液体を輸送するために第2の
出口130と、第2の流路132と、第2の入口128
と第2の出口130の間の第2の流路132内に第2の
二方弁134とを含む。
【0041】更に、迷路ブロック38を通じて排出液を
輸送するため、迷路ブロック38は第3の入口138
と、第2の出口140と、これらの口を接続する第3の
流路142とを含む。図1および図3に示したように、
迷路ブロック38の第3の流路142は、その第1の流
路52および第2の流路81に垂直に延在する。また、
上述のように、充填ブロック86の第1の接合面94
(図6)は迷路ブロック38上の第3の接合面(図示せ
ず)に接合する。好適実施例では、この接合によって、
迷路ブロック38の第1の出口80と充填ブロック86
の第1の入口88とが整合し、充填ブロック86の第2
の出口130と迷路ブロック38の第3の入口138と
整合する。最後に、迷路ブロック38はコネクタ144
を第3の流路142の端に含み、ドレイン(図示せず)
と容易に接合する。
輸送するため、迷路ブロック38は第3の入口138
と、第2の出口140と、これらの口を接続する第3の
流路142とを含む。図1および図3に示したように、
迷路ブロック38の第3の流路142は、その第1の流
路52および第2の流路81に垂直に延在する。また、
上述のように、充填ブロック86の第1の接合面94
(図6)は迷路ブロック38上の第3の接合面(図示せ
ず)に接合する。好適実施例では、この接合によって、
迷路ブロック38の第1の出口80と充填ブロック86
の第1の入口88とが整合し、充填ブロック86の第2
の出口130と迷路ブロック38の第3の入口138と
整合する。最後に、迷路ブロック38はコネクタ144
を第3の流路142の端に含み、ドレイン(図示せず)
と容易に接合する。
【0042】好適実施例では、各ブロックは垂直壁を有
する平行6面体であり、各ブロックが 6つの等しい正方
形側面および端面を有するか、 4つの等しい長方形側面
と2つの正方形端面を有するようになっている。あるブ
ロックの出口を別のブロックの入口に整合させることを
容易にするには、接合面が実質的に同じ寸法と形状にな
るように決定する。ただし、図1に示すように、具体的
には、迷路ブロック38と充填ブロック86の接合で
は、一方のブロックの端面を別のブロックの側面に接合
させることができる。その場合、接合面の幅と形状は異
なる。更に、一方の接合面は、図1および図6に示され
るように、ナイフエッジ146を有しても良い。2つの
ブロックが、ねじ付ロッド44がねじ付ナット46に接
合する力によってそれらの接合面で互いに加圧される場
合には、一方のブロックのナイフエッジ146は、別の
ブロックの溝型接合面に更に確実に接合するように変形
する。
する平行6面体であり、各ブロックが 6つの等しい正方
形側面および端面を有するか、 4つの等しい長方形側面
と2つの正方形端面を有するようになっている。あるブ
ロックの出口を別のブロックの入口に整合させることを
容易にするには、接合面が実質的に同じ寸法と形状にな
るように決定する。ただし、図1に示すように、具体的
には、迷路ブロック38と充填ブロック86の接合で
は、一方のブロックの端面を別のブロックの側面に接合
させることができる。その場合、接合面の幅と形状は異
なる。更に、一方の接合面は、図1および図6に示され
るように、ナイフエッジ146を有しても良い。2つの
ブロックが、ねじ付ロッド44がねじ付ナット46に接
合する力によってそれらの接合面で互いに加圧される場
合には、一方のブロックのナイフエッジ146は、別の
ブロックの溝型接合面に更に確実に接合するように変形
する。
【0043】本発明に係る乾燥蒸気供給装置は、液体を
保持する新規の容器12も組込んでいる。容器12は、
液体を加熱し蒸気を生成するヒーター150によって包
囲されている。 3本の管が容器12上部を貫通して容器
12内に下方向に延在している。図1および図9に示し
たように、第1の管は、液体を容器12に供給する充填
管152である。第2の管は、温度センサ156と併用
し容器12内の液体温度を測定するサーモウェル管15
4である。また、第3の管は、液体を容器12から上述
のように除去するドレインチュ−ブ120(図9)であ
る。最後に、容器12は、容器連通ブロック100内の
通路160によって剥離室(図示せず)に接続される蒸
気出口158(図1)も含む。
保持する新規の容器12も組込んでいる。容器12は、
液体を加熱し蒸気を生成するヒーター150によって包
囲されている。 3本の管が容器12上部を貫通して容器
12内に下方向に延在している。図1および図9に示し
たように、第1の管は、液体を容器12に供給する充填
管152である。第2の管は、温度センサ156と併用
し容器12内の液体温度を測定するサーモウェル管15
4である。また、第3の管は、液体を容器12から上述
のように除去するドレインチュ−ブ120(図9)であ
る。最後に、容器12は、容器連通ブロック100内の
通路160によって剥離室(図示せず)に接続される蒸
気出口158(図1)も含む。
【0044】容器12は、ほぼカップ型のベース支持材
162によって支持される。容器12の底表面は丸みを
帯びていても良く、従って、ベース支持材162内側の
底面のエラストマーパッド164上に載置することが好
ましい。ベース支持材162は、容器12が容器連通ブ
ロック100に抗するばね荷重式であり容器連通ブロッ
ク100のソケット112内で容器12の上部を密閉す
るように、各4個のばねとラグスクリュー(図示せず)
によって容器連通ブロック100に接続されている。密
封を容易にするには、ドレインチュ−ブ120と、充填
管152と、蒸気出口158と、ソケット112の間に
Oリングが含まれていても良い。
162によって支持される。容器12の底表面は丸みを
帯びていても良く、従って、ベース支持材162内側の
底面のエラストマーパッド164上に載置することが好
ましい。ベース支持材162は、容器12が容器連通ブ
ロック100に抗するばね荷重式であり容器連通ブロッ
ク100のソケット112内で容器12の上部を密閉す
るように、各4個のばねとラグスクリュー(図示せず)
によって容器連通ブロック100に接続されている。密
封を容易にするには、ドレインチュ−ブ120と、充填
管152と、蒸気出口158と、ソケット112の間に
Oリングが含まれていても良い。
【0045】一般に液体は、充填管152を通じて容器
12に供給される。液体がヒーター150によって蒸気
を生成するために十分な温度に加熱された後、蒸気は、
容器12内で液面上に位置する沈降室を通って輸送する
ことによって乾燥される。容器12内の湿り蒸気は、大
気圧未満の圧力での加熱処理によって加圧され、狭い開
口部である蒸気入口178を通過して、比較的高速で沈
降室に進入する。しかし、蒸気が一旦広い沈降室に入る
と蒸気速度が減じ、それによって、液滴が好ましい傾斜
をした沈降室底部に降下してより大きな滴を形成し、蒸
気入口178から出て、容器12の液体に戻される。
12に供給される。液体がヒーター150によって蒸気
を生成するために十分な温度に加熱された後、蒸気は、
容器12内で液面上に位置する沈降室を通って輸送する
ことによって乾燥される。容器12内の湿り蒸気は、大
気圧未満の圧力での加熱処理によって加圧され、狭い開
口部である蒸気入口178を通過して、比較的高速で沈
降室に進入する。しかし、蒸気が一旦広い沈降室に入る
と蒸気速度が減じ、それによって、液滴が好ましい傾斜
をした沈降室底部に降下してより大きな滴を形成し、蒸
気入口178から出て、容器12の液体に戻される。
【0046】充填管152は、容器12の上部を通じ、
沈降室を通じて下方に延在し、好ましくは、所望の液面
よりも約 0.5インチ(12.7mm)上の深さが終点になる。こ
の終点は、液体レベルが不正確に測定される再充填中の
はねかかりをできるだけ少なくする。ただし、この終点
は、容器12内であればどこでも良い。充填管152の
もう一方の端は、容器連通ブロック100内の供給路1
06を通じて充填ブロック86の第1の出口90に接続
されている(図1)。
沈降室を通じて下方に延在し、好ましくは、所望の液面
よりも約 0.5インチ(12.7mm)上の深さが終点になる。こ
の終点は、液体レベルが不正確に測定される再充填中の
はねかかりをできるだけ少なくする。ただし、この終点
は、容器12内であればどこでも良い。充填管152の
もう一方の端は、容器連通ブロック100内の供給路1
06を通じて充填ブロック86の第1の出口90に接続
されている(図1)。
【0047】好適実施例では、充填管152の直径は十
分に大きいので、蒸発液の補給を完了する一方で、半導
体チップを剥離室から搬送し腐食装置の処理量に対する
再充填の影響を最低限にすることができる。充填管15
2を使用してガスを容器12に加えて大気圧を上回るよ
うに加圧し、液体を容器12に強制的に押し下げてドレ
インチュ−ブ120に上げてドレインサイクルとするこ
ともできる。充填管152は、容器12内に沸騰チップ
または沸騰ボールを挿入するためにも使用される。
分に大きいので、蒸発液の補給を完了する一方で、半導
体チップを剥離室から搬送し腐食装置の処理量に対する
再充填の影響を最低限にすることができる。充填管15
2を使用してガスを容器12に加えて大気圧を上回るよ
うに加圧し、液体を容器12に強制的に押し下げてドレ
インチュ−ブ120に上げてドレインサイクルとするこ
ともできる。充填管152は、容器12内に沸騰チップ
または沸騰ボールを挿入するためにも使用される。
【0048】最初に、加圧された容器12は、低温液体
で満たされる。次に、ヒーター150は液体を蒸発装置
の設定値(50-65 ℃)まで加熱する。好適実施例では、
容器12はワット密度が高い可撓性フォイルヒーター
(flexible foil heater) によって加熱され、容器12
は液体と接触し、容器12の上部付近では沈降室内の凝
縮は最低限に抑えられる。また、好適実施例では、可撓
性フォイルヒーターは、可撓性フォイルの上部縁に埋め
込まれた内蔵温度センサ(図示せず)を備え、ヒーター
150の温度を測定し、ヒーター150の温度が所定の
レベルを上回っている場合には電源を切る。
で満たされる。次に、ヒーター150は液体を蒸発装置
の設定値(50-65 ℃)まで加熱する。好適実施例では、
容器12はワット密度が高い可撓性フォイルヒーター
(flexible foil heater) によって加熱され、容器12
は液体と接触し、容器12の上部付近では沈降室内の凝
縮は最低限に抑えられる。また、好適実施例では、可撓
性フォイルヒーターは、可撓性フォイルの上部縁に埋め
込まれた内蔵温度センサ(図示せず)を備え、ヒーター
150の温度を測定し、ヒーター150の温度が所定の
レベルを上回っている場合には電源を切る。
【0049】可撓性フォイルヒーター150は、好まし
くは複数の覗き窓166を有し、容器12の外側に位置
する光センサ168(図9)を使用して覗き窓166を
通じて容器12の液体レベルを感知することができる。
好適実施例では、センサ間で鎖線で示されているよう
に、 2つのエミッタと 2つのシレーバを含む 2つの液体
メニスカスセンサである。左下部のレシーバおよび右上
部のエミッタは、液体が標準レベルに達した場合の液体
レベルを感知し、左上部のエミッタと右下部のレシーバ
は、液体がオーバーフローレベルを超えた場合に、容器
12の液体レベルを感知する。好適実施例では、充填管
152とドレインチュ−ブ120は、レベルセンサの光
学的経路に位置しない。
くは複数の覗き窓166を有し、容器12の外側に位置
する光センサ168(図9)を使用して覗き窓166を
通じて容器12の液体レベルを感知することができる。
好適実施例では、センサ間で鎖線で示されているよう
に、 2つのエミッタと 2つのシレーバを含む 2つの液体
メニスカスセンサである。左下部のレシーバおよび右上
部のエミッタは、液体が標準レベルに達した場合の液体
レベルを感知し、左上部のエミッタと右下部のレシーバ
は、液体がオーバーフローレベルを超えた場合に、容器
12の液体レベルを感知する。好適実施例では、充填管
152とドレインチュ−ブ120は、レベルセンサの光
学的経路に位置しない。
【0050】容器12の液体を大気圧未満(約100-160
Torr)で加熱すると、かなり激しい沸騰作用を生じる傾
向があるが、これは、核沸騰と呼ばれており、石英容器
内の表面が粗くないので直径約 1インチまでの比較的大
きな蒸気泡が容器12内で発生し得る。ただし、この激
しい沸騰作用は、液体の脱ガスが完了し蒸気だけが発生
するようになった後は、幾分弱まる傾向もある。好まし
くはポリテトラフルオロエチレンボールである沸騰チッ
プ170を容器12の底部に付加することによって、こ
の激しい沸騰作用は低減し、代わりに高い流量で小さい
泡が継続的に放出される。所望の効果を得るには、単層
のチップで十分である。
Torr)で加熱すると、かなり激しい沸騰作用を生じる傾
向があるが、これは、核沸騰と呼ばれており、石英容器
内の表面が粗くないので直径約 1インチまでの比較的大
きな蒸気泡が容器12内で発生し得る。ただし、この激
しい沸騰作用は、液体の脱ガスが完了し蒸気だけが発生
するようになった後は、幾分弱まる傾向もある。好まし
くはポリテトラフルオロエチレンボールである沸騰チッ
プ170を容器12の底部に付加することによって、こ
の激しい沸騰作用は低減し、代わりに高い流量で小さい
泡が継続的に放出される。所望の効果を得るには、単層
のチップで十分である。
【0051】好適実施例では、 2つの沈降室172およ
び174は、容器12内に位置し、相互に重なり、第1
の沈降室172が第2の沈降室174の下で、容器12
の所望の液体レベルより上に位置する。各沈降室17
2、174の底部壁は、上述の狭い開口部であり、好ま
しくは適切なドレインを確実にする最低点に位置する蒸
気入口/ドレイン路178に向かって下方に傾斜する。
び174は、容器12内に位置し、相互に重なり、第1
の沈降室172が第2の沈降室174の下で、容器12
の所望の液体レベルより上に位置する。各沈降室17
2、174の底部壁は、上述の狭い開口部であり、好ま
しくは適切なドレインを確実にする最低点に位置する蒸
気入口/ドレイン路178に向かって下方に傾斜する。
【0052】図1に示すように、傾斜隔壁176は第1
の沈降室172を第2の沈降室174から分離し、第1
の沈降室172の上壁と第2の沈降室174の底部壁を
兼用するように作用する。水蒸気は、第1の沈降室17
2の底部壁180の下端に位置する狭い開口部またはス
リットである蒸気入口178を通じて第1の沈降室17
2に進入する。蒸気入口の断面は、容器の断面よりもか
なり狭い。より具体的には、容器12の断面と蒸気入口
178の断面の好ましい比率は、約50:1である。更に、
蒸気入口178に位置する第1の沈降室172の断面と
蒸気入口178の断面との比率は、約16:1である。従っ
て、蒸気速度は蒸気入口178を通った後比較的速くな
るが、これは、蒸気入口178の断面が容器12の断面
の50分の1の狭さだからである。その後、第1の沈降室
172内に入った時に蒸気速度を減ずるが、これは、蒸
気入口178の断面が第1の沈降室172の断面のわず
か16分の 1の狭さしかないからである。
の沈降室172を第2の沈降室174から分離し、第1
の沈降室172の上壁と第2の沈降室174の底部壁を
兼用するように作用する。水蒸気は、第1の沈降室17
2の底部壁180の下端に位置する狭い開口部またはス
リットである蒸気入口178を通じて第1の沈降室17
2に進入する。蒸気入口の断面は、容器の断面よりもか
なり狭い。より具体的には、容器12の断面と蒸気入口
178の断面の好ましい比率は、約50:1である。更に、
蒸気入口178に位置する第1の沈降室172の断面と
蒸気入口178の断面との比率は、約16:1である。従っ
て、蒸気速度は蒸気入口178を通った後比較的速くな
るが、これは、蒸気入口178の断面が容器12の断面
の50分の1の狭さだからである。その後、第1の沈降室
172内に入った時に蒸気速度を減ずるが、これは、蒸
気入口178の断面が第1の沈降室172の断面のわず
か16分の 1の狭さしかないからである。
【0053】しかし、蒸気入口は、蒸気が第1の沈降室
に進入した後、速度を低下させる寸法であれば良い。小
さい寸法の蒸気入口は、第1の沈降室に進入する液体の
量を制限することに役立ち、装置運転中に沸騰チップ1
70が蒸気入口に侵入したり詰まったりすることを防止
する。
に進入した後、速度を低下させる寸法であれば良い。小
さい寸法の蒸気入口は、第1の沈降室に進入する液体の
量を制限することに役立ち、装置運転中に沸騰チップ1
70が蒸気入口に侵入したり詰まったりすることを防止
する。
【0054】上述のように、蒸気が第1の沈降室172
を横断する際、ある程度速度は低下し、このため、液滴
は傾斜底部壁180に降下し、蒸気入口178から流出
するので、蒸気入口178はドレイン路としても役立
つ。好適実施例では、半乾燥蒸気は、好ましくは沈降室
間の傾斜隔壁176の下端近傍に位置する蒸気オリフィ
ス182を通じて流出する。蒸気オリフィス182は、
第1の沈降室172の蒸気出口として、また、第2の沈
降室174の第2の入口兼用ドレイン路として作用す
る。
を横断する際、ある程度速度は低下し、このため、液滴
は傾斜底部壁180に降下し、蒸気入口178から流出
するので、蒸気入口178はドレイン路としても役立
つ。好適実施例では、半乾燥蒸気は、好ましくは沈降室
間の傾斜隔壁176の下端近傍に位置する蒸気オリフィ
ス182を通じて流出する。蒸気オリフィス182は、
第1の沈降室172の蒸気出口として、また、第2の沈
降室174の第2の入口兼用ドレイン路として作用す
る。
【0055】半乾燥蒸気は第2の沈降室174に進入
し、更なる液滴が傾斜隔壁176に沈降し、結局、蒸気
オリフィス182を通じて第1の沈降室172の傾斜底
部壁180に滴下した後、蒸気入口178を通じて容器
12の液体に戻る。当然、更に沈降室を増設して更に蒸
気を乾燥しても良い。乾燥蒸気は、蒸気出口158を通
じて第2の沈降室174を出て、容器連通ブロック10
0の通路160を通じて剥離室に至る。
し、更なる液滴が傾斜隔壁176に沈降し、結局、蒸気
オリフィス182を通じて第1の沈降室172の傾斜底
部壁180に滴下した後、蒸気入口178を通じて容器
12の液体に戻る。当然、更に沈降室を増設して更に蒸
気を乾燥しても良い。乾燥蒸気は、蒸気出口158を通
じて第2の沈降室174を出て、容器連通ブロック10
0の通路160を通じて剥離室に至る。
【0056】図1に示したように、サーモウェル管15
4は容器12の上部から第1の沈降室172および第2
の沈降室174を貫通して容器12内に延在し、好まし
くは所望の液面よりも 1インチ(25.4mm)低い点を終点と
する。サーモウェル管は、下端で閉鎖され、上述の温度
センサ156の形態の温度センサが内部に位置する。温
度センサ156とサーモウェル管154の間にヒートシ
ンク化合物を用いることによって良好な伝熱を確保する
ことができる。
4は容器12の上部から第1の沈降室172および第2
の沈降室174を貫通して容器12内に延在し、好まし
くは所望の液面よりも 1インチ(25.4mm)低い点を終点と
する。サーモウェル管は、下端で閉鎖され、上述の温度
センサ156の形態の温度センサが内部に位置する。温
度センサ156とサーモウェル管154の間にヒートシ
ンク化合物を用いることによって良好な伝熱を確保する
ことができる。
【0057】好適実施例では、容器12はほぼ円筒状で
直径が 2インチ(50.8mm)で底がドーム形であり上部は平
坦である。容器12の直径は、剥離室が必要とするよう
に選択された率で蒸気を発生するよう決定される。直径
が2 インチの場合、毎分約 1リットルの率で蒸気を生成
することが測定されている。容器12は、液体による化
学的侵食に対し優れた耐性があり、液体レベルを観察す
ることができるので、石英から形成されるのが好まし
い。概して、記載された装置は、マスフロ−コントロ−
ラによって記録されるフロースパイク(flow spike)な
しで、1000sccm(標準立方センチメートル毎分)を供給
できるものと証明された。
直径が 2インチ(50.8mm)で底がドーム形であり上部は平
坦である。容器12の直径は、剥離室が必要とするよう
に選択された率で蒸気を発生するよう決定される。直径
が2 インチの場合、毎分約 1リットルの率で蒸気を生成
することが測定されている。容器12は、液体による化
学的侵食に対し優れた耐性があり、液体レベルを観察す
ることができるので、石英から形成されるのが好まし
い。概して、記載された装置は、マスフロ−コントロ−
ラによって記録されるフロースパイク(flow spike)な
しで、1000sccm(標準立方センチメートル毎分)を供給
できるものと証明された。
【0058】本発明に係る方法では、液体は、マニホー
ルドアセンブリ10に供給され、マニホールドアセンブ
リ10の流路に接続された充填管152を通じて容器1
2に供給される。液体は、蒸気を加熱するために十分な
温度まで加熱される。次に、蒸気は容器12の断面より
も狭い断面を有する入口を通じて容器12内に位置する
沈降室に輸送される。蒸気速度が低下すると、液滴が蒸
気から分離する。液は容器12の底に戻され、比較的乾
燥した蒸気が沈降室から輸送される。
ルドアセンブリ10に供給され、マニホールドアセンブ
リ10の流路に接続された充填管152を通じて容器1
2に供給される。液体は、蒸気を加熱するために十分な
温度まで加熱される。次に、蒸気は容器12の断面より
も狭い断面を有する入口を通じて容器12内に位置する
沈降室に輸送される。蒸気速度が低下すると、液滴が蒸
気から分離する。液は容器12の底に戻され、比較的乾
燥した蒸気が沈降室から輸送される。
【0059】更に詳細な方法では、蒸気は沈降室から第
2の沈降室に輸送され、更なる液滴が蒸気から分離する
ことができる。このような液滴も、容器の底部から戻さ
れ、乾燥蒸気が第2の沈降室から、好ましくは剥離室に
輸送される。
2の沈降室に輸送され、更なる液滴が蒸気から分離する
ことができる。このような液滴も、容器の底部から戻さ
れ、乾燥蒸気が第2の沈降室から、好ましくは剥離室に
輸送される。
【0060】以上の説明から、本発明は液体供給源から
蒸気発生器までの液体の澱みを最小とする改良された乾
燥蒸気供給装置を提供することが理解できよう。好適実
施例では、従来の蒸気供給装置に見られた「デッドレッ
グ」はかなり低減し、マスフロ−コントロ−ラの目立っ
た圧力スパイクもなく、所望の率で蒸気を供給すること
ができる。小型寸法の装置によって、修正なしで、あっ
てもわずかで、既存の設備に設置することができる。
蒸気発生器までの液体の澱みを最小とする改良された乾
燥蒸気供給装置を提供することが理解できよう。好適実
施例では、従来の蒸気供給装置に見られた「デッドレッ
グ」はかなり低減し、マスフロ−コントロ−ラの目立っ
た圧力スパイクもなく、所望の率で蒸気を供給すること
ができる。小型寸法の装置によって、修正なしで、あっ
てもわずかで、既存の設備に設置することができる。
【0061】本発明を現時点で好適実施例を参照して詳
細に説明してきたが、当業者らにはさまざまな修正が本
発明を逸脱することなく行われることは理解できよう。
とくに、本発明に係る装置および方法は、別の液体から
蒸気を生成することもできる。基礎液、すなわち、酢酸
や過酸化水素などのヒドロキシルイオン OH-を有する分
子からなる液を用いると特に効果的である。水は更に別
の基礎液である。更に、窒素以外のガスを容器に充填し
て液体をドレインすることもできる。また、マニホール
ドアセンブリ10の好適実施例のブロックは、本質的に
2次元構成であるが、本発明の範囲から逸脱しない範囲
で3次元に配置することもでき。ブロックの配置を別途
変更すれば、好適実施例で説明した流路やブロックイン
タフェースを変更しなければならない場合もある。
細に説明してきたが、当業者らにはさまざまな修正が本
発明を逸脱することなく行われることは理解できよう。
とくに、本発明に係る装置および方法は、別の液体から
蒸気を生成することもできる。基礎液、すなわち、酢酸
や過酸化水素などのヒドロキシルイオン OH-を有する分
子からなる液を用いると特に効果的である。水は更に別
の基礎液である。更に、窒素以外のガスを容器に充填し
て液体をドレインすることもできる。また、マニホール
ドアセンブリ10の好適実施例のブロックは、本質的に
2次元構成であるが、本発明の範囲から逸脱しない範囲
で3次元に配置することもでき。ブロックの配置を別途
変更すれば、好適実施例で説明した流路やブロックイン
タフェースを変更しなければならない場合もある。
【0062】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、液体の澱みを最小にして乾燥蒸気を発生さ
せることができ、細菌および藻類の増殖を制限すること
ができる。
ているので、液体の澱みを最小にして乾燥蒸気を発生さ
せることができ、細菌および藻類の増殖を制限すること
ができる。
【図1】本発明の一実施例である乾燥蒸気供給装置の断
面図であり、マニホールドアセンブリと乾燥蒸気発生器
とを示す。
面図であり、マニホールドアセンブリと乾燥蒸気発生器
とを示す。
【図2】図1のライン2−2に沿って切り取ったマニホ
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す水源ブロッ
クを示す断面図。
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す水源ブロッ
クを示す断面図。
【図3】図1のライン3−3に沿って切り取ったマニホ
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す迷路ブロッ
クを示す断面図。
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す迷路ブロッ
クを示す断面図。
【図4】図1のライン4−4に沿って切り取った迷路ブ
ロックの流路に含まれる減圧器を示す分解断面図。
ロックの流路に含まれる減圧器を示す分解断面図。
【図5】図1のライン5−5に沿って切り取ったマニホ
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成すガス注入ブ
ロックを示す断面図。
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成すガス注入ブ
ロックを示す断面図。
【図6】図1のライン6−6に沿って切り取ったマニホ
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す充填ブロッ
クを示す部分断面図。
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す充填ブロッ
クを示す部分断面図。
【図7】好適実施例に使用されるソレノイドダイヤフラ
ム弁を示す分解断面図。
ム弁を示す分解断面図。
【図8】図1のライン8−8に沿って切り取ったマニホ
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す容器連絡ブ
ロックを示す部分断面図。
ールドアセンブリの好適実施例の一部を成す容器連絡ブ
ロックを示す部分断面図。
【図9】図1のライン9−9に沿って切り取った容器の
側方断面図であり、ドレインチュ−ブとレベルセンサを
示す図。
側方断面図であり、ドレインチュ−ブとレベルセンサを
示す図。
10…マニホールド、12…密閉容器、20…液源ブロ
ック、22…入口、24…第1のコネクタ、26…第1
の出口、28…第2の出口、30…流路、32…三方
弁、34…第2のコネクタ、36…二方弁、38…迷路
ブロック、40…第1の入口、44…ねじ付きロッド、
46…ねじ付きナット、48…減圧器、50…パルス
弁、54…流路、56…第1のスペーサ、58…第2の
スペーサ、60…オリフィス、64…ガス源ブロック、
66…入口、70…出口、72…流路、74…接合面、
76…二方弁、78…第2の入口、80…第1の出口、
82…第2の接合面、86…充填ブロック、88…第1
の入口、90…第1の出口、92…第1の流路、94…
第1の接合面、96…最終弁、100…容器連通ブロッ
ク、101…ソレノイドダイヤフラム、102…入口、
103…キャップ、104…第1の出口、105…キャ
ップ口、106…供給路、107…ピストン、108…
接合面、109…ハウジング、111…上部ダイヤフラ
ム、112…ソケット、113…上部ポペット、114
…フィルター、115…下部ポペット、117…下部ダ
イヤフラム、119…付勢ばね、120…ドレインチュ
ーブ、121…第1の出口、122…第2の出口、12
3…第2の出口、124…第2の出口、125…共通入
口、126…ドレイン、127…座、128…第2の入
口、129…座、130…第2の出口、132…第2の
流路、134…第2の二方弁、138…第3の入口、1
40…第2の出口、146…ナイフエッジ、150…ヒ
ーター、152…充填管、158…蒸気出口、160…
通路、162…ベース支持材、164…エラストマーパ
ッド、166…覗き窓、170…沸騰チップ、172、
174…沈降室、176…傾斜隔壁、178…蒸気入
口、180…底部壁、182…蒸気オリフィス。
ック、22…入口、24…第1のコネクタ、26…第1
の出口、28…第2の出口、30…流路、32…三方
弁、34…第2のコネクタ、36…二方弁、38…迷路
ブロック、40…第1の入口、44…ねじ付きロッド、
46…ねじ付きナット、48…減圧器、50…パルス
弁、54…流路、56…第1のスペーサ、58…第2の
スペーサ、60…オリフィス、64…ガス源ブロック、
66…入口、70…出口、72…流路、74…接合面、
76…二方弁、78…第2の入口、80…第1の出口、
82…第2の接合面、86…充填ブロック、88…第1
の入口、90…第1の出口、92…第1の流路、94…
第1の接合面、96…最終弁、100…容器連通ブロッ
ク、101…ソレノイドダイヤフラム、102…入口、
103…キャップ、104…第1の出口、105…キャ
ップ口、106…供給路、107…ピストン、108…
接合面、109…ハウジング、111…上部ダイヤフラ
ム、112…ソケット、113…上部ポペット、114
…フィルター、115…下部ポペット、117…下部ダ
イヤフラム、119…付勢ばね、120…ドレインチュ
ーブ、121…第1の出口、122…第2の出口、12
3…第2の出口、124…第2の出口、125…共通入
口、126…ドレイン、127…座、128…第2の入
口、129…座、130…第2の出口、132…第2の
流路、134…第2の二方弁、138…第3の入口、1
40…第2の出口、146…ナイフエッジ、150…ヒ
ーター、152…充填管、158…蒸気出口、160…
通路、162…ベース支持材、164…エラストマーパ
ッド、166…覗き窓、170…沸騰チップ、172、
174…沈降室、176…傾斜隔壁、178…蒸気入
口、180…底部壁、182…蒸気オリフィス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キエン エヌ. チュク アメリカ合衆国, カリフォルニア州 95014, キュパティノ, テーラ ヴェ ラ ドライヴ 11247
Claims (31)
- 【請求項1】 液体を液源から送る流路(channel) を有
するマニホールドアセンブリと、 液体を保持し、前記マニホールドアセンブリに固定さ
れ、前記マニホールドアセンブリから液体を受容する前
記マニホールドアセンブリの流路に接続された充填管を
有する容器と、 前記容器内で液体を加熱し蒸気を発生させるヒーター
と、 前記容器内の液体上方で前記容器内に位置し、蒸気を液
滴にして沈降させ、蒸気を受容する前記容器の断面より
も実質的に狭い断面を有する蒸気入口と、乾燥蒸気を除
去する蒸気入口とを含む沈降室と、を有する、蒸気を発
生する装置。 - 【請求項2】 前記液体が基礎液を含む、請求項1に記
載の装置。 - 【請求項3】 前記基礎液が水を含む、請求項2に記載
の装置。 - 【請求項4】 前記容器と前記沈降室が石英から形成さ
れる、請求項1に記載の装置。 - 【請求項5】 前記マニホールドアセンブリが第1のブ
ロックと第2のブロックとを有し、各ブロックは入口
と、出口と、前記口に接続する流路と、他方のブロック
の接合面に接合する接合面とを有し、 前記第1のブロックおよび前記第2のブロックは、前記
第1のブロックの出口が前記第2のブロックの入口に整
合するように該接合面が接合し、 前記第2の出口が前記容器の前記充填管に接続されてい
る、請求項1に記載の装置。 - 【請求項6】 各ブロックが垂直壁を有する平行六面体
である、請求項5に記載の装置。 - 【請求項7】 前記第1のブロックの接合面が前記第2
のブロックの接合面と実質的に同形かつ同寸法である、
請求項5に記載の装置。 - 【請求項8】 前記第1のブロックが、更に、 前記第1のブロックの流路に接続された第2の出口と、 前記第1のブロックの流路内にあって、前記第1のブロ
ックの入口から液体を受け取る入口と、液体を前記第1
のブロックの前記第1の出口に送る第1の出口と、液体
を前記第1のブロックの前記第2の出口に送る第2の出
口とを有する三方弁と、を含む、請求項5に記載の装
置。 - 【請求項9】 前記第1のブロックの入口が前記液源に
係合するよう適合されており、 前記マニホールドアセンブリは、更に、ガス源に接合す
るよう適合された入口と、出口と、前記入口および出口
に接続する流路と、接合面とを含み、 前記第3のブロックの出口が前記第2の入口に整合する
ように、かつ前記第2のブロックの流路が液体およびガ
スを前記第2のブロックの出口に供給するように、前記
第2のブロックはその流路に接続された第2の入口と、
前記第3の接合面に接合する第2の接合面とを含む、請
求項5に記載の装置。 - 【請求項10】 前記ガスが窒素を含む、請求項9に記
載の装置。 - 【請求項11】 前記第2のブロックは、更に、第3の
接合面を含み、 前記マニホールドアセンブリは、更に、前記第2のブロ
ックと前記容器の間に配置されかつ入口を有する第4の
ブロックと、前記容器の前記充填管に接続された出口
と、前記口に接続する流路と、前記第2のブロックの出
口が前記第4のブロックの入口に整合するように前記第
2のブロックの第3の接合面に接合する接合面とを含
む、請求項9に記載の装置。 - 【請求項12】 前記容器は、更に、液体を前記容器か
ら除去するドレインを含み、 前記第3のブロックは、前記容器のドレインに整合する
第2の入口と、第2の出口と、前記第2の口を接続する
第2の流路とを含む、請求項9に記載の装置。 - 【請求項13】 前記第2のブロックは、更に、 前記第2のブロック流路と前記第2のブロックの第1の
入口との間に接続され、前記第2のブロックの第1の入
口を通じて得られる液体の圧力を低減させることによっ
て、前記第2のブロックの流路を通じて流れる液体の圧
力を実質的に定常に維持するように作用する減圧器を含
む、請求項9に記載の装置。 - 【請求項14】 前記減圧器は、 流路と、 各々が前記流路を妨害する寸法および形状であり、前記
第2のブロックの第1の入口よりも直径が小さいオリフ
ィスを有する少なくとも2つのスペーサーとを有する、
請求項13に記載の装置。 - 【請求項15】 前記減圧器が2つのスペーサーを含
み、第1のスペーサのオリフィスが第2のスペーサーの
オリフィスからオフセットされている、請求項14に記
載の装置。 - 【請求項16】 前記容器の直径が、毎分約1リットル
の割合(rate)で蒸気を発生するように寸法が決定され
る、請求項5に記載の装置。 - 【請求項17】 前記容器の直径が約2インチ(50.
8mm)である、請求項5に記載の装置。 - 【請求項18】 前記容器が更に、前記容器から液体を
除去するドレインを含む、請求項5に記載の装置。 - 【請求項19】 前記容器が更に、前記容器内の液体温
度を測定する温度センサと併用するサーモウェル管を含
む、請求項5に記載の装置。 - 【請求項20】 前記容器が更に、沸騰チップ(boiling
chip)を含む、請求項5に記載の装置。 - 【請求項21】 前記沸騰チップがポリテトラフルオロ
エチレンチップ(polytetrafluoroethylene chip)であ
る、請求項20に記載の装置。 - 【請求項22】 前記沈降室は、 傾斜底部壁と、 上部壁とを有し、 前記蒸気入口は前記底部壁の下方端に位置する開口部で
あり、前記蒸気出口は前記底部壁の上方端上方の前記上
部壁に位置する、請求項5に記載の装置。 - 【請求項23】 前記容器の壁は、 少なくとも 2つの覗き窓と、 前記容器の外部に位置し、少なくとも 2つの前記覗き窓
を通じて前記容器内の液体レベルを感知するために 1つ
のエミッタおよび 1つのレシーバ含む少なくとも 1つの
センサアセンブリと、を含む、請求項5に記載の装置。 - 【請求項24】 蒸気中の液滴を沈降させる前記第1の
沈降室の上側で前記容器内に位置する第2の沈降室を含
み、前記第2の沈降室は、蒸気を前記第1の沈降室の蒸
気出口から得る第2の蒸気入口を有し、かつ、乾燥蒸気
を前記第2の沈降室から除去するための第2の蒸気出口
を有する、請求項5に記載の装置。 - 【請求項25】 前記第2の沈降室は、 傾斜底部壁と上部壁とを有し、 前記第2の蒸気入口は前記第2の沈降室の底部壁の下方
端に位置する開口部であり、前記第2の蒸気出口は前記
第2の沈降室の底部壁の上方端上方の上部壁に位置す
る、請求項24に記載の装置。 - 【請求項26】 各ブロックが入口、出口、前記口を接
続する流路と、他方のブロックの接合面で接合する接合
面とを有する第1のブロックと第2のブロックとを含む
マニホールドを含み、 前記第1のブロックと前記第2のブロックが、前記第1
のブロックの前記出口が前記第2のブロックの前記出口
と整合するように該接合面で接合しており、 前記マニホールドアセンブリに固定され、液体を前記容
器に供給する前記第2のブロックの前記出口に接続され
る充填管と、前記容器から液体を除去するドレイン路
と、前記容器内に液体の温度を測定する温度センサと併
用するサーモウェル管とを有する液体保持容器と、 前記容器内の液体を加熱し蒸気を発生させるヒーター
と、 前記容器内の液体の上方で前記容器内に位置し、傾斜底
部壁と、前記底部壁の下方端に位置する前記容器から蒸
気を得る前記容器の断面よりも実質的に小さい断面の第
1の蒸気入口と、を有する第1の沈降室と、 前記第1の沈降室上方で前記容器内の蒸気から液滴を沈
降させる第2の沈降室であって、前記第2の沈降室は、
第2の上部壁と、乾燥蒸気を前記第2の沈降室の上部壁
に位置する第2の沈降室から除去する蒸気出口と、前記
第1の沈降室を前記第2の沈降室から分離する傾斜隔壁
と、蒸気を前記第1の沈降室から傾斜隔壁の下方端に位
置する第2の沈降室まで輸送する第2の蒸気入口とを有
する前記第2の沈降室と、を有する乾燥蒸気発生装置。 - 【請求項27】 前記液体が水を含む、請求項26に記
載の装置。 - 【請求項28】 流路を有するマニホールドを通じて液
体を前記マニホールドアセンブリの流路に接続された充
填管を有する容器に供給し、 前記容器内の液体を加熱し蒸気を発生させ、 前記蒸気を実質的に前記容器の断面より小さい断面の蒸
気入口を通じて液体上方の前記容器内に位置する沈降室
に輸送し、 前記沈降室内の蒸気の速度を低減させることによって、
蒸気から液滴を分離して沈降させ、 該液滴を前記容器に戻し、 前記沈降室から乾燥蒸気を送出する、乾燥蒸気を供給す
る方法。 - 【請求項29】 前記液体が基礎液を有する、請求項2
8に記載の方法。 - 【請求項30】 前記基礎液が水を有する、請求項29
に記載の方法。 - 【請求項31】 前記蒸気を前記沈降室から第2の沈降
室に送出し、 前記第2の沈降室での蒸気速度を低減させることによっ
て、更に液滴を蒸気から沈降させ、 更に、液滴を前記容器の底に戻し、 前記第2の沈降室から乾燥蒸気を送出する、請求項28
に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/227973 | 1994-04-15 | ||
| US08/227,973 US5537508A (en) | 1993-03-22 | 1994-04-15 | Method and dry vapor generator channel assembly for conveying a liquid from a liquid source to a liquid vaporizer with minimal liquid stagnation |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0882402A true JPH0882402A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=22855225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7090861A Withdrawn JPH0882402A (ja) | 1994-04-15 | 1995-04-17 | 液体の澱みを最小にして乾燥蒸気を発生させる方法および装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (2) | EP0677703B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0882402A (ja) |
| KR (1) | KR100362770B1 (ja) |
| AT (2) | ATE198648T1 (ja) |
| DE (2) | DE69519880T2 (ja) |
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