JPH0883747A - アライメントマークを有する光学部材 - Google Patents
アライメントマークを有する光学部材Info
- Publication number
- JPH0883747A JPH0883747A JP21613494A JP21613494A JPH0883747A JP H0883747 A JPH0883747 A JP H0883747A JP 21613494 A JP21613494 A JP 21613494A JP 21613494 A JP21613494 A JP 21613494A JP H0883747 A JPH0883747 A JP H0883747A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane
- optical member
- alignment
- alignment mark
- window
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 形成が容易であり、かつ、レジスト塗布に影
響を与えないアライメント用マークを有する光学部材を
提供すること。 【構成】 少なくとも、メンブレンＭと該メンブレンＭ
を支持する支持枠１とを備えた光学部材において、前記
支持枠１にアライメント用の窓３を設けたことを特徴と
する光学部材。
響を与えないアライメント用マークを有する光学部材を
提供すること。 【構成】 少なくとも、メンブレンＭと該メンブレンＭ
を支持する支持枠１とを備えた光学部材において、前記
支持枠１にアライメント用の窓３を設けたことを特徴と
する光学部材。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、メンブレンの支持枠に
アライメント用の窓を設けた光学部材に関するものであ
る。
アライメント用の窓を設けた光学部材に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】透過型回折格子、透過型ゾーンプレー
ト、透過型Ｘ線露光用マスクの各パターンを有する光学
部材は、例えば、支持枠により支持されたメンブレン
（例えば、ＳｉＮ、ＳｉＣ、ＢＮなどの薄膜）の面上に
前記各パターンを形成することにより作製される。
ト、透過型Ｘ線露光用マスクの各パターンを有する光学
部材は、例えば、支持枠により支持されたメンブレン
（例えば、ＳｉＮ、ＳｉＣ、ＢＮなどの薄膜）の面上に
前記各パターンを形成することにより作製される。
【０００３】なお、メンブレン材料の薄膜を表面に形成
した基板を裏側から窓形状にエッチングして支持枠及び
該支持枠により支持されたメンブレンが形成される。従
来は、前記パターンをメンブレンの面上に形成するため
のアライメントマークを、メンブレンとつながっている
薄膜（メンブレンと同一材料の薄膜であって支持枠上の
薄膜）の該パターン形成面側であって、該パターン形成
位置の近傍に形成していた。
した基板を裏側から窓形状にエッチングして支持枠及び
該支持枠により支持されたメンブレンが形成される。従
来は、前記パターンをメンブレンの面上に形成するため
のアライメントマークを、メンブレンとつながっている
薄膜（メンブレンと同一材料の薄膜であって支持枠上の
薄膜）の該パターン形成面側であって、該パターン形成
位置の近傍に形成していた。
【０００４】また、一般的に、手動方式で光学顕微鏡又
は電子顕微鏡などを使ってアライメントを行うような装
置では、アライメントマーク形状は特に限定されていな
い。
は電子顕微鏡などを使ってアライメントを行うような装
置では、アライメントマーク形状は特に限定されていな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、メンブレンと
つながっている薄膜（支持枠上の薄膜）上へのアライメ
ントマーク形成に関して、幾つかの問題点があった。第
一に、エッチング又はリフトオフ法によりアライメント
マークを形成する場合には、薄膜（支持枠上の薄膜）上
に段差ができるので、レジスト塗布を行う際にレジスト
の膜厚が不均一になり、その結果、薄膜（支持枠上の薄
膜）とつながっているメンブレンの面上に形成するパタ
ーン形状が不正確になるという問題点があった。
つながっている薄膜（支持枠上の薄膜）上へのアライメ
ントマーク形成に関して、幾つかの問題点があった。第
一に、エッチング又はリフトオフ法によりアライメント
マークを形成する場合には、薄膜（支持枠上の薄膜）上
に段差ができるので、レジスト塗布を行う際にレジスト
の膜厚が不均一になり、その結果、薄膜（支持枠上の薄
膜）とつながっているメンブレンの面上に形成するパタ
ーン形状が不正確になるという問題点があった。
【０００６】第二に、メンブレンに合わせて、薄膜（支
持枠上の薄膜）上に表側からアライメントマークをパタ
ーニングするのは困難であり、また工程も複雑化すると
いう問題点があった。本発明の目的は、形成が容易であ
り、かつ、レジスト塗布に影響を与えないアライメント
用マークを有する光学部材を提供することにある。
持枠上の薄膜）上に表側からアライメントマークをパタ
ーニングするのは困難であり、また工程も複雑化すると
いう問題点があった。本発明の目的は、形成が容易であ
り、かつ、レジスト塗布に影響を与えないアライメント
用マークを有する光学部材を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「少なくとも、メンブレンと該メンブレンを支持する
支持枠とを備えた光学部材において、前記支持枠にアラ
イメント用の窓を設けたことを特徴とする光学部材（請
求項１）」を提供する。
に「少なくとも、メンブレンと該メンブレンを支持する
支持枠とを備えた光学部材において、前記支持枠にアラ
イメント用の窓を設けたことを特徴とする光学部材（請
求項１）」を提供する。
【０００８】また、本発明は第二に「前記メンブレンの
面上に、透過型回折格子、透過型ゾーンプレート、又は
透過型Ｘ線露光用マスクの各パターンのうちの１パター
ンを形成してなることを特徴とする請求項１記載の光学
部材（請求項２）」を提供する。
面上に、透過型回折格子、透過型ゾーンプレート、又は
透過型Ｘ線露光用マスクの各パターンのうちの１パター
ンを形成してなることを特徴とする請求項１記載の光学
部材（請求項２）」を提供する。
【０００９】
【作用】メンブレン材料の薄膜を表面に形成した基板
（一例、シリコン基板）を裏側から窓形状にエッチング
して支持枠及び該支持枠により支持されたメンブレンが
形成される。この際、基板への窓形状のエッチングは、
基板の裏面に形成したマスク（メンブレン材料の薄膜か
らなる）により、非エッチング部分の基板を保護した上
で、エッチング液（一例、水酸化カリウム水溶液）を使
って基板の窓形成部分（非マスク部分）をウエットエッ
チングすることにより行われる。
（一例、シリコン基板）を裏側から窓形状にエッチング
して支持枠及び該支持枠により支持されたメンブレンが
形成される。この際、基板への窓形状のエッチングは、
基板の裏面に形成したマスク（メンブレン材料の薄膜か
らなる）により、非エッチング部分の基板を保護した上
で、エッチング液（一例、水酸化カリウム水溶液）を使
って基板の窓形成部分（非マスク部分）をウエットエッ
チングすることにより行われる。
【００１０】また、このエッチングは、基板（一例、シ
リコン基板）の結晶面によって、エッチング液（一例、
水酸化カリウム水溶液）によるエッチングレートが異な
ることを利用して行なっている。そのため、一定の大き
さの窓を再現性良く形成することができる。従って、メ
ンブレンを形成する際に、同様にアライメント用の窓を
基板（支持枠部分）に形成すれば、このアライメント用
窓の辺及び角をアライメントマークとして使用できる。
リコン基板）の結晶面によって、エッチング液（一例、
水酸化カリウム水溶液）によるエッチングレートが異な
ることを利用して行なっている。そのため、一定の大き
さの窓を再現性良く形成することができる。従って、メ
ンブレンを形成する際に、同様にアライメント用の窓を
基板（支持枠部分）に形成すれば、このアライメント用
窓の辺及び角をアライメントマークとして使用できる。
【００１１】ここで、メンブレン材料の薄膜を形成した
基板表面には凹凸がないので（図２参照）、レジスト塗
布に影響がでない。以上のように、レジスト塗布に影響
がでないアライメントマークとしてのアライメント用窓
を容易に形成することができる。なお、基板材料として
は、シリコン、石英ガラス等が使用できるが、特に単結
晶のシリコンウェハーが好ましい。また、メンブレン材
料としては、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＣ、ＢＮなどが好ま
しい。
基板表面には凹凸がないので（図２参照）、レジスト塗
布に影響がでない。以上のように、レジスト塗布に影響
がでないアライメントマークとしてのアライメント用窓
を容易に形成することができる。なお、基板材料として
は、シリコン、石英ガラス等が使用できるが、特に単結
晶のシリコンウェハーが好ましい。また、メンブレン材
料としては、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＣ、ＢＮなどが好ま
しい。
【００１２】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこの例に限定されるものではない。
るが、本発明はこの例に限定されるものではない。
【００１３】
【実施例】まず、シリコンウエハー（基板）１の両面に
ＳｉＮ（メンブレン材料）層４を0.1 μｍの厚さで、Ｌ
Ｐ−ＣＶＤを用いて成膜した（図２（ａ））。次に、シ
リコンウエハー１の裏面から、メンブレン用のパターン
及びアライメント窓（アライメントマーク）用のパター
ンを、アライナーを使ってパターニングした後、ＣＦ4
とＯ2 ガスを使ってＳｉＮ層（裏面）４をエッチングし
て、メンブレン用のパターンＰM 及びアライメント窓
（アライメントマーク）用のパターンＰA を転写したＳ
ｉＮ層マスクを形成した（図２（ｂ））。
ＳｉＮ（メンブレン材料）層４を0.1 μｍの厚さで、Ｌ
Ｐ−ＣＶＤを用いて成膜した（図２（ａ））。次に、シ
リコンウエハー１の裏面から、メンブレン用のパターン
及びアライメント窓（アライメントマーク）用のパター
ンを、アライナーを使ってパターニングした後、ＣＦ4
とＯ2 ガスを使ってＳｉＮ層（裏面）４をエッチングし
て、メンブレン用のパターンＰM 及びアライメント窓
（アライメントマーク）用のパターンＰA を転写したＳ
ｉＮ層マスクを形成した（図２（ｂ））。
【００１４】シリコンウエハーを洗浄した後、前記Ｓｉ
Ｎ層マスクを用いて、水酸化カリウム水溶液中でシリコ
ンウエハーをウエットエッチングした。これにより、メ
ンブレン窓２とアライメント窓３を形成した（図２
（ｃ））。次に、メンブレンＭ上に透過型ゾーンプレー
トのパターンを形成した。この際ふたつのアライメント
窓３の角（かど）及び辺（例えば、図２（ｄ）の角Ａ，
Ｂとそれに隣接する辺）を利用することにより、アライ
メントすることができた。
Ｎ層マスクを用いて、水酸化カリウム水溶液中でシリコ
ンウエハーをウエットエッチングした。これにより、メ
ンブレン窓２とアライメント窓３を形成した（図２
（ｃ））。次に、メンブレンＭ上に透過型ゾーンプレー
トのパターンを形成した。この際ふたつのアライメント
窓３の角（かど）及び辺（例えば、図２（ｄ）の角Ａ，
Ｂとそれに隣接する辺）を利用することにより、アライ
メントすることができた。
【００１５】なお、レジスト塗布後に、アライメント窓
３を覆っているＳｉＮ層４をエアガン等で破れば、アラ
イメント時にアライメント窓（アライメントマーク）３
の位置を確認しやすくなる。また、アライメントマーク
の位置、個数、形状などは一実施例であり、これに限定
されるものではない。
３を覆っているＳｉＮ層４をエアガン等で破れば、アラ
イメント時にアライメント窓（アライメントマーク）３
の位置を確認しやすくなる。また、アライメントマーク
の位置、個数、形状などは一実施例であり、これに限定
されるものではない。
【００１６】以上のようにして、透過型ゾーンプレート
のパターンを有する光学部材を作製した。
のパターンを有する光学部材を作製した。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、形成が
容易であり、かつ、レジスト塗布に影響を与えないアラ
イメント用マークを有する光学部材を提供できる。
容易であり、かつ、レジスト塗布に影響を与えないアラ
イメント用マークを有する光学部材を提供できる。
【図１】は、実施例のアライメント窓（アライメントマ
ーク）３を有する光学部材の平面図（ａ）及び断面図
（ｂ）である。
ーク）３を有する光学部材の平面図（ａ）及び断面図
（ｂ）である。
【図２】は、実施例のアライメント窓（アライメントマ
ーク）３を有する光学部材の製造工程（（ａ）〜
（ｃ））、及び該部材の平面図（ｄ）である。
ーク）３を有する光学部材の製造工程（（ａ）〜
（ｃ））、及び該部材の平面図（ｄ）である。
１・・・基板（一例、シリコンウェハー） ２・・・メンブレン窓 ３・・・アライメント窓（アライメントマーク） ４・・・メンブレン材料の薄膜層（一例、ＳｉＮ層） Ｍ・・・メンブレン 以 上
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも、メンブレンと該メンブレン
を支持する支持枠とを備えた光学部材において、 前記支持枠にアライメント用の窓を設けたことを特徴と
する光学部材。 - 【請求項２】 前記メンブレンの面上に、透過型回折格
子、透過型ゾーンプレート、又は透過型Ｘ線露光用マス
クの各パターンのうちの１パターンを形成してなること
を特徴とする請求項１記載の光学部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21613494A JPH0883747A (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | アライメントマークを有する光学部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21613494A JPH0883747A (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | アライメントマークを有する光学部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0883747A true JPH0883747A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=16683805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21613494A Pending JPH0883747A (ja) | 1994-09-09 | 1994-09-09 | アライメントマークを有する光学部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0883747A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6856392B1 (en) * | 1998-11-09 | 2005-02-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element with alignment mark, and optical system having such optical element |
-
1994
- 1994-09-09 JP JP21613494A patent/JPH0883747A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6856392B1 (en) * | 1998-11-09 | 2005-02-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element with alignment mark, and optical system having such optical element |
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