JPH0885869A - 電子部品の電極形成方法およびその方法に用いられるジグ - Google Patents
電子部品の電極形成方法およびその方法に用いられるジグInfo
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- JPH0885869A JPH0885869A JP25145394A JP25145394A JPH0885869A JP H0885869 A JPH0885869 A JP H0885869A JP 25145394 A JP25145394 A JP 25145394A JP 25145394 A JP25145394 A JP 25145394A JP H0885869 A JPH0885869 A JP H0885869A
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Landscapes
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 生産性を低下させず、電気的特性を安定させ
た、信頼性に富んだ電子部品の電極形成方法およびその
方法に用いられるジグ。 【構成】 基板となるワーク80の裏面に膜形成孔4
8,50,60を有する第1の成膜パターンマスク板2
4を配置し、ワーク80の表面に膜形成孔68を有する
第2の成膜パターンマスク板26を配置し、第1の成膜
パターンマスク板24の裏面に、前記膜形成孔48,5
0,60などに対応する孔を有する第1の補助マスク板
98を配置し、第2の成膜パターンマスク板26の表面
に、前記膜形成孔68に対応する孔を有する第2の補助
マスク板100を配置し、さらに、第1の成膜パターン
マスク板24および第2の成膜パターンマスク板26間
にワーク80を挟持した状態で、ワーク80を所定の位
置に位置決めし、その後、スパッタリングによりワーク
80の表面および裏面に、選択的に電極を形成する方
法。
た、信頼性に富んだ電子部品の電極形成方法およびその
方法に用いられるジグ。 【構成】 基板となるワーク80の裏面に膜形成孔4
8,50,60を有する第1の成膜パターンマスク板2
4を配置し、ワーク80の表面に膜形成孔68を有する
第2の成膜パターンマスク板26を配置し、第1の成膜
パターンマスク板24の裏面に、前記膜形成孔48,5
0,60などに対応する孔を有する第1の補助マスク板
98を配置し、第2の成膜パターンマスク板26の表面
に、前記膜形成孔68に対応する孔を有する第2の補助
マスク板100を配置し、さらに、第1の成膜パターン
マスク板24および第2の成膜パターンマスク板26間
にワーク80を挟持した状態で、ワーク80を所定の位
置に位置決めし、その後、スパッタリングによりワーク
80の表面および裏面に、選択的に電極を形成する方
法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電子部品の電極形成
方法およびその方法に用いられるジグに関し、特に、基
板に電極が形成される、たとえば発振子,共振子などの
電子部品の電極形成方法およびその方法に用いられるジ
グに関する。
方法およびその方法に用いられるジグに関し、特に、基
板に電極が形成される、たとえば発振子,共振子などの
電子部品の電極形成方法およびその方法に用いられるジ
グに関する。
【0002】
【従来の技術】図12はこの発明の背景となる従来例を
示す要部拡大断面図である。この従来例の電極形成方法
では、たとえば圧電発振素子の基板となるワーク1の表
面および裏面に、膜付け孔3aおよび3bを有するメタ
ルパターンマスク板3および5を配設し、その後、スパ
ッタリング処理を施すことにより、ワーク1の表面およ
び裏面に付着する電極となる薄膜のばらつきを小さく
し、且つ、薄膜の付着強度も大きくすることが可能とな
った。さらに、製品の電気的特性の安定化および電極と
なる膜のくわれ性、所謂、半田くわれの削減を計るため
に、基板に付着させる膜の膜厚量を多くして、電極とな
るその膜の電気的抵抗値を下げることが提案されてい
る。
示す要部拡大断面図である。この従来例の電極形成方法
では、たとえば圧電発振素子の基板となるワーク1の表
面および裏面に、膜付け孔3aおよび3bを有するメタ
ルパターンマスク板3および5を配設し、その後、スパ
ッタリング処理を施すことにより、ワーク1の表面およ
び裏面に付着する電極となる薄膜のばらつきを小さく
し、且つ、薄膜の付着強度も大きくすることが可能とな
った。さらに、製品の電気的特性の安定化および電極と
なる膜のくわれ性、所謂、半田くわれの削減を計るため
に、基板に付着させる膜の膜厚量を多くして、電極とな
るその膜の電気的抵抗値を下げることが提案されてい
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スパッ
タリング処理の際、基板表面に付着させる膜の厚みを大
きくするために、成膜量を一度に多くした場合、メタル
パターンマスク板3および5自体にも付着する電極材料
により、メタルパターンマスク板3および5自体が高温
に加熱されることになる。そのため、メタルパターンマ
スク板3および5自体が熱変形により歪んで、メタルパ
ターンマスク板3および5の膜付け孔3aおよび3bが
変形してしまう。これでは、所望する成膜パターン形状
が得られず、基板に形成する電極の形状も安定したもの
にならない。
タリング処理の際、基板表面に付着させる膜の厚みを大
きくするために、成膜量を一度に多くした場合、メタル
パターンマスク板3および5自体にも付着する電極材料
により、メタルパターンマスク板3および5自体が高温
に加熱されることになる。そのため、メタルパターンマ
スク板3および5自体が熱変形により歪んで、メタルパ
ターンマスク板3および5の膜付け孔3aおよび3bが
変形してしまう。これでは、所望する成膜パターン形状
が得られず、基板に形成する電極の形状も安定したもの
にならない。
【0004】そこで、上記問題点の対応策として、現状
では、以下に示す方法がとられている。すなわち、1つ
には、メタルパターンマスク板3および5自体の厚みを
厚くすることにより、それらの熱容量を大きくする方法
である。ところが、この方法では、メタルパターンマス
ク板3および5自体のパターン精度が低下する恐れがあ
り、また、メタルパターンマスク板3および5は、それ
らの平面度の維持管理が困難であるため、一度、それら
が変形してしまうと、元にもどらないなどの問題点を抱
えることになる。
では、以下に示す方法がとられている。すなわち、1つ
には、メタルパターンマスク板3および5自体の厚みを
厚くすることにより、それらの熱容量を大きくする方法
である。ところが、この方法では、メタルパターンマス
ク板3および5自体のパターン精度が低下する恐れがあ
り、また、メタルパターンマスク板3および5は、それ
らの平面度の維持管理が困難であるため、一度、それら
が変形してしまうと、元にもどらないなどの問題点を抱
えることになる。
【0005】また、別の対応策としては、膜付け作業を
2回以上行う方法、あるいは、電極となる膜の下地を先
ずスパッタリングにより形成し、2回目以降、蒸着によ
り成膜する方法などがある。しかし、これらの方法で
は、作業工程が増え、生産性の悪いものとなっていた。
2回以上行う方法、あるいは、電極となる膜の下地を先
ずスパッタリングにより形成し、2回目以降、蒸着によ
り成膜する方法などがある。しかし、これらの方法で
は、作業工程が増え、生産性の悪いものとなっていた。
【0006】それゆえに、この発明の主たる目的は、生
産性を低下させることなく、基板に形成される電極とな
る金属膜の厚みを制御することにより、電気的特性を安
定させた、信頼性に富んだ電子部品の電極形成方法およ
びその方法に用いられるジグを提供することである。
産性を低下させることなく、基板に形成される電極とな
る金属膜の厚みを制御することにより、電気的特性を安
定させた、信頼性に富んだ電子部品の電極形成方法およ
びその方法に用いられるジグを提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は、スパッタリ
ング処理により電子部品の基板に電極となる膜を形成す
るための電子部品の電極形成方法であって、基板となる
ワークを準備する工程と、ワークの一方主面および他方
主面側に、それぞれ、膜形成孔を有する第1の成膜パタ
ーンマスク板および第2の成膜パターンマスク板を配置
する工程と、第1の成膜パターンマスク板の裏面側に、
膜形成孔に対応する孔を有する第1の補助マスク板を配
置する工程と、第2の成膜パターンマスク板の表面側
に、膜形成孔に対応する孔を有する第2の補助マスク板
を配置する工程と、第1の成膜パターンマスク板および
第2の成膜パターンマスク板の間にワークを挟持した状
態で、ワークを所定の位置に位置決めする工程と、位置
決めされたワークにスパッタリング処理を施す工程とを
含む、電子部品の電極形成方法である。
ング処理により電子部品の基板に電極となる膜を形成す
るための電子部品の電極形成方法であって、基板となる
ワークを準備する工程と、ワークの一方主面および他方
主面側に、それぞれ、膜形成孔を有する第1の成膜パタ
ーンマスク板および第2の成膜パターンマスク板を配置
する工程と、第1の成膜パターンマスク板の裏面側に、
膜形成孔に対応する孔を有する第1の補助マスク板を配
置する工程と、第2の成膜パターンマスク板の表面側
に、膜形成孔に対応する孔を有する第2の補助マスク板
を配置する工程と、第1の成膜パターンマスク板および
第2の成膜パターンマスク板の間にワークを挟持した状
態で、ワークを所定の位置に位置決めする工程と、位置
決めされたワークにスパッタリング処理を施す工程とを
含む、電子部品の電極形成方法である。
【0008】また、この発明は、スパッタリング処理に
より電子部品の基板に電極となる膜を形成するために、
電子部品の基板となるワークを所定の位置に位置決めす
るためのジグであって、ジグは、位置決め部材を有する
位置決めベース板と、位置決めベース板の位置決め部材
が挿入される位置決め用孔および膜を形成するための膜
形成孔を有し、ワークの一方主面側およびの他方主面側
にそれぞれ配置される第1の成膜パターンマスク板およ
び第2の成膜パターンマスク板と、第1の成膜パターン
マスク板の裏面に配置され、膜形成孔を露出させる孔を
有する第1の補助マスク板および第2の成膜パターンマ
スク板の表面に配置され、膜形成孔を露出させる孔を有
する第2の補助マスク板とを含み、位置決めベース板の
位置決め部材を、第1の成膜パターンマスク板および第
2の成膜パターンマスク板の位置決め用孔と、第1の補
助マスク板および第2の補助マスク板の孔とに挿通する
と共に、位置決めベース板と協働して、第1の成膜パタ
ーンマスク板および第2の成膜パターンマスク板の間に
ワークを挟持し、ワークを所定の位置に位置決めする、
ジグである。
より電子部品の基板に電極となる膜を形成するために、
電子部品の基板となるワークを所定の位置に位置決めす
るためのジグであって、ジグは、位置決め部材を有する
位置決めベース板と、位置決めベース板の位置決め部材
が挿入される位置決め用孔および膜を形成するための膜
形成孔を有し、ワークの一方主面側およびの他方主面側
にそれぞれ配置される第1の成膜パターンマスク板およ
び第2の成膜パターンマスク板と、第1の成膜パターン
マスク板の裏面に配置され、膜形成孔を露出させる孔を
有する第1の補助マスク板および第2の成膜パターンマ
スク板の表面に配置され、膜形成孔を露出させる孔を有
する第2の補助マスク板とを含み、位置決めベース板の
位置決め部材を、第1の成膜パターンマスク板および第
2の成膜パターンマスク板の位置決め用孔と、第1の補
助マスク板および第2の補助マスク板の孔とに挿通する
と共に、位置決めベース板と協働して、第1の成膜パタ
ーンマスク板および第2の成膜パターンマスク板の間に
ワークを挟持し、ワークを所定の位置に位置決めする、
ジグである。
【0009】そして、基板となるワークは矩形板状に形
成することもでき、その場合、この電子部品の電極形成
方法に用いられるジグの第1の成膜パターンマスク板お
よび/または第2の成膜パターンマスク板には、ワーク
の長手方向および/または幅方向の配置を規制するガイ
ド部材を形成するとよい。
成することもでき、その場合、この電子部品の電極形成
方法に用いられるジグの第1の成膜パターンマスク板お
よび/または第2の成膜パターンマスク板には、ワーク
の長手方向および/または幅方向の配置を規制するガイ
ド部材を形成するとよい。
【0010】
【作用】第1の成膜パターンマスク板および第2の成膜
パターンマスク板は、それらの間にワークを挟持した状
態で、位置決めベース板と協働して、第1の補助マスク
板および第2の補助マスク板と共に、所定の位置に位置
決めされる。
パターンマスク板は、それらの間にワークを挟持した状
態で、位置決めベース板と協働して、第1の補助マスク
板および第2の補助マスク板と共に、所定の位置に位置
決めされる。
【0011】さらに、その状態で、ワークにスパッタリ
ング処理が施されることにより、基板となるワークの一
方主面および他方主面には、第1,第2の補助マスク板
の孔および第1,第2の成膜パターンマスク板の膜形成
孔を通して露出した部分に電極材料が衝突して付着し、
電極となる膜が形成される。また、ワークの一方主面お
よび他方主面における電極不要部分は、第1,第2の補
助マスク板の孔が設けられていない部分および第1,第
2の成膜パターンマスク板の膜形成孔が設けられていな
い部分により遮蔽されるため、電極材料が付着せず、電
極となる膜が形成されない。
ング処理が施されることにより、基板となるワークの一
方主面および他方主面には、第1,第2の補助マスク板
の孔および第1,第2の成膜パターンマスク板の膜形成
孔を通して露出した部分に電極材料が衝突して付着し、
電極となる膜が形成される。また、ワークの一方主面お
よび他方主面における電極不要部分は、第1,第2の補
助マスク板の孔が設けられていない部分および第1,第
2の成膜パターンマスク板の膜形成孔が設けられていな
い部分により遮蔽されるため、電極材料が付着せず、電
極となる膜が形成されない。
【0012】第1の補助マスク板および第2の補助マス
ク板が用いられているために、スパッタリング時におい
て、第1の成膜パターンマスク板および第2の成膜パタ
ーンマスク板に、直接、熱が加わることがない。つま
り、第1,第2の補助マスク板の孔および第1,第2の
成膜パターンマスク板の膜形成孔を通過しない電極材料
のほとんどは、第1および第2の補助マスク板の孔が設
けられていない部分に衝突するので、第1および第2の
成膜パターンマスク板には、膜がほとんど付着しない。
そのため、第1および第2の成膜パターンマスク板に
は、電極材料の衝突エネルギー(凝縮熱)による温度上
昇がない。また、ワークの露出部分に電極材料が衝突し
て発生する凝縮熱は、第1および第2の成膜パターンマ
スク板に放熱されるため、基板となるワークの温度上昇
が抑制される。
ク板が用いられているために、スパッタリング時におい
て、第1の成膜パターンマスク板および第2の成膜パタ
ーンマスク板に、直接、熱が加わることがない。つま
り、第1,第2の補助マスク板の孔および第1,第2の
成膜パターンマスク板の膜形成孔を通過しない電極材料
のほとんどは、第1および第2の補助マスク板の孔が設
けられていない部分に衝突するので、第1および第2の
成膜パターンマスク板には、膜がほとんど付着しない。
そのため、第1および第2の成膜パターンマスク板に
は、電極材料の衝突エネルギー(凝縮熱)による温度上
昇がない。また、ワークの露出部分に電極材料が衝突し
て発生する凝縮熱は、第1および第2の成膜パターンマ
スク板に放熱されるため、基板となるワークの温度上昇
が抑制される。
【0013】基板となるワークを矩形に形成したとき、
第1の成膜パターンマスク板および/または第2の成膜
パターンマスク板に、ワークの長手方向および/または
幅方向の配置を規制するガイド部材を形成することによ
り、ワークの位置決めがより正確で確実になされる。
第1の成膜パターンマスク板および/または第2の成膜
パターンマスク板に、ワークの長手方向および/または
幅方向の配置を規制するガイド部材を形成することによ
り、ワークの位置決めがより正確で確実になされる。
【0014】
【発明の効果】この発明によれば、スパッタリング処理
時において、第1および第2の成膜パターンマスク板自
体の温度上昇が防止されるので、熱変形による第1およ
び第2の成膜パターンマスク板の歪みを防止することが
でき、膜形成孔も変形する恐れがない。そのため、基板
となるワークに付着する膜の厚みを厚くするなどの膜厚
量を調整することができ、しかも、電極の形状も安定し
たものが得られる。したがって、基板に付着させる膜の
膜厚量を厚くすることにより、電極となる膜の電気的抵
抗値を下げることができ、製品の電気的特性の安定化お
よび膜のくわれ性、所謂、半田くわれの削減も計ること
ができる。また、第1および第2の成膜パターンマスク
板には、直接、熱が加わらないので、熱による影響も最
小限に抑えられるため、第1および第2の成膜パターン
マスク板自体の寿命も長くなる。
時において、第1および第2の成膜パターンマスク板自
体の温度上昇が防止されるので、熱変形による第1およ
び第2の成膜パターンマスク板の歪みを防止することが
でき、膜形成孔も変形する恐れがない。そのため、基板
となるワークに付着する膜の厚みを厚くするなどの膜厚
量を調整することができ、しかも、電極の形状も安定し
たものが得られる。したがって、基板に付着させる膜の
膜厚量を厚くすることにより、電極となる膜の電気的抵
抗値を下げることができ、製品の電気的特性の安定化お
よび膜のくわれ性、所謂、半田くわれの削減も計ること
ができる。また、第1および第2の成膜パターンマスク
板には、直接、熱が加わらないので、熱による影響も最
小限に抑えられるため、第1および第2の成膜パターン
マスク板自体の寿命も長くなる。
【0015】さらに、この発明によれば、基板に付着さ
せる膜の厚みを厚くする場合、複数回の成膜作業工程が
必要な従来の方法と比べて、1回の工程で膜の厚みを厚
くすることができ、また、成膜量を制御することによ
り、たとえばソルダーレジストインキなどによるフォー
ミング調整などの作業工程を削減することができる。そ
のため、生産性を向上させることができる。また、この
発明によれば、第1および第2の成膜パターンマスク板
に直接電極材料が付着しないため、不要な膜を洗浄する
のためのエッチングサイクルを延ばすことが可能とな
る。したがって、この発明によれば、生産性を低下させ
ることなく、基板に形成される電極となる金属膜の厚み
を制御することにより、電気的特性を安定させた、信頼
性に富んだ電子部品の電極形成方法が得られる。
せる膜の厚みを厚くする場合、複数回の成膜作業工程が
必要な従来の方法と比べて、1回の工程で膜の厚みを厚
くすることができ、また、成膜量を制御することによ
り、たとえばソルダーレジストインキなどによるフォー
ミング調整などの作業工程を削減することができる。そ
のため、生産性を向上させることができる。また、この
発明によれば、第1および第2の成膜パターンマスク板
に直接電極材料が付着しないため、不要な膜を洗浄する
のためのエッチングサイクルを延ばすことが可能とな
る。したがって、この発明によれば、生産性を低下させ
ることなく、基板に形成される電極となる金属膜の厚み
を制御することにより、電気的特性を安定させた、信頼
性に富んだ電子部品の電極形成方法が得られる。
【0016】この発明の上述の目的,その他の目的,特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
【0017】
【実施例】この実施例では、電子部品の一例としてのた
とえば圧電発振素子の電極形成方法およびその方法に用
いられるジグについて説明する。図1(A)はこの発明
の方法により形成された圧電発振素子の一例を示す斜視
図であり、図1(B)はその断面図である。
とえば圧電発振素子の電極形成方法およびその方法に用
いられるジグについて説明する。図1(A)はこの発明
の方法により形成された圧電発振素子の一例を示す斜視
図であり、図1(B)はその断面図である。
【0018】圧電発振素子10は、たとえば矩形の圧電
体基板12を含む。圧電体基板12は、たとえば圧電セ
ラミックスで形成される。圧電体基板12の表面および
裏面には、それぞれ、電極14および16が形成され
る。電極14は、圧電体基板12の幅方向の一端から中
央部にかけて形成され、電極16は、圧電体基板12の
幅方向の他端から中央部にかけて形成される。
体基板12を含む。圧電体基板12は、たとえば圧電セ
ラミックスで形成される。圧電体基板12の表面および
裏面には、それぞれ、電極14および16が形成され
る。電極14は、圧電体基板12の幅方向の一端から中
央部にかけて形成され、電極16は、圧電体基板12の
幅方向の他端から中央部にかけて形成される。
【0019】次に、図2,図3,図4,図5,図6,図
7,図8,図9,図10および図11などを参照して、
この圧電発振素子10の圧電体基板12に形成される電
極の形成方法に用いられるジグの一例について説明す
る。ジグ20は、位置決めベース板22,第1の成膜パ
ターンマスク板24,第2の成膜パターンマスク板2
6,第1の補助マスク板98および第2の補助マスク板
100などで構成される。
7,図8,図9,図10および図11などを参照して、
この圧電発振素子10の圧電体基板12に形成される電
極の形成方法に用いられるジグの一例について説明す
る。ジグ20は、位置決めベース板22,第1の成膜パ
ターンマスク板24,第2の成膜パターンマスク板2
6,第1の補助マスク板98および第2の補助マスク板
100などで構成される。
【0020】まず、位置決めベース板22について、主
として、図2を参照しながら説明する。位置決めベース
板22は、たとえば金属からなる矩形板状の位置決めベ
ース本体28を含む。位置決めベース本体28の幅方向
の一端および他端には、略矩形の固定脚30aおよび3
0bが形成される。固定脚30aおよび30bは、たと
えば複数のビス32で、位置決めベース本体28に固着
される。位置決めベース本体28には、その長手方向に
間隔を隔てて、複数の長孔34が設けられる。これらの
長孔34は、それぞれ、たとえば平面形状が矩形に形成
され、位置決めベース本体28の幅方向に延びて形成さ
れる。
として、図2を参照しながら説明する。位置決めベース
板22は、たとえば金属からなる矩形板状の位置決めベ
ース本体28を含む。位置決めベース本体28の幅方向
の一端および他端には、略矩形の固定脚30aおよび3
0bが形成される。固定脚30aおよび30bは、たと
えば複数のビス32で、位置決めベース本体28に固着
される。位置決めベース本体28には、その長手方向に
間隔を隔てて、複数の長孔34が設けられる。これらの
長孔34は、それぞれ、たとえば平面形状が矩形に形成
され、位置決めベース本体28の幅方向に延びて形成さ
れる。
【0021】さらに、位置決めベース本体28には、間
隔を隔てて、複数の位置決め部材36が形成される。こ
れらの位置決め部材36は、それぞれ、同じ構造を有す
るので、1つの位置決め部材36について、以下、説明
する。位置決め部材36は、その軸方向の両端に孔38
aおよび38bを有するたとえば円柱形のピン40を含
み、ピン40の軸方向の中間部には、その円周方向に圧
縮ばね42が巻き設けられている。1つの位置決め部材
36には、止め詮として、2つのスプリングピンが具備
されている。この位置決め部材36は、位置決めベース
本体28に挿通された後、孔38aおよび38bに、ス
プリングピン42が挿通される。この実施例では、位置
決めベース本体28の幅方向に所定の間隔Lを隔てた3
つの位置決め部材36が、それぞれ、位置決めベース本
体28の長手方向に所定の間隔Wを隔てて、5列配設さ
れる。つまり、位置決めベース本体28には、縦横に所
定の間隔を隔てて、15個の位置決め部材36が配設さ
れる。
隔を隔てて、複数の位置決め部材36が形成される。こ
れらの位置決め部材36は、それぞれ、同じ構造を有す
るので、1つの位置決め部材36について、以下、説明
する。位置決め部材36は、その軸方向の両端に孔38
aおよび38bを有するたとえば円柱形のピン40を含
み、ピン40の軸方向の中間部には、その円周方向に圧
縮ばね42が巻き設けられている。1つの位置決め部材
36には、止め詮として、2つのスプリングピンが具備
されている。この位置決め部材36は、位置決めベース
本体28に挿通された後、孔38aおよび38bに、ス
プリングピン42が挿通される。この実施例では、位置
決めベース本体28の幅方向に所定の間隔Lを隔てた3
つの位置決め部材36が、それぞれ、位置決めベース本
体28の長手方向に所定の間隔Wを隔てて、5列配設さ
れる。つまり、位置決めベース本体28には、縦横に所
定の間隔を隔てて、15個の位置決め部材36が配設さ
れる。
【0022】また、この位置決めベース本体28には、
たとえば4つの位置決め補助ボルト44が間隔を隔てて
挿通される。4つの位置決め補助ボルト44は、2つ1
組として、2組が相対向して配設される。4つの位置決
め補助ボルト44は、上記位置決め部材36と協働して
作用するものであって、後述する第1の成膜パターンマ
スク板24および第2の成膜パターンマスク板26等の
位置決めを行うためのものである。
たとえば4つの位置決め補助ボルト44が間隔を隔てて
挿通される。4つの位置決め補助ボルト44は、2つ1
組として、2組が相対向して配設される。4つの位置決
め補助ボルト44は、上記位置決め部材36と協働して
作用するものであって、後述する第1の成膜パターンマ
スク板24および第2の成膜パターンマスク板26等の
位置決めを行うためのものである。
【0023】次に、位置決めベース板22の上に取り付
けられる第1の成膜パターンマスク板24について、主
として、図3を参照しながら説明する。1枚の位置決め
ベース板22の上には、その長手方向に2枚の第1の成
膜パターンマスク板24が横並びに取り付けられる。第
1の成膜パターンマスク板24は、たとえば金属からな
る矩形板状の第1のマスク板本体46を含む。この実施
例では、第1の成膜パターンマスク板24は、磁性を有
する、たとえばSUS430などのクロム系ステンレス
鋼などで形成される。この第1のマスク板本体46は、
その幅方向の長さが上記位置決めベース22の長手方向
の長さの略半分の長さに形成される。第1のマスク板本
体46には、その幅方向の中央で且つその長手方向に間
隔を隔てて、4つのたとえば矩形の長孔48が設けられ
る。また、これらの長孔48の幅方向の両側には、第1
のマスク板本体46の長手方向にわずかな間隔を隔てて
並べ設けられた矩形の4つの長孔50が、第1のマスク
板本体46の幅方向に間隔を隔てて、それぞれ、3列設
けられる。これらの長孔48および50は、膜形成孔と
して設けられる。
けられる第1の成膜パターンマスク板24について、主
として、図3を参照しながら説明する。1枚の位置決め
ベース板22の上には、その長手方向に2枚の第1の成
膜パターンマスク板24が横並びに取り付けられる。第
1の成膜パターンマスク板24は、たとえば金属からな
る矩形板状の第1のマスク板本体46を含む。この実施
例では、第1の成膜パターンマスク板24は、磁性を有
する、たとえばSUS430などのクロム系ステンレス
鋼などで形成される。この第1のマスク板本体46は、
その幅方向の長さが上記位置決めベース22の長手方向
の長さの略半分の長さに形成される。第1のマスク板本
体46には、その幅方向の中央で且つその長手方向に間
隔を隔てて、4つのたとえば矩形の長孔48が設けられ
る。また、これらの長孔48の幅方向の両側には、第1
のマスク板本体46の長手方向にわずかな間隔を隔てて
並べ設けられた矩形の4つの長孔50が、第1のマスク
板本体46の幅方向に間隔を隔てて、それぞれ、3列設
けられる。これらの長孔48および50は、膜形成孔と
して設けられる。
【0024】第1のマスク板本体46には、その幅方向
の中央で且つその長手方向の一端から他端側に延びて、
たとえば略矩形板状のガイド部材52が形成される。こ
のガイド部材52は、4つの長孔48上を跨がるように
して、第1のマスク板本体46に形成される。また、こ
の第1のマスク板本体46には、ガイド部材52の幅方
向の両側に、それぞれ、ガイド部材52と平行で且つ第
1のマスク板本体46の幅方向に間隔を隔てて、3つの
別のガイド部材54が形成される。これらのガイド部材
54は、それぞれ、略矩形板状に形成され、第1のマス
ク板本体46の長手方向の一端から他端側に延びて形成
される。これらのガイド部材54は、それぞれ、第1の
マスク板本体46の長手方向に並んだ4つの長孔50上
を跨がるようにして、第1のマスク板本体46に形成さ
れる。なお、これらのガイド部材54の幅は、それぞ
れ、ガイド部材52の幅の半分程に形成されている。
の中央で且つその長手方向の一端から他端側に延びて、
たとえば略矩形板状のガイド部材52が形成される。こ
のガイド部材52は、4つの長孔48上を跨がるように
して、第1のマスク板本体46に形成される。また、こ
の第1のマスク板本体46には、ガイド部材52の幅方
向の両側に、それぞれ、ガイド部材52と平行で且つ第
1のマスク板本体46の幅方向に間隔を隔てて、3つの
別のガイド部材54が形成される。これらのガイド部材
54は、それぞれ、略矩形板状に形成され、第1のマス
ク板本体46の長手方向の一端から他端側に延びて形成
される。これらのガイド部材54は、それぞれ、第1の
マスク板本体46の長手方向に並んだ4つの長孔50上
を跨がるようにして、第1のマスク板本体46に形成さ
れる。なお、これらのガイド部材54の幅は、それぞ
れ、ガイド部材52の幅の半分程に形成されている。
【0025】さらに、第1の成膜パターンマスク板24
には、前述した位置決めベース板22の位置決め部材3
6と対応する位置に、位置決め用孔56が設けられる。
この場合、1枚の第1の成膜パターンマスク板26に
は、そのガイド部材52の長手方向に所定の間隔を隔て
て、たとえば矩形の3つの位置決め用孔56が設けられ
る。3つの位置決め用孔56は、ガイド部材52および
第1のマスク板本体46を貫通して設けられる。これら
の位置決め用孔56は、位置決めベース板22と第1の
成膜パターンマスク板24とを重ね合わせたときに、位
置決めベース板22の位置決め部材36が挿通できるよ
うに、位置決め部材36と対応する位置に形成される。
には、前述した位置決めベース板22の位置決め部材3
6と対応する位置に、位置決め用孔56が設けられる。
この場合、1枚の第1の成膜パターンマスク板26に
は、そのガイド部材52の長手方向に所定の間隔を隔て
て、たとえば矩形の3つの位置決め用孔56が設けられ
る。3つの位置決め用孔56は、ガイド部材52および
第1のマスク板本体46を貫通して設けられる。これら
の位置決め用孔56は、位置決めベース板22と第1の
成膜パターンマスク板24とを重ね合わせたときに、位
置決めベース板22の位置決め部材36が挿通できるよ
うに、位置決め部材36と対応する位置に形成される。
【0026】また、第1の成膜パターンマスク板24に
は、前述した位置決めベース板22の位置決め補助ボル
ト44と対応する位置に、位置決め用補助孔58が設け
られる。この場合、1枚の第1の成膜パターンマスク板
24には、そのガイド部材52の3つの位置決め用孔5
6の間に、2つの位置決め補助孔58が設けられる。2
つの位置決め用補助孔58は、ガイド部材52および第
1のマスク板本体46を貫通して設けられる。この場
合、一方の位置決め用補助孔58は、たとえば円形に形
成され、他方の位置決め用補助孔58は、略楕円形の長
孔に形成されている。そのため、位置決め用補助孔58
に位置決め補助ボルト44を挿通する際に、長孔部分で
位置決め補助ボルト44の挿通位置を長孔方向に調整す
ることが可能となる。
は、前述した位置決めベース板22の位置決め補助ボル
ト44と対応する位置に、位置決め用補助孔58が設け
られる。この場合、1枚の第1の成膜パターンマスク板
24には、そのガイド部材52の3つの位置決め用孔5
6の間に、2つの位置決め補助孔58が設けられる。2
つの位置決め用補助孔58は、ガイド部材52および第
1のマスク板本体46を貫通して設けられる。この場
合、一方の位置決め用補助孔58は、たとえば円形に形
成され、他方の位置決め用補助孔58は、略楕円形の長
孔に形成されている。そのため、位置決め用補助孔58
に位置決め補助ボルト44を挿通する際に、長孔部分で
位置決め補助ボルト44の挿通位置を長孔方向に調整す
ることが可能となる。
【0027】一方、第1のマスク板本体46の幅方向の
一端および他端には、膜形成孔として、それぞれ、その
長手方向に間隔を隔てて、4つの切欠き部60が設けら
れる。また、第1のマスク板本体46の幅方向の一端お
よび他端には、それぞれ、略矩形板状の隣接部用ガイド
部材62が形成される。隣接部用ガイド部材62は、4
つの切欠き部60の上を跨がるようにして、第1のマス
ク板本体46の長手方向の一端から他端側にかけて形成
される。なお、ガイド部材52,54および隣接部用ガ
イド部材62の長手方向の一端側は、たとえば矩形板状
の保持部材63と一体的に形成されており、全体として
見た時、平面略櫛歯形に形成される。
一端および他端には、膜形成孔として、それぞれ、その
長手方向に間隔を隔てて、4つの切欠き部60が設けら
れる。また、第1のマスク板本体46の幅方向の一端お
よび他端には、それぞれ、略矩形板状の隣接部用ガイド
部材62が形成される。隣接部用ガイド部材62は、4
つの切欠き部60の上を跨がるようにして、第1のマス
ク板本体46の長手方向の一端から他端側にかけて形成
される。なお、ガイド部材52,54および隣接部用ガ
イド部材62の長手方向の一端側は、たとえば矩形板状
の保持部材63と一体的に形成されており、全体として
見た時、平面略櫛歯形に形成される。
【0028】さらに、隣接部用ガイド部材62には、そ
の長手方向に間隔を隔てて、たとえば5つの位置決め孔
用切欠き64が設けられる。したがって、第1の成膜パ
ターンマスク板24を横並びに2枚配列した場合、その
隣接端部には、互いに隣接する5つの位置決め孔用切欠
き64により、長手方向に間隔を隔てて、5つの矩形の
位置決め用窓孔が構成されることになる。これらの位置
決め孔用窓孔は、前述した位置決め部材36および位置
決め補助ボルト44を挿通するためのものである。
の長手方向に間隔を隔てて、たとえば5つの位置決め孔
用切欠き64が設けられる。したがって、第1の成膜パ
ターンマスク板24を横並びに2枚配列した場合、その
隣接端部には、互いに隣接する5つの位置決め孔用切欠
き64により、長手方向に間隔を隔てて、5つの矩形の
位置決め用窓孔が構成されることになる。これらの位置
決め孔用窓孔は、前述した位置決め部材36および位置
決め補助ボルト44を挿通するためのものである。
【0029】次に、第1の成膜パターンマスク板24の
上方に配置され、位置決めベース板22と協働して、第
1の成膜パターンマスク板24との間に基板12となる
ワーク80を挟持する第2の成膜パターンマスク板26
について、以下、説明する。
上方に配置され、位置決めベース板22と協働して、第
1の成膜パターンマスク板24との間に基板12となる
ワーク80を挟持する第2の成膜パターンマスク板26
について、以下、説明する。
【0030】第2の成膜パターンマスク板26は、たと
えば金属からなる略矩形板状の第2のマスク板本体66
を含む。この第2のマスク板本体66には、膜形成孔と
して、その長手方向にわずかな間隔を隔てて並べ設けら
れた矩形の4つの長孔68が、第2のマスク板本体66
の幅方向に間隔を隔てて、たとえば8列設けられる。ま
た、第2のマスク板本体66の幅方向の中央には、その
長手方向に所定の間隔Lを隔てて、3つの矩形の位置決
め用孔70が設けられる。さらに、3つの位置決め用孔
70の間には、2つの位置決め用補助孔72が設けられ
る。一方の位置決め用補助孔72が円に形成され、他方
の位置決め用補助孔72が略楕円形の長孔に形成されて
いる。そのため、位置決め用補助孔72に位置決め補助
ボルト44を挿通する際に、長孔部分で位置決め補助ボ
ルト44の挿通位置を長孔方向に調整することが可能と
なる。
えば金属からなる略矩形板状の第2のマスク板本体66
を含む。この第2のマスク板本体66には、膜形成孔と
して、その長手方向にわずかな間隔を隔てて並べ設けら
れた矩形の4つの長孔68が、第2のマスク板本体66
の幅方向に間隔を隔てて、たとえば8列設けられる。ま
た、第2のマスク板本体66の幅方向の中央には、その
長手方向に所定の間隔Lを隔てて、3つの矩形の位置決
め用孔70が設けられる。さらに、3つの位置決め用孔
70の間には、2つの位置決め用補助孔72が設けられ
る。一方の位置決め用補助孔72が円に形成され、他方
の位置決め用補助孔72が略楕円形の長孔に形成されて
いる。そのため、位置決め用補助孔72に位置決め補助
ボルト44を挿通する際に、長孔部分で位置決め補助ボ
ルト44の挿通位置を長孔方向に調整することが可能と
なる。
【0031】さらに、第2のマスク板本体66の裏面に
は、その長手方向の一端側に、たとえば櫛歯形板状のガ
イド部材74が形成される。すなわち、ガイド部材74
には、その長手方向に間隔を隔てて、たとえば8つの櫛
歯ガイド片76が形成されている。この場合、ガイド部
材74は、第2の成膜パターンマスク板26と第1の成
膜パターンマスク板24とを重ね合わせた際に、そのガ
イド片76が第1の成膜パターンマスク板24のガイド
部材54の長手方向の他端側間に嵌合されるように、第
2のマスク板本体66の裏面に配設される。
は、その長手方向の一端側に、たとえば櫛歯形板状のガ
イド部材74が形成される。すなわち、ガイド部材74
には、その長手方向に間隔を隔てて、たとえば8つの櫛
歯ガイド片76が形成されている。この場合、ガイド部
材74は、第2の成膜パターンマスク板26と第1の成
膜パターンマスク板24とを重ね合わせた際に、そのガ
イド片76が第1の成膜パターンマスク板24のガイド
部材54の長手方向の他端側間に嵌合されるように、第
2のマスク板本体66の裏面に配設される。
【0032】一方、第2のマスク板本体66の幅方向の
一端および他端には、それぞれ、その長手方向に間隔を
隔てて、5つの位置決め孔用切欠き78が設けられる。
したがって、第2の成膜パターンマスク板26を横並び
に2枚配列した場合、その隣接端部には、互いに隣接す
る5つの位置決め孔用切欠き78により、長手方向に間
隔を隔てて、5つの矩形の位置決め用窓孔が構成される
ことになる。これらの位置決め孔用窓孔は、前述した位
置決め部材36および位置決め補助ボルト44を挿通す
るためのものである。
一端および他端には、それぞれ、その長手方向に間隔を
隔てて、5つの位置決め孔用切欠き78が設けられる。
したがって、第2の成膜パターンマスク板26を横並び
に2枚配列した場合、その隣接端部には、互いに隣接す
る5つの位置決め孔用切欠き78により、長手方向に間
隔を隔てて、5つの矩形の位置決め用窓孔が構成される
ことになる。これらの位置決め孔用窓孔は、前述した位
置決め部材36および位置決め補助ボルト44を挿通す
るためのものである。
【0033】次に、第1の成膜パターンマスク板24の
下側に配置される第1の補助マスク板98および第2の
成膜パターンマスク板26の上側に配置される第2の補
助マスク板100について、以下、図3,図5,図6,
図7,図8および図9などを参照しながら説明する。第
1の補助マスクマスク98は、図3に示す第1の成膜パ
ターンマスク板24と同じ構造に形成される。すなわ
ち、第1の補助マスク板98は、第1の成膜パターンマ
スク板24に設けられた膜形成孔としての長孔48,5
0,切欠き部60および位置決め用孔56,位置決め用
補助孔58に対応する孔が設けられている。
下側に配置される第1の補助マスク板98および第2の
成膜パターンマスク板26の上側に配置される第2の補
助マスク板100について、以下、図3,図5,図6,
図7,図8および図9などを参照しながら説明する。第
1の補助マスクマスク98は、図3に示す第1の成膜パ
ターンマスク板24と同じ構造に形成される。すなわ
ち、第1の補助マスク板98は、第1の成膜パターンマ
スク板24に設けられた膜形成孔としての長孔48,5
0,切欠き部60および位置決め用孔56,位置決め用
補助孔58に対応する孔が設けられている。
【0034】次に、第2の補助マスク100について説
明する。第2の補助マスク板100は、図9に示すよう
に、マグネット位置決めプレート102,マグネット保
持プレート104,天板106および複数のマグネット
108などで構成される。マグネット位置決めプレート
102は、非磁性を有する、たとえばSUS304など
のクロムニッケル系ステンレス鋼などで略矩形板状に形
成される。このマグネット位置決めプレート102に
は、図5に示すように、たとえばその4隅に、それぞ
れ、位置決めピン110が設けられる。この位置決めピ
ン110は、それをマグネット位置決めプレート102
に圧入後、たとえばスポット溶接などで固着される。な
お、位置決めピン110はピン孔109を有し、そのピ
ン孔109には、止め詮として、たとえばスナップピン
などが挿通されるものである。
明する。第2の補助マスク板100は、図9に示すよう
に、マグネット位置決めプレート102,マグネット保
持プレート104,天板106および複数のマグネット
108などで構成される。マグネット位置決めプレート
102は、非磁性を有する、たとえばSUS304など
のクロムニッケル系ステンレス鋼などで略矩形板状に形
成される。このマグネット位置決めプレート102に
は、図5に示すように、たとえばその4隅に、それぞ
れ、位置決めピン110が設けられる。この位置決めピ
ン110は、それをマグネット位置決めプレート102
に圧入後、たとえばスポット溶接などで固着される。な
お、位置決めピン110はピン孔109を有し、そのピ
ン孔109には、止め詮として、たとえばスナップピン
などが挿通されるものである。
【0035】また、マグネット位置決めプレート102
には、第2の成膜パターンマスク板26の複数の膜形成
孔を露出させる複数の長孔112が貫通して設けられ
る。この場合、長孔112は、マグネット位置決めプレ
ート102の幅方向に間隔を隔てて、8列設けられ、各
列には、そのマグネット位置決めプレート102の長手
方向に2つずつ並び設けられる。さらに、このマグネッ
ト位置決めプレート102には、長孔112の幅方向の
両側に、マグネット位置決めプレート102の長手方向
に所定の間隔を隔てて、複数のたとえば矩形のマグネッ
ト位置決め用孔114が貫通して設けられる。
には、第2の成膜パターンマスク板26の複数の膜形成
孔を露出させる複数の長孔112が貫通して設けられ
る。この場合、長孔112は、マグネット位置決めプレ
ート102の幅方向に間隔を隔てて、8列設けられ、各
列には、そのマグネット位置決めプレート102の長手
方向に2つずつ並び設けられる。さらに、このマグネッ
ト位置決めプレート102には、長孔112の幅方向の
両側に、マグネット位置決めプレート102の長手方向
に所定の間隔を隔てて、複数のたとえば矩形のマグネッ
ト位置決め用孔114が貫通して設けられる。
【0036】一方、マグネット保持プレート104は、
たとえば図6に示すうに、略矩形板状に形成され、その
4隅には、マグネット位置決めプレート102の位置決
めピン110を挿通するための挿通孔116がそれぞれ
設けられる。また、このマグネット保持プレート104
には、マグネット位置決めプレート102の長孔112
と相対応する位置に、同様の役割を有する長孔118が
設けられている。なお、天板106は、マグネット保持
プレート104と同形同大に形成される。この場合、マ
グネット保持プレート104は、磁性を有する、たとえ
ばSUS430などのクロム系ステンレス鋼などで形成
される。また、天板106は、非磁性を有する、たとえ
ばSUS304などのクロムニッケル系ステンレス鋼な
どで形成される。
たとえば図6に示すうに、略矩形板状に形成され、その
4隅には、マグネット位置決めプレート102の位置決
めピン110を挿通するための挿通孔116がそれぞれ
設けられる。また、このマグネット保持プレート104
には、マグネット位置決めプレート102の長孔112
と相対応する位置に、同様の役割を有する長孔118が
設けられている。なお、天板106は、マグネット保持
プレート104と同形同大に形成される。この場合、マ
グネット保持プレート104は、磁性を有する、たとえ
ばSUS430などのクロム系ステンレス鋼などで形成
される。また、天板106は、非磁性を有する、たとえ
ばSUS304などのクロムニッケル系ステンレス鋼な
どで形成される。
【0037】次に、上述した位置決めベース板22,第
1の成膜パターンマスク板24,第2の成膜パターンマ
スク板26,第1の補助マスク板98および第2の補助
マスク板100で構成されるジグ20を用いて、図1に
示す圧電発振素子10の圧電体基板12の電極形成方法
について、主として、図7,図8,図9,図10および
図11などを参照しながら説明する。
1の成膜パターンマスク板24,第2の成膜パターンマ
スク板26,第1の補助マスク板98および第2の補助
マスク板100で構成されるジグ20を用いて、図1に
示す圧電発振素子10の圧電体基板12の電極形成方法
について、主として、図7,図8,図9,図10および
図11などを参照しながら説明する。
【0038】先ず、圧電体基板12となるたとえば矩形
板状のワーク80が準備される。このワーク80には、
分極処理が施された、所謂、圧電セラミックスが用いら
れる。ワーク80は、所定の長さに切断されたものが用
いられる。また、ジグ80を構成する、位置決めベース
板22,第1の成膜パターンマスク板24,第2の成膜
パターンマスク板26,第1の補助マスク板98および
第2の補助マスク板100が準備される。さらに、この
ワーク80は、図7に示すように、ワーク自動挿入機9
0のワーク挿入テーブル92の上にセットされる。
板状のワーク80が準備される。このワーク80には、
分極処理が施された、所謂、圧電セラミックスが用いら
れる。ワーク80は、所定の長さに切断されたものが用
いられる。また、ジグ80を構成する、位置決めベース
板22,第1の成膜パターンマスク板24,第2の成膜
パターンマスク板26,第1の補助マスク板98および
第2の補助マスク板100が準備される。さらに、この
ワーク80は、図7に示すように、ワーク自動挿入機9
0のワーク挿入テーブル92の上にセットされる。
【0039】次に、ワーク自動挿入機90のワーク挿入
テーブル92の面に沿うようにして、1枚の位置決めベ
ース板22が配置される。そして、1枚の位置決めベー
ス板22の上には、2枚の第1の補助マスク板98が横
並びに取り付けられ、さらに、その上から、2枚の第1
の成膜パターンマスク板24が重ね合わされ、取り付け
られる。第1の補助マスク板98および第1の成膜パタ
ーンマスク板24の位置決め用孔56に、位置決めベー
ス板22の位置決め部材36が挿通され、且つ、位置決
め補助孔58に位置決め補助ボルト44が挿通されるこ
とにより、位置決めベース板22の上に第1の補助マス
ク板98および第1の成膜パターンマスク板24がセッ
トされる。この場合、各2枚の第1の補助マスク板98
および第1の成膜パターンマスク板24は、その長手方
向の他端側、つまり、ガイド部材52,54および62
が同じ方向に向いて配列される。
テーブル92の面に沿うようにして、1枚の位置決めベ
ース板22が配置される。そして、1枚の位置決めベー
ス板22の上には、2枚の第1の補助マスク板98が横
並びに取り付けられ、さらに、その上から、2枚の第1
の成膜パターンマスク板24が重ね合わされ、取り付け
られる。第1の補助マスク板98および第1の成膜パタ
ーンマスク板24の位置決め用孔56に、位置決めベー
ス板22の位置決め部材36が挿通され、且つ、位置決
め補助孔58に位置決め補助ボルト44が挿通されるこ
とにより、位置決めベース板22の上に第1の補助マス
ク板98および第1の成膜パターンマスク板24がセッ
トされる。この場合、各2枚の第1の補助マスク板98
および第1の成膜パターンマスク板24は、その長手方
向の他端側、つまり、ガイド部材52,54および62
が同じ方向に向いて配列される。
【0040】さらに、第1の成膜パターンマスク板24
の上には、第2の成膜パターンマスク板26が取り付け
られる。第2の成膜パターンマスク板26は、その位置
決め用孔70に位置決め部材36が挿通され、その位置
決め補助孔72に位置決め補助ボルト44が挿通される
ことにより、第1の成膜パターンマスク板24の上に第
2の成膜パターンマスク板26がセットされる。
の上には、第2の成膜パターンマスク板26が取り付け
られる。第2の成膜パターンマスク板26は、その位置
決め用孔70に位置決め部材36が挿通され、その位置
決め補助孔72に位置決め補助ボルト44が挿通される
ことにより、第1の成膜パターンマスク板24の上に第
2の成膜パターンマスク板26がセットされる。
【0041】この場合、第2の成膜パターンマスク板2
6は、そのガイド部材74の各櫛歯ガイド片76が、第
1の成膜パターンマスク板24の長手方向の他端側で、
且つ、各ガイド部材52,54および62の間に嵌合す
るように、取り付けられる。すなわち、第1の成膜パタ
ーンマスク板24の上に第2の成膜パターンマスク板2
6をセットした時、図10および図11に示すように、
ガイド部材52,54,62,74が協働して、第1の
成膜パターンマスク板24と第2の成膜パターンマスク
板26との間に、ワークを案内する案内収納部82が形
成される。
6は、そのガイド部材74の各櫛歯ガイド片76が、第
1の成膜パターンマスク板24の長手方向の他端側で、
且つ、各ガイド部材52,54および62の間に嵌合す
るように、取り付けられる。すなわち、第1の成膜パタ
ーンマスク板24の上に第2の成膜パターンマスク板2
6をセットした時、図10および図11に示すように、
ガイド部材52,54,62,74が協働して、第1の
成膜パターンマスク板24と第2の成膜パターンマスク
板26との間に、ワークを案内する案内収納部82が形
成される。
【0042】このようにして、位置決めベース板22,
第1の補助マスク板98,第1の成膜パターンマスク板
24および第2の成膜パターンマスク板26の相互の配
設位置が位置決めされる。そして、一旦、第2の成膜パ
ターンマスク板26が取り外される。
第1の補助マスク板98,第1の成膜パターンマスク板
24および第2の成膜パターンマスク板26の相互の配
設位置が位置決めされる。そして、一旦、第2の成膜パ
ターンマスク板26が取り外される。
【0043】さらに、ワーク80は、図7に示すよう
に、ワーク自動挿入機90のプッシャー96で押仕込む
ことによって、ワーク案内テーブル92から第1の成膜
パターンマスク板24上のガイド部材52,54および
62の間に案内される。この場合、ワーク80の長手方
向の一端側が第1の成膜パターンマスク板24の保持部
材63に当たり、ワーク80が第1の成膜パターンマス
ク板24の長手方向の端部から抜けないようになってい
る。つまり、この保持部材63は、第1の成膜パターン
マスク板24上に案内されたワーク80の長手方向の配
置を規制するものである。
に、ワーク自動挿入機90のプッシャー96で押仕込む
ことによって、ワーク案内テーブル92から第1の成膜
パターンマスク板24上のガイド部材52,54および
62の間に案内される。この場合、ワーク80の長手方
向の一端側が第1の成膜パターンマスク板24の保持部
材63に当たり、ワーク80が第1の成膜パターンマス
ク板24の長手方向の端部から抜けないようになってい
る。つまり、この保持部材63は、第1の成膜パターン
マスク板24上に案内されたワーク80の長手方向の配
置を規制するものである。
【0044】それから、第1の成膜パターンマスク板2
4の上には、第2の成膜パターンマスク板26が取り付
けられる。つまり、ワーク80は、第1の成膜パターン
マスク板24と第2の成膜パターンマスク板26との間
に挟持され、案内する案内収納部82に位置決めされ
る。この場合、ワーク80は、図10および図11に示
すように、その幅方向の一端側および他端側の固定位置
が第1の成膜パターンマスク板24のガイド部材52,
54,62,64により規制され、その長手方向の一端
側の固定位置が第1の成膜パターンマスク板24の保持
部材63により規制され、その長手方向の他端側の固定
位置が第2の成膜パターンマスク板26の櫛歯ガイド片
76により規制されている。このようにして、複数のワ
ーク80が位置決めベース板22,第1の補助マスク板
98,第1の成膜パターンマスク板24および第2の成
膜パターンマスク板26によって、所定の位置に案内さ
れ且つ位置決めされる。
4の上には、第2の成膜パターンマスク板26が取り付
けられる。つまり、ワーク80は、第1の成膜パターン
マスク板24と第2の成膜パターンマスク板26との間
に挟持され、案内する案内収納部82に位置決めされ
る。この場合、ワーク80は、図10および図11に示
すように、その幅方向の一端側および他端側の固定位置
が第1の成膜パターンマスク板24のガイド部材52,
54,62,64により規制され、その長手方向の一端
側の固定位置が第1の成膜パターンマスク板24の保持
部材63により規制され、その長手方向の他端側の固定
位置が第2の成膜パターンマスク板26の櫛歯ガイド片
76により規制されている。このようにして、複数のワ
ーク80が位置決めベース板22,第1の補助マスク板
98,第1の成膜パターンマスク板24および第2の成
膜パターンマスク板26によって、所定の位置に案内さ
れ且つ位置決めされる。
【0045】さらに、この第2の成膜パターンマスク板
26の上には、第2の補助マスク板100が装着され
る。この場合、予め、第2の補助マスク板100が準備
される。すなわち、マグネット位置決めプレート102
には、その位置決めピン110に、マグネット保持プレ
ート104および天板106を重ね合わせた状態でそれ
らを挿通し、さらに、位置決めピン110のピン孔10
9にスナップピン(図示せず)を取り付けることによ
り、マグネット位置決めプレート102とマグネット保
持プレート104と天板106とがその順で重ね合わさ
れてセットされる。さらに、マグネット位置決めプレー
ト102のマグネット位置決め用孔114の中に、マグ
ネット108が嵌め込むことによって、マグネット保持
プレート104にマグネット108が保持される。この
ようにして、準備された第2の補助マスク板100が第
2の成膜パターンマスク板26の上に装着される。第2
の補助マスク板100は、マグネット108の磁力によ
り、第2の成膜パターンマスク板26の上に密着され
る。
26の上には、第2の補助マスク板100が装着され
る。この場合、予め、第2の補助マスク板100が準備
される。すなわち、マグネット位置決めプレート102
には、その位置決めピン110に、マグネット保持プレ
ート104および天板106を重ね合わせた状態でそれ
らを挿通し、さらに、位置決めピン110のピン孔10
9にスナップピン(図示せず)を取り付けることによ
り、マグネット位置決めプレート102とマグネット保
持プレート104と天板106とがその順で重ね合わさ
れてセットされる。さらに、マグネット位置決めプレー
ト102のマグネット位置決め用孔114の中に、マグ
ネット108が嵌め込むことによって、マグネット保持
プレート104にマグネット108が保持される。この
ようにして、準備された第2の補助マスク板100が第
2の成膜パターンマスク板26の上に装着される。第2
の補助マスク板100は、マグネット108の磁力によ
り、第2の成膜パターンマスク板26の上に密着され
る。
【0046】その後、第2の成膜パターンマスク板26
の上に第2の補助マスク板100を装着した状態で、ス
パッタリング処理が施される。この場合、第1の成膜パ
ターンマスク板24および第2の成膜パターンマスク板
26の主面と直交する方向でスパッタリングが行われ
る。そして、ワーク80の一方主面および他方主面に
は、それぞれ、膜が付着し電極が形成される。
の上に第2の補助マスク板100を装着した状態で、ス
パッタリング処理が施される。この場合、第1の成膜パ
ターンマスク板24および第2の成膜パターンマスク板
26の主面と直交する方向でスパッタリングが行われ
る。そして、ワーク80の一方主面および他方主面に
は、それぞれ、膜が付着し電極が形成される。
【0047】すなわち、基板となるワーク80の一方主
面および他方主面には、第1,第2の補助マスク板9
8,100の各孔48,50,60,118および第
1,第2の成膜パターンマスク板24,26の膜形成孔
48,50,60,68を通して露出した部分に電極材
料が衝突して付着し、電極となる膜が形成される。ま
た、ワーク80の一方主面および他方主面における電極
不要部分は、第1,第2の補助マスク板98,100の
各孔が設けられていない部分および第1,第2の成膜パ
ターンマスク板24,26の膜形成孔48,50,60
および68が設けられていない部分により遮蔽されるた
め、電極材料が付着せず、電極となる膜が形成されな
い。
面および他方主面には、第1,第2の補助マスク板9
8,100の各孔48,50,60,118および第
1,第2の成膜パターンマスク板24,26の膜形成孔
48,50,60,68を通して露出した部分に電極材
料が衝突して付着し、電極となる膜が形成される。ま
た、ワーク80の一方主面および他方主面における電極
不要部分は、第1,第2の補助マスク板98,100の
各孔が設けられていない部分および第1,第2の成膜パ
ターンマスク板24,26の膜形成孔48,50,60
および68が設けられていない部分により遮蔽されるた
め、電極材料が付着せず、電極となる膜が形成されな
い。
【0048】この発明にかかる圧電発振素子10の電極
形成方法では、特に、第1の補助マスク板98および第
2の補助マスク板100が用いられているために、スパ
ッタリング時において、第1の成膜パターンマスク板2
4および第2の成膜パターンマスク板26に、直接、熱
が加わることがない。つまり、第1,第2の補助マスク
板98,100の孔48,50,60,118および第
1,第2の成膜パターンマスク板24,26の膜形成孔
48,50,60,68を通過しない電極材料のほとん
どは、第1および第2の補助マスク板98および100
の孔48,50,60および118が設けられていない
部分に衝突するので、第1および第2の成膜パターンマ
スク板24,26には、膜がほとんど付着しない。その
ため、第1および第2の成膜パターンマスク板24,2
6には、電極材料の衝突エネルギー(凝縮熱)による温
度上昇がない。さらに、ワーク80の露出部分に電極材
料が衝突して発生する凝縮熱は、第1および第2の成膜
パターンマスク板24,26に放熱されるため、基板と
なるワーク80の温度上昇が抑制される。
形成方法では、特に、第1の補助マスク板98および第
2の補助マスク板100が用いられているために、スパ
ッタリング時において、第1の成膜パターンマスク板2
4および第2の成膜パターンマスク板26に、直接、熱
が加わることがない。つまり、第1,第2の補助マスク
板98,100の孔48,50,60,118および第
1,第2の成膜パターンマスク板24,26の膜形成孔
48,50,60,68を通過しない電極材料のほとん
どは、第1および第2の補助マスク板98および100
の孔48,50,60および118が設けられていない
部分に衝突するので、第1および第2の成膜パターンマ
スク板24,26には、膜がほとんど付着しない。その
ため、第1および第2の成膜パターンマスク板24,2
6には、電極材料の衝突エネルギー(凝縮熱)による温
度上昇がない。さらに、ワーク80の露出部分に電極材
料が衝突して発生する凝縮熱は、第1および第2の成膜
パターンマスク板24,26に放熱されるため、基板と
なるワーク80の温度上昇が抑制される。
【0049】また、この発明にかかる圧電発振素子10
の電極形成方法に用いられるジグ20では、その第1の
成膜パターンマスク板24および第2の成膜パターンマ
スク板26に、ワーク80の長手方向および幅方向の取
り付け位置を案内・規制するガイド部材52,54,6
2,64,74が形成されているため、ワーク80の位
置決めがより正確で確実なものとなる。
の電極形成方法に用いられるジグ20では、その第1の
成膜パターンマスク板24および第2の成膜パターンマ
スク板26に、ワーク80の長手方向および幅方向の取
り付け位置を案内・規制するガイド部材52,54,6
2,64,74が形成されているため、ワーク80の位
置決めがより正確で確実なものとなる。
【0050】この発明にかかる圧電発振素子10の電極
形成方法およびそれに用いられるジグ20によれば、ス
パッタリング処理時において、第1および第2の成膜パ
ターンマスク板24,26自体の温度上昇が防止される
ので、熱変形による第1および第2の成膜パターンマス
ク板24,26の歪みを防止することができ、膜形成孔
48,50,60,68等も変形する恐れがない。その
ため、基板となるワーク80に付着する膜の厚みを厚く
するなどの膜厚量を調整することができ、しかも、電極
の形状も安定したものが得られる。したがって、基板に
付着させる膜の膜厚量を厚くすることにより、電極とな
る膜の電気的抵抗値を下げることができ、製品の電気的
特性の安定化および膜のくわれ性、所謂、半田くわれの
削減も計ることができる。また、第1および第2の成膜
パターンマスク板24,26には、直接、熱が加わらな
いので、熱による影響も最小限に抑えられるため、第1
および第2の成膜パターンマスク板24,26自体の寿
命も長くなる。
形成方法およびそれに用いられるジグ20によれば、ス
パッタリング処理時において、第1および第2の成膜パ
ターンマスク板24,26自体の温度上昇が防止される
ので、熱変形による第1および第2の成膜パターンマス
ク板24,26の歪みを防止することができ、膜形成孔
48,50,60,68等も変形する恐れがない。その
ため、基板となるワーク80に付着する膜の厚みを厚く
するなどの膜厚量を調整することができ、しかも、電極
の形状も安定したものが得られる。したがって、基板に
付着させる膜の膜厚量を厚くすることにより、電極とな
る膜の電気的抵抗値を下げることができ、製品の電気的
特性の安定化および膜のくわれ性、所謂、半田くわれの
削減も計ることができる。また、第1および第2の成膜
パターンマスク板24,26には、直接、熱が加わらな
いので、熱による影響も最小限に抑えられるため、第1
および第2の成膜パターンマスク板24,26自体の寿
命も長くなる。
【0051】さらに、この発明にかかる圧電発振素子1
0の電極形成方法およびそれに用いられるジグ20によ
れば、基板に付着させる膜の厚みを厚くする場合、複数
回の成膜作業工程が必要な従来の方法と比べて、1回の
工程で膜の厚みを厚くすることができ、また、成膜量を
制御することにより、たとえばソルダーレジストインキ
などによるフォーミング調整などの作業工程を削減する
ことができる。そのため、生産性を向上させることがで
きる。また、第1および第2の成膜パターンマスク板2
4,26に直接電極材料が付着しないため、不要な膜を
洗浄するのためのエッチングサイクルを延ばすことが可
能となる。
0の電極形成方法およびそれに用いられるジグ20によ
れば、基板に付着させる膜の厚みを厚くする場合、複数
回の成膜作業工程が必要な従来の方法と比べて、1回の
工程で膜の厚みを厚くすることができ、また、成膜量を
制御することにより、たとえばソルダーレジストインキ
などによるフォーミング調整などの作業工程を削減する
ことができる。そのため、生産性を向上させることがで
きる。また、第1および第2の成膜パターンマスク板2
4,26に直接電極材料が付着しないため、不要な膜を
洗浄するのためのエッチングサイクルを延ばすことが可
能となる。
【0052】なお、この発明にかかる圧電発振素子10
の電極形成方法では、第2の補助マスク板100の表面
に付着した薄膜を、定期的にエッチングなどにより洗浄
して、除去する必要があるが、この実施例に用いられる
ジグ20によれば、特に、第2の補助マスク板100
が、マグネット位置決めプレート102,マグネット保
持プレート104,天板106および複数のマグネット
108などの各部材がそれぞれ着脱容易な構造となって
いるため、天板106だけを取り外すことにより、その
天板106の表面に付着した膜を洗浄するだけでよい。
この場合、天板106は、非磁性材料で形成されている
ため、第2の補助マスク板100からその天板106だ
けを比較的簡単に取り外すことができる。したがって、
この第2の補助マスク板100の構造によれば、第2の
補助マスク板100全体をそのまま洗浄する必要がな
く、すなわち、マグネット108を装着した状態で洗浄
する必要がないので、洗浄時の化学反応によるマグネッ
ト108の劣化、磁力の低下等の問題も発生しない。
の電極形成方法では、第2の補助マスク板100の表面
に付着した薄膜を、定期的にエッチングなどにより洗浄
して、除去する必要があるが、この実施例に用いられる
ジグ20によれば、特に、第2の補助マスク板100
が、マグネット位置決めプレート102,マグネット保
持プレート104,天板106および複数のマグネット
108などの各部材がそれぞれ着脱容易な構造となって
いるため、天板106だけを取り外すことにより、その
天板106の表面に付着した膜を洗浄するだけでよい。
この場合、天板106は、非磁性材料で形成されている
ため、第2の補助マスク板100からその天板106だ
けを比較的簡単に取り外すことができる。したがって、
この第2の補助マスク板100の構造によれば、第2の
補助マスク板100全体をそのまま洗浄する必要がな
く、すなわち、マグネット108を装着した状態で洗浄
する必要がないので、洗浄時の化学反応によるマグネッ
ト108の劣化、磁力の低下等の問題も発生しない。
【0053】上述の実施例では、第2の補助マスク10
0をマグネット位置決めプレート102,マグネット保
持プレート104,天板106およびマグネット108
で構成し、そのマグネット108によりワーク80との
密着性を高めたが、この第2の補助マスク板100は、
たとえば厚さ3〜4mmの1枚のプレートで構成し、そ
の自重でワーク80との密着性を高めるようにしてもよ
い。その場合、第2の補助プレート100として、たと
えば厚さを3〜4mmに形成した第2の成膜パターンマ
スク板26を用いることも可能である。
0をマグネット位置決めプレート102,マグネット保
持プレート104,天板106およびマグネット108
で構成し、そのマグネット108によりワーク80との
密着性を高めたが、この第2の補助マスク板100は、
たとえば厚さ3〜4mmの1枚のプレートで構成し、そ
の自重でワーク80との密着性を高めるようにしてもよ
い。その場合、第2の補助プレート100として、たと
えば厚さを3〜4mmに形成した第2の成膜パターンマ
スク板26を用いることも可能である。
【0054】なお、上述の実施例では、第1および第2
の成膜パターンマスク板に設けられた膜形成孔が矩形に
形成されたが、それは単なる例示であって、膜形成孔の
形状は、所望する電極の形状に応じて、他の形状に任意
に変更してもよい。また、第1および第2の成膜パター
ンマスク板のガイド部材についても、ワークの形状に応
じて、その形状は適宜変更可能である。
の成膜パターンマスク板に設けられた膜形成孔が矩形に
形成されたが、それは単なる例示であって、膜形成孔の
形状は、所望する電極の形状に応じて、他の形状に任意
に変更してもよい。また、第1および第2の成膜パター
ンマスク板のガイド部材についても、ワークの形状に応
じて、その形状は適宜変更可能である。
【図1】図1(A)はこの発明の方法により形成された
圧電発振素子の一例を示す斜視図であり、図1(B)は
その断面図である。
圧電発振素子の一例を示す斜視図であり、図1(B)は
その断面図である。
【図2】(A)は位置決めベース板の一例を示す平面図
解図であり、(B)はその側面図解図である。
解図であり、(B)はその側面図解図である。
【図3】(A)は第1の成膜パターンマスク板の一例を
示す平面図解図であり、(B)はその側面図解図であ
る。
示す平面図解図であり、(B)はその側面図解図であ
る。
【図4】(A)は第2の成膜パターンマスク板の一例を
示す平面図解図であり、(B)はその側面図解図であ
る。
示す平面図解図であり、(B)はその側面図解図であ
る。
【図5】(A)は第2の補助マスク板のマグネット位置
決めプレートの一例を示す平面図解図であり、(B)は
その側面図解図である。
決めプレートの一例を示す平面図解図であり、(B)は
その側面図解図である。
【図6】(A)は第2の補助マスク板のマグネット保持
プレートの一例を示す平面図解図であり、(B)はその
側面図解図である。
プレートの一例を示す平面図解図であり、(B)はその
側面図解図である。
【図7】図1の圧電発振素子の電極形成方法の一例を示
す分解斜視図解図である。
す分解斜視図解図である。
【図8】図1の圧電発振素子の電極形成方法の一例を示
す側面図解図である。
す側面図解図である。
【図9】図1の圧電発振素子の電極形成方法の一例を示
す分解断面図解図である。
す分解断面図解図である。
【図10】ジグでワークが位置決めされた状態を示し、
特に、第1の成膜パターンマスク板のガイド部材でワー
クの幅方向の一端側および他端側の配置が規制されてい
る状態を示す断面図解図である。
特に、第1の成膜パターンマスク板のガイド部材でワー
クの幅方向の一端側および他端側の配置が規制されてい
る状態を示す断面図解図である。
【図11】ジグでワークが位置決めされた状態を示し、
特に、第1および第2の成膜パターンマスク板のガイド
部材でワークの長手方向の一端側および他端側の配置が
規制されている状態を示す断面図解図である。
特に、第1および第2の成膜パターンマスク板のガイド
部材でワークの長手方向の一端側および他端側の配置が
規制されている状態を示す断面図解図である。
【図12】この発明の背景となる従来の電極形成方法の
一例を示す要部分解断面図である。
一例を示す要部分解断面図である。
10 圧電発振素子 12 基板 14,16 電極 20 ジグ 22 位置決めベース板 24 第1の成膜パターンマスク板 26 第2の成膜パターンマスク板 36 位置決め部材 44 位置決め補助ボルト 34,48,50 長孔 52,54,74 ガイド部材 60 切欠き部 62 隣接部用ガイド部材 63 保持部材 64,78 位置決め孔用切欠き 56,70 位置決め用孔 58,72 位置決め用補助孔 80 ワーク 98 第1の補助マスク板 100 第2の補助マスク板 102 マグネット位置決めプレート 104 マグネット保持プレート 106 天板 108 マグネット 110 位置決めピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H03H 3/02 B
Claims (4)
- 【請求項1】 スパッタリング処理により電子部品の基
板に電極となる膜を形成するための電子部品の電極形成
方法であって、 前記基板となるワークを準備する工程、 前記ワークの一方主面および他方主面側に、それぞれ、
膜形成孔を有する第1の成膜パターンマスク板および第
2の成膜パターンマスク板を配置する工程、 前記第1の成膜パターンマスク板の裏面側に、前記膜形
成孔に対応する孔を有する第1の補助マスク板を配置す
る工程、 前記第2の成膜パターンマスク板の表面側に、前記膜形
成孔に対応する孔を有する第2の補助マスク板を配置す
る工程、 前記第1の成膜パターンマスク板および前記第2の成膜
パターンマスク板の間に前記ワークを挟持した状態で、
前記ワークを所定の位置に位置決めする工程、および位
置決めされた前記ワークにスパッタリング処理を施す工
程を含む、電子部品の電極形成方法。 - 【請求項2】 前記ワークは矩形板状に形成されるもの
であって、 前記第1の成膜パターンマスク板および/または前記第
2の成膜パターンマスク板は、前記ワークの長手方向お
よび/または幅方向の配置を規制するガイド部材を含
む、請求項1に記載の電子部品の電極形成方法。 - 【請求項3】 スパッタリング処理により電子部品の基
板に電極となる膜を形成するために、前記電子部品の基
板となるワークを所定の位置に位置決めするためのジグ
であって、 前記ジグは、 位置決め部材を有する位置決めベース板と、 前記位置決めベース板の前記位置決め部材が挿入される
位置決め用孔および前記膜を形成するための膜形成孔を
有し、前記ワークの一方主面側およびの他方主面側にそ
れぞれ配置される第1の成膜パターンマスク板および第
2の成膜パターンマスク板と、 前記第1の成膜パターンマスク板の裏面に配置され、前
記膜形成孔を露出させる孔を有する第1の補助マスク板
および前記第2の成膜パターンマスク板の表面に配置さ
れ、前記膜形成孔を露出させる孔を有する第2の補助マ
スク板とを含み、 前記位置決めベース板の前記位置決め部材を、前記第1
の成膜パターンマスク板および前記第2の成膜パターン
マスク板の前記位置決め用孔と、前記第1の補助マスク
板および前記第2の補助マスク板の前記孔とに挿通する
と共に、前記位置決めベース板と協働して、前記第1の
成膜パターンマスク板および前記第2の成膜パターンマ
スク板の間に前記ワークを挟持し、前記ワークを所定の
位置に位置決めする、ジグ。 - 【請求項4】 前記ワークは矩形板状に形成されるもの
であって、 前記第1の成膜パターンマスク板および/または前記第
2の成膜パターンマスク板は、前記ワークの長手方向お
よび/または幅方向の配置を規制するガイド部材を含
む、請求項3に記載のジグ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25145394A JPH0885869A (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 電子部品の電極形成方法およびその方法に用いられるジグ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25145394A JPH0885869A (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 電子部品の電極形成方法およびその方法に用いられるジグ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0885869A true JPH0885869A (ja) | 1996-04-02 |
Family
ID=17223058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25145394A Pending JPH0885869A (ja) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | 電子部品の電極形成方法およびその方法に用いられるジグ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0885869A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019009050A1 (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-10 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク装置の製造方法 |
-
1994
- 1994-09-19 JP JP25145394A patent/JPH0885869A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019009050A1 (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-10 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク装置の製造方法 |
| JPWO2019009050A1 (ja) * | 2017-07-05 | 2020-04-30 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク装置の製造方法 |
| US11380546B2 (en) | 2017-07-05 | 2022-07-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Deposition mask, deposition mask apparatus, manufacturing method of deposition mask, and manufacturing method of deposition mask apparatus |
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