JPH089163Y2 - 巻取式蒸着装置 - Google Patents
巻取式蒸着装置Info
- Publication number
- JPH089163Y2 JPH089163Y2 JP40434190U JP40434190U JPH089163Y2 JP H089163 Y2 JPH089163 Y2 JP H089163Y2 JP 40434190 U JP40434190 U JP 40434190U JP 40434190 U JP40434190 U JP 40434190U JP H089163 Y2 JPH089163 Y2 JP H089163Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- roll
- film
- type vapor
- electron beam
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本考案は電子ビーム加熱方式によ
り蒸着材料を加熱し、蒸着フィルムを製造する巻取式蒸
着装置に関する。
り蒸着材料を加熱し、蒸着フィルムを製造する巻取式蒸
着装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から包装材料、金銀糸用途として製
造されている蒸着フィルムは、高分子等からなる帯状の
フィルムに、金属等の薄膜を真空蒸着法により連続的に
設けたものである。
造されている蒸着フィルムは、高分子等からなる帯状の
フィルムに、金属等の薄膜を真空蒸着法により連続的に
設けたものである。
【０００３】この様な蒸着フィルムの製造は、巻出しロ
ールからの帯状のフィルムを、いくつかのガイドロール
等を通し、冷却ドラム下部に設けられた蒸着源で加熱さ
れた蒸着材料を付着凝集させ、巻取ることにより行なわ
れている。
ールからの帯状のフィルムを、いくつかのガイドロール
等を通し、冷却ドラム下部に設けられた蒸着源で加熱さ
れた蒸着材料を付着凝集させ、巻取ることにより行なわ
れている。
【０００４】蒸着の際の加熱方式としては、直接又は
間接抵抗加熱方式、誘導加熱方式、電子ビーム加熱
方式、光、レーザ加熱方式等があり、金属の場合には
いずれの加熱方式でも構わないが、融点の高い金属等を
蒸着させる場合には、大きなエネルギーを必要とするた
めに、電子ビーム加熱方式を用いる場合が多い。
間接抵抗加熱方式、誘導加熱方式、電子ビーム加熱
方式、光、レーザ加熱方式等があり、金属の場合には
いずれの加熱方式でも構わないが、融点の高い金属等を
蒸着させる場合には、大きなエネルギーを必要とするた
めに、電子ビーム加熱方式を用いる場合が多い。
【０００５】また、加熱方式によっては、フィルムへ蒸
着源より反射電子（二次電子）が飛翔するため、フィル
ムが僅かではあるが帯電し、その結果、冷却ドラムとフ
ィルムの離れがスムーズでなくなる問題が生じており、
電気的に接地した反射電子トラップ部を銅等の導電性基
材で設け、反射電子をトラップすることにより、フィル
ムへの飛翔を低減させている。
着源より反射電子（二次電子）が飛翔するため、フィル
ムが僅かではあるが帯電し、その結果、冷却ドラムとフ
ィルムの離れがスムーズでなくなる問題が生じており、
電気的に接地した反射電子トラップ部を銅等の導電性基
材で設け、反射電子をトラップすることにより、フィル
ムへの飛翔を低減させている。
【０００６】
【考案が解決しようとする課題】しかし、金属酸化物等
の絶縁性を有する蒸着材料を蒸着する際には、反射電子
をトラップするための導電性基材が、時間とともに堆積
する蒸着材料により絶縁化するため、反射電子トラップ
部での反射電子のトラップが不十分になる。それによ
り、反射電子が冷却ドラム上に摺動しているフィルム上
に飛翔し、フィルムが帯電するため、走行がスムーズで
なくなり、傷が付いたり、最悪の場合には巻取り不能と
なるという課題が生じていた。
の絶縁性を有する蒸着材料を蒸着する際には、反射電子
をトラップするための導電性基材が、時間とともに堆積
する蒸着材料により絶縁化するため、反射電子トラップ
部での反射電子のトラップが不十分になる。それによ
り、反射電子が冷却ドラム上に摺動しているフィルム上
に飛翔し、フィルムが帯電するため、走行がスムーズで
なくなり、傷が付いたり、最悪の場合には巻取り不能と
なるという課題が生じていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本考案は上記の課題を解
決するためになされたものであって、電子ビームにより
加熱された蒸着源中の蒸着材料を、連続基材上に連続的
に薄膜を形成する巻取式蒸着装置において、入射電子ビ
ーム後方に生じる反射電子の飛翔部位に、導電性基材が
逐次移動し、新しい導電性基材表面が供給される反射電
子トラップ部が設けられたことを特徴とする巻取式蒸着
装置である。
決するためになされたものであって、電子ビームにより
加熱された蒸着源中の蒸着材料を、連続基材上に連続的
に薄膜を形成する巻取式蒸着装置において、入射電子ビ
ーム後方に生じる反射電子の飛翔部位に、導電性基材が
逐次移動し、新しい導電性基材表面が供給される反射電
子トラップ部が設けられたことを特徴とする巻取式蒸着
装置である。
【０００８】
【作用】本考案に係わる巻取式蒸着装置は、反射電子飛
翔位置に設けられた反射電子トラップ部の導電性基材の
新しい面が、絶縁化することなく、反射電子をトラップ
し、接地することができる。よって、反射電子のフィル
ムへの飛翔を低減することができる。
翔位置に設けられた反射電子トラップ部の導電性基材の
新しい面が、絶縁化することなく、反射電子をトラップ
し、接地することができる。よって、反射電子のフィル
ムへの飛翔を低減することができる。
【０００９】
【実施例】本考案の一実施例を図面を用いて説明する。
【００１０】＜実施例１＞ 図１は本考案に係わる巻取式蒸着装置の一実施例であ
る。真空槽１内の巻出しロール２にＰＥＴからなるフィ
ルム（厚さ１２μｍ、幅２００ｍｍ）８を設置した。フ
ィルムは、テンションロール４、ガイドロール５、エキ
スパンダーロール６を通り、冷却ドラム７に摺動し、蒸
着源１２上部に設けられた遮蔽マスク９の開口部に達す
る。また、水冷銅ルツボよりなる蒸着源１２には、酸化
ケイ素からなる蒸着材料１１が投入され、偏向コイル１
３により導かれた電子銃１０からの電子ビーム１４によ
り加熱される。なお、その際の蒸着条件は、真空度 ７
×１０-5Ｔｏｒｒ、加速電圧 ３０ＫＶ、ラインスピー
ド １００ｍ／分であった。
る。真空槽１内の巻出しロール２にＰＥＴからなるフィ
ルム（厚さ１２μｍ、幅２００ｍｍ）８を設置した。フ
ィルムは、テンションロール４、ガイドロール５、エキ
スパンダーロール６を通り、冷却ドラム７に摺動し、蒸
着源１２上部に設けられた遮蔽マスク９の開口部に達す
る。また、水冷銅ルツボよりなる蒸着源１２には、酸化
ケイ素からなる蒸着材料１１が投入され、偏向コイル１
３により導かれた電子銃１０からの電子ビーム１４によ
り加熱される。なお、その際の蒸着条件は、真空度 ７
×１０-5Ｔｏｒｒ、加速電圧 ３０ＫＶ、ラインスピー
ド １００ｍ／分であった。
【００１１】本考案の主要部である反射電子トラップ部
を詳細に述べると、まず設ける位置は、反射電子の飛翔
位置、つまり蒸着材料１１が投入される蒸着源を基準に
して、入射電子ビームの後方（反対側）である。更に言
えば、冷却ドラム下部に設けられた遮蔽マスク９と蒸着
源１２により限定される蒸気空間を遮断しない位置であ
り、蒸着源１２からの角度（図１中θ）は、２０〜４５
°である。
を詳細に述べると、まず設ける位置は、反射電子の飛翔
位置、つまり蒸着材料１１が投入される蒸着源を基準に
して、入射電子ビームの後方（反対側）である。更に言
えば、冷却ドラム下部に設けられた遮蔽マスク９と蒸着
源１２により限定される蒸気空間を遮断しない位置であ
り、蒸着源１２からの角度（図１中θ）は、２０〜４５
°である。
【００１２】導電性基材としては、導電性を有すること
は勿論のこと、冷却効率の点で熱伝導率の大きなものが
良い。また、形状は逐次移動し、新しい導電性基材表面
を供給させることから帯状が好ましく、厚みは強度的に
十分で、容易に移動が可能な０．５〜５ｍｍ程度の金属
基材が好ましい。本実施例では、銅板からなる導電性基
材（幅３００ｍｍ、厚さ１ｍｍ）１５を、−１０℃の冷
却水を循環した冷却ロール１６に摺動させながら、モー
タによる駆動で１分間あたり１ｍ移動させた。また冷却
ロール１６は十分に接地した。
は勿論のこと、冷却効率の点で熱伝導率の大きなものが
良い。また、形状は逐次移動し、新しい導電性基材表面
を供給させることから帯状が好ましく、厚みは強度的に
十分で、容易に移動が可能な０．５〜５ｍｍ程度の金属
基材が好ましい。本実施例では、銅板からなる導電性基
材（幅３００ｍｍ、厚さ１ｍｍ）１５を、−１０℃の冷
却水を循環した冷却ロール１６に摺動させながら、モー
タによる駆動で１分間あたり１ｍ移動させた。また冷却
ロール１６は十分に接地した。
【００１３】加熱された蒸着材料が付着凝集し、蒸着膜
が形成されたフィルムは、冷却ドラム７を離れ、エキス
パンダーロール６、ガイドロール５、テンションロール
４を通り、巻取りロール３に巻取られる。
が形成されたフィルムは、冷却ドラム７を離れ、エキス
パンダーロール６、ガイドロール５、テンションロール
４を通り、巻取りロール３に巻取られる。
【００１４】蒸着加工中に真空槽１内を観察したとこ
ろ、フィルムの冷却ドラム７からの離れはスムーズで、
走行性は良好であった。また、巻取りロール３に巻取ら
れた蒸着フィルムの蒸着膜を観察したところ、キズ、帯
電による蒸着膜の劣化は全くなかった。
ろ、フィルムの冷却ドラム７からの離れはスムーズで、
走行性は良好であった。また、巻取りロール３に巻取ら
れた蒸着フィルムの蒸着膜を観察したところ、キズ、帯
電による蒸着膜の劣化は全くなかった。
【００１５】＜実施例２＞ 蒸着条件は実施例１と同一のまま、図２に記載の巻取式
蒸着装置を用いて蒸着を行なった。本実施例の反射電子
トラップ部を詳述すると、銅板からなる導電性基材（幅
３００ｍｍ、厚さ５ｍｍ）１５を、−１０℃の冷却水を
循環した冷却板１７に摺動させながら、モータによる駆
動で１分間あたり１ｍ移動させた。また冷却ロール１６
は十分に接地した。
蒸着装置を用いて蒸着を行なった。本実施例の反射電子
トラップ部を詳述すると、銅板からなる導電性基材（幅
３００ｍｍ、厚さ５ｍｍ）１５を、−１０℃の冷却水を
循環した冷却板１７に摺動させながら、モータによる駆
動で１分間あたり１ｍ移動させた。また冷却ロール１６
は十分に接地した。
【００１６】蒸着加工中に真空槽１内を観察したとこ
ろ、実施例１と同様に走行性は良好であり、蒸着フィル
ムの蒸着膜も良好であった。
ろ、実施例１と同様に走行性は良好であり、蒸着フィル
ムの蒸着膜も良好であった。
【００１７】＜比較例＞ 蒸着条件は実施例１，２と同一のまま、反射電子トラッ
プ部の導電性基材を停止させ、実施例１，２とと同様に
走行性を観察したところ、加工時間が経つに従って、冷
却ドラムとフィルムの剥離部１８での剥離がスムーズで
なく、最終的にはフィルムを巻き込んでしまった。ま
た、得られた蒸着フィルムの蒸着膜を観察したところ、
帯電による蒸着膜の劣化、ピンホールが認められた。
プ部の導電性基材を停止させ、実施例１，２とと同様に
走行性を観察したところ、加工時間が経つに従って、冷
却ドラムとフィルムの剥離部１８での剥離がスムーズで
なく、最終的にはフィルムを巻き込んでしまった。ま
た、得られた蒸着フィルムの蒸着膜を観察したところ、
帯電による蒸着膜の劣化、ピンホールが認められた。
【００１８】
【考案の効果】以上述べたように本考案に係わる巻取式
蒸着装置によれば、入射電子ビーム後方に生じる反射電
子の飛翔部位に、導電性基材が逐次移動し、新しい導電
性基材表面が供給される反射電子トラップ部が設けられ
ているので、反射電子を接地することができ、フィルム
への飛翔を低減することができる。よって、金属酸化物
等の絶縁性薄膜を高速に長時間安定して蒸着加工でき、
かつ得られた蒸着フィルムの物性も安定したものであ
る。
蒸着装置によれば、入射電子ビーム後方に生じる反射電
子の飛翔部位に、導電性基材が逐次移動し、新しい導電
性基材表面が供給される反射電子トラップ部が設けられ
ているので、反射電子を接地することができ、フィルム
への飛翔を低減することができる。よって、金属酸化物
等の絶縁性薄膜を高速に長時間安定して蒸着加工でき、
かつ得られた蒸着フィルムの物性も安定したものであ
る。
【図１】本考案の蒸着装置の一実施例を示す模式断面図
である。
である。
【図２】本考案の蒸着装置の他の実施例を示す模式断面
図である。
図である。
１ 真空槽 ２ 巻出しロール ３ 巻取りロール ４ テンションロール ５ ガイドロール ６ エキスパンダーロール ７ 冷却ドラム ８ フィルム ９ 遮蔽マスク １０ 電子銃 １１ 蒸着材料 １２ 蒸着源 １３ 偏向コイル １４ 電子ビーム １５ 導電性基材 １６ 冷却ロール １７ 冷却板 １８ 冷却ドラムとフィルムの剥離部
Claims (1)
- 【請求項１】電子ビームにより加熱された蒸着源中の蒸
着材料を、連続基材上に連続的に薄膜を形成する巻取式
蒸着装置において、入射電子ビーム後方に生じる反射電
子の飛翔部位に、導電性基材が逐次移動し、新しい導電
性基材表面が供給される反射電子トラップ部が設けられ
たことを特徴とする巻取式蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40434190U JPH089163Y2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 巻取式蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40434190U JPH089163Y2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 巻取式蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0492553U JPH0492553U (ja) | 1992-08-12 |
| JPH089163Y2 true JPH089163Y2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=31881986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40434190U Expired - Fee Related JPH089163Y2 (ja) | 1990-12-20 | 1990-12-20 | 巻取式蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH089163Y2 (ja) |
-
1990
- 1990-12-20 JP JP40434190U patent/JPH089163Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0492553U (ja) | 1992-08-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |