JPH08958B2 - 半導体素子のボンディング用仕上熱処理銅線の製造方法 - Google Patents

半導体素子のボンディング用仕上熱処理銅線の製造方法

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JPH08958B2
JPH08958B2 JP60231881A JP23188185A JPH08958B2 JP H08958 B2 JPH08958 B2 JP H08958B2 JP 60231881 A JP60231881 A JP 60231881A JP 23188185 A JP23188185 A JP 23188185A JP H08958 B2 JPH08958 B2 JP H08958B2
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JP
Japan
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heat treatment
wire
bonding
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copper wire
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康夫 福井
保彦 吉永
信次 白川
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Tanaka Denshi Kogyo KK
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本願は、シリコンチップ電極と外部リード部とを接続
するために使用するボンディング用仕上熱処理銅線の製
造方法に関するものである。
(従来の技術とその問題点) 従来はボンディング用線として、もっぱら金(Au)線
或いはアルミニウム(Al)線が使用されているが、最近
金線の代替として経済性に有利な銅線の使用が試みられ
ている。
しかし、一般に使用されている銅線の純度は99.9〜9
9.99wt%迄であり、金線に比べて引張強度は大きいもの
の硬すぎるためにチップ割れ及びネック切れ等を生じる
原因となっていた。
そこで、銅線の純度を上げることが考えられるが、単
に銅(Cu)線の純度を上げただけでは、ボンディング用
線としては必要な所定の抗張力及び伸び率が得られな
い。
すなわち、抗張力が過大、伸び率が過少の場合は、銅
線が硬くなり第2ボンディング(リード側のボンディン
グ)の接着不良の原因となり、又伸び率が過大の場合は
ループ不安定及びテール残りの原因となると共に機械的
強度に劣るという問題があった。
(発明が解決しようとする技術的課題) 以上の問題を解決しようとする本発明の技術的課題
は、銅線の製造工程に於いて99.999wt%以上の高純度銅
を一方向凝固となるように処理し加工率と熱処理とを適
性に行うことにより、一定の抗張力、伸び率及び優れた
機械的特性を持った銅線を得ることである。
(技術的課題を達成するための技術的手段) 以上の技術的課題を達成するための本発明の技術的手
段は、99.999wt%以上の高純度銅を一方向凝固となるよ
うに処理し、それを中間加工率が99%以上となるように
線引加工を行った後、中間熱処理を100〜300℃で行い、
然る後、仕上加工率が80〜95%となるように線引加工を
行い、仕上熱処理を100〜300℃で行うことである。99.9
99wt%以上の高純度銅を一方向凝固となるように処理し
ない時は初期の特性が得られず、99.999wt%以上の高純
度銅を一方向凝固となるように処理した場合でも前記中
間加工率が99%未満だと、中間熱処理工程を経ても所期
の特性が得られず、また中間熱処理が100℃未満、300℃
を越えると前記と同様に所期の特性が得られない。
更に、仕上加工率が80%未満、95%以上だと仕上熱処
理後に所定の抗張力及び伸び率が得られない。また、仕
上熱処理が100℃未満、300℃を越える場合も所期の機械
的特性が得られない。
(発明の効果) 本発明は以上の様な製造方法により銅細線の製造工程
に於いて20〜32kgf/mm2の抗張力及び16〜28%の伸び率
を持たせることができるのでループ形状の安定化、ボン
ディング後の接着強度の強化及び引張強さの強化等のボ
ンディング特性の向上を図ることができる。
(実施例) 本発明の実施例は、電解精製を2回、帯溶解精製を5
回行うことによって得た99.9995wt%の銅を酸化やガス
吸蔵を防止するため真空中で高周波溶解し、一方向凝固
となるように直径20mmの鋳塊に鋳造した。
その後、この鋳塊を中間加工率99%以上となるように
線加工と中間熱処理(真空中に於いて200℃で1時間)
を繰返し、線径0.1mmの線をつくった。
更に線径30μmまで線引加工し(仕上加工率91%)、
最終処理として仕上熱処理(真空中に於いて200℃で1
時間)を行ない、所定の極細線に加工した。次表
(1),(2),(3)は99.9995wt%、99.9999wt%、
99.99995wt%の純度で本発明の製造方法によって製造さ
れた線径30μmの銅線の抗張力及び伸び率の試験結果を
示したものである。
また、表(4),(5),(6)は前記製造方法によ
り製造された抗張力20〜32kgf/mm2、伸び率16〜28%を
有する銅線のボンディング特性の試験結果を示したもの
である。
表(7)は、一方向凝固に変えて普通の凝固となるよ
うに処理した事以外は実施例と同様にして極細線に加工
した銅線の抗張力及び伸び率の試験結果を示したもので
ある。
この結果、以上の表(1)〜(6)から明らかなよう
に本発明の製造によって99.999wt%以上の高純度銅を20
〜32kgf/mm2の抗張力及び16〜28%の伸び率を持った銅
細線を製造することができるのでループ形状の安定化、
ボンディング後の接着強度の強化及び引張り強さの強化
等のボンディング特性の向上を図ることができるという
本発明の効果を確認することができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−20858(JP,A) 特開 昭60−125357(JP,A) 特開 昭60−125358(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】99.999wt%以上の高純度銅を一方向凝固と
    なるように処理し、それを中間加工率が99%以上となる
    ように線引加工を行った後、中間熱処理を100〜300℃で
    行い、然る後、仕上加工率が80〜95%となるように線引
    加工を行い、仕上熱処理を100〜300℃で行うことを特徴
    とする半導体素子のボンディング用仕上熱処理銅線の製
    造方法。
JP60231881A 1985-10-16 1985-10-16 半導体素子のボンディング用仕上熱処理銅線の製造方法 Expired - Fee Related JPH08958B2 (ja)

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JPS6220858A (ja) * 1985-07-19 1987-01-29 Hitachi Ltd ボンデイングワイヤ、その製造方法およびそれを用いた半導体装置

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