JPH0897197A - 横型熱処理炉 - Google Patents

横型熱処理炉

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Publication number
JPH0897197A
JPH0897197A JP22918694A JP22918694A JPH0897197A JP H0897197 A JPH0897197 A JP H0897197A JP 22918694 A JP22918694 A JP 22918694A JP 22918694 A JP22918694 A JP 22918694A JP H0897197 A JPH0897197 A JP H0897197A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat treatment
stem
treatment furnace
horizontal heat
peripheral surface
Prior art date
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Pending
Application number
JP22918694A
Other languages
English (en)
Inventor
Kuniaki Koga
邦明 古賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH0897197A publication Critical patent/JPH0897197A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 チューブ本体のネック部と反応ガスバーナの
ステムとの密着性を向上させ、危険なガスのリークを完
全に防止することができる横型熱処理炉を得ることを目
的とする。 【構成】 この発明の横型熱処理炉は、反応ガスバーナ
50のステム40を、バーナ5A、5Bを所定の間隔で
支持する共通の石英製円板41とこの円板41の円周か
らその円板に対して直角に各バーナ5A、5Bの先端部
の方に向けて形成した石英製環状袴42とから構成し、
そしてこの環状袴42の内周面に凹溝43を形成して、
この凹溝43に耐熱性で弾性のOリング13を嵌め込
み、この状態のステム40をチューブ本体2のネック部
3Aの結合部31にの外周面に嵌め込み、装着して、チ
ューブ本体2と一体に密着、結合させいる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、反応ガスを燃焼させ
て表面に絶縁膜などを成膜するための、被加工物、例え
ば、半導体ウエハなどの表面処理用横型熱処理炉に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】先ず、図2及び図3を用いて、従来技術
の横型熱処理炉を説明する。なお、被加工物として半導
体ウエハを採り挙げ、この半導体ウエハの表面に絶縁膜
を形成する場合を説明する。図2は従来技術の横型熱処
理炉の模式図で、同図Aはその断面側面図、同図Bは同
図AのA−A線上の断面図あり、図3は図2に示した横
型熱処理炉のチューブ本体のネック部と複数本のバーナ
を支持したステム部の結合構造を拡大して示した一部断
面図である。
【0003】図2において、符号1は全体としてこの横
型熱処理炉を指す。この横型熱処理炉1は石英製のチュ
ーブ本体2で形成されている。このチューブ本体2の一
端には、図3に示したような構造の結合部31を備えた
ネック部3が形成されていて、石英製のステム4に支持
された反応ガスバーナ5がこの結合部31の内周面に嵌
め込まれ、そしてチューブ本体2の他端には全面が開口
した出入口6に、その出入口6を開閉するシャッタ7が
取り付けられている。前記結合部31からチューブ本体
2の入口まではガス燃焼室32であり、このガス燃焼室
32からチューブ本体2の中程までは反応室8であり、
この反応室8と前記出入口6との間にはガス排気部9が
形成されていて、図2Aに示したように、このガス排気
部9はチューブ本体2の側壁に形成された小さな開口1
0とこの開口10に通じた排気管11とで構成されてい
る。
【0004】前記反応ガスバーナ5は、図3に拡大して
図示したように、2本のバーナ5Aとバーナ5Bとが互
いに平行状態で、そして前記ネック部3の管壁と平行に
なるように前記ステム4で支持されている。そのためこ
のステム4は、前記2本のバーナ5A、5Bを互いに平
行状態で支持するための平行に形成された円板状の支持
板4A、4Bとこれら支持板4A、4Bの円周に沿う石
英製の円筒4Cとで構成されており、この円筒4Cを前
記ネック部3の結合部31の内周面に掏り合わせて嵌め
込み、前記バーナ5A、5Bが前記ネック部3の管壁に
対して平行になるように、そしてそれらバーナ5A、5
Bの先端部がネック部3の直径方向の中央部に位置する
ように支持された構造になっている。これら石英製の各
バーナ5A、5Bと石英製のステム4は溶着されて一体
的に構成されている。
【0005】前記バーナ5Aの先端部には点火プラグ5
1が固定されており、赤外線を集光、照射することによ
り加熱され、同じくその先端部に開けられた噴射孔52
から供給される供給ガスを燃焼させる。また、一方のバ
ーナ5Bの先端部の側面にも噴射孔53が形成されてい
て、この噴射孔53から前記のガスと異なるガスが供給
されるようになっている。なお、この横型熱処理炉1
は、図示していないが、前記チューブ本体2のほぼ全長
にわたって、その全周面を覆う円筒状に構成されたヒー
タに装着され、加熱されるものである。
【0006】このような構成の横型熱処理炉1でシリコ
ンの半導体ウエハSの表面を酸化し、絶縁膜を生成する
場合には、図2に示したように、石英製のボート12に
複数枚の半導体ウエハを所定の間隔で互いに平行に保持
し、シャッタ7を開け、出入口6からチューブ本体2の
前記反応室8に挿入し、そしてシャッタ7を閉めた後、
前記ヒーターで加熱しながら、バーナ5Aから水素ガス
2 と塩化水素ガスHClを、そしてバーナ5Bから酸
素ガスO2 を供給し、前記バーナ5Aの先端部に取り付
けてある点火プラグ51に赤外線を当てて加熱、燃焼さ
せる。従って、前記水素ガスH2 と酸素ガスO2 とが化
学反応を起こして水蒸気が発生し、前記塩素ガスHCl
で酸化を促進しながら、その水蒸気で各半導体ウエハS
の表面を酸化し、絶縁膜を生成する。使用済みの水蒸気
は前記ガス排気部9の開口10及び排気管11を通じて
外部に排気される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この横
型熱処理炉1においては、前記のように、ネック部3の
結合部31と反応ガスバーナ5との結合は、その結合部
31にステム4を摺り合わせて嵌め込んであるだけであ
るため、密着性が十分でなく、微量ではあるが、危険な
塩化水素ガスHClがリークしがちである。この塩化水
素ガスHClは有毒であり、人体に危険であるため微量
であっても完全に封じ込める必要がある。この発明は、
この有毒ガスのリークを防止することを課題とするもの
である。
【0008】
【課題を解決するための手段】それ故、この発明の横型
熱処理炉は、半導体ウエハを、開口した一端から石英製
チューブ本体の反応室に収納し、そのチューブ本体の他
端のネック部の結合部に、共通の石英製ステムで支持さ
れた複数本のバーナが結合されていて、それらのバーナ
から反応ガスをプロセス部に供給し、それらの反応ガス
を燃焼させて前記被加工物の表面に絶縁膜などを成膜す
る横型熱処理炉において、前記ステムを前記複数本のバ
ーナを所定の間隔で支持する共通の石英製円板とこの円
板の円周からその円板に対して直角に形成された石英製
環状袴とから構成し、その環状袴の内周面の直径は前記
ネック部の外周面の直径と同等か僅かに大で、その環状
袴の内周面に凹溝を形成し、この凹溝に耐熱性で弾性の
Oリングを嵌め込み、このOリングが嵌め込まれた状態
のステムを前記ネック部の結合部の外周面に嵌め込んで
チューブ本体と一体に結合して、前記課題を解決した。
【0009】
【作用】従って、この発明のステムはOリングが弾性を
備えており、しかも熱処理時にネック部の結合部の石英
ガラスが膨張して、その結合部の外形が僅かではあるが
広がるため、ネック部とステムとの密着性が向上し、危
険なガスのリークを完全に防止することができる。
【0010】
【実施例】次に、図を用いて、この発明の横型熱処理炉
1Aを説明する。図1はこの発明の横型熱処理炉のチュ
ーブ本体のネック部と複数本のバーナを支持したステム
部の結合構造を拡大して示した一部断面図である。な
お、従来技術の横型熱処理炉の構成部分と同一の構成部
分には同一の符号を付して、それらの説明を省略する。
【0011】図1には図3と同様なチューブ本体2のネ
ック部3のみを図示した。図1において、この発明のチ
ューブ本体2のネック部3にも、従来技術のものと同様
の結合部31が形成されている。
【0012】一方、この発明における反応ガスバーナ5
0のステム40は、前記バーナ5A、5Bを所定の間隔
で支持する共通の石英製円板41とこの円板41の円周
からその円板に対して直角に各バーナ5A、5Bの先端
部の方に向けて形成された石英製環状袴42とから構成
されている。この環状袴42の内周面の直径は前記結合
部31の外周面の直径と同等か僅かに大きく形成する。
そしてこの環状袴42の内周面に凹溝43を形成し、こ
の凹溝43に耐熱性で弾性のOリング13を嵌め込む。
【0013】このようにOリング13が嵌め込まれた状
態のステム40を前記構造の前記ネック部3の結合部3
1の外周面に嵌め込み、装着すると、反応ガスバーナ5
0Aをチューブ本体2に一体に密着、結合させることが
できる。
【0014】
【発明の効果】以上、説明したように、この発明の横型
熱処理炉によれば、ステムはOリングが弾性を備えてお
り、しかも熱処理時にネック部の結合部の空気密閉室内
の空気及び石英ガラスが膨張して、その結合部の外形が
広がるため、ネック部の結合部とステムとの密着性が向
上し、危険なガスのリークを完全に防止することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の横型熱処理炉のチューブ本体のネ
ック部と複数本のバーナを支持したステム部の結合構造
を拡大して示した一部断面図である。
【図2】 従来技術の横型熱処理炉の模式図で、同図A
はその断面側面図、同図Bは同図AのA−A線上の断面
図である。
【図3】 図2に示した横型熱処理炉のチューブ本体の
ネック部と複数本のバーナを支持したステム部の結合構
造を拡大して示した一部断面図である。
【符号の説明】
1 横型熱処理炉 2 チューブ本体 3 ネック部 31 結合部 33 空気密閉室 40 ステム 41 円板 42 環状袴 43 凹溝 5A バーナ 5B バーナ 50 反応ガスバーナ 51 点火プラグ 52 噴射孔 53 噴射孔

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被加工物を、開口した一端から石英製チ
    ューブ本体のプロセス部に収納し、そのチューブ本体の
    他端のネック部の結合部に、共通の石英製ステムで支持
    された複数本のバーナが結合されていて、それらのバー
    ナから反応ガスを反応室に供給し、それらの反応ガスを
    燃焼させて前記被加工物の表面に絶縁膜などを成膜する
    横型熱処理炉において、前記ステムは前記複数本のバー
    ナを所定の間隔で支持する共通の石英製円板とこの円板
    の円周からその円板に対して直角に形成された石英製環
    状袴とから構成されており、その環状袴の内周面の直径
    は前記ネック部の外周面の直径と同等か僅かに大で、そ
    の環状袴の内周面には凹溝が形成されており、この凹溝
    に耐熱性のOリングを嵌め込み、このOリングが嵌め込
    まれた状態のステムを前記ネック部の結合部の外周面に
    嵌め込んでチューブ本体と一体に結合したことを特徴と
    する横型熱処理炉。
JP22918694A 1994-09-26 1994-09-26 横型熱処理炉 Pending JPH0897197A (ja)

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JP22918694A JPH0897197A (ja) 1994-09-26 1994-09-26 横型熱処理炉

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JPH0897197A true JPH0897197A (ja) 1996-04-12

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