JPH09100114A - 合成石英ガラス粉の製造方法 - Google Patents

合成石英ガラス粉の製造方法

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JPH09100114A
JPH09100114A JP25999495A JP25999495A JPH09100114A JP H09100114 A JPH09100114 A JP H09100114A JP 25999495 A JP25999495 A JP 25999495A JP 25999495 A JP25999495 A JP 25999495A JP H09100114 A JPH09100114 A JP H09100114A
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JP
Japan
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quartz glass
synthetic quartz
glass powder
gel
alkoxysilane
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JP25999495A
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Takanobu Katsuki
隆伸 香月
Yoshio Suguro
芳雄 勝呂
Shoji Oishi
昭二 大石
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高純度石英ガラス製品の原料に適した、合成
石英ガラス粉を得る。 【解決手段】 アルコキシシランの加水分解により得ら
れたシリカゲルの粉末を焼成して合成石英ガラス粉を製
造するにあたり、加水分解に用いた反応容器からウェッ
トゲルを排出した後に、該反応容器内部の洗浄を行い、
該洗浄に用いた洗浄液を排出した後に、再び原料を仕込
むことを特徴とする合成石英ガラス粉の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体分野、及び、
光ケーブル等に使用される合成石英ガラス粉、特に1000
℃以上の高温度領域で使用される半導体製造用超高純度
石英ガラス製品の原料として好適な合成石英ガラス粉を
提供するものである。従来、半導体単結晶製造用のルツ
ボや治具等は、天然石英を粉砕して得た天然石英粉を溶
融して製造されていたが、天然石英は良質のものであっ
ても種々の金属不純物を含んでおり、純度の面から十分
満足し得るものではなかった。特に、半導体産業の高性
能化に伴って要求される高純度単結晶には、金属不純物
が混入すると半導体の性能に悪影響を与えるので、金属
不純物等の混入が懸念されるようなルツボや治具等を使
用することは出来ない。この為、最近では、合成による
高純度な石英ガラス粉末が必要になってきている。近
年、純度的にすぐれたケイ酸源として、アルコキシシラ
ンを原科としたゾル・ゲル法による石英ガラスが紹介さ
れている。例えば、特開昭 62一176928号公報には、ア
ルコキシシランを酸又はアルカリの存在下、加水分解し
てゲルを調製し、これを粉砕、乾燥した後、焼成して合
成石英ガラス粉を製造する方法が示されている。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】いわゆるゾル・ゲル法
による合成石英ガラス粉の製造は、種々の方法が提案さ
れており、例えばまず、原料としてアルコキシシラン等
の加水分解ゲル化可能な珪素化合物を用い、これを加水
分解・縮重合させてウエットゲルとし、副生したアルコ
ールや水を乾燥除去してドライゲルとする。このドライ
ゲルを焼成して合成石英ガラス粉を製造することが知ら
れている。ところが、この方法でスケールが大きな実装
生産ラインでの連続的運転を行なうと、焼成後、カーボ
ンの残留した黒色異物が合成石英粉中に大量に混入する
ことが本発明者らにより判明した。この黒色異物が合成
石英粉の製品中に混入すると、ルツボやインゴットに成
形するために溶融した際、COやCO2ガスとなって発
泡の原因となり、泡を含んだ石英ルツボや炉心管等は、
高温使用時の寸法安定性や、単結晶引き上げ時に泡が弾
けて液面揺動、結晶欠陥となる等の間題を引き起こす。
しかしながら、この黒色異物の発生を抑制する機構が十
分解明されていないため、製造上の制御ポイントは何な
のか解明できないまま今日に至っている。特にスケール
が大きな実装生産ラインでは、温度や加水分解反応の制
御が困難であり、また軸シール、バルブ等からのコンタ
ミなどもあり、原因を特定することは容易なことではな
く、合成石英粉の量産化において、大きな障害となって
いる。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記のよ
うな不都合のない合成石英ガラス粉末を得るため、鋭意
研究を重ねた結果、加水分解工程に用いる反応容器内部
を特定時期に洗浄をすることによって、熔融成形時に泡
の発生を抑えられる合成石英ガラス粉を得られることを
見出し、本発明に到達した。即ち、本発明は、アルコキ
シシランの加水分解により得られたシリカゲルの粉末を
焼成して合成石英ガラス粉を製造するにあたり、加水分
解に用いた反応容器からウェットゲルを排出した後に、
該反応容器内部の洗浄を行い、該洗浄に用いた洗浄液を
排出した後に、再び原料を仕込むことを特徴とする合成
石英ガラス粉の製造方法、に存する。
【0004】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の合成石英ガラス粉は、アルコキシシランを加水
分解して得られるシリカゲルを乾燥後、焼成して得られ
るものである。原料として用いられるアルコキシシラン
としてはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン
等のCl〜C4の低級アルコキシシラン或いはそのオリゴマ
ーが、黒色異物の残存が少なく好ましい。
【0005】水の使用量は通常、アルコキシシラン中の
アルコキシ基の1倍当量以上10倍当量以下から選択す
る。この際、必要に応じてアルコール類やエ一テル類等
の有機溶媒を混合してもよい。アルコールとしては、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等
が、エ一テルとしてはアセトン類が挙げられる。また、
触媒として塩酸、酢酸のような酸やアンモニアのような
アルカリを用いてもよいが、必ずしも必要ではない。高
純度の合成石英ガラス粉末を得る為、原料アルコキシシ
ラン、水、溶媒等使用する物質は、すべて高純度である
のが好適である。加水分解生成物を加熱することによっ
て直ちにゲルを得ることができるが、常温で放置しても
数時間でゲル化するので、加温の程度を調節することに
よってゲル化時間を調節することができる。
【0006】本発明ておいては、この加水分解・ゲル化
反応を行う反応容器の内部を、前回の加水分解・ゲル化
で生成したウェットゲルを排出した後、今回の原料仕込
み前に、洗浄することが肝要である。尚ここで「原料」
とは少なくともアルコキシシラン及び水をいうものと
し、「仕込み」とは反応容器への導入をいう。このよう
な操作を行うことにより、焼成により得られる合成石英
粉中に発生する黒色異物の発生を抑制できることを、本
発明者らは見出したのである。ここで、洗浄の程度は、
反応容器の内面全面を濡らす程度か、または、反応容器
内面のウェットゲルが付着している部分のうちの大部分
を濡らす程度であり、この洗浄の方法として、洗浄液を
張った容器内で攪拌を行なう方法や、ジェット洗浄やシ
ャワー洗浄などの方法が挙げられる。洗浄液には、残留
しても影響の少ないものが望ましく、具体的には、原料
であるアルコキシシランや水、反応中に生成するアルコ
ールなどが好ましい。これらのものを洗浄液として用い
た場合には、洗浄液の排出は、大部分を抜き出すといっ
た程度でよく、少々残っていても問題ない。水を用いる
場合は、目的製品である合成石英粉への異物混入等のお
それを防ぐため、超純水を用いるのが特に、好ましい。
【0007】洗浄を行う時期は、前回の加水分解・ゲル
化工程で得られたウェットゲルを反応容器より排出した
後、今回の原料仕込み前であれば、特に限定されない
が、好ましくはウェットゲル排出後1日以内、より好ま
しくは排出直後から遅くとも数時間以内に洗浄するの
が、本発明の効果が特に発揮され、好ましい。この洗浄
による黒色異物の抑制機構については、はっきりとして
いないが、以下の機構によるものではないかと思われ
る。洗浄を行なうことによって、 (イ)軸シールなどからのコンタミ物を反応容器外に除
去することができる。鉄粉などが残留し、黒色異物とし
て合成石英粉に混入することを防止できる。
【0008】(ロ)反応容器内壁に付着しているスケー
リング物を除去することができる。緻密な構造をもって
いるスケーリング物は、正常なシリカゲルと異なり、そ
の後の乾燥・焼成によっても容易に有機基由来のカーボ
ンが脱却せず、ゲルを焼成して得られる合成石英ガラス
粉中に黒色異物として残ることが、推測される。。スケ
ーリング物の剥離を、効果的に行なうために、反応容器
内壁にポリ四フッ化エチレン(「テフロン」:商標)等
の、ゲルの付着性の小さな材質を用いると一層よい効果
が得られる。
【0009】(ハ)特に洗浄液として水を用いた場合、
水洗によって、残留ウェットゲルの内部に水が浸透し、
ウェットゲル内部に存在している未反応有機基と反応し
て、焼成時に、カーボンが残留しなくなる。などの効果
によるものと考えられる。上述したアルコキシシランの
加水分解・ゲル化により得られたウェットゲルを予め乾
燥するか、或は、そのまま粉砕することにより、任意の
粒度に調製する。乾燥、粉砕、粒度調整は、公知の方法
を採用できる。ゲルでの粒度分布がこれを焼成して得ら
れる合成石英ガラス粉の粒度を支配するため、目的とす
る粒度分布を見込み、乾燥・焼成による粒子の収縮分を
考慮してシリカゲルの最適粒度を決めればよい。
【0010】通常は、1000ミクロン以下、好ましく
は、900ミクロン以下のウェットゲルとし、これを1
00℃以上で加熱し、水分及び加水分解反応で生成した
アルコール等の有機成分等を除去して水分含有量30重
量%以下、好ましくは20重量%以下、更に好ましく
は、1〜10重量%程度のドライゲルとすることができ
る。この加熱に先駆けるか或は加熱後に分級することに
よって、ドライゲルの粒度分布を100〜500ミクロ
ン程度としておけば、これを焼成して得られる合成石英
ガラス粉の粒度分布を容易に望ましい範囲に制御するこ
とができる。
【0011】このようにして得られた粉末状のドライゲ
ルを更に焼成し残基のカーボン及びシラノールを除去し
閉孔させ、合成石英ガラス粉とする。本発明により得ら
れる合成石英ガラス粉は、製品中に含まれる黒色異物の
量が極めて少なく、このような合成石英ガラス粉を溶融
成形すると、非常に泡の少ないインゴットやルツボを製
造することができる。
【0012】以下、実施例により、本発明を更に具体的
に説明する。
【0013】
【実施例】
実施例1 リボン型攪拌翼を有するジャケット付き横型円筒反応機
にテトラメトキシシラン25kgと超純水15kgを仕
込み、ジャケットに45℃の温水を通液しながら加水分
解・ゲル化を行い、得られたウェットゲルを撹拌翼を1
0rpmで回転して反応機底部に設けられたバルブより
排出した直後に、反応機に超純水40kgを仕込み、2
0rpmで攪拌を5分間行なった後、この内液を排出す
ることによって反応機の内面を洗浄した。その後、超純
水を15kg仕込み、テトラメトキシシランを25kg
仕込み、ジャケットに45℃の温水を通液後、20rp
mで30分間攪拌を行った。その後、攪拌を停止し、ジ
ャケットへの通液を続けながら内容物を30分間静置し
た。その後、再度攪拌翼の回転を開始し(10rp
m)、反応機底部のバルブを開放して、こぶし大の塊状
ゲルを反応機から取り出した。
【0014】この塊状ゲルをSUS304製コーンミル
型粉砕機で粉砕し、得られた粉状ゲルを真空乾燥機を用
いて、200℃、5時間で乾燥を行い、ドライゲルを得
た。このようにして得られたドライゲルの水分含液率
を、赤外線加熱ヒーターで160℃に加熱して恒量に達
した際の重量減少率から求めたところ、1%であった。
続いて、このドライゲルを分級して、106〜500μ
mの粒径に整えた。このドライゲル分級品を、石英ガラ
ス容器に30g仕込み、大気中で、800℃まで1時間
で昇温し、800℃で10分間保持した後、これを取り
出し急冷した。この焼成品中の黒色異物の数を目視で検
定した。その結果、製品10g(粒子数にして約100
万個)中に検出された黒色異物の個数は0個、すなわち
黒色異物は全く検出されなかった。再び上記の超純水4
0Kgを仕込む以降の操作を繰り返したところ、2個の
黒色異物を検出した。 比較例1 実施例1で用いた装置に、実施例1における2度目のウ
ェットゲル排出後、内面洗浄を行うことなく直ちに超純
水を15kg仕込み、更にテトラメトキシシランを25
kg仕込んだ後に、ジャケットに45℃の温水を通液
後、30分間攪拌を行った。その後、攪拌を停止し、内
容物を30分間静置した。その後、再度、攪拌翼の回転
を開始し、反応機底部に設置したバルブを開放して、塊
状ゲルを反応機から取り出した。その後の操作は、実施
例1と同様に行なった。その結果、製品10g中に、3
0個の黒色異物を検出した。同様の操作を繰り返した結
果、65個の黒色異物を検出した。
【0015】
【発明の効果】本発明により、高純度石英ガラス製品の
原料に適した合成石英ガラス粉を得ることができる。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルコキシシランの加水分解により得ら
    れたシリカゲルの粉末を焼成して合成石英ガラス粉を製
    造するにあたり、加水分解に用いた反応容器からウェッ
    トゲルを排出した後に、該反応容器内部の洗浄を行い、
    該洗浄に用いた洗浄液を排出した後に、再び原料を仕込
    むことを特徴とする合成石英ガラス粉の製造方法。
  2. 【請求項2】 アルコキシシランとしてテトラアルコキ
    シシランを用いることを特徴とする請求項1記載の合成
    石英ガラス粉の製造方法。
  3. 【請求項3】 テトラアルコキシシランとしてテトラメ
    トキシシランを用いることを特徴とする請求項2記載の
    合成石英ガラス粉の製造方法。
  4. 【請求項4】 水を用いて洗浄することを特徴とする請
    求項1〜3のいずれかに記載の合成石英ガラス粉の製造
    方法。
  5. 【請求項5】 超純水を用いて洗浄することを特徴とす
    る請求項4に記載の合成石英ガラス粉の製造方法。
  6. 【請求項6】 アルコールを用いて洗浄することを特徴
    とする請求項1〜4のいずれかに記載の合成石英ガラス
    粉の製造方法。
  7. 【請求項7】 アルコールがメタノールである請求項6
    記載の合成石英ガラス粉の製造方法。
  8. 【請求項8】 アルコキシシランを用いて洗浄すること
    を特徴とする請求項1〜7記載の合成石英ガラス粉の製
    造方法。
  9. 【請求項9】 アルコキシシランがテトラメトキシシラ
    ンである請求項8記載の合成石英ガラス粉の製造方法。
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EP96932838A EP0854113A4 (en) 1995-10-05 1996-10-07 SYNTHETIC QUARTZ GLASS POWDER, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND METHOD OF QUARTZ GLASS MOLDS
PCT/JP1996/002916 WO1997012837A1 (fr) 1995-10-05 1996-10-07 Poudre de verre de silice synthetique, son procede de production et procede de fabrication de moulages en verre de silice
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