JPH07157308A - 合成石英ガラス粉の製造方法 - Google Patents
合成石英ガラス粉の製造方法Info
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Abstract
石英ガラス粉。 【構成】 テトラアルコキシシランの加水分解により得
たシリカゲルの粉末を焼成することによりご合成石英ガ
ラス粉を製造する際、焼成時に該シリカゲル粉末を流動
させながら焼成することを特徴とする合成石英ガラス粉
の製造方法。
Description
000℃以上の高温度域で使用される超高純度石英ガラ
ス製品の原料として好適な石英ガラス粉を提供するもの
である。
具等は、天然石英を粉砕して得た天然石英粉を溶融して
製造されていたが、天然石英は良質のものであっても種
々の金属不純物を含んでおり、純度の面から十分満足し
得るものではなかった。特に、半導体産業の高性能化に
伴って要求される高純度単結晶には、金属不純物が混入
すると半導体の性能に悪影響を与えるので、金属不純物
等の混入が懸念されるようなルツボや治具等を使用する
ことは出来ない。この為、最近では、合成による高純度
な石英ガラス粉が必要になってきている。
アルコキシシランを原料としたゾル・ゲル法によるシリ
カガラスが紹介されている。例えば、特開昭62−17
6928号公報には、アルコキシシランを酸とアルカリ
の存在下、加水分解してゲルを調整し、これを粉砕、乾
燥した後、焼成して石英ガラス粉を製造する方法が示さ
れている。
成石英ガラス粉の製造では、原料としてアルコキシシラ
ンを用い、これを加水分解・縮重合させてウエットゲル
とし、更に副生したアルコールや水を乾燥除去してドラ
イゲルとする。ところが、アルコキシ基の100%が反
応してしまうわけではなく、一部がドライゲル中に結合
アルコキシ基として残留している。さらに、反応で副生
したアルコールも一部がドライゲル中に取り残されてい
る。実際、ドライゲル中のカーボン濃度を測定すると約
10,000〜15,000ppmである。
ボン分は燃焼除去されるが、一部が未燃カーボンとなっ
てガラス中に閉じこめられ黒色異物となることがある。
この黒色異物が合成石英粉の製品中に混入していると、
ルツボやインゴットに成形するために溶融した際、CO
やCO2 ガスとなって発泡の原因となる。このようにし
て得られた泡を含んだ石英ルツボや炉心管等では、高温
使用時の寸法安定性や、単結晶引き上げ時に泡が弾けて
液面揺動、結晶欠陥になる等の問題があった。
不都合のない合成石英ガラス粉を得るため、鋭意研究を
重ねた結果、ゾル・ゲル法による合成石英ガラス粉の製
造において、乾燥シリカゲル粉末を焼成する工程におい
て、該シリカゲル粉末を流動させることにより、製品中
の黒色異物が少なく、引いては溶融成形時に泡の少ない
合成石英ガラス粉を得ることが出来ることを見出し、本
発明に到達した。
る。本発明で対象となる合成石英ガラス粉は、アルコキ
シシランを加水分解して得られるシリカゲルを乾燥後、
焼成することにより得られる石英ガラス粉である。ゾル
ゲル法によるアルコキシシランの加水分解は、周知の方
法にしたがって、アルコキシシランと水を反応させるこ
とによって行なわれる。原料として用いられるアルコキ
シシランとしてはテトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン等のC1 〜C4 の低級アルコキシシラン或いは
そのオリゴマーが好ましい。
アルコキシ基の1倍当量以上10倍当量以下から選択す
る。この際、必要に応じてアルコール類やエーテル類等
の有機溶媒を混合してもよい。アルコールとしてはメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等が、
エーテルとしてはアセトン等が挙げられる。また、触媒
として塩酸、酢酸のような酸やアンモニウムのようなア
ルカリを用いてもよい。当然のことながら、高純度の石
英ガラス粉を得るには、ここで使用する原料アルコキシ
シラン、水、溶媒等この反応系に導入される物質は、す
べて高純度であることが必要である。
すれば直ちにゲルを得ることが出来るが、常温で放置し
ても数時間でゲル化するので、加温の程度を調節するこ
とによってゲル化時間を調節することが出来る。得られ
たゲルは細分化してから乾燥してもよいし、乾燥してか
ら細分化してもよい。乾燥シリカゲル粉末の粒径は、6
0〜900μm、好ましくは80〜800μmである。
ゲルの乾燥の程度については、H2 O含有量で通常、1
〜10重量%であり、通常、ゲルを真空中或いは不活性
ガス中で100〜200℃に加熱することにより行なわ
れる。
粉を、以下に述べる特定の焼成条件下で焼成する。すな
わち、空気雰囲気下乃至酸素濃度のより高い雰囲気下に
おいて、シリカゲル粉末を流動させながら、焼成を行な
うものである。この流動は、焼成の全期間行っても良い
が、以下に説明する要件を考慮して特定の温度領域のみ
を効果的に行っても良い。この様な温度領域としては、
ゲルが無孔化する1000℃以下、特に400〜800
℃の領域であり、且つこの領域で酸素温度を高めると本
発明の効果を向上させたり、焼成時間の短縮が図れる。
例えば、円筒型の石英容器にシリカゲル粉末を仕込み、
該円筒容器を回転させることにより、粉体層を流動させ
る方法がある。但し、粉体を流動させる方法としては、
特にこの方法に限定されるものではなく、例えば、ルツ
ボにシリカゲル粉末を仕込み、その下層部より、空気等
をバブリングさせる等の方法によっても行なうことが出
来る。通常、このシリカゲル粉末を静置した状態で焼成
を行なうと、粉体下層部まで、酸素の拡散が十分に行き
渡らず、カーボン含有物が完全に酸化されずに、未燃カ
ーボンとなって、黒色異物の発生原因となる。これに対
し、常に粉体層を流動させてやることにより、各シリカ
ゲル粒子は、十分に酸素と接触し、ひいては、黒色異物
の発生を大幅に押さえることが可能となった。ここで、
焼成時の、昇温速度としては、特に、ゲルの封孔前であ
る、800℃以下において、1000℃/Hr以下、好
ましくは、500℃/Hr以下としてやることが好まし
い。これよりも、急速に昇温を行なうと、カーボンが完
全に酸化される前に、ゲルが封孔し、黒色異物の発生を
押さえる効果が、あまり期待できない。また、途中、4
00〜800℃の範囲において、0.5〜5時間程度の
保持を行うのも効果的である。この場合、空気雰囲気で
は1.5〜5時間酸素高濃度下では0.5〜3時間が好
ましい。このようにして、最終的に、1000〜140
0℃まで焼成し、ゲルの無孔化を行い、合成シリカガラ
ス粉を得る。
粉体の流動を行なわずに焼成した物と比べ、極めて黒色
異物の少ないものとなる。この、黒色異物の極めて少な
いシリカガラス粉末を溶融成形すると、非常に泡の少な
いインゴットやルツボを製造することが出来る。
明するが、本発明は、その要旨を越えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。 実施例−1 撹拌槽に、テトラメトキシシランとこれに対して5倍当
量の水を仕込み、30℃の温度で1時間撹拌し、加水分
解反応によって均一なゾル溶液を得た。さらに、これを
塩化ビニル製のバットに移し、24時間放置して、ゲル
化させた。このゲルを、140℃の真空乾燥機を用いて
12時間乾燥を行なった後、100〜500μmの粒子
径に粒度調整を行なった。このようにして得られたシリ
カガラス粉末1.5kgを、ロータリーキルン型の電気
炉の、石英ガラス製内管に仕込んだ。この石英管の左側
から、空気を101/minで供給しながら、2rpm
で石英管を回転させ、200℃/Hrの昇温速度で12
00℃まで昇温し、この温度で10時間保持した。自然
冷却後、この合成石英ガラス粉末を取り出し、その中の
黒色異物の数を目視で調べたところ、8個であった。ま
た、この粉末を酸素−水素炎の加熱によるベルヌイ型溶
融装置を用いて溶融し、12mmφ×50mmのインゴ
ットを作製し、発泡状態を調べたところ、ごく小さな泡
が1個見られた。
0℃まで昇温し、この温度で2時間保持した後、さらに
200℃/Hrで1200℃まで昇温し、この温度で1
0時間保持する事により行なった。そして、同様に得ら
れた合成石英ガラス粉末中の黒色異物の数を目視で調べ
たところ、1個であった。さらに、この粉末でベルヌイ
法により12mmφ×50mmのインゴットを作製した
ところ、泡は皆無であった。
150mmφ×150mmHの石英ガラス製ルツボに
1.5kg仕込んだ。この時の、粉体層高は、120m
mであった。このルツボを、電気炉内にセットし、ルツ
ボ表面に空気を101/minで流しながら、200℃
/Hrで1200℃まで昇温し、この温度で10時間保
持した。自然冷却後、得られた合成石英ガラス粉末中の
黒色異物の数を目視で調べたところ、45個/kgであ
った。さらに、この粉末でベルヌイ法により、12mm
φ×50mmのインゴットを作製したところ、非常に多
くの泡(このうち0.5mmφ以上の大きな泡3個)が
見られた。
ス粉を得ることができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 テトラアルコキシシランの加水分解によ
り得たシリカゲルの粉末を焼成することにより合成石英
ガラス粉を製造するにあたり、焼成時に、該シリカゲル
粉末を流動させながら焼成することを特徴とする合成石
英ガラス粉の製造方法。 - 【請求項2】 焼成工程のうち、400〜800℃にお
いてシリカゲル粉末を流動させることを特徴とする請求
項1記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5306497A JPH07157308A (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5306497A JPH07157308A (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07157308A true JPH07157308A (ja) | 1995-06-20 |
Family
ID=17957741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5306497A Pending JPH07157308A (ja) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07157308A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08301614A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-19 | Mitsubishi Chem Corp | 合成石英粉の製造方法及び石英ガラス成形体の製造方法 |
| JP2001089169A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-03 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
-
1993
- 1993-12-07 JP JP5306497A patent/JPH07157308A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08301614A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-19 | Mitsubishi Chem Corp | 合成石英粉の製造方法及び石英ガラス成形体の製造方法 |
| JP2001089169A (ja) * | 1999-09-28 | 2001-04-03 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
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