JPH06340411A - 合成石英ガラス粉の製造方法 - Google Patents
合成石英ガラス粉の製造方法Info
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- JPH06340411A JPH06340411A JP12626293A JP12626293A JPH06340411A JP H06340411 A JPH06340411 A JP H06340411A JP 12626293 A JP12626293 A JP 12626293A JP 12626293 A JP12626293 A JP 12626293A JP H06340411 A JPH06340411 A JP H06340411A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 超高純度石英ガラス製品の原料として好適な
石英ガラス粉末を得る。 【構成】 テトラアルコキシシランを加水分解すること
により得られた湿潤シリカゲルを乾燥容器内で乾燥する
にあたり、前記乾燥容器として予めアルカリ金属系のア
ルカリ水溶液で内壁を洗浄したものを用いる。
石英ガラス粉末を得る。 【構成】 テトラアルコキシシランを加水分解すること
により得られた湿潤シリカゲルを乾燥容器内で乾燥する
にあたり、前記乾燥容器として予めアルカリ金属系のア
ルカリ水溶液で内壁を洗浄したものを用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造分野、特に
1,000℃以上の高温度域で使用される超高純度石英
ガラス製品の原料として好適な石英ガラス粉末を提供す
るものである。
1,000℃以上の高温度域で使用される超高純度石英
ガラス製品の原料として好適な石英ガラス粉末を提供す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体単結晶製造用のルツボや治
具等は、天然石英を粉砕して得た天然石英粉を溶融して
製造されていたが、天然石英は良質のものであっても種
々の金属不純物を含んでおり、純度の面から十分満足し
得るものではなかった。特に、半導体産業の高性能化に
伴って要求される高純度単結晶には、金属不純物が混入
すると半導体の性能に悪影響を与えるので、金属不純物
等の混入が懸念されるようなルツボや治具等を使用する
ことは出来ない。この為、最近では、合成による高純度
な石英ガラス粉末が必要になってきている。
具等は、天然石英を粉砕して得た天然石英粉を溶融して
製造されていたが、天然石英は良質のものであっても種
々の金属不純物を含んでおり、純度の面から十分満足し
得るものではなかった。特に、半導体産業の高性能化に
伴って要求される高純度単結晶には、金属不純物が混入
すると半導体の性能に悪影響を与えるので、金属不純物
等の混入が懸念されるようなルツボや治具等を使用する
ことは出来ない。この為、最近では、合成による高純度
な石英ガラス粉末が必要になってきている。
【0003】近年、純度的にすぐれたシリカ源として、
アルコキシシランを原料としたゾル・ゲル法によるシリ
カガラスが紹介されている。例えば、特開昭62−17
6928号公報には、アルコキシシランを酸またはアル
カリの存在下、加水分解してゲルを調製し、これを粉
砕、乾燥した後、焼成して石英ガラス粉末を製造する方
法が示されている。
アルコキシシランを原料としたゾル・ゲル法によるシリ
カガラスが紹介されている。例えば、特開昭62−17
6928号公報には、アルコキシシランを酸またはアル
カリの存在下、加水分解してゲルを調製し、これを粉
砕、乾燥した後、焼成して石英ガラス粉末を製造する方
法が示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】合成石英ガラス粉は、
アルコキシシランを加水分解、乾燥、粉砕して得られた
ドライゲルを1,000〜1,300℃まで焼成するこ
とにより得られる。ところが、このゲルの乾燥工程に使
用される乾燥容器は、使用頻度が増すに従って、その内
壁部分に膜状の付着物が生成してくることがある。これ
をそのまま放置して、乾燥回数を重ねていくと、膜状付
着物は、その厚みを増していき、そのうち、乾燥時に剥
離が起こり、製品中に薄片状の異物となって混入する。
この薄片状異物がその後の処理において、製品品質に何
ら影響を及ぼさないのであれば問題はないが、この薄片
状異物が、焼成工程において、その内部に未燃カーボン
を包含し、黒色異物となり易い事が判った。このように
カーボンがガラス層内部に包含されて黒色異物となって
しまうと、溶融して、ルツボやインゴットに成形する
際、ガス化して発泡の原因となり、非常に問題であっ
た。
アルコキシシランを加水分解、乾燥、粉砕して得られた
ドライゲルを1,000〜1,300℃まで焼成するこ
とにより得られる。ところが、このゲルの乾燥工程に使
用される乾燥容器は、使用頻度が増すに従って、その内
壁部分に膜状の付着物が生成してくることがある。これ
をそのまま放置して、乾燥回数を重ねていくと、膜状付
着物は、その厚みを増していき、そのうち、乾燥時に剥
離が起こり、製品中に薄片状の異物となって混入する。
この薄片状異物がその後の処理において、製品品質に何
ら影響を及ぼさないのであれば問題はないが、この薄片
状異物が、焼成工程において、その内部に未燃カーボン
を包含し、黒色異物となり易い事が判った。このように
カーボンがガラス層内部に包含されて黒色異物となって
しまうと、溶融して、ルツボやインゴットに成形する
際、ガス化して発泡の原因となり、非常に問題であっ
た。
【0005】
【課題を解決するための手段】発明者等は上記のような
不都合のない合成石英ガラス粉末を得るため、鋭意研究
を重ねた結果、ゾル・ゲル法による合成石英ガラス粉末
の製造において、ゲルの乾燥工程に使用する乾燥容器の
内部に付着した薄片状異物をアルカリ金属系のアルカリ
水溶液にて定期的に溶解洗浄することにより、製品粉末
中に薄片状異物の混入が無く、ひいては、ルツボやイン
ゴットへの溶融成形時に発泡の少ない合成石英ガラス粉
末を提供できることを見出し、本発明に到達した。
不都合のない合成石英ガラス粉末を得るため、鋭意研究
を重ねた結果、ゾル・ゲル法による合成石英ガラス粉末
の製造において、ゲルの乾燥工程に使用する乾燥容器の
内部に付着した薄片状異物をアルカリ金属系のアルカリ
水溶液にて定期的に溶解洗浄することにより、製品粉末
中に薄片状異物の混入が無く、ひいては、ルツボやイン
ゴットへの溶融成形時に発泡の少ない合成石英ガラス粉
末を提供できることを見出し、本発明に到達した。
【0006】以下、本発明につき、さらに詳細に説明す
る。本発明で対象となる合成石英ガラス粉は、アルコキ
シシランを加水分解して得られるシリカゲルを乾燥後、
焼成することにより得られる石英ガラス粉である。ゾル
・ゲル法によるアルコキシシランの加水分解は、周知の
方法に従って、アルコキシシランと水を反応させること
によって行なわれる。原料として用いられるアルコキシ
シランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン等のC1 〜C4 の低級アルコキシシラン或いは
そのオリゴマーが好ましい。
る。本発明で対象となる合成石英ガラス粉は、アルコキ
シシランを加水分解して得られるシリカゲルを乾燥後、
焼成することにより得られる石英ガラス粉である。ゾル
・ゲル法によるアルコキシシランの加水分解は、周知の
方法に従って、アルコキシシランと水を反応させること
によって行なわれる。原料として用いられるアルコキシ
シランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキ
シシラン等のC1 〜C4 の低級アルコキシシラン或いは
そのオリゴマーが好ましい。
【0007】水の使用量は通常、アルコキシシラン中の
アルコキシ基の1倍当量以上10倍当量以下から選択す
る。この際、必要に応じてアルコール類等の有機溶媒を
混合してもよい。アルコールとしては、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。
また、触媒として、塩酸、酢酸のような酸や、アンモニ
アのようなアルカリを用いてもよい。
アルコキシ基の1倍当量以上10倍当量以下から選択す
る。この際、必要に応じてアルコール類等の有機溶媒を
混合してもよい。アルコールとしては、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール等が挙げられる。
また、触媒として、塩酸、酢酸のような酸や、アンモニ
アのようなアルカリを用いてもよい。
【0008】当然のことながら、高純度の石英ガラス粉
末を得るには、ここで使用する原料アルコキシシラン、
水、溶媒等、この反応系に導入される物質は、すべて高
純度であるのが好適である。加水分解生成物をゲル化さ
せるには、加熱すれば直ちにゲルを得ることが出来る
が、常温で放置しても数時間でゲル化するので、加温の
程度を調節することによってゲル化時間を調節すること
が出来る。得られたゲルは細分化してから乾燥してもよ
いし、乾燥してから細分化してもよい。乾燥シリカゲル
粉末の粒径は、60〜900μm、好ましくは、80〜
800μmである。この乾燥は、通常、ゲルを真空中あ
るいは不活性ガス中で100〜200℃に加熱すること
により行なわれる。
末を得るには、ここで使用する原料アルコキシシラン、
水、溶媒等、この反応系に導入される物質は、すべて高
純度であるのが好適である。加水分解生成物をゲル化さ
せるには、加熱すれば直ちにゲルを得ることが出来る
が、常温で放置しても数時間でゲル化するので、加温の
程度を調節することによってゲル化時間を調節すること
が出来る。得られたゲルは細分化してから乾燥してもよ
いし、乾燥してから細分化してもよい。乾燥シリカゲル
粉末の粒径は、60〜900μm、好ましくは、80〜
800μmである。この乾燥は、通常、ゲルを真空中あ
るいは不活性ガス中で100〜200℃に加熱すること
により行なわれる。
【0009】本発明方法においては、アルカリ金属系の
アルカリ水溶液で、浸漬洗浄することにより、膜状付着
物(成分はSiO2 )が、珪酸アルカリの塩となって溶
解除去される。この時用いるアルカリ金属系のアルカリ
の種類としては、NaOH,KOH,Na2 CO3 ,K
2 CO3 等が適当であるが、珪酸アルカリの塩を形成す
るようなアルカリ金属系のアルカリであれば特にこれら
に限定されるものではない。また、用いる水溶液の濃度
としては、アルカリの種類や洗浄時の温度により異なる
が、0.01重量%〜10重量%位が適当である。この
濃度が、あまり低すぎると、溶解速度が遅く、膜状異物
の溶解可能量も小さくなるので好ましくない。アルカリ
浸漬洗浄時の温度としては、通常、20〜150℃、好
ましくは、60〜120℃がよい。洗浄温度が低い場合
には、溶解速度が遅いため、浸漬時間に長時間を要す。
例えば、1%のNaOH水溶液を用いて煮沸洗浄した場
合には、100〜500リットル程度の容器で90〜1
20分と、短時間で十分である。また、溶解洗浄する頻
度としては、乾燥容器の形態、乾燥方法、1回あたりの
乾燥仕込み量等によって異なるため、膜状付着物の成長
状態を見ながら決定するのが一般的である。通常10〜
100バッチにつき1回行なうのが好適であり、あまり
不必要に短い周期で洗浄しても、時間を要し工業的でな
い。
アルカリ水溶液で、浸漬洗浄することにより、膜状付着
物(成分はSiO2 )が、珪酸アルカリの塩となって溶
解除去される。この時用いるアルカリ金属系のアルカリ
の種類としては、NaOH,KOH,Na2 CO3 ,K
2 CO3 等が適当であるが、珪酸アルカリの塩を形成す
るようなアルカリ金属系のアルカリであれば特にこれら
に限定されるものではない。また、用いる水溶液の濃度
としては、アルカリの種類や洗浄時の温度により異なる
が、0.01重量%〜10重量%位が適当である。この
濃度が、あまり低すぎると、溶解速度が遅く、膜状異物
の溶解可能量も小さくなるので好ましくない。アルカリ
浸漬洗浄時の温度としては、通常、20〜150℃、好
ましくは、60〜120℃がよい。洗浄温度が低い場合
には、溶解速度が遅いため、浸漬時間に長時間を要す。
例えば、1%のNaOH水溶液を用いて煮沸洗浄した場
合には、100〜500リットル程度の容器で90〜1
20分と、短時間で十分である。また、溶解洗浄する頻
度としては、乾燥容器の形態、乾燥方法、1回あたりの
乾燥仕込み量等によって異なるため、膜状付着物の成長
状態を見ながら決定するのが一般的である。通常10〜
100バッチにつき1回行なうのが好適であり、あまり
不必要に短い周期で洗浄しても、時間を要し工業的でな
い。
【0010】上記のような方法を用いて定期的に乾燥容
器内壁を洗浄しながら、ゲルの乾燥を行ない、乾燥シリ
カゲル粉末を得る。このようにして得られる乾燥シリカ
ゲル粉末を、1000〜1400℃の温度範囲において
焼成・無孔化し、合成石英ガラス粉末を得る。製品粉末
中には、薄片状異物に起因する未燃カーボンを含んだ黒
色異物は、ほとんどみられず、この粉末を用いて、イン
ゴットを溶融成形すると、非常に泡の少ない透明なイン
ゴットを得ることが出来る。
器内壁を洗浄しながら、ゲルの乾燥を行ない、乾燥シリ
カゲル粉末を得る。このようにして得られる乾燥シリカ
ゲル粉末を、1000〜1400℃の温度範囲において
焼成・無孔化し、合成石英ガラス粉末を得る。製品粉末
中には、薄片状異物に起因する未燃カーボンを含んだ黒
色異物は、ほとんどみられず、この粉末を用いて、イン
ゴットを溶融成形すると、非常に泡の少ない透明なイン
ゴットを得ることが出来る。
【0011】
【実施例】以下実施例によって本発明を具体的に説明す
るが、本発明はその要旨をこえない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。
るが、本発明はその要旨をこえない限り、以下の実施例
に限定されるものではない。
【0012】参考例 内容積250リットルのコニカルドライヤー(円錐型乾
燥器)に、常温でテトラメトキシシラン50kgおよび
純水30kgを仕込みコニカルドライヤーを毎分6rp
mで20分間転動させ、両液の混合および加水分解反応
を行なった。反応熱によってドライヤーの気相部の温度
が65℃になると転動を停止しゲル化させた。常圧で3
0分間放置するとゲル化が完了し湿潤ゲル体が得られ
た。次に、コニカルドライヤーのジャケット部に3kg
/cm2 Gの水蒸気を流して加温し、さらに内部圧力を
100Torrに減圧し、6rpmで転動させながら、
内部気相部の温度が125℃に達するまで乾燥を行なっ
た。乾燥の終了した乾燥シリカゲル粉末は、コニカルド
ライヤーから抜き出され、100〜500μmに粒度調
整を行ない、以上の操作を繰り返し、同様の手順で2
0,40,60,80バッチ目のサンプルを採取した。
この際、各サンプリング毎に乾燥器内壁部の観察を行な
ったところ、40バッチ目付近で目視的にも膜状付着物
が生成してきたのが確認でき、60,80バッチ目で
は、さらに厚みを増し、一部が剥げ落ちているのが確認
された。次に、サンプリングした各サンプル1kgずつ
を1200℃まで200℃/Hrの速度で昇温し、12
00℃で5時間保持した。冷却後、各サンプルを取り出
し黒色異物の数を調べたところ、目視的に確認できるも
のが、1バッチ目は0個、20バッチ目で0個、40バ
ッチ目で2個、60バッチ目で5個、80バッチ目で7
個であった。さらに、各サンプルを酸素−水素炎の加熱
によるベルヌイ型溶融装置を用いて溶融し、12mmφ
×50mmのインゴットを作製し、発泡状態を調べた。
結果を表1に示すが、合格レベルのインゴットは、40
バッチ目までであり、60,80バッチ目は不合格であ
った。
燥器)に、常温でテトラメトキシシラン50kgおよび
純水30kgを仕込みコニカルドライヤーを毎分6rp
mで20分間転動させ、両液の混合および加水分解反応
を行なった。反応熱によってドライヤーの気相部の温度
が65℃になると転動を停止しゲル化させた。常圧で3
0分間放置するとゲル化が完了し湿潤ゲル体が得られ
た。次に、コニカルドライヤーのジャケット部に3kg
/cm2 Gの水蒸気を流して加温し、さらに内部圧力を
100Torrに減圧し、6rpmで転動させながら、
内部気相部の温度が125℃に達するまで乾燥を行なっ
た。乾燥の終了した乾燥シリカゲル粉末は、コニカルド
ライヤーから抜き出され、100〜500μmに粒度調
整を行ない、以上の操作を繰り返し、同様の手順で2
0,40,60,80バッチ目のサンプルを採取した。
この際、各サンプリング毎に乾燥器内壁部の観察を行な
ったところ、40バッチ目付近で目視的にも膜状付着物
が生成してきたのが確認でき、60,80バッチ目で
は、さらに厚みを増し、一部が剥げ落ちているのが確認
された。次に、サンプリングした各サンプル1kgずつ
を1200℃まで200℃/Hrの速度で昇温し、12
00℃で5時間保持した。冷却後、各サンプルを取り出
し黒色異物の数を調べたところ、目視的に確認できるも
のが、1バッチ目は0個、20バッチ目で0個、40バ
ッチ目で2個、60バッチ目で5個、80バッチ目で7
個であった。さらに、各サンプルを酸素−水素炎の加熱
によるベルヌイ型溶融装置を用いて溶融し、12mmφ
×50mmのインゴットを作製し、発泡状態を調べた。
結果を表1に示すが、合格レベルのインゴットは、40
バッチ目までであり、60,80バッチ目は不合格であ
った。
【0013】実施例1 参考例1において、40バッチを終了したところで、コ
ニカルドライヤー内に1%NaOH水溶液130リット
ルを仕込み、ジャケット部に3kg/cm2 Gの水蒸気
を流して加温し、6rpmの速度で転動させながら、1
時間、内壁部の煮沸洗浄を行なった。その後、容器内の
NaOH水溶液を抜き出し、容器内のNaOHを完全に
取り除くため超純水130リットルを仕込んで、6rp
mで5分間転動した後、抜き出す操作を5回繰り返し
た。洗浄後、再度、参考例1と同様の方法でゲルの加水
分解・乾燥を行ない、40バッチ目ごとにアルカリ洗浄
を行いながら運転を続けた。なお、アルカリ洗浄後の容
器内壁部を観察したところ、膜状付着物は完全に溶解除
去されていた。さらに、アルカリ洗浄後に乾燥させたシ
リカゲル中のNa濃度を測定したところ、0.01pp
m未満で、問題なかった。また、サンプリングは、4
0,41,80,81バッチ目で行ない、参考例1と同
様の評価を行なった。結果を表1に示す。
ニカルドライヤー内に1%NaOH水溶液130リット
ルを仕込み、ジャケット部に3kg/cm2 Gの水蒸気
を流して加温し、6rpmの速度で転動させながら、1
時間、内壁部の煮沸洗浄を行なった。その後、容器内の
NaOH水溶液を抜き出し、容器内のNaOHを完全に
取り除くため超純水130リットルを仕込んで、6rp
mで5分間転動した後、抜き出す操作を5回繰り返し
た。洗浄後、再度、参考例1と同様の方法でゲルの加水
分解・乾燥を行ない、40バッチ目ごとにアルカリ洗浄
を行いながら運転を続けた。なお、アルカリ洗浄後の容
器内壁部を観察したところ、膜状付着物は完全に溶解除
去されていた。さらに、アルカリ洗浄後に乾燥させたシ
リカゲル中のNa濃度を測定したところ、0.01pp
m未満で、問題なかった。また、サンプリングは、4
0,41,80,81バッチ目で行ない、参考例1と同
様の評価を行なった。結果を表1に示す。
【0014】比較例1 実施例1において、NaOH水溶液を用いずに、超純水
だけで同様の洗浄操作を40バッチ目ごとに行ないなが
ら乾燥器の運転を行ない、40,41,80,81バッ
チ目ごとにサンプリングを行なった。各サンプルは、実
施例1と同様の方法で評価を行なった。結果を表1に示
す。
だけで同様の洗浄操作を40バッチ目ごとに行ないなが
ら乾燥器の運転を行ない、40,41,80,81バッ
チ目ごとにサンプリングを行なった。各サンプルは、実
施例1と同様の方法で評価を行なった。結果を表1に示
す。
【0015】
【表1】
【0016】
【発明の効果】本発明により、発泡の無い透明な石英ガ
ラス製品を作るのに適した合成石英ガラス粉末を提供す
ることができる。
ラス製品を作るのに適した合成石英ガラス粉末を提供す
ることができる。
Claims (2)
- 【請求項1】 テトラアルコキシシランを加水分解する
ことにより得た湿潤シリカゲルを乾燥容器内で乾燥する
にあたり、前記乾燥容器として、予めアルカリ金属系の
アルカリ水溶液により容器内壁を洗浄したものを用いる
ことを特徴とする合成石英ガラス粉末の製造方法。 - 【請求項2】 アルカリ水溶液がアルカリ金属の水酸化
物または炭酸塩である請求項1の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12626293A JPH06340411A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12626293A JPH06340411A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06340411A true JPH06340411A (ja) | 1994-12-13 |
Family
ID=14930834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12626293A Pending JPH06340411A (ja) | 1993-05-27 | 1993-05-27 | 合成石英ガラス粉の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06340411A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0803469A4 (ja) * | 1995-01-12 | 1997-11-19 |
-
1993
- 1993-05-27 JP JP12626293A patent/JPH06340411A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0803469A4 (ja) * | 1995-01-12 | 1997-11-19 |
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