JPH09100338A - 保護膜形成用組成物 - Google Patents
保護膜形成用組成物Info
- Publication number
- JPH09100338A JPH09100338A JP25854795A JP25854795A JPH09100338A JP H09100338 A JPH09100338 A JP H09100338A JP 25854795 A JP25854795 A JP 25854795A JP 25854795 A JP25854795 A JP 25854795A JP H09100338 A JPH09100338 A JP H09100338A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- weight
- composition
- acid
- polymer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
上に、表面の平坦性の高い保護膜を形成することができ
る保護膜形成用組成物を提供すること。 【構成】 (A)下記一般式(1)で表される構成単位
を少なくとも20重量%含有してなり、かつ、ポリスチ
レン換算重量平均分子量が2000〜10000である
重合体または共重合体と、(B)多価カルボン酸無水物
および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の
化合物と、(C)有機溶剤とを含有してなることを特徴
とする。 【化1】 〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアル
キル基を示し、mは、1〜8の整数を示す。〕
Description
物に関し、特に、光デバイスに用いられる保護膜を形成
するために好適な保護膜形成用組成物に関する。
その製造工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液等によ
る浸漬処理が行なわれ、また、スパッタリングにより配
線電極層を形成する際には、素子の表面が局部的に高温
に曝される。従って、このような処理によって素子が劣
化あるいは損傷することを防止するために、これらの処
理に対して耐性を有する薄膜の保護膜を素子の表面に設
けることが行なわれている。
を形成すべき基体または下層、さらに保護膜上に形成さ
れる層に対して接着性が高いものであること、膜自体が
平滑で強靱であること、透明性を有するものであるこ
と、耐熱性および耐光性が高く、長期間にわたって着
色、黄変、白化等の変質を起こさないものであること、
耐水性、耐溶剤性、耐酸性および耐アルカリ性に優れた
ものであること等の性能が要求される。これらの諸特性
を満たす保護膜を形成するための材料としては、例えば
特開昭60−217230号公報等に開示されている熱
硬化性組成物が知られている。このような熱硬化性組成
物においては、当該熱硬化性組成物を、保護膜を形成す
べき基体の表面に塗布した後、この塗膜を加熱処理して
硬化させることにより、保護膜を形成することができ
る。
(STN)方式のカラー液晶表示素子においては、ツイ
ステッドネマチック(TN)方式の液晶表示素子と比較
して、セルギャップの均一性が極めて重要である。従っ
て、STN方式のカラー液晶表示素子に用いられる基板
としては、その表面の平坦性が高いものであることが要
求される。表面の平坦性の低い基板を用いると、得られ
る液晶表示素子に表示むらが発生するからである。
れた基板においては、その表面にカラーフィルターによ
る凹凸が形成されている。そして、このカラーフィルタ
ーが形成された基板に、従来の熱硬化性組成物を用いて
保護膜を形成すると、表面の平坦性の高い保護膜を得る
ことが困難であった。
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
表面が平坦でない基体であっても、当該基体上に、表面
の平坦性の高い保護膜を形成することができる保護膜形
成用組成物を提供することにある。
成物は、(A)下記一般式(1)で表される構成単位を
少なくとも20重量%含有してなり、かつ、ポリスチレ
ン換算重量平均分子量が2000〜10000である重
合体または共重合体と、(B)多価カルボン酸無水物お
よび多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化
合物と、(C)有機溶剤とを含有してなることを特徴と
する。
1〜5のアルキル基を示し、mは、1〜8の整数を示
す。〕
物について具体的に説明する。本発明の保護膜形成用組
成物は、特定の構造単位を特定の割合で含有する重合体
または共重合体(以下、「特定の重合体」という。)よ
りなる成分(A)と、多価カルボン酸無水物または多価
カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物より
なる成分(B)と、有機溶剤よりなる成分(C)とを含
有してなるものである。
る特定の重合体は、上記一般式(1)で表される構造単
位を含有してなるものである。上記一般式(1)におい
て、mは1〜8、好ましくは1〜4の整数である。ま
た、Rは、水素原子または炭素原子数が1〜5の低級ア
ルキル基である。この低級アルキル基は、直鎖状のもの
および分岐鎖状のものの何れであってもよく、例えばメ
チル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、te
rt−ブチル基、n−ペンチル基等を挙げることができ
る。
るために使用される単量体(以下、「特定の単量体」と
もいう。)としては、例えば(メタ)アクリル酸グリシ
ジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロ
ピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸
グリシジル、(メタ)アクリル酸−3,4−エポキシブ
チル、(メタ)アクリル酸−4,5−エポキシペンチ
ル、(メタ)アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、
α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル等を
挙げることができる。これらの中で、特に(メタ)アク
リル酸グリシジルが好ましい。これらの単量体は、単独
でまたは2種以上を組み合わせて使用することができ
る。
においては、上記一般式(1)で表される構造単位が、
当該重合体中に少なくとも20重量%含まれていること
が必要とされ、好ましくは30〜90重量%、より好ま
しくは60〜85重量%である。
は、上記一般式(1)で表される構造単位のみからなる
ものであっても、これらの以外の構造単位が80重量%
以下、好ましくは70〜10重量%、より好ましくは4
0〜15重量%の割合で含有されてなるものであっても
よい。
造単位を導入するための単量体(以下、「その他の単量
体」ともいう。)としては、例えば(メタ)アクリル酸
メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル
酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、
(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸シク
ロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、
(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル、
(メタ)アクリル酸イソボニル等の(メタ)アクリル酸
のエテスル;スチレン、α−メチルスチレン、p−メチ
ルスチレン、ビニルナフタレン等のビニル芳香族系化合
物を挙げることができる。これらの単量体は、単独でま
たは2種以上を組み合わせて使用することができる。
は、ポリスチレン換算重量平均分子量(以下、単に「重
量平均分子量」または「Mw」という。)が2000〜
10000の範囲のものとされる。特に、重量平均分子
量が2000以上5000未満の特定の重合体を用いる
ことにより、表面の平坦性が極めて高い保護膜を得るこ
とができる。 重量平均分子量が2000未満である重
合体を用いる場合には、当該組成物による塗膜を形成す
ることが困難となる。一方、重量平均分子量が1000
0を超える重合体を用いる場合には、表面の平坦性が高
い保護膜を得ることが困難となる。
は、例えば、特定の単量体、または特定の単量体とその
他の単量体とを、重合溶媒中で重合することにより製造
される。
重合溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等の
アルコール類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチル
エチルエーテル等のグリコールエーテル類、メチルセロ
ソルブアセテート等のセロソルブエステル類が挙げら
れ、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類等も用い
ることができる。
の単量体との重合のための重合開始剤としては、一般的
にラジカル重合開始剤として知られているものを使用す
ることができ、その具体例としては、2,2’−アゾビ
スイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2,4
−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス−
(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等
のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペ
ルオキシド、tert−ブチルペルオキシピバレート、
1,1’−ビス−(tert−ブチルペルオキシ)シク
ロヘキサン等の有機過酸化物;および過酸化水素が挙げ
られる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を使用する
場合には、これと還元剤とを組み合わせてレドックス型
重合開始剤として使用してもよい。
分子量を調節するために、分子量調節剤を使用すること
ができ、その具体例としては、クロロホルム、四臭化炭
素等のハロゲン化炭化水素類;n−ヘキシルメルカプタ
ン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプ
タン、tert−ドデシルメルカプタン、チオグリコー
ル酸等のメルカプタン類;ジメチルキサントゲンジスル
フィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等の
キサントゲン類;ターピノーレン、α−メチルスチレン
ダイマー等が挙げられる。
表される構造単位とこれら以外の構造単位とを含有する
特定の重合体を用いる場合には、当該重合体は、特定の
単量体とその他の単量体とのランダム共重合体およびブ
ロック共重合体のいずれであってよい。
る多価カルボン酸無水物または多価カルボン酸は、成分
(A)として用いられる特定の重合体の硬化剤として作
用するものである。
無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無
水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マ
レイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテト
ラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸等の脂肪族ジカル
ボン酸無水物;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン
酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物
等の脂環族多価カルボン酸二無水物;無水フタル酸、無
水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸無水
物;エチレングリコールビス無水トリメリテート、グリ
セリントリス無水トリメリテート等のエステル基含有酸
無水物を挙げることができる。これらの中では、形成さ
れる保護膜の耐熱性の観点から、特に芳香族多価カルボ
ン酸無水物が好適である。
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテトラカル
ボン酸、マレイン酸、イタコン酸等の脂肪族多価カルボ
ン酸;ヘキサヒドロフタル酸、1,2−シクロヘキサン
ジカルボン酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボ
ン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等の脂環族多価
カルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、
トリメリット酸、ピロメリット酸、1,2,5,8−ナ
フタレンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸を
例示することができる。これらの中では、組成物の反応
性、形成される保護膜の耐熱性等の観点から、芳香族多
価カルボン酸が好適である。これらの多価カルボン酸無
水物または多価カルボン酸は、単独でまたは2種以上を
組み合わせて使用することができる。
(A)100重量部に対して1〜100重量部、好まし
くは3〜50重量部である。成分(B)の使用割合が1
重量部未満である場合には、形成される保護膜は十分な
架橋密度を有するものとならず、当該保護膜の各種耐性
が低下することがある。一方,成分(B)の使用割合が
100重量部を超える場合には、形成される保護膜中に
未反応の成分(B)が多量に残存し、その結果、当該保
護膜の性質が不安定なものとなったり、基板に対する保
護膜の密着性が低下したりすることがある。
としては、上記の成分(A)、成分(B)および後述す
るその他の成分を均一に溶解させることができ、これら
の各成分と反応しないものが用いられる。このような有
機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール等の
アルコール類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;メ
チルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテー
ト等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート
類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類;プ
ロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコ
ールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエ
ーテル、プロピレングリコールブチルエーテル等のプロ
ピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレン
グリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコール
ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールア
ルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールメ
チルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエ
チルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプ
ロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコール
ブチルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコー
ルアルキルエーテルプロピオネート類;トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペン
タノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒド
ロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ
酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、
乳酸ブチル、3−ヒドロキシプロピオン酸メチル、3−
ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−ヒドロキシプロピ
オン酸プロピル、3−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、
2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸プロピル、メトキ
シ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロ
ピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エト
キシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸
ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチ
ル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、
ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢
酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2−メトキシプロピ
オン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−
メトキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオ
ン酸ブチル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エ
トキシプロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸
プロピル、2−エトキシプロピオン酸ブチル、2−ブト
キシプロピオン酸メチル、2−ブトキシプロピオン酸エ
チル、2−ブトキシプロピオン酸プロピル、2−ブトキ
シプロピオン酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチ
ル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプ
ロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチ
ル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプ
ロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、3−エトキシプロピオン酸ブチル、3−プロポキシ
プロピオン酸メチル、3−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、3−プロポキシプロピオン酸プロピル、3−プロポ
キシプロピオン酸ブチル、3−ブトキシプロピオン酸メ
チル、3−ブトキシプロピオン酸エチル、3−ブトキシ
プロピオン酸プロピル、3−ブトキシプロピオン酸ブチ
ル等のエステル類が挙げられる。
との反応性および塗膜の形成のしやすさの観点から、グ
リコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエー
テルアセテート類、エステル類およびジエチレングリコ
ール類が好ましく用いられる。これらの有機溶剤は、単
独でまたは2類種以上を組み合わせて使用することがで
きる。
を併用することもできる。このような高沸点溶剤の具体
例としては、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチ
ルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエ
チルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセト
ン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタ
ノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベ
ンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン
酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸
プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等が挙げら
れる。これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種以上を
組み合わせて上記の有機溶剤と併用することができる。
ず、使用目的に応じて適宜選定することができるが、通
常、組成物中の固形分濃度が5〜50重量%となる割合
で使用される。
成物においては、上述した成分(A)〜成分(C)以外
に、形成される保護膜の基板に対する密着性を付与する
ため、成分(D)としてアルコキシシラノ基とエポキシ
基とを有する化合物を用いることができ、また、必要に
応じて、例えば硬化促進剤、界面活性剤、エポキシ樹
脂、紫外線吸収剤等が含有されていてもよい。
とができるアルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する
化合物の具体例としては、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルジエトキシシラン等を挙げることができ、これら
の化合物は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用
することができる。
(A)100重量部に対して0.1〜200重量部、好
ましくは5〜150重量部である。成分(D)の割合が
0.1重量部未満である場合には、形成される保護膜の
基板に対する密着性を付与する効果が十分に得られな
い。一方、成分(D)の割合が200重量部を超える場
合には、形成される保護膜の耐アルカリ性、耐溶剤性等
が低下することがある。
と成分(B)との反応を促進させるために使用されるも
のであり、一般に2級窒素原子または3級窒素原子を含
むヘテロ環構造を有する化合物が用いられる。このよう
な化合物の具体例としては、ピロール、イミダゾール、
ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、インド
ール、インダゾール、ベンズイミダゾール若しくはイソ
シアヌル酸またはこれらの誘導体等を挙げることができ
る。これらの中でも、2−メチルイミダゾール、2−エ
チル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミ
ダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、1
−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−エチル−4
−メチル−1−(2’−シアノエチル)イミダゾール、
2−エチル−4−メチル−1−[2’−(3”,5”−
ジアミノトリアジニル)エチル]イミダゾール、ベンズ
イミダゾール等のイミダゾール誘導体が好適であり、最
も好適には、2−エチル−4−メチルイミダゾール、4
−メチル−2−フェニルイミダゾールおよび1−ベンジ
ル−2−メチルイミダゾールが使用される。これらの化
合物は、単独でまたは2種以上を組み合わせて硬化促進
剤として使用することができる。硬化促進剤は、成分
(A)100重量部に対して0〜30重量部、特に0.
1〜10重量部の割合で使用されることが好ましい。
素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を好適に
用いることができる。フッ素系界面活性剤としては、末
端、主鎖および側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオ
ロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物
が好適に用いることができ、その具体例としては、1,
1,2,2−テトラフロロオクチル(1,1,2,2−
テトラフロロプロピル)エーテル、1,1,2,2−テ
トラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレン
グリコールジ(1,1,2,2−テトラフロロブチル)
エーテル、ヘキサエチレングリコール(1,1,2,
2,3,3−ヘキサフロロペンチル)エーテル、オクタ
プロピレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフロ
ロブチル)エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ
(1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロペンチル)エ
ーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、
1,1,2,2,8,8,9,9,10,10−デカフ
ロロドデカン、1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロ
デカン等を挙げることができる。また、これらの市販品
としては、BM−1000、BM−1100(以上、B
M Chemie社製)、メガファックF142D、同
F172、同F173、同F183(以上、大日本イン
キ化学工業(株)製)等を挙げることができる。
例えばトーレシリコーンDC3PA、同SH7PA、同
DC11PA、同SH21PA、同SH28PA、同S
H29PA、同SH30PA(以上、トーレシリコーン
(株)製)、TSF−4440、TSF−4300、T
SF−4445、TSF−4446、TSF−446
0、TSF−4452(以上、東芝シリコーン(株)
製)等の商品名で市販品されているものを挙げることが
できる。
以上を組み合わせて使用することができる。界面活性剤
の使用割合は、その種類や組成物を構成する各成分の種
類や割合等によっても異なるが、一般に、成分(A)1
00重量部に対して0〜5重量部、特に0.001〜2
重量部の範囲が好適である。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルア
ミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂等を用いる
ことができる。
成用組成物は、前記特定の重合体よりなる成分(A)
と、多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選
択された少なくとも一種の化合物よりなる成分(B)
と、有機溶剤よりなる成分(C)と、更に必要に応じて
用いられる、アルコキシシラノ基とエポキシ基とを有す
る化合物よりなる成分(D)、硬化促進剤、界面活性剤
およびエポキシ樹脂等とを含有してなる溶液状組成物と
して用いられる。この溶液状組成物の30℃における溶
液粘度は、3〜25cPs、特に5〜14cPsである
ことが好ましい。本発明の組成物において、30℃にお
ける溶液粘度が3〜25cPsのものを用いることによ
り、後述する方法により測定される平坦化度が20%以
下の塗膜を形成することができる。更に本発明の組成物
において、30℃における溶液粘度が5〜14cPsの
ものを用いることにより、平坦化度が15%以下の塗膜
を形成することができる。
成物を用いることにより、例えば次のようにして保護膜
を形成することができる。すなわち、保護膜形成用組成
物を、保護膜を形成すべき基体の表面に塗布し、その
後、この塗膜を加熱処理して硬化させることにより、保
護膜を形成する。
方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロ
ールコート法、回転塗布法(スピンコート法)等の各種
の方法を採用することができる。加熱処理の条件は、組
成物中の各成分の種類および割合等によっても異なる
が、通常、150〜250℃で0.2〜1.5時間程度
である。
れる保護膜は、以下の実施例から明らかなように、表面
の平坦性が高く、しかも、各種の物性に優れたものであ
り、例えばカラーフィルター等の光デバイス用の保護膜
として極めて好適である。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。なお、下記の実施例において、特定の重合体の
重量平均分子量(Mw)の測定および保護膜形成用組成
物の溶液の粘度の測定は、以下の方法により行った。 重量平均分子量:東ソー社製GPCカラム(TSK g
el G2000H 2本,G3000H 1本,G4
000H 1本)を用い、流量1.0ミリリットル/
分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度40℃の
分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパー
ミエーションクロマトグラフ法により測定した。 粘度:E型粘度計(東京計器社製)を用い、30℃にお
ける粘度を測定した。
ート80重量部、その他の単量体としてメチルメタクリ
レート20重量部を用い、これらの単量体をエチルセロ
ソルブアセテート300重量部中に添加混合し、この混
合単量体溶液中に、重合開始剤としてアゾビスイソブチ
ロニトリル(以下、「AIBN」という。)2重量部、
分子量調節剤としてドデシルメルカプタン5重量部を添
加した後、95℃で3時間の条件で混合単量体を重合さ
せることにより、特定の重合体(A1)を含有する重合
体溶液を得た。その後、得られた重合体溶液を多量のメ
タノール中に滴下することにより、特定の重合体(A
1)を凝固させた。この特定の重合体(A1)の凝固物
を水洗した後、テトラヒドロフラン中に溶解させ、この
溶液を多量のメタノール中に滴下することにより、再
度、特定の重合体(A1)を凝固させた。この特定の重
合体(A1)の溶解および凝固の操作を合計3回行った
後、得られた凝固物を60℃で48時間真空乾燥するこ
とにより、特定の重合体(A1)の精製を行った。この
特定の重合体(A1)を濃度が25重量%となるように
成分(C)であるエチルセロソルブアセテート中に溶解
することにより、重合体溶液(S1)を調製した。な
お、得られた特定の重合体(A1)の重量平均分子量は
2100であった。
ルメタクリレート60重量部、その他の単量体としてジ
シクロペンタニルメタクリレート4重量部を用いたこと
以外は合成例1と同様にして、特定の重合体(A2)を
得、これを精製し、重合体溶液(S2)を調製した。な
お、得られた特定の重合体(A2)の重量平均分子量は
3200であった。
メルカプタン3重量部を用いたこと以外は合成例1と同
様にして、特定の重合体(A3)を得、これを精製し、
重合体溶液(S3)を調製した。なお、得られた特定の
重合体(A3)の重量平均分子量は7900であった。
ルメタクリレート70重量部、その他の単量体としてメ
チルメタクリレート20重量部およびスチレン10重量
部を用いたこと以外は合成例1と同様にして、特定の重
合体(A4)を得、これを精製し、重合体溶液(S4)
を調製した。なお、得られた特定の重合体(A4)の重
量平均分子量は4100であった。
合開始剤としてAIBN5重量部を用いたこと以外は合
成例1と同様にして、特定の重合体(A5)を得、これ
を精製し、重合体溶液(S5)を調製した。なお、得ら
れた特定の重合体(A5)の重量平均分子量は4900
であった。
ルメタクリレート70重量部、その他の単量体としてス
チレン30重量部を用いたこと以外は合成例1と同様に
して、特定の重合体(A6)を得、これを精製し、重合
体溶液(S6)を調製した。なお、得られた特定の重合
体(A6)の重量平均分子量は3000であった。
ルスチレンダイマー5重量部を用いたこと以外は合成例
1と同様にして、特定の重合体(A7)を得、これを精
製し、重合体溶液(S7)を調製した。なお、得られた
特定の重合体(A7)の重量平均分子量は4000であ
った。
ず、重合開始剤としてAIBN1重量部を用い、80℃
で3時間の条件で混合単量体を重合したこと以外は合成
例1と同様にして、比較用重合体(A8)を得、これを
精製し、比較用の重合体溶液(S8)を調製した。な
お、得られた比較用重合体(A8)の重量平均分子量は
32000であった。
ったこと以外は合成例1と同様にして、比較用重合体
(A9)を得、比較用の重合体溶液(S9)を調製し
た。得られた比較用重合体(A9)の重量平均分子量は
16000であった。
量部を成分(C)であるエチルセロソルブアセテート2
5重量部で希釈した後、この溶液(特定の重合体(A
1)25重量部およびエチルセロソルブアセテート10
0重量部)中に、成分(B)としてトリメリット酸無水
物7.5重量部、成分(D)としてγ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン5重量部、硬化促進剤として
1−ベンジル−2−メチルイミダゾール0.075重量
部、および界面活性剤としてフッ素系界面活性剤「BM
−1000(BM Chemie社製)0.025重量
部を添加し、十分に攪拌することにより、本発明の保護
膜形成用組成物を得た。この保護膜形成用組成物の溶液
粘度は7.6cPsであった。
膜形成用組成物を膜厚が2μmとなるように塗布し、ク
リーンオーブン中で、200℃で1時間の条件で加熱処
理することにより、ガラス基板上に保護膜を形成した。 形成例(2) ガラス基板「コーニング7059(ダクラス ダウコー
ニング社製)」上に、ゼラチンと重クロム酸カリウム溶
液を用いて、染色法によりストライプ状の赤、青、緑の
3色のカラーフィルターを形成した(ストライプ幅15
0μm)。このカラーフィルターが形成された基板の表
面の凹凸を、「α−ステップ」(テンコール社製)を用
いて調べたところ、1.0μmであった。この基板に形
成されたカラーフィルター上に、上記形成例(1)と同
様にして、保護膜形成用組成物の塗布、加熱処理を行う
ことにより、保護膜を形成した。
着性試験のうち、8.5・2碁盤目テープ法に従って、
上記形成例(1)および形成例(2)により形成された
保護膜に100個の碁盤目をカッターナイフで形成して
付着性試験を行い、剥離した碁盤目の数を測定し、次の
基準により保護膜の密着性の評価を行った。 ○:5個以下 △:6〜49個 ×:50個以上
0)8.4の鉛筆引っかき試験のうち、8.4・1試験
法に準拠し、上記形成例(1)により形成された保護膜
について鉛筆引っかき試験を行い、保護膜の表面硬度の
評価を行った。
形成されたガラス基板を、20重量%塩化水素水溶液中
に40℃で10分間浸漬した後、保護膜の外観の変化を
調べることにより、保護膜の耐酸性の評価を行った。
護膜が形成されたガラス基板を、10重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に40℃で60分間浸漬した後、保護膜
の外観の変化を調べることにより、保護膜の耐アルカリ
性の評価を行った。
形成されたガラス基板について、波長400〜700n
mにおける透過スペクトルを測定し、その後、この基板
をクリーンオーブン中にて250℃で60分間加熱した
後、波長400〜700nmにおける透過スペクトルを
測定し、加熱前後における透過スペクトルの変化を調
べ、下記の基準により、保護膜の耐熱性の評価を行っ
た。 ○:透過スペクトルの変化が1%未満 ×:透過スペクトルの変化が1%以上
成された保護膜の表面の凹凸を、「α−ステップ」を用
いて調べ、下記の式により、カラーフィルターによる基
板の表面の凹凸に対する平坦化度を算出した。以上の結
果を表1に示す。
わりに、それぞれ重合体溶液(S2)〜重合体溶液(S
7)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、本発明
の保護膜形成用組成物を調製し、これらを用いて保護膜
を形成し、その評価を行った。結果を表1に示す。
樹脂10重量部を添加したこと以外は実施例1と同様に
して、本発明の保護膜形成用組成物を調製し、これを用
いて保護膜を形成し、その評価を行った。結果を表1に
示す。
に、比較用の重合体溶液(S8)を用いたこと以外は実
施例1と同様にして、比較用の組成物を調製し、これを
用いて保護膜を形成し、その評価を行った。結果を表1
に示す。
に、比較用の重合体溶液(S9)を用いたこと以外は実
施例1と同様にして、比較用の組成物を調製し、これを
用いて保護膜を形成し、その評価を行った。結果を表1
に示す。
例8に係る保護膜形成用組成物により形成された保護膜
は、表面の平坦性が高く、しかも、各種の物性に優れた
ものであった。これに対し、比較例1および比較例2に
係る組成物においては、重量平均分子量が10000を
超える重合体を使用しているため、表面の平坦性の高い
保護膜を形成することができなかった。
表面が平坦でない基体であっても、当該基体上に、表面
の平坦性の高い保護膜を形成することができる。また、
本発明の組成物により形成された保護膜は、表面硬度が
高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性等の各種の耐性に
優れたものである。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)下記一般式(1)で表される構成
単位を少なくとも20重量%含有してなり、かつ、ポリ
スチレン換算重量平均分子量が2000〜10000で
ある重合体または共重合体と、 (B)多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から
選択された少なくとも1種の化合物と、 (C)有機溶剤とを含有してなることを特徴とする保護
膜形成用組成物。 【化1】 〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアル
キル基を示し、mは、1〜8の整数を示す。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25854795A JP3579985B2 (ja) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | 保護膜形成用組成物および保護膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25854795A JP3579985B2 (ja) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | 保護膜形成用組成物および保護膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09100338A true JPH09100338A (ja) | 1997-04-15 |
| JP3579985B2 JP3579985B2 (ja) | 2004-10-20 |
Family
ID=17321753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25854795A Expired - Fee Related JP3579985B2 (ja) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | 保護膜形成用組成物および保護膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3579985B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003066454A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 配向膜の形成方法 |
| JP2006219596A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物及びその硬化物を用いた光学部材 |
| US10854661B2 (en) | 2015-01-21 | 2020-12-01 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device, infrared-absorbing composition, and flattened-film-forming curable composition |
-
1995
- 1995-10-05 JP JP25854795A patent/JP3579985B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003066454A (ja) * | 2001-08-29 | 2003-03-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | 配向膜の形成方法 |
| JP2006219596A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Hitachi Chem Co Ltd | 樹脂組成物及びその硬化物を用いた光学部材 |
| US10854661B2 (en) | 2015-01-21 | 2020-12-01 | Jsr Corporation | Solid-state imaging device, infrared-absorbing composition, and flattened-film-forming curable composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3579985B2 (ja) | 2004-10-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2961722B2 (ja) | 感放射線性樹脂組成物 | |
| US20140011916A1 (en) | Thermally curable resin composition with good coatability and re-coatability | |
| JPH0578453A (ja) | 保護膜材料 | |
| JP2000103937A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
| JP2000119472A (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
| JP2003066604A (ja) | スペーサー用感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよび液晶表示素子 | |
| TWI830897B (zh) | 感光性樹脂組成物、使所述感光性樹脂組成物硬化而成的硬化膜、及具有所述硬化膜的顯示裝置 | |
| KR100662679B1 (ko) | 평탄화막용 경화성 조성물 및 평탄화막 | |
| JP2001064357A (ja) | 硬化性組成物並びにこれを用いた絶縁膜、カラーフィルタ保護膜、カラーフィルタ及び液晶表示素子 | |
| JP3387195B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物およびそれから形成された保護膜 | |
| JP4915500B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、カラーフィルタの保護膜の形成方法、およびカラーフィルタの保護膜 | |
| JP3152038B2 (ja) | カラーフィルタの保護塗膜形成用熱硬化性組成物およびカラーフィルタ用保護塗膜 | |
| JP3994428B2 (ja) | 硬化性組成物 | |
| JP2001158816A (ja) | 硬化性組成物およびカラーフィルタ保護膜 | |
| JP3579985B2 (ja) | 保護膜形成用組成物および保護膜 | |
| JP3321858B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物 | |
| JP2003128957A (ja) | 保護膜形成用硬化性組成物、保護膜の形成方法、および保護膜 | |
| JP2003029405A (ja) | 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起材およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子 | |
| JPH038652B2 (ja) | ||
| JPH061944A (ja) | コーティング用樹脂組成物およびこれを用いたカラーフィルタ保護膜用樹脂組成物 | |
| JP3586933B2 (ja) | 硬化性組成物および保護膜並びに保護膜の製造方法 | |
| JP3151975B2 (ja) | 耐熱性感放射線性樹脂組成物 | |
| JP2692313B2 (ja) | 熱硬化性組成物 | |
| JPH10212448A (ja) | 硬化塗膜用樹脂組成物、これを用いたカラーフィルタ保護膜、カラーフィルタおよび液晶表示素子 | |
| JPH11326623A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタの保護膜用樹脂組成物及びその保護膜用樹脂組成物を用いた液晶表示装置用カラーフィルタ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040629 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040712 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080730 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080730 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090730 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090730 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090730 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100730 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100730 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110730 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110730 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120730 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120730 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120730 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |