JPH09101524A - 液晶装置の製造方法、液晶装置及び情報伝達装置 - Google Patents
液晶装置の製造方法、液晶装置及び情報伝達装置Info
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- JPH09101524A JPH09101524A JP28242195A JP28242195A JPH09101524A JP H09101524 A JPH09101524 A JP H09101524A JP 28242195 A JP28242195 A JP 28242195A JP 28242195 A JP28242195 A JP 28242195A JP H09101524 A JPH09101524 A JP H09101524A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 配向不良が無く、均一で良好な配向状態を有
し、高信頼性及び高品質の液晶装置を得る。 【解決手段】 印刷膜を焼成して形成した塗布型絶縁膜
１４ａ，ｂと、この上に印刷された印刷膜を焼成して形
成した配向制御膜１５ａ，ｂとを有する基板を用いた液
晶セルを具備する液晶装置の製造方法において、前記各
印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことを特徴とする。 【効果】 印刷液中の溶媒を完全に除去することがで
き、残留溶媒による液晶の汚染を防止できる。
し、高信頼性及び高品質の液晶装置を得る。 【解決手段】 印刷膜を焼成して形成した塗布型絶縁膜
１４ａ，ｂと、この上に印刷された印刷膜を焼成して形
成した配向制御膜１５ａ，ｂとを有する基板を用いた液
晶セルを具備する液晶装置の製造方法において、前記各
印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことを特徴とする。 【効果】 印刷液中の溶媒を完全に除去することがで
き、残留溶媒による液晶の汚染を防止できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶装置及びこれ
を用いた情報伝達装置に関し、特に強誘電性液晶を用い
た液晶装置における液晶分子の配向制御技術に関する。
を用いた情報伝達装置に関し、特に強誘電性液晶を用い
た液晶装置における液晶分子の配向制御技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、クラーク（Ｃｌａｒｋ）及びラガ
ーヴァル（Ｌａｇｅｒｗａｌ）により双安定性を有する
液晶を用いた液晶装置が提案されている（特開昭５６−
１０７２１６号公報、米国特許第４、３６７、９２４号
明細書等）。双安定性を有する液晶としては、一般にカ
イラルスメクティックＣ相（ＳｍＣ* ）又はＨ相（Ｓｍ
Ｈ* ）を有する強誘電性液晶が用いられる。この液晶は
電界に対して第１の光学的安定状態と第２の光学的安定
状態とからなる双安定状態を有している。従って、ＴＮ
型の液晶装置の様に光学変調を利用したものでなく、電
界が印加された時、この電界ベクトルに対して液晶分子
が配向することを利用している。即ち、第１の光学的安
定状態及び第２の光学的安定状態は印加される電界に依
存して液晶分子が配向したものである。また、この型の
液晶は、加えられる電界に極めて速やかに応答し、且
つ、電界が印加されない時、前の印加状態を維持する特
性を有する。このような性質を利用することにより、Ｔ
Ｎ型液晶装置の持つ視野角特性の悪さ等の多くの問題点
が本質的に改善される可能性がある。
ーヴァル（Ｌａｇｅｒｗａｌ）により双安定性を有する
液晶を用いた液晶装置が提案されている（特開昭５６−
１０７２１６号公報、米国特許第４、３６７、９２４号
明細書等）。双安定性を有する液晶としては、一般にカ
イラルスメクティックＣ相（ＳｍＣ* ）又はＨ相（Ｓｍ
Ｈ* ）を有する強誘電性液晶が用いられる。この液晶は
電界に対して第１の光学的安定状態と第２の光学的安定
状態とからなる双安定状態を有している。従って、ＴＮ
型の液晶装置の様に光学変調を利用したものでなく、電
界が印加された時、この電界ベクトルに対して液晶分子
が配向することを利用している。即ち、第１の光学的安
定状態及び第２の光学的安定状態は印加される電界に依
存して液晶分子が配向したものである。また、この型の
液晶は、加えられる電界に極めて速やかに応答し、且
つ、電界が印加されない時、前の印加状態を維持する特
性を有する。このような性質を利用することにより、Ｔ
Ｎ型液晶装置の持つ視野角特性の悪さ等の多くの問題点
が本質的に改善される可能性がある。
【０００３】上記液晶装置は、通常、透明電極が形成さ
れた透明基板上に塗布型絶縁膜を印刷・焼成し、その上
に配向制御膜を印刷・焼成し、配向処理を施し、該処理
された２枚の透明基板を貼り合わせ、液晶を注入するこ
とによって得られる。尚、上記各印刷膜の焼成は、塗布
型絶縁膜は大気中で、配向制御膜は不活性ガス雰囲気下
で通常行われる。
れた透明基板上に塗布型絶縁膜を印刷・焼成し、その上
に配向制御膜を印刷・焼成し、配向処理を施し、該処理
された２枚の透明基板を貼り合わせ、液晶を注入するこ
とによって得られる。尚、上記各印刷膜の焼成は、塗布
型絶縁膜は大気中で、配向制御膜は不活性ガス雰囲気下
で通常行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記液
晶装置の製造の際、前記各印刷膜の焼成を大気中或は不
活性ガス中で行うと、印刷液に含まれる溶媒を十分に除
去することができず、膜中に残留する場合があった。こ
の残留溶媒は、液晶注入時に液晶を汚染し、この汚染さ
れた液晶が進行とともに注入口の奥側に追いやられるた
めに、注入口奥側で配向不良が発生する問題があった。
晶装置の製造の際、前記各印刷膜の焼成を大気中或は不
活性ガス中で行うと、印刷液に含まれる溶媒を十分に除
去することができず、膜中に残留する場合があった。こ
の残留溶媒は、液晶注入時に液晶を汚染し、この汚染さ
れた液晶が進行とともに注入口の奥側に追いやられるた
めに、注入口奥側で配向不良が発生する問題があった。
【０００５】本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、
残留溶媒による配向不良を無くし、均一で良好な配向を
得、高信頼性・高品質の液晶装置及び情報伝達装置を得
ることを目的とする。
残留溶媒による配向不良を無くし、均一で良好な配向を
得、高信頼性・高品質の液晶装置及び情報伝達装置を得
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成すべく成
された本発明の構成は、以下の通りである。
された本発明の構成は、以下の通りである。
【０００７】即ち、本発明の第一は、印刷膜を焼成して
形成した配向制御膜を有する基板を用いた液晶セルを具
備する液晶装置の製造方法において、前記印刷膜の焼成
を真空雰囲気下で行うことを特徴とする液晶装置の製造
方法にある。
形成した配向制御膜を有する基板を用いた液晶セルを具
備する液晶装置の製造方法において、前記印刷膜の焼成
を真空雰囲気下で行うことを特徴とする液晶装置の製造
方法にある。
【０００８】また、本発明の第二は、印刷膜を焼成して
形成した塗布型絶縁膜と、該絶縁膜上に印刷された印刷
膜を焼成して形成した配向制御膜とを有する基板を用い
た液晶セルを具備する液晶装置の製造方法において、前
記各印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことを特徴とす
る液晶装置の製造方法にある。
形成した塗布型絶縁膜と、該絶縁膜上に印刷された印刷
膜を焼成して形成した配向制御膜とを有する基板を用い
た液晶セルを具備する液晶装置の製造方法において、前
記各印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことを特徴とす
る液晶装置の製造方法にある。
【０００９】また、本発明の第三は、上記本発明第一ま
たは第二の製造方法により製造された液晶装置にある。
たは第二の製造方法により製造された液晶装置にある。
【００１０】更に、本発明の第四は、データ信号及び走
査方式信号を出力するグラフィックコントローラーと、
走査線アドレスデータ及び走査方式信号を出力する走査
信号制御回路と、表示データ及び走査方式信号を出力す
る情報信号制御回路とを有し、情報を表示・伝達する情
報伝達装置（例えば、液晶表示装置）において、上記本
発明第三の液晶装置を備えることを特徴とする情報伝達
装置にある。
査方式信号を出力するグラフィックコントローラーと、
走査線アドレスデータ及び走査方式信号を出力する走査
信号制御回路と、表示データ及び走査方式信号を出力す
る情報信号制御回路とを有し、情報を表示・伝達する情
報伝達装置（例えば、液晶表示装置）において、上記本
発明第三の液晶装置を備えることを特徴とする情報伝達
装置にある。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明に係る配向制御膜の材料と
しては、例えばポリビニルアルコール、ポリイミド、ポ
リアミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポ
リパラキシリレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリスチレ
ン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂やアク
リル樹脂などの有機物質を挙げることができる。この配
向制御膜の膜厚は、通常１００Å〜１０００Å程度に設
定され、ラビング処理等により配向規制力が付与され
る。
しては、例えばポリビニルアルコール、ポリイミド、ポ
リアミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド、ポ
リパラキシリレン、ポリエステル、ポリカーボネート、
ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリスチレ
ン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂やアク
リル樹脂などの有機物質を挙げることができる。この配
向制御膜の膜厚は、通常１００Å〜１０００Å程度に設
定され、ラビング処理等により配向規制力が付与され
る。
【００１２】本発明に係る塗布型絶縁膜の形成には、例
えばＳｉ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，Ａｌ等のうち少なくとも
１元素を含む有機金属化合物を印刷液として用いること
ができる。この塗布型絶縁膜の膜厚は、通常１００Å〜
２０００Å程度に設定される。尚、この塗布型絶縁膜
は、一層のみならず多層形成される場合もある。
えばＳｉ，Ｔｉ，Ｔａ，Ｚｒ，Ａｌ等のうち少なくとも
１元素を含む有機金属化合物を印刷液として用いること
ができる。この塗布型絶縁膜の膜厚は、通常１００Å〜
２０００Å程度に設定される。尚、この塗布型絶縁膜
は、一層のみならず多層形成される場合もある。
【００１３】本発明によれば、上記配向制御膜及び塗布
型絶縁膜を形成する際に、上記材料を含む印刷液を用い
て形成した印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことによ
り、印刷液に含まれる溶媒を完全に除去することができ
る。このため、上記配向制御膜及び塗布型絶縁膜を形成
した基板を用いてセルを構成し、これに液晶を注入する
際に、従来のように残留溶媒により液晶が汚染されるこ
とはない。
型絶縁膜を形成する際に、上記材料を含む印刷液を用い
て形成した印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことによ
り、印刷液に含まれる溶媒を完全に除去することができ
る。このため、上記配向制御膜及び塗布型絶縁膜を形成
した基板を用いてセルを構成し、これに液晶を注入する
際に、従来のように残留溶媒により液晶が汚染されるこ
とはない。
【００１４】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。
る。
【００１５】図１は、本発明の一実施例に係る液晶装置
の上視図であり、図２は、その断面図である。図２に示
されるように、この液晶装置は、一対の平行に配置した
上基板１１ａおよび下基板１１ｂと、それぞれの基板に
配置した複数の帯状透明電極１２ａ，ｂを備えている。
さらにその上に、ショート防止用の無機絶縁体膜１３
ａ，ｂ、ショート防止補助のための塗布型絶縁膜１４
ａ，ｂ、配向制御膜１５ａ，ｂをそれぞれ備えている。
これらの基板の間隙は液晶層１６内に散布されたビーズ
スペーサー１７によって規定されており、また端部はシ
ール接着剤１８により接着されていて、内部には強誘電
性液晶１６が注入されている。
の上視図であり、図２は、その断面図である。図２に示
されるように、この液晶装置は、一対の平行に配置した
上基板１１ａおよび下基板１１ｂと、それぞれの基板に
配置した複数の帯状透明電極１２ａ，ｂを備えている。
さらにその上に、ショート防止用の無機絶縁体膜１３
ａ，ｂ、ショート防止補助のための塗布型絶縁膜１４
ａ，ｂ、配向制御膜１５ａ，ｂをそれぞれ備えている。
これらの基板の間隙は液晶層１６内に散布されたビーズ
スペーサー１７によって規定されており、また端部はシ
ール接着剤１８により接着されていて、内部には強誘電
性液晶１６が注入されている。
【００１６】以下、具体例を示す。
【００１７】［実施例１］１．１ｍｍ厚のガラス基板１
１ａ，ｂに透明電極１２ａ，ｂとしてＩＴＯ（Ｉｎｄｉ
ｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）をスパッタ法で約７００Å
成膜し、ホトリソグラフ法でストライプ状の電極とし
た。尚、透明電極の材料はＩＴＯに限らず、例えばＩｎ
2 Ｏ3 等を用いることもできる。
１ａ，ｂに透明電極１２ａ，ｂとしてＩＴＯ（Ｉｎｄｉ
ｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）をスパッタ法で約７００Å
成膜し、ホトリソグラフ法でストライプ状の電極とし
た。尚、透明電極の材料はＩＴＯに限らず、例えばＩｎ
2 Ｏ3 等を用いることもできる。
【００１８】その上に無機絶縁体膜１３ａ，ｂとしてＴ
ａ2 Ｏ5 膜をスパッタ法により約９００Å成膜した。
尚、無機絶縁体膜の材料はＴａ2 Ｏ5 に限らず、ＳｉＯ
2 等を用いることもできる。
ａ2 Ｏ5 膜をスパッタ法により約９００Å成膜した。
尚、無機絶縁体膜の材料はＴａ2 Ｏ5 に限らず、ＳｉＯ
2 等を用いることもできる。
【００１９】その上にＴｉ−Ｓｉ塗布型絶縁膜１４ａ，
ｂを印刷・焼成により形成し、さらにその上にポリイミ
ド配向制御膜１５ａ，ｂを同じく印刷・焼成により形成
した。焼成は両膜とも１×１０-6Ｔｏｒｒの真空度の真
空雰囲気下で、２４０℃のホットプレート上で５分間行
った。
ｂを印刷・焼成により形成し、さらにその上にポリイミ
ド配向制御膜１５ａ，ｂを同じく印刷・焼成により形成
した。焼成は両膜とも１×１０-6Ｔｏｒｒの真空度の真
空雰囲気下で、２４０℃のホットプレート上で５分間行
った。
【００２０】次に、配向制御膜１５ａ，ｂにラビング処
理を施し配向規制力を付与した後、一方の基板にビーズ
スペーサー１７を散布し、他方の基板にシール接着剤１
８を塗布形成し、上下の基板を対向して貼り合わせて液
晶セルを作製した。
理を施し配向規制力を付与した後、一方の基板にビーズ
スペーサー１７を散布し、他方の基板にシール接着剤１
８を塗布形成し、上下の基板を対向して貼り合わせて液
晶セルを作製した。
【００２１】このようにして得られた液晶セルに液晶を
注入したところ、印刷膜中に有機溶媒が残留していない
ため、液晶が汚染されることがなく、液晶注入口の奥側
にも配向不良が発生せず、均一で良好な配向が得られ
た。
注入したところ、印刷膜中に有機溶媒が残留していない
ため、液晶が汚染されることがなく、液晶注入口の奥側
にも配向不良が発生せず、均一で良好な配向が得られ
た。
【００２２】［実施例２］実施例１において、塗布型絶
縁膜及び配向制御膜の焼成を、１×１０-6Ｔｏｒｒの真
空度の真空雰囲気下で、２００℃のホットプレート上で
５分間行った以外は、実施例１と全く同様にして液晶装
置を作製した。
縁膜及び配向制御膜の焼成を、１×１０-6Ｔｏｒｒの真
空度の真空雰囲気下で、２００℃のホットプレート上で
５分間行った以外は、実施例１と全く同様にして液晶装
置を作製した。
【００２３】本実施例においても、液晶注入口の奥側に
配向不良が発生せず、均一で良好な配向が得られた。
配向不良が発生せず、均一で良好な配向が得られた。
【００２４】［比較例］実施例１において、Ｔｉ−Ｓｉ
塗布型絶縁膜を印刷後、大気中にて、２４０℃のホット
プレート上で５分間焼成し、その上にポリイミド配向制
御膜を印刷し、Ｎ2 雰囲気下にて、２７０℃のホットプ
レート上で５分間焼成した以外は、実施例１と全く同様
にして液晶装置を作製した。
塗布型絶縁膜を印刷後、大気中にて、２４０℃のホット
プレート上で５分間焼成し、その上にポリイミド配向制
御膜を印刷し、Ｎ2 雰囲気下にて、２７０℃のホットプ
レート上で５分間焼成した以外は、実施例１と全く同様
にして液晶装置を作製した。
【００２５】以上のようにして得られた液晶装置では、
液晶注入口の奥側に配向不良が生じていた。これは、液
晶注入時に残留溶媒が液晶に付着混合し、液晶の進行と
ともにパネルの奥側に追いやられ、不純物成分が濃縮さ
れたためと考えられる。
液晶注入口の奥側に配向不良が生じていた。これは、液
晶注入時に残留溶媒が液晶に付着混合し、液晶の進行と
ともにパネルの奥側に追いやられ、不純物成分が濃縮さ
れたためと考えられる。
【００２６】［実施例３］次に、本発明に係る製造方法
による液晶装置を用いた情報伝達装置の実施例を説明す
る。図３はブロック図を示したもので情報伝達装置は、
グラフィックコントローラ５０と、駆動制御回路５１
と、走査信号制御回路５２と、情報信号制御回路５３
と、走査信号印加回路５４と、情報信号印加回路５５
と、液晶パネルＰＮ（先の実施例での液晶装置）とを有
している。そして、グラフィックコントローラ５０から
出力されるデータと走査方式信号は駆動制御回路５１に
より走査信号制御回路５２と情報信号制御回路５３とに
出力される。この際データはアドレスデータと表示デー
タに変換され、走査方式信号はそのまま走査信号印加回
路５４と情報信号印加回路５５に送られる。走査信号印
加回路５４は、走査方式信号によって決まる走査信号波
形を、アドレスデータによって決まる走査電極（不図
示）に出力し、また情報信号印加回路５５は、走査方式
信号と表示データによって送られる白又は黒の表示内容
との２つによって決まる情報信号波形を情報電極（不図
示）に出力して、液晶パネルＰＮに情報を表示する。
による液晶装置を用いた情報伝達装置の実施例を説明す
る。図３はブロック図を示したもので情報伝達装置は、
グラフィックコントローラ５０と、駆動制御回路５１
と、走査信号制御回路５２と、情報信号制御回路５３
と、走査信号印加回路５４と、情報信号印加回路５５
と、液晶パネルＰＮ（先の実施例での液晶装置）とを有
している。そして、グラフィックコントローラ５０から
出力されるデータと走査方式信号は駆動制御回路５１に
より走査信号制御回路５２と情報信号制御回路５３とに
出力される。この際データはアドレスデータと表示デー
タに変換され、走査方式信号はそのまま走査信号印加回
路５４と情報信号印加回路５５に送られる。走査信号印
加回路５４は、走査方式信号によって決まる走査信号波
形を、アドレスデータによって決まる走査電極（不図
示）に出力し、また情報信号印加回路５５は、走査方式
信号と表示データによって送られる白又は黒の表示内容
との２つによって決まる情報信号波形を情報電極（不図
示）に出力して、液晶パネルＰＮに情報を表示する。
【００２７】上記構成により、表示ムラが無く、コント
ラストの高い優れた表示品質の情報伝達装置が得られ
た。
ラストの高い優れた表示品質の情報伝達装置が得られ
た。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
塗布型絶縁膜や配向制御膜を印刷後、印刷膜の焼成を真
空雰囲気下で行うことにより、印刷液に含まれる溶媒を
完全に除去することができ、残留溶媒による液晶の汚染
が防止され、従来、注入口奥側に発生していた配向不良
を無くし、均一で良好な配向が得られる。これにより、
高信頼性及び高品質の液晶装置並びに情報伝達装置が得
られる。
塗布型絶縁膜や配向制御膜を印刷後、印刷膜の焼成を真
空雰囲気下で行うことにより、印刷液に含まれる溶媒を
完全に除去することができ、残留溶媒による液晶の汚染
が防止され、従来、注入口奥側に発生していた配向不良
を無くし、均一で良好な配向が得られる。これにより、
高信頼性及び高品質の液晶装置並びに情報伝達装置が得
られる。
【図１】本発明の実施例の説明に適用される液晶装置の
上視図である。
上視図である。
【図２】本発明の実施例の説明に適用される液晶装置の
断面図である。
断面図である。
【図３】本発明に係る製造方法による液晶装置を用いた
情報伝達装置のブロック図である。
情報伝達装置のブロック図である。
１１ａ，ｂ ガラス基板（透明基板） １２ａ，ｂ 透明電極 １３ａ，ｂ 無機絶縁体膜 １４ａ，ｂ 塗布型絶縁膜 １５ａ，ｂ 配向制御膜 １６ 強誘電性液晶（液晶） １７ ビーズスペーサー １８ シール接着剤
Claims (4)
- 【請求項１】 印刷膜を焼成して形成した配向制御膜を
有する基板を用いた液晶セルを具備する液晶装置の製造
方法において、 前記印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことを特徴とす
る液晶装置の製造方法。 - 【請求項２】 印刷膜を焼成して形成した塗布型絶縁膜
と、該絶縁膜上に印刷された印刷膜を焼成して形成した
配向制御膜とを有する基板を用いた液晶セルを具備する
液晶装置の製造方法において、 前記各印刷膜の焼成を真空雰囲気下で行うことを特徴と
する液晶装置の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の製造方法によ
り製造された液晶装置。 - 【請求項４】 データ信号及び走査方式信号を出力する
グラフィックコントローラーと、走査線アドレスデータ
及び走査方式信号を出力する走査信号制御回路と、表示
データ及び走査方式信号を出力する情報信号制御回路と
を有し、情報を表示・伝達する情報伝達装置において、
請求項３に記載の液晶装置を備えることを特徴とする情
報伝達装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28242195A JPH09101524A (ja) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | 液晶装置の製造方法、液晶装置及び情報伝達装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28242195A JPH09101524A (ja) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | 液晶装置の製造方法、液晶装置及び情報伝達装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09101524A true JPH09101524A (ja) | 1997-04-15 |
Family
ID=17652198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28242195A Withdrawn JPH09101524A (ja) | 1995-10-05 | 1995-10-05 | 液晶装置の製造方法、液晶装置及び情報伝達装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09101524A (ja) |
-
1995
- 1995-10-05 JP JP28242195A patent/JPH09101524A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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