JPH09110588A - 単結晶銅の製造方法 - Google Patents

単結晶銅の製造方法

Info

Publication number
JPH09110588A
JPH09110588A JP29359195A JP29359195A JPH09110588A JP H09110588 A JPH09110588 A JP H09110588A JP 29359195 A JP29359195 A JP 29359195A JP 29359195 A JP29359195 A JP 29359195A JP H09110588 A JPH09110588 A JP H09110588A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
copper
crucible
melted
crystal copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP29359195A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3719452B2 (ja
Inventor
Tatsuya Onda
達也 恩田
Takashi Onoe
喬 尾上
Takeharu Yamamura
武晴 山村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Holdings Co Ltd
Original Assignee
Dowa Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Mining Co Ltd filed Critical Dowa Mining Co Ltd
Priority to JP29359195A priority Critical patent/JP3719452B2/ja
Publication of JPH09110588A publication Critical patent/JPH09110588A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3719452B2 publication Critical patent/JP3719452B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 特殊な構造の装置の使用や複雑な処理操作を
行なうことを必要とせずに、高純度銅の融解液から簡易
な手段で単結晶銅を製造する方法を提供すること。 【構成】 ビトロカーボン製るつぼ1内で4N以上の高
純度銅2を融解した後、1150℃以上の温度で10分
以上保持することによって、多結晶化の原因となる銅酸
化物を分解還元して単結晶化する。るつぼ底部に設けた
厚み1mm×幅10mmのスリット4から引き下げシャフト
5を用いて60mm/hの速度で引き抜き単結晶銅板を得
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属の単結晶体を製造
する方法に関し、更に詳しくは特定条件下で所定時間加
熱保持することによって簡易な手段で単結晶銅を製造す
ることを目的とするものである。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば銅のような金属の単結晶体
を製造する場合、通常、原料の表面に空気等によって酸
化物が発生することから、単結晶製造前に表面のエッチ
ング処理や、H2 、COガス等で還元処理することが必
要であった。
【0003】更に縦型るつぼ等を用いて融解処理して単
結晶を製造する方法においては、原料を融解すると上部
に浮遊するカラミを除去する必要があり、この場合、カ
ラミが容器に付着する危険があるので、通常カラミを含
まない融液だけを別容器に移して結晶成長させるように
するため、融解処理の手間がかかる他、成長炉自体も複
雑な形状のものとなっていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述のように従来法に
よる金属の単結晶体製造方法においては、特殊な装置を
用いることが多いことから、それに伴い製造コストが高
くつくという問題を有していた。そこで本発明は、従来
法に代って簡単な構造の装置を用いて単結晶体を製造で
きる新規な製造法を開発することを目的とするものであ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は斯かる課題
を解決するために鋭意研究したところ、特殊素材のるつ
ぼを用いて特定条件下で融解処理することによって目的
とする単結晶銅を製造できることを見いだし本発明法を
提供することができた。
【0006】すなわち本発明は、原料としての高純度銅
をるつぼ内で融解した後、1150℃以上の温度で少な
くとも10分以上保持することによって銅酸化物を分解
せしめて単結晶化することを特徴とする単結晶銅の製造
方法であり、上記るつぼがグラファイトあるいはビトロ
カーボン(日本カーボン社製ガラス質カーボン材の商品
名)などの特殊カーボン材からなるものを使用すること
を特徴とするものである。
【0007】
【作用】本発明法において使用する融解炉中のるつぼ
(2インチ内径)の材質として、グラファイトあるいは
ビトロカーボン材等の特殊カーボン材を使用できるが、
これらのるつぼを用いることによってるつぼ表面の炭素
によって材料中の銅の酸化物を還元除去することができ
る。銅酸化物の存在は多結晶化の原因となっているた
め、これを分解還元することによって単結晶化を容易に
することができる。グラファイトまたはビトロカーボン
等の特殊カーボン材の使用により、上記高温保持の際に
銅酸化物が好都合に分解できることが判明した。
【0008】上記特殊グラファイト製るつぼを用いて製
造する手段の一つは、該るつぼ底部に融解液を引き抜く
小孔を設け、引き下げシャフト内で水冷することによっ
て目的とする板状タイプの単結晶体を製造する引き抜き
法である。
【0009】他の手段は、上記特殊グラファイト製るつ
ぼをブリッジマン炉中に設置して融解処理したものを、
温度降下させながら直筒状タイプの単結晶体を製造する
フリッジマン炉法である。
【0010】以下、実施例をもとに本発明を詳細に説明
するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではな
い。
【0011】
【実施例1】図1に示す同和鉱業製銅引き抜き試験炉を
用い、まず6N(99.9999%)高純度銅2をビト
ロカーボン材からなる2インチ内径のるつぼ1中に装入
し、中央ヒーター3で1150℃まで加温して高純度銅
を融解し、5時間保持した。
【0012】その後、るつぼ底部に設けた厚み1mm×幅
10mmのスリット4から引き下げシャフト5を用いて6
0mm/hの速度で引き抜いたところ、1mm×10mm幅×1
00mmLの単結晶銅板を得ることができた。図1中の6
は断熱材、7はグラファイト材8は上部ヒーター、11
は駆動シャフトである。
【0013】
【実施例2】図2に示す同和鉱業製垂直ブリッジマン炉
を用い、先ず6N高純度銅2の1kg量を2インチ内径で
あるビトロカーボン製るつぼ1に装入し、中央ヒーター
3によって融解し、1250℃で1時間保持した後、原
料上部を1130℃、原料下部を1083℃(融点)と
なるように調整して、30mm/minの速度でるつぼを下げ
ながら内部を固化したところ、直筒長50mmの銅の単結
晶インゴットを得ることができた。図2中の9は下部ヒ
ーター、10は水冷シャフト、12は温度センサーをそ
れぞれ表わす。
【0014】
【比較例1】図1に示す引き抜き装置を用い、実施例1
に示すと同様に6N高純度銅を加熱融解した後、一定温
度で保持することなく直ちにるつぼ底部から引き抜いた
ところ大きさ1mm×10mm幅×100mmLの銅板を得た
が、これらは単結晶体ではなく多結晶体のままであっ
た。
【0015】
【比較例2】図2に示す垂直ブリッジマン炉を用い、実
施例2に示すと同様に6N高純度銅を1250℃まで融
解した後、一定温度で保持することなく直ちに30mm/h
の引き下げ速度でるつぼを下げながら固化したところ直
筒長50mmの銅インゴットを得たが、該インゴットは多
結晶体であった。
【0016】
【発明の効果】上述のように本発明法においては、グラ
ファイトるつぼやビトロカーボン材るつぼ等の特殊カー
ボン材るつぼを用いて、特定条件下で融解処理を行うこ
とにより、従来法で必要としていた原料の表面処理工程
や、カラミの分離工程の操作が不必要であるため、簡単
な製造法により銅の単結晶が製造できるというメリット
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例1に用いた引き抜き装置の構造を
示す概略図である。
【図2】本発明実施例2に用いたブリッジマン炉の構造
を示す概略図である。
【符号の説明】
1 グラファイト製るつぼ 2 高純度銅 3 中央ヒーター 4 スリット 5 引き下げシャフト 6 断熱材 7 グラファイト材 8 上部ヒーター 9 下部ヒーター 10 水冷シャフト 11 駆動シャフト 12 温度センサー

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原料としての4N以上の高純度銅をるつ
    ぼ内で融解した後、1150℃以上の温度で少なくとも
    10分以上保持することによって銅酸化物を分解せしめ
    て単結晶化することを特徴とする単結晶銅の製造方法。
  2. 【請求項2】 上記るつぼがグラファイトまたは特殊カ
    ーボン材からなることを特徴とする請求1記載の単結晶
    銅の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記特殊カーボン材がビトロカーボンで
    ある請求2記載の単結晶銅の製造方法。
JP29359195A 1995-10-17 1995-10-17 単結晶銅の製造方法 Expired - Fee Related JP3719452B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29359195A JP3719452B2 (ja) 1995-10-17 1995-10-17 単結晶銅の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29359195A JP3719452B2 (ja) 1995-10-17 1995-10-17 単結晶銅の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09110588A true JPH09110588A (ja) 1997-04-28
JP3719452B2 JP3719452B2 (ja) 2005-11-24

Family

ID=17796709

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29359195A Expired - Fee Related JP3719452B2 (ja) 1995-10-17 1995-10-17 単結晶銅の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3719452B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5875006A (en) * 1991-03-19 1999-02-23 Hitachi, Ltd. Method for projecting image obtained by using liquid crystal panels and display apparatus for realizing the same
CN115198357A (zh) * 2022-07-19 2022-10-18 河南国玺超纯新材料股份有限公司 一种单晶铜的制备方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5875006A (en) * 1991-03-19 1999-02-23 Hitachi, Ltd. Method for projecting image obtained by using liquid crystal panels and display apparatus for realizing the same
CN115198357A (zh) * 2022-07-19 2022-10-18 河南国玺超纯新材料股份有限公司 一种单晶铜的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3719452B2 (ja) 2005-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5211802A (en) Method for producing silicon single crystal from polycrystalline rod formed by continous casting
JP3733144B2 (ja) シリコン単結晶引上げ用石英ガラスるつぼおよびその製造方法
WO2024140015A1 (zh) 一种直拉单晶成晶工艺及其应用
JPH09110588A (ja) 単結晶銅の製造方法
CN104011271A (zh) 制造单晶硅的方法
JP4601437B2 (ja) 内表面が半結晶化した石英ガラスルツボとその製造方法
JP3307438B2 (ja) セリウム賦活珪酸ガドリニウム単結晶の製造方法
JPH08337493A (ja) 単結晶引上げ用高純度黒鉛部材およびその製造方法
CN103422159A (zh) 一种直拉单晶生产过程中的除杂方法
CN201372205Y (zh) 一种多晶硅料提纯设备
JPH09309791A (ja) 半導体単結晶の製造方法
JPH04219398A (ja) 単結晶シリコンの製造方法
JPS6230698A (ja) 単結晶成長法
JPS5849516B2 (ja) 不純物の少ないシリコン単結晶の製造方法
JPH11274537A (ja) 大粒径多結晶シリコンの製造法
JPH02196082A (ja) シリコン単結晶の製造方法
JPH04224191A (ja) 半導体原料多結晶の融解方法
JP2007031235A (ja) 単結晶製造装置
JPH07172977A (ja) 石英ガラス坩堝の製造方法
JP2809364B2 (ja) 四ほう酸リチウム単結晶の製造方法
JPS60180989A (ja) 化合物単結晶の製造方法
JPS62167213A (ja) シリコン多結晶インゴツトの製造方法
JPH06305876A (ja) 石英ボートの内面処理方法
JPH0596073U (ja) 単結晶引き上げ用熱遮蔽体
JPH0778770A (ja) 化合物半導体材料用多結晶の製造方法及び石英ボート

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20040206

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040318

A977 Report on retrieval

Effective date: 20040827

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050125

A521 Written amendment

Effective date: 20050325

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20050510

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Effective date: 20050704

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050830

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050831

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080916

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090916

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees