JPH09110764A - ビスアルキルフェノール系化合物の製造方法 - Google Patents
ビスアルキルフェノール系化合物の製造方法Info
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- JPH09110764A JPH09110764A JP7270300A JP27030095A JPH09110764A JP H09110764 A JPH09110764 A JP H09110764A JP 7270300 A JP7270300 A JP 7270300A JP 27030095 A JP27030095 A JP 27030095A JP H09110764 A JPH09110764 A JP H09110764A
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- Japan
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- trimethylphenol
- xylenol
- compound
- bisalkylphenol
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２，５−キシレノールまたは２，３，５−ト
リメチルフェノールを原料として、簡便な方法で、純度
の高い２核体（Ｉ）を収率よく製造する。 式中、Ｒは水素またはメチルを表す。 【解決手段】 ２，５−キシレノールまたは２，３，５
−トリメチルフェノールとホルムアルデヒドとを１：
０.1〜０.5のモル比で、２，５−キシレノールまたは
２，３，５−トリメチルフェノールに対して０.1〜０.4
モル倍の塩基触媒および、該塩基触媒に対して５〜２０
重量倍の水の存在下に、５５〜８０℃の温度で反応させ
て、化合物（Ｉ）を得る。
リメチルフェノールを原料として、簡便な方法で、純度
の高い２核体（Ｉ）を収率よく製造する。 式中、Ｒは水素またはメチルを表す。 【解決手段】 ２，５−キシレノールまたは２，３，５
−トリメチルフェノールとホルムアルデヒドとを１：
０.1〜０.5のモル比で、２，５−キシレノールまたは
２，３，５−トリメチルフェノールに対して０.1〜０.4
モル倍の塩基触媒および、該塩基触媒に対して５〜２０
重量倍の水の存在下に、５５〜８０℃の温度で反応させ
て、化合物（Ｉ）を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、メチロール化合物
との縮合反応の原料として有用なビスアルキルフェノー
ル系化合物、特に２，５−キシレノールまたは２，３，
５−トリメチルフェノールの２核体を、高純度でしかも
簡便に製造する方法に関するものである。
との縮合反応の原料として有用なビスアルキルフェノー
ル系化合物、特に２，５−キシレノールまたは２，３，
５−トリメチルフェノールの２核体を、高純度でしかも
簡便に製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、メチロール化合物は反応性に優
れているところから、脱水縮合反応の出発原料として使
用されている。そして、これらメチロール化合物との縮
合に用いられるフェノール系化合物の２核体を合成する
方法も種々試みられている。しかしながら、こうした２
核体を製造する際、メチロール体も副生することから、
高純度、高収率で２核体を合成するのが困難であった。
れているところから、脱水縮合反応の出発原料として使
用されている。そして、これらメチロール化合物との縮
合に用いられるフェノール系化合物の２核体を合成する
方法も種々試みられている。しかしながら、こうした２
核体を製造する際、メチロール体も副生することから、
高純度、高収率で２核体を合成するのが困難であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは鋭意研究
を行った結果、２，５−キシレノールまたは２，３，５
−トリメチルフェノールについては、反応条件を選択す
ることにより、高純度、高収率で２核体が得られること
を見出し、本発明を完成するに至った。したがって本発
明の目的は、２，５−キシレノールまたは２，３，５−
トリメチルフェノールを原料として、簡便な方法で、純
度の高いビスアルキルフェノール系化合物を収率よく製
造することにある。
を行った結果、２，５−キシレノールまたは２，３，５
−トリメチルフェノールについては、反応条件を選択す
ることにより、高純度、高収率で２核体が得られること
を見出し、本発明を完成するに至った。したがって本発
明の目的は、２，５−キシレノールまたは２，３，５−
トリメチルフェノールを原料として、簡便な方法で、純
度の高いビスアルキルフェノール系化合物を収率よく製
造することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、２，
５−キシレノールまたは２，３，５−トリメチルフェノ
ールとホルムアルデヒドとを１：０.1〜０.5のモル比
で、２，５−キシレノールまたは２，３，５−トリメチ
ルフェノールに対して０.1〜０.4モル倍の塩基触媒およ
び、該塩基触媒に対して５〜２０重量倍の水の存在下
に、５５〜８０℃の温度で反応させることにより、式
（Ｉ）
５−キシレノールまたは２，３，５−トリメチルフェノ
ールとホルムアルデヒドとを１：０.1〜０.5のモル比
で、２，５−キシレノールまたは２，３，５−トリメチ
ルフェノールに対して０.1〜０.4モル倍の塩基触媒およ
び、該塩基触媒に対して５〜２０重量倍の水の存在下
に、５５〜８０℃の温度で反応させることにより、式
（Ｉ）
【０００５】
【０００６】（式中、Ｒは水素またはメチルを表す）で
示されるビスアルキルフェノール系化合物を製造する方
法を提供するものである。
示されるビスアルキルフェノール系化合物を製造する方
法を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明による２，５−キシレノー
ルまたは２，３，５−トリメチルフェノールとホルムア
ルデヒドとの反応は、２，５−キシレノールまたは２，
３，５−トリメチルフェノールとホルムアルデヒドとの
モル比１：０.1〜０.5の範囲で、２，５−キシレノール
または２，３，５−トリメチルフェノールに対して０.1
〜０.4モル倍の塩基触媒を存在させ、そしてその塩基触
媒に対して５〜２０重量倍の水を存在させ、５５〜８０
℃の範囲の温度で行われる。２，５−キシレノールまた
は２，３，５−トリメチルフェノールとホルムアルデヒ
ドのモル比は、１：０.2〜０.4、さらには１：０.3〜
０.4の範囲が一層好ましい。
ルまたは２，３，５−トリメチルフェノールとホルムア
ルデヒドとの反応は、２，５−キシレノールまたは２，
３，５−トリメチルフェノールとホルムアルデヒドとの
モル比１：０.1〜０.5の範囲で、２，５−キシレノール
または２，３，５−トリメチルフェノールに対して０.1
〜０.4モル倍の塩基触媒を存在させ、そしてその塩基触
媒に対して５〜２０重量倍の水を存在させ、５５〜８０
℃の範囲の温度で行われる。２，５−キシレノールまた
は２，３，５−トリメチルフェノールとホルムアルデヒ
ドのモル比は、１：０.2〜０.4、さらには１：０.3〜
０.4の範囲が一層好ましい。
【０００８】塩基触媒としては、アルカリ金属水酸化物
が好ましく、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム
などが挙げられるが、なかでも水酸化ナトリウムが好ま
しく用いられる。塩基触媒は、２，５−キシレノールま
たは２，３，５−トリメチルフェノールに対して０.1〜
０.4モル倍の範囲で使用されるが、好ましくは０.2〜
０.3モル倍、さらに好ましくは０.2５〜０.3モル倍の範
囲で使用される。
が好ましく、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウム
などが挙げられるが、なかでも水酸化ナトリウムが好ま
しく用いられる。塩基触媒は、２，５−キシレノールま
たは２，３，５−トリメチルフェノールに対して０.1〜
０.4モル倍の範囲で使用されるが、好ましくは０.2〜
０.3モル倍、さらに好ましくは０.2５〜０.3モル倍の範
囲で使用される。
【０００９】この反応は水を溶媒として行われ、水は、
塩基触媒に対して５〜２０重量倍の範囲で使用される。
この反応は、２，５−キシレノールまたは２，３，５−
トリメチルフェノール、塩基触媒および水の存在する系
に、ホルムアルデヒドを添加しながら進行させるのが好
ましく、この際ホルムアルデヒドは、特に限定されるわ
けではないが、通常水溶液の形で用いられる。そこで上
記水の量は、少なくとも反応の初期に達成されている必
要があるが、反応終期においても上記範囲に入っている
のが好ましい。水は、少なくとも反応初期には、塩基触
媒に対して５〜１９重量倍、とりわけ７〜１２重量倍の
範囲で存在させるのが好ましい。この反応は、５５〜８
０℃、好ましくは６０〜８０℃、さらに好ましくは７０
〜７５℃の温度で行われる。
塩基触媒に対して５〜２０重量倍の範囲で使用される。
この反応は、２，５−キシレノールまたは２，３，５−
トリメチルフェノール、塩基触媒および水の存在する系
に、ホルムアルデヒドを添加しながら進行させるのが好
ましく、この際ホルムアルデヒドは、特に限定されるわ
けではないが、通常水溶液の形で用いられる。そこで上
記水の量は、少なくとも反応の初期に達成されている必
要があるが、反応終期においても上記範囲に入っている
のが好ましい。水は、少なくとも反応初期には、塩基触
媒に対して５〜１９重量倍、とりわけ７〜１２重量倍の
範囲で存在させるのが好ましい。この反応は、５５〜８
０℃、好ましくは６０〜８０℃、さらに好ましくは７０
〜７５℃の温度で行われる。
【００１０】この反応において、２，５−キシレノール
を用いることにより、式（Ｉ）中のＲが水素である化合
物、すなわち、４，４′−メチレンビス（２，５−ジメ
チルフェノール）が製造される。また、２，３，５−ト
リメチルフェノールを用いることにより、式（Ｉ）中の
Ｒがメチルである化合物、すなわち、４，４′−メチレ
ンビス（２，３，５−トリメチルフェノール）が製造さ
れる。
を用いることにより、式（Ｉ）中のＲが水素である化合
物、すなわち、４，４′−メチレンビス（２，５−ジメ
チルフェノール）が製造される。また、２，３，５−ト
リメチルフェノールを用いることにより、式（Ｉ）中の
Ｒがメチルである化合物、すなわち、４，４′−メチレ
ンビス（２，３，５−トリメチルフェノール）が製造さ
れる。
【００１１】反応終了後は、任意の操作を施すことによ
り、目的とするビスアルキルフェノール系化合物を取り
出すことができる。例えば、反応マスからの酸析によ
り、目的とするビスアルキルフェノール系化合物を析出
させることができる。また、その後メチルイソブチルケ
トンのような良溶媒で抽出し、その抽出液を必要により
濃縮したあと、そこへトルエンのような貧溶媒を加えて
攪拌することにより、目的とするビスアルキルフェノー
ル系化合物を析出させることができる。
り、目的とするビスアルキルフェノール系化合物を取り
出すことができる。例えば、反応マスからの酸析によ
り、目的とするビスアルキルフェノール系化合物を析出
させることができる。また、その後メチルイソブチルケ
トンのような良溶媒で抽出し、その抽出液を必要により
濃縮したあと、そこへトルエンのような貧溶媒を加えて
攪拌することにより、目的とするビスアルキルフェノー
ル系化合物を析出させることができる。
【００１２】こうして得られる式（Ｉ）のビスアルキル
フェノール系化合物は、メチロール化合物との縮合反応
に有利に用いることができる。
フェノール系化合物は、メチロール化合物との縮合反応
に有利に用いることができる。
【００１３】
【実施例】次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものではない。例中にある％は、特にことわ
らないかぎり重量基準である。
に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら
限定されるものではない。例中にある％は、特にことわ
らないかぎり重量基準である。
【００１４】実施例１ ２，５−キシレノール７３３.2ｇ、水酸化ナトリウム６
０ｇおよび水５４０ｇを２リットルの四つ口フラスコに
仕込み、６０℃で攪拌しながら、３７％ホルマリン１６
２.2ｇを２時間３０分かけて滴下し、引き続き同温度で
４時間反応させた。反応終了後、３６％塩酸１７２ｇを
仕込んで酸析し、次にメチルイソブチルケトンで抽出
し、水洗後濃縮した。そこへトルエン５００ｇを加えて
室温で２時間攪拌したあと、濾過した。 得られた固形
分をトルエン／酢酸エチル溶媒系で精製することによ
り、４，４′−メチレンビス（２，５−ジメチルフェノ
ール）２５３.5ｇ（液体クロマトグラフィーによる純度
９６％）を得た。ホルムアルデヒド基準の収率４７.5
％。
０ｇおよび水５４０ｇを２リットルの四つ口フラスコに
仕込み、６０℃で攪拌しながら、３７％ホルマリン１６
２.2ｇを２時間３０分かけて滴下し、引き続き同温度で
４時間反応させた。反応終了後、３６％塩酸１７２ｇを
仕込んで酸析し、次にメチルイソブチルケトンで抽出
し、水洗後濃縮した。そこへトルエン５００ｇを加えて
室温で２時間攪拌したあと、濾過した。 得られた固形
分をトルエン／酢酸エチル溶媒系で精製することによ
り、４，４′−メチレンビス（２，５−ジメチルフェノ
ール）２５３.5ｇ（液体クロマトグラフィーによる純度
９６％）を得た。ホルムアルデヒド基準の収率４７.5
％。
【００１５】 質量分析： ＦＤ−ＭＳ ２５６1 Ｈ−ＮＭＲ（アセトン） δ(ppm) ：2.08 (s, 6H);
2.12 (s, 6H); 3.67 (s, 2H);6.59 (s, 2H); 6.66 (s,
2H); 7.80 (s, 2H).
2.12 (s, 6H); 3.67 (s, 2H);6.59 (s, 2H); 6.66 (s,
2H); 7.80 (s, 2H).
【００１６】実施例２ 実施例１における２，５−キシレノールに代えて２，
３，５−トリメチルフェノールを８１７.3ｇ用いた以外
は、実施例１と同様の操作を行い、４，４′−メチレン
ビス（２，３，５−トリメチルフェノール）２７３.5ｇ
（液体クロマトグラフィーによる純度９５％）を得た。
ホルムアルデヒド基準の収率４５.7％。
３，５−トリメチルフェノールを８１７.3ｇ用いた以外
は、実施例１と同様の操作を行い、４，４′−メチレン
ビス（２，３，５−トリメチルフェノール）２７３.5ｇ
（液体クロマトグラフィーによる純度９５％）を得た。
ホルムアルデヒド基準の収率４５.7％。
【００１７】 質量分析： ＦＤ−ＭＳ ２８４1 Ｈ−ＮＭＲ（アセトン） δ(ppm) ：2.08 (s, 6H);
2.12 (s, 6H); 2.21 (s, 6H);3.96 (s, 2H); 6.51 (s,
2H); 7.55 (s, 2H).
2.12 (s, 6H); 2.21 (s, 6H);3.96 (s, 2H); 6.51 (s,
2H); 7.55 (s, 2H).
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、簡便な方法で、２，５
−キシレノールまたは２，３，５−トリメチルフェノー
ルの２核体を、高純度、例えば９５％以上の純度で、し
かも高い収率で製造することができる。こうして得られ
る２核体化合物は、縮合反応の出発原料として有用であ
る。
−キシレノールまたは２，３，５−トリメチルフェノー
ルの２核体を、高純度、例えば９５％以上の純度で、し
かも高い収率で製造することができる。こうして得られ
る２核体化合物は、縮合反応の出発原料として有用であ
る。
Claims (3)
- 【請求項１】２，５−キシレノールまたは２，３，５−
トリメチルフェノールとホルムアルデヒドとを１：０.1
〜０.5のモル比で、２，５−キシレノールまたは２，
３，５−トリメチルフェノールに対して０.1〜０.4モル
倍の塩基触媒および、該塩基触媒に対して５〜２０重量
倍の水の存在下に、５５〜８０℃の温度で反応させるこ
とを特徴とする、式（Ｉ） （式中、Ｒは水素またはメチルを表す）で示されるビス
アルキルフェノール系化合物の製造方法。 - 【請求項２】２，５−キシレノールを用い、４，４′−
メチレンビス（２，５−ジメチルフェノール）を製造す
る請求項１記載の方法。 - 【請求項３】２，３，５−トリメチルフェノールを用
い、４，４′−メチレンビス（２,３,５−トリメチルフ
ェノール）を製造する請求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27030095A JP3787864B2 (ja) | 1995-10-18 | 1995-10-18 | ビスアルキルフェノール系化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27030095A JP3787864B2 (ja) | 1995-10-18 | 1995-10-18 | ビスアルキルフェノール系化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09110764A true JPH09110764A (ja) | 1997-04-28 |
| JP3787864B2 JP3787864B2 (ja) | 2006-06-21 |
Family
ID=17484355
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27030095A Expired - Fee Related JP3787864B2 (ja) | 1995-10-18 | 1995-10-18 | ビスアルキルフェノール系化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3787864B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09110752A (ja) * | 1995-10-18 | 1997-04-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | ジメチロール化合物の製造方法 |
| JPH09110753A (ja) * | 1995-10-18 | 1997-04-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | モノメチロール化合物の製造方法 |
-
1995
- 1995-10-18 JP JP27030095A patent/JP3787864B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09110752A (ja) * | 1995-10-18 | 1997-04-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | ジメチロール化合物の製造方法 |
| JPH09110753A (ja) * | 1995-10-18 | 1997-04-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | モノメチロール化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3787864B2 (ja) | 2006-06-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050426 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |