JPH09132581A - 光学活性シラシクロヘキサン化合物及びこれを含有する液晶組成物 - Google Patents
光学活性シラシクロヘキサン化合物及びこれを含有する液晶組成物Info
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- JPH09132581A JPH09132581A JP8239889A JP23988996A JPH09132581A JP H09132581 A JPH09132581 A JP H09132581A JP 8239889 A JP8239889 A JP 8239889A JP 23988996 A JP23988996 A JP 23988996A JP H09132581 A JPH09132581 A JP H09132581A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 シラシクロヘキサン環を有する液晶化合物を
提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ） 具体的には、例えば（Ｓ）−（−）−４−（トランス−
４−（トランス−４−ｎ−ペンチル−４−シラシクロヘ
キシル）シクロヘキシル）−１−（１−メチルヘプチル
オキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンで表される光学
活性シラシクロヘキサン化合物。
提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ） 具体的には、例えば（Ｓ）−（−）−４−（トランス−
４−（トランス−４−ｎ−ペンチル−４−シラシクロヘ
キシル）シクロヘキシル）−１−（１−メチルヘプチル
オキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンで表される光学
活性シラシクロヘキサン化合物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、キラル基を有する新規
なシラシクロヘキサン化合物、これを含有する液晶組成
物及びこの液晶組成物を含有する液晶表示素子に関す
る。
なシラシクロヘキサン化合物、これを含有する液晶組成
物及びこの液晶組成物を含有する液晶表示素子に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は、液晶物質が持つ光学異
方性及び誘電異電性を利用したものであり、その表示様
式によって、ＴＮ型（ねじれネマチック型）、ＳＴＮ型
（超ねじれネマチック型）、ＳＢＥ型（超複屈折型）、
ＤＳ型（動的散乱型）、ゲスト・ホスト型、ＤＡＰ型
（整列相の変形型）及びＯＭＩ型（光学的モード干渉
型）等、各種の方式がある。最も一般的なディスプレー
デバイスはシャット−ヘルフリッヒ効果に基づき、ねじ
れネマチック構造を有するものである。
方性及び誘電異電性を利用したものであり、その表示様
式によって、ＴＮ型（ねじれネマチック型）、ＳＴＮ型
（超ねじれネマチック型）、ＳＢＥ型（超複屈折型）、
ＤＳ型（動的散乱型）、ゲスト・ホスト型、ＤＡＰ型
（整列相の変形型）及びＯＭＩ型（光学的モード干渉
型）等、各種の方式がある。最も一般的なディスプレー
デバイスはシャット−ヘルフリッヒ効果に基づき、ねじ
れネマチック構造を有するものである。
【０００３】これらのねじれネマチック構造に使用され
る液晶組成物には、リバースチルトディスクリネーショ
ン等の表示欠陥を防止するために、ねじれ方向を制御す
る光学活性な物質が微量添加されてきた。この光学活性
な物質として、従来からコレステリック相を持つ液晶化
合物、例えばコレステリルノナノエート或は安息香酸フ
ェニルエステル等のエステル基を有する化合物又は以下
の化合物が知られている。
る液晶組成物には、リバースチルトディスクリネーショ
ン等の表示欠陥を防止するために、ねじれ方向を制御す
る光学活性な物質が微量添加されてきた。この光学活性
な物質として、従来からコレステリック相を持つ液晶化
合物、例えばコレステリルノナノエート或は安息香酸フ
ェニルエステル等のエステル基を有する化合物又は以下
の化合物が知られている。
【化４】 （特開平６−２０６８３７号）
【化５】 （特開平６−２０６８３７号）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】近年、液晶パネルの高
性能化が進むにつれて、パネル特性の劣化、例えば電圧
保持率の低下や飽和電圧の上昇に上記光学活性化合物が
影響を及ぼすことが問題となってきた。
性能化が進むにつれて、パネル特性の劣化、例えば電圧
保持率の低下や飽和電圧の上昇に上記光学活性化合物が
影響を及ぼすことが問題となってきた。
【０００５】本発明は、上記問題点を解決するととも
に、環構成要素としてＳｉを導入した新規な光学活性シ
ラシクロヘキサン化合物を提供することを目的とする。
に、環構成要素としてＳｉを導入した新規な光学活性シ
ラシクロヘキサン化合物を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（Ｉ）で表される光学活性シラシクロヘキサン化合物で
ある。
（Ｉ）で表される光学活性シラシクロヘキサン化合物で
ある。
【化６】 但し、Ｒは炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数
３〜８の分枝鎖状アルキル基、炭素数２〜７のアルコキ
シアルキル基、炭素数１〜１０のモノ又はジフルオロア
ルキル基又は炭素数２〜８のアルケニル基を表す。
３〜８の分枝鎖状アルキル基、炭素数２〜７のアルコキ
シアルキル基、炭素数１〜１０のモノ又はジフルオロア
ルキル基又は炭素数２〜８のアルケニル基を表す。
【化７】 は１又は４位のケイ素がＨ、Ｆ、Ｃｌ又はＣＨ３の置換
基を持つトランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−４−シラ−１，４−シクロへキシレ
ン基を表すか又はトランス−１，４−シクロヘキシレン
基を表す。
基を持つトランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−４−シラ−１，４−シクロへキシレ
ン基を表すか又はトランス−１，４−シクロヘキシレン
基を表す。
【化８】 は１又は４位のケイ素がＨ、Ｆ、Ｃｌ又はＣＨ３の置換
基を持つトランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−４−シラ−１，４−シクロへキシレ
ン基を表すかトランス−１，４−シクロヘキシレン基又
は１，４−フェニレン基を表し、該シラシクロヘキサン
化合物は少なくとも一つのトランス−１−シラ−１，４
−シクロヘキシレン基又はトランス−４−シラ−１，４
−シクロヘキシレン基を含む。ｎは０又は１を表す。Ｘ
は−ＣＨ2−又は−Ｏ−を表す。Ｚは１個以上のキラル
炭素原子を含有するキラル基を表す。Ｌ1、Ｌ2はそれぞ
れ独立してＨ又はＦを表す。
基を持つトランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−４−シラ−１，４−シクロへキシレ
ン基を表すかトランス−１，４−シクロヘキシレン基又
は１，４−フェニレン基を表し、該シラシクロヘキサン
化合物は少なくとも一つのトランス−１−シラ−１，４
−シクロヘキシレン基又はトランス−４−シラ−１，４
−シクロヘキシレン基を含む。ｎは０又は１を表す。Ｘ
は−ＣＨ2−又は−Ｏ−を表す。Ｚは１個以上のキラル
炭素原子を含有するキラル基を表す。Ｌ1、Ｌ2はそれぞ
れ独立してＨ又はＦを表す。
【０００７】また本発明は、前記一般式（Ｉ）で表され
る光学活性シラシクロヘキサン化合物を含有することを
特徴とする液晶組成物及びこの液晶組成物を含有するこ
とを特徴とする液晶表示素子である。
る光学活性シラシクロヘキサン化合物を含有することを
特徴とする液晶組成物及びこの液晶組成物を含有するこ
とを特徴とする液晶表示素子である。
【０００８】次に、前記一般式（Ｉ）で表されるシラシ
クロヘキサン化合物の具体例を示して本発明をさらに詳
細に説明する。
クロヘキサン化合物の具体例を示して本発明をさらに詳
細に説明する。
【０００９】一般式（Ｉ）で表される新規な化合物は、
具体的には以下に示すような環構造で表されるトランス
−１−又はトランス−４−シラシクロヘキサン環を含む
環構造を有するシラシクロヘキサン化合物である。
具体的には以下に示すような環構造で表されるトランス
−１−又はトランス−４−シラシクロヘキサン環を含む
環構造を有するシラシクロヘキサン化合物である。
【化９】
【化１０】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【化１６】
【化１７】
【化１８】
【化１９】
【００１０】なお、Ｒは以下のいずれかの基を表す。 （ａ）炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、即ち、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基又はｎ−デシル基。 （ｂ）炭素数３〜８の分枝鎖状アルキル基、即ち、イソ
プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メ
チルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基又は
３−メチルヘプチル基。 （ｃ）炭素数２〜７のアルコキシアルキル基、即ち、メ
トキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル
基、ブトキシメチル基、ペントキシメチル基、ヘキシロ
キシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、
プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、メトキシプロ
ピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、
ブトキシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチ
ル基、プロポキシブチル基、メトキシペンチル基、エト
キシペンチル基又はメトキシヘキシル基。 （ｄ）炭素数１〜１０のモノ又はジフルオロアルキル
基、即ち、フルオロメチル基、１−フルオロエチル基、
１−フルオロプロピル基、１−フルオロブチル基、１−
フルオロペンチル基、１−フルオロヘキシル基、１−フ
ルオロヘプチル基、１−フルオロオクチル基、１−フル
オロノニル基、１−フルオロデシル基、２−フルオロエ
チル基、２−フルオロプロピル基、２−フルオロブチル
基、２−フルオロペンチル基、２−フルオロヘキシル
基、２−フルオロヘプチル基、２−フルオロオクチル
基、２−フルオロノニル基、２−フルオロデシル基、３
−フルオロプロピル基、３−フルオロブチル基、３−フ
ルオロペンチル基、３−フルオロヘキシル基、３−フル
オロヘプチル基、３−フルオロオクチル基、３−フルオ
ロノニル基、３−フルオロデシル基、４−フルオロブチ
ル基、４−フルオロペンチル基、４−フルオロヘキシル
基、４−フルオロヘプチル基、４−フルオロオクチル
基、４−フルオロノニル基、４−フルオロデシル基、５
−フルオロペンチル基、５−フルオロヘキシル基、５−
フルオロヘプチル基、５−フルオロオクチル基、５−フ
ルオロノニル基、５−フルオロデシル基、６−フルオロ
ヘキシル基、６−フルオロヘプチル基、６−フルオロオ
クチル基、６−フルオロノニル基、６−フルオロデシル
基、７−フルオロヘプチル基、７−フルオロオクチル
基、７−フルオロノニル基、７−フルオロデシル基、８
−フルオロオクチル基、８−フルオロノニル基、８−フ
ルオロデシル基、９−フルオロノニル基、９−フルオロ
デシル基、１０−フルオロデシル基、ジフルオロメチル
基、１，１−ジフルオロエチル基、１，１−ジフルオロ
プロピル基、１，１−ジフルオロブチル基、１，１−ジ
フルオロペンチル基、１，１−ジフルオロヘキシル基、
１，１−ジフルオロヘプチル基、１，１−ジフルオロオ
クチル基、１，１−ジフルオロノニル基、１，１−ジフ
ルオロデシル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２
−ジフルオロプロピル基、２，２−ジフルオロブチル
基、２，２−ジフルオロペンチル基、２，２−ジフルオ
ロヘキシル基、２，２−ジフルオロヘプチル基、２，２
−ジフルオロオクチル基、２，２−ジフルオロノニル
基、２，２−ジフルオロデシル基、３，３−ジフルオロ
プロピル基、３，３−ジフルオロブチル基、３，３−ジ
フルオロペンチル基、３，３−ジフルオロヘキシル基、
３，３−ジフルオロヘプチル基、３，３−ジフルオロオ
クチル基、３，３−ジフルオロノニル基、３，３−ジフ
ルオロデシル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４
−ジフルオロペンチル基、４，４−ジフルオロヘキシル
基、４，４−ジフルオロヘプチル基、４，４−ジフルオ
ロオクチル基、４，４−ジフルオロノニル基、４，４−
ジフルオロデシル基、５，５−ジフルオロペンチル基、
５，５−ジフルオロヘキシル基、５，５−ジフルオロヘ
プチル基、５，５−ジフルオロオクチル基、５，５−ジ
フルオロノニル基、５，５−ジフルオロデシル基、６，
６−ジフルオロヘキシル基、６，６−ジフルオロヘプチ
ル基、６，６−ジフルオロオクチル基、６，６−ジフル
オロノニル基、６，６−ジフルオロデシル基、７，７−
ジフルオロヘプチル基、７，７−ジフルオロオクチル
基、７，７−ジフルオロノニル基、７，７−ジフルオロ
デシル基、８，８−ジフルオロオクチル基、８，８−ジ
フルオロノニル基、８，８−ジフルオロデシル基、９，
９−ジフルオロノニル基、９，９−ジフルオロデシル基
又は１０，１０−ジフルオロデシル基。 （ｅ）炭素数２〜８のアルケニル基、即ち、ビニル基、
１−プロペニル基、アリル基、１−ブテニル基、３−ブ
テニル基、イソプレニル基、１−ペンテニル基、３−ペ
ンテニル基、４−ペンテニル基、ジメチルアリル基、１
−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、５−ヘキセニル
基、１−ヘプテニル基、３−ヘプテニル基、６−ヘプテ
ニル基又は７−オクテニル基。
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−ノニル基又はｎ−デシル基。 （ｂ）炭素数３〜８の分枝鎖状アルキル基、即ち、イソ
プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−メ
チルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル
基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３
−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、１−メチ
ルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、３−エチルヘキシル
基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基又は
３−メチルヘプチル基。 （ｃ）炭素数２〜７のアルコキシアルキル基、即ち、メ
トキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル
基、ブトキシメチル基、ペントキシメチル基、ヘキシロ
キシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、
プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、メトキシプロ
ピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、
ブトキシプロピル基、メトキシブチル基、エトキシブチ
ル基、プロポキシブチル基、メトキシペンチル基、エト
キシペンチル基又はメトキシヘキシル基。 （ｄ）炭素数１〜１０のモノ又はジフルオロアルキル
基、即ち、フルオロメチル基、１−フルオロエチル基、
１−フルオロプロピル基、１−フルオロブチル基、１−
フルオロペンチル基、１−フルオロヘキシル基、１−フ
ルオロヘプチル基、１−フルオロオクチル基、１−フル
オロノニル基、１−フルオロデシル基、２−フルオロエ
チル基、２−フルオロプロピル基、２−フルオロブチル
基、２−フルオロペンチル基、２−フルオロヘキシル
基、２−フルオロヘプチル基、２−フルオロオクチル
基、２−フルオロノニル基、２−フルオロデシル基、３
−フルオロプロピル基、３−フルオロブチル基、３−フ
ルオロペンチル基、３−フルオロヘキシル基、３−フル
オロヘプチル基、３−フルオロオクチル基、３−フルオ
ロノニル基、３−フルオロデシル基、４−フルオロブチ
ル基、４−フルオロペンチル基、４−フルオロヘキシル
基、４−フルオロヘプチル基、４−フルオロオクチル
基、４−フルオロノニル基、４−フルオロデシル基、５
−フルオロペンチル基、５−フルオロヘキシル基、５−
フルオロヘプチル基、５−フルオロオクチル基、５−フ
ルオロノニル基、５−フルオロデシル基、６−フルオロ
ヘキシル基、６−フルオロヘプチル基、６−フルオロオ
クチル基、６−フルオロノニル基、６−フルオロデシル
基、７−フルオロヘプチル基、７−フルオロオクチル
基、７−フルオロノニル基、７−フルオロデシル基、８
−フルオロオクチル基、８−フルオロノニル基、８−フ
ルオロデシル基、９−フルオロノニル基、９−フルオロ
デシル基、１０−フルオロデシル基、ジフルオロメチル
基、１，１−ジフルオロエチル基、１，１−ジフルオロ
プロピル基、１，１−ジフルオロブチル基、１，１−ジ
フルオロペンチル基、１，１−ジフルオロヘキシル基、
１，１−ジフルオロヘプチル基、１，１−ジフルオロオ
クチル基、１，１−ジフルオロノニル基、１，１−ジフ
ルオロデシル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２
−ジフルオロプロピル基、２，２−ジフルオロブチル
基、２，２−ジフルオロペンチル基、２，２−ジフルオ
ロヘキシル基、２，２−ジフルオロヘプチル基、２，２
−ジフルオロオクチル基、２，２−ジフルオロノニル
基、２，２−ジフルオロデシル基、３，３−ジフルオロ
プロピル基、３，３−ジフルオロブチル基、３，３−ジ
フルオロペンチル基、３，３−ジフルオロヘキシル基、
３，３−ジフルオロヘプチル基、３，３−ジフルオロオ
クチル基、３，３−ジフルオロノニル基、３，３−ジフ
ルオロデシル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４
−ジフルオロペンチル基、４，４−ジフルオロヘキシル
基、４，４−ジフルオロヘプチル基、４，４−ジフルオ
ロオクチル基、４，４−ジフルオロノニル基、４，４−
ジフルオロデシル基、５，５−ジフルオロペンチル基、
５，５−ジフルオロヘキシル基、５，５−ジフルオロヘ
プチル基、５，５−ジフルオロオクチル基、５，５−ジ
フルオロノニル基、５，５−ジフルオロデシル基、６，
６−ジフルオロヘキシル基、６，６−ジフルオロヘプチ
ル基、６，６−ジフルオロオクチル基、６，６−ジフル
オロノニル基、６，６−ジフルオロデシル基、７，７−
ジフルオロヘプチル基、７，７−ジフルオロオクチル
基、７，７−ジフルオロノニル基、７，７−ジフルオロ
デシル基、８，８−ジフルオロオクチル基、８，８−ジ
フルオロノニル基、８，８−ジフルオロデシル基、９，
９−ジフルオロノニル基、９，９−ジフルオロデシル基
又は１０，１０−ジフルオロデシル基。 （ｅ）炭素数２〜８のアルケニル基、即ち、ビニル基、
１−プロペニル基、アリル基、１−ブテニル基、３−ブ
テニル基、イソプレニル基、１−ペンテニル基、３−ペ
ンテニル基、４−ペンテニル基、ジメチルアリル基、１
−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、５−ヘキセニル
基、１−ヘプテニル基、３−ヘプテニル基、６−ヘプテ
ニル基又は７−オクテニル基。
【００１１】Ｗ、Ｗ1、Ｗ2は、各々相互に独立してＨ、
Ｆ、Ｃｌ又はＣＨ3を表す。Ｘは−ＣＨ2−又は−Ｏ−を
表す。Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ独立してＨ又はＦを表す。Ｚ
は１個以上のキラル炭素原子を含有するキラル基、すな
わち一般式（ＩＩａ）〜（ＩＩｃ）で表される化合物の
いずれかである。
Ｆ、Ｃｌ又はＣＨ3を表す。Ｘは−ＣＨ2−又は−Ｏ−を
表す。Ｌ1、Ｌ2はそれぞれ独立してＨ又はＦを表す。Ｚ
は１個以上のキラル炭素原子を含有するキラル基、すな
わち一般式（ＩＩａ）〜（ＩＩｃ）で表される化合物の
いずれかである。
【化２０】 −（ＣＨ2）p−Ｃ*ＲoＹ−ＣqＨ2q+1 （ＩＩａ） （但し、ｐは０から８、ｑは２から１４の整数で、Ｒo
は水素又は炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、ＹはＣＨ
3、ハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ又はＩ）、ＣＦ3、ＣＨＦ
2、ＣＨ2Ｆ又はＣＮを表す。Ｃ* は４種の異なった置換
基を持つキラル炭素原子であり、従って、Ｒo、Ｙ、−
ＣqＨ2q+1の３つの置換基はそれぞれお互いに異なって
いる。）
は水素又は炭素数１〜６の直鎖状アルキル基、ＹはＣＨ
3、ハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆ又はＩ）、ＣＦ3、ＣＨＦ
2、ＣＨ2Ｆ又はＣＮを表す。Ｃ* は４種の異なった置換
基を持つキラル炭素原子であり、従って、Ｒo、Ｙ、−
ＣqＨ2q+1の３つの置換基はそれぞれお互いに異なって
いる。）
【化２１】 −（ＣＨ2）r−Ｃ ＨＦ−（ＣＨ2）s−ＣＨＦ−ＣmＨ2m+1 （ＩＩｂ） （但し、ｒは０から８、ｓは０から６、ｍは１から１０
の整数を表す。）
の整数を表す。）
【化２２】 （但し、ｒ及びｍの定義は（ＩＩｂ）と同じである。
【００１２】上記のうち、環構造については、（Ｉ
ａ）、（Ｉｃ）、（Ｉｅ）、（Ｉｈ）、（Ｉｊ）が好ま
しい。
ａ）、（Ｉｃ）、（Ｉｅ）、（Ｉｈ）、（Ｉｊ）が好ま
しい。
【００１３】Ｒについては、以下のいずれかが好まし
い。 （ｆ）炭素数２〜７の直鎖状アルキル基、即ち、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基又はｎ−ヘプチル基。 （ｇ）分枝鎖状アルキル基のうち（炭素数３〜８）、イ
ソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−
メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチ
ル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基又
は２−エチルヘキシル基。 （ｈ）炭素数２〜６のアルコキシアルキル基、即ち、メ
トキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル
基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシ
エチル基、メトキシプロピル基又はメトキシペンチル
基。 （ｉ）炭素数２〜７のモノ又はジフルオロアルキル基、
即ち、２−フルオロエチル基、２−フルオロプロピル
基、２−フルオロブチル基、２−フルオロペンチル基、
２−フルオロヘキシル基、２−フルオロヘプチル基、４
−フルオロブチル基、４−フルオロペンチル基、４−フ
ルオロヘキシル基、４−フルオロヘプチル基、５−フル
オロペンチル基、５−フルオロヘキシル基、５−フルオ
ロヘプチル基、６−フルオロヘキシル基、６−フルオロ
ヘプチル基、７−フルオロヘプチル基、２，２−ジフル
オロエチル基、２，２−ジフルオロプロピル基、２，２
−ジフルオロブチル基、２，２−ジフルオロペンチル
基、２，２−ジフルオロヘキシル基、２，２−ジフルオ
ロヘプチル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４−
ジフルオロペンチル基、４，４−ジフルオロヘキシル
基、４，４−ジフルオロヘプチル基、５，５−ジフルオ
ロペンチル基、５，５−ジフルオロヘキシル基、５，５
−ジフルオロヘプチル基、６，６−ジフルオロヘキシル
基、６，６−ジフルオロヘプチル基又は７，７−ジフル
オロヘプチル基。 （ｊ）アルケニル基のうち（炭素数２〜８）、ビニル
基、１−プロペニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニ
ル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキ
セニル基、５−ヘキセニル基、６−ヘプテニル基又は７
−オクテニル基。
い。 （ｆ）炭素数２〜７の直鎖状アルキル基、即ち、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、
ｎ−ヘキシル基又はｎ−ヘプチル基。 （ｇ）分枝鎖状アルキル基のうち（炭素数３〜８）、イ
ソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、１−
メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチ
ル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基又
は２−エチルヘキシル基。 （ｈ）炭素数２〜６のアルコキシアルキル基、即ち、メ
トキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル
基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシ
エチル基、メトキシプロピル基又はメトキシペンチル
基。 （ｉ）炭素数２〜７のモノ又はジフルオロアルキル基、
即ち、２−フルオロエチル基、２−フルオロプロピル
基、２−フルオロブチル基、２−フルオロペンチル基、
２−フルオロヘキシル基、２−フルオロヘプチル基、４
−フルオロブチル基、４−フルオロペンチル基、４−フ
ルオロヘキシル基、４−フルオロヘプチル基、５−フル
オロペンチル基、５−フルオロヘキシル基、５−フルオ
ロヘプチル基、６−フルオロヘキシル基、６−フルオロ
ヘプチル基、７−フルオロヘプチル基、２，２−ジフル
オロエチル基、２，２−ジフルオロプロピル基、２，２
−ジフルオロブチル基、２，２−ジフルオロペンチル
基、２，２−ジフルオロヘキシル基、２，２−ジフルオ
ロヘプチル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４−
ジフルオロペンチル基、４，４−ジフルオロヘキシル
基、４，４−ジフルオロヘプチル基、５，５−ジフルオ
ロペンチル基、５，５−ジフルオロヘキシル基、５，５
−ジフルオロヘプチル基、６，６−ジフルオロヘキシル
基、６，６−ジフルオロヘプチル基又は７，７−ジフル
オロヘプチル基。 （ｊ）アルケニル基のうち（炭素数２〜８）、ビニル
基、１−プロペニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニ
ル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキ
セニル基、５−ヘキセニル基、６−ヘプテニル基又は７
−オクテニル基。
【００１４】Ｗ、Ｗ1、Ｗ2については、Ｈ、Ｆ又はＣＨ
3基が好ましい。Ｚについては、（ＩＩａ）のうち、ｐ
が０から２、ｑが２から１０、Ｒoが水素及びＹがＣ
Ｈ3、Ｆ又はＣＮの場合、あるいは（ＩＩｂ）又は（Ｉ
Ｉｃ）が好ましい。
3基が好ましい。Ｚについては、（ＩＩａ）のうち、ｐ
が０から２、ｑが２から１０、Ｒoが水素及びＹがＣ
Ｈ3、Ｆ又はＣＮの場合、あるいは（ＩＩｂ）又は（Ｉ
Ｉｃ）が好ましい。
【化２３】 の部分骨格構造としては、以下のものがあげられる。
【化２４】
【化２５】
【化２６】 これらのうち、［化２６］が好ましい。
【００１５】次に、本発明の前記一般式（Ｉ）で表され
るシラシクロヘキサン化合物の製造方法について説明す
る。
るシラシクロヘキサン化合物の製造方法について説明す
る。
【００１６】一般式（Ｉ）で表されるシラシクロヘキサ
ン化合物は、具体的には前記一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）
で表される環構造を有する、既に製造法の知られている
以下のような中間体から製造される。
ン化合物は、具体的には前記一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）
で表される環構造を有する、既に製造法の知られている
以下のような中間体から製造される。
【化２７】
【化２８】 （但し、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基（−Ｓ
Ｏ2ＣＦ3）を表す。Ｒ’はＡｒ（Ａｒはフェニル基又は
トリル基を表す。）又はＲを表す。また、
Ｏ2ＣＦ3）を表す。Ｒ’はＡｒ（Ａｒはフェニル基又は
トリル基を表す。）又はＲを表す。また、
【化２９】 は１又は４位のケイ素がＡｒ（Ａｒはフェニル基又はト
リル基を表す。）の置換基を持つトランス−１−シラ−
１，４−シクロヘキシレン基又はトランス−４−シラ−
１，４−シクロヘキシレン基を表すか又はトランス−
１，４−シクロヘキシレン基を表す。
リル基を表す。）の置換基を持つトランス−１−シラ−
１，４−シクロヘキシレン基又はトランス−４−シラ−
１，４−シクロヘキシレン基を表すか又はトランス−
１，４−シクロヘキシレン基を表す。
【化３０】 は１又は４位のケイ素がＡｒ（Ａｒはフェニル基又はト
リル基を表す。）の置換基を持つトランス−１−シラ−
１，４−シクロヘキシレン基又はトランス−４−シラ−
１，４−シクロへキシレン基を表すかトランス−１，４
−シクロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基を表
し、該シラシクロヘキサン化合物は少なくとも一つのト
ランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレン基又はト
ランス−４−シラ−１，４−シクロヘキシレン基を含
む。ｎ、Ｌ1及びＬ2の定義は前記一般式（Ｉ）の場合と
同じである。
リル基を表す。）の置換基を持つトランス−１−シラ−
１，４−シクロヘキシレン基又はトランス−４−シラ−
１，４−シクロへキシレン基を表すかトランス−１，４
−シクロヘキシレン基又は１，４−フェニレン基を表
し、該シラシクロヘキサン化合物は少なくとも一つのト
ランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレン基又はト
ランス−４−シラ−１，４−シクロヘキシレン基を含
む。ｎ、Ｌ1及びＬ2の定義は前記一般式（Ｉ）の場合と
同じである。
【００１７】（ｉ）Ｘが−Ｏ−である化合物
【化３１】 （但し、Ｚは前記一般式（Ｉ）の場合と同じである。）
【００１８】（ｉｉ）Ｘが−ＣＨ2−である化合物
【化３２】 （但し、ｔｐｐはトリフェニルホスフィン、ＤＭＦはジ
メチルホルムアミドを表す。）
メチルホルムアミドを表す。）
【００１９】さらに、一般式（IIIａ）、（IIIｂ）で表
される化合物、すなわちＷ、Ｗ1、Ｗ2がＡｒであるアリ
ールシラシクロヘキサン化合物は、以下に部分構造式の
反応式で示したようにクロロシラシクロヘキサン、フル
オロシラシクロヘキサン、メチルシラシクロヘキサン、
ヒドロシラシクロヘキサン化合物に変換される。なお、
骨格構造
される化合物、すなわちＷ、Ｗ1、Ｗ2がＡｒであるアリ
ールシラシクロヘキサン化合物は、以下に部分構造式の
反応式で示したようにクロロシラシクロヘキサン、フル
オロシラシクロヘキサン、メチルシラシクロヘキサン、
ヒドロシラシクロヘキサン化合物に変換される。なお、
骨格構造
【化３３】 及び
【化３４】 は
【化３５】 及び
【化３６】 に変換される。
【化３７】 の具体例としては、以下のものが挙げられる。
【００２０】アリールシラシクロヘキサン化合物（一般
式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＡｒでか
つＲ’がＲである場合）に一塩化ヨウ素を反応させる
と、ハロデシリレーション反応によりクロロシラシクロ
ヘキサン化合物（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）において
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＣｌである場合）が得られる。
式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＡｒでか
つＲ’がＲである場合）に一塩化ヨウ素を反応させる
と、ハロデシリレーション反応によりクロロシラシクロ
ヘキサン化合物（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）において
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＣｌである場合）が得られる。
【００２１】得られたクロロシラシクロヘキサン化合物
に、フッ化セシウム、フッ化銅（Ｉ）、フッ化アンチモ
ン、フッ化カルシウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムフルオリド等のフッ化物塩を反応させると、フルオロ
シラシクロヘキサン化合物（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）
においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＦである場合）が得られる。
に、フッ化セシウム、フッ化銅（Ｉ）、フッ化アンチモ
ン、フッ化カルシウム、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウ
ムフルオリド等のフッ化物塩を反応させると、フルオロ
シラシクロヘキサン化合物（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）
においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＦである場合）が得られる。
【００２２】また、得られたクロロシラシクロヘキサン
化合物に、メチルグリニャー試薬（例えばＣＨ3ＭｇＢ
ｒ）を反応させると、メチルシラシクロヘキサン化合物
（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＣ
Ｈ3である場合）が得られる。
化合物に、メチルグリニャー試薬（例えばＣＨ3ＭｇＢ
ｒ）を反応させると、メチルシラシクロヘキサン化合物
（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＣ
Ｈ3である場合）が得られる。
【００２３】また、クロロシラシクロヘキサン化合物又
はフルオロシラシクロヘキサン化合物を、水素化ナトリ
ウム、水素化カルシウム、トリアルキルシラン類、ボラ
ン類、ジアルキルアルミニウム等の金属水素化物、水素
化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホ
ウ素トリブチルアンモニウムなどの錯水素化化合物（Ｃ
ｏｍｐｌｅｘ ｈｙｄｒｉｄｅ）類等と、温和な条件で
反応させると、ヒドロシラシクロヘキサン化合物（一般
式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＨである
場合）が得られる。
はフルオロシラシクロヘキサン化合物を、水素化ナトリ
ウム、水素化カルシウム、トリアルキルシラン類、ボラ
ン類、ジアルキルアルミニウム等の金属水素化物、水素
化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、水
素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホ
ウ素トリブチルアンモニウムなどの錯水素化化合物（Ｃ
ｏｍｐｌｅｘ ｈｙｄｒｉｄｅ）類等と、温和な条件で
反応させると、ヒドロシラシクロヘキサン化合物（一般
式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）においてＷ、Ｗ1、Ｗ2がＨである
場合）が得られる。
【００２４】また、前記中間体（Ａ）および（Ｂ）にお
いて、Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＡｒでかつＲ’がＡｒである場合
には、前記一般式（IIIａ）又は（IIIｂ）で表される骨
格を形成した後、求電子試薬によるハロデシリレーショ
ン、それに続く還元反応、モノハロゲネーションを行
い、ヒドロハロゲノシラン化合物を得る。次に、これと
グリニヤー試薬との反応により、同様のヒドロシラシク
ロヘキサン化合物（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）において
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＨである場合）が得られる。
いて、Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＡｒでかつＲ’がＡｒである場合
には、前記一般式（IIIａ）又は（IIIｂ）で表される骨
格を形成した後、求電子試薬によるハロデシリレーショ
ン、それに続く還元反応、モノハロゲネーションを行
い、ヒドロハロゲノシラン化合物を得る。次に、これと
グリニヤー試薬との反応により、同様のヒドロシラシク
ロヘキサン化合物（一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）において
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＨである場合）が得られる。
【００２５】以上、一般式（Ｉａ）〜（Ｉｋ）において
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＨである化合物の製造方法を述べたが、
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2が他の置換基の場合は、以下のように製造
される。
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2がＨである化合物の製造方法を述べたが、
Ｗ、Ｗ1、Ｗ2が他の置換基の場合は、以下のように製造
される。
【化３８】
【００２６】すなわち、ジアリルシラシクロヘキシル基
を求電子試薬によりデシリレーション反応することでジ
ハロゲノシラシクロヘキシル基に変え、 メチルマグネシウムハライド等との反応でメチル基を
導入した後、対応するグリニヤー試薬との反応でメチル
シラシクロヘキシレン基とする。または、 対応するグリニヤー試薬との反応でクロロシラシクロ
ヘキシレン基とする。あるいは、ハロゲン交換によりフ
ルオロシラシクロヘキシレン基とする。このようにし
て、Ｒ’がＡｒである場合にも同様の化合物を得ること
ができる。また、クロロシラシクロヘキサン化合物又は
フルオロヘキサン化合物は前記と同様な金属水素化物、
錯水素化化合物と反応させてヒドロシラシクロヘキサン
化合物を得ることができる。
を求電子試薬によりデシリレーション反応することでジ
ハロゲノシラシクロヘキシル基に変え、 メチルマグネシウムハライド等との反応でメチル基を
導入した後、対応するグリニヤー試薬との反応でメチル
シラシクロヘキシレン基とする。または、 対応するグリニヤー試薬との反応でクロロシラシクロ
ヘキシレン基とする。あるいは、ハロゲン交換によりフ
ルオロシラシクロヘキシレン基とする。このようにし
て、Ｒ’がＡｒである場合にも同様の化合物を得ること
ができる。また、クロロシラシクロヘキサン化合物又は
フルオロヘキサン化合物は前記と同様な金属水素化物、
錯水素化化合物と反応させてヒドロシラシクロヘキサン
化合物を得ることができる。
【００２７】以上のようにして得られた生成物が立体異
性体の混合物になっている場合、再結晶、クロマトグラ
フィー等の常法の精製手段によって、トランス体もしく
はトランス−トランス体を分離・精製して目的物として
得る。
性体の混合物になっている場合、再結晶、クロマトグラ
フィー等の常法の精製手段によって、トランス体もしく
はトランス−トランス体を分離・精製して目的物として
得る。
【００２８】本発明の光学活性シラシクロヘキサン化合
物と混合して液晶相を形成するために用いられる既知の
化合物は、以下に示すものの中から選ばれる。
物と混合して液晶相を形成するために用いられる既知の
化合物は、以下に示すものの中から選ばれる。
【化３９】
【化４０】
【化４１】
【化４２】
【化４３】
【化４４】 但し、Ｒ”は炭素数２〜７のアルキル基、炭素数２〜７
のアルコキシアルキル基、炭素数２〜７のモノ又はジフ
ルオロアルキル基又は炭素数２〜７のアルケニル基を表
す。ａ及びｂは０又は１を表す。
のアルコキシアルキル基、炭素数２〜７のモノ又はジフ
ルオロアルキル基又は炭素数２〜７のアルケニル基を表
す。ａ及びｂは０又は１を表す。
【化４５】 および
【化４６】 はそれぞれトランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシ
レン基、トランス−４−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表
す。ＱはＣＮ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＣＣｌＦ2、ＣＨＣｌ
Ｆ、ＯＣＦ3、ＯＣＨ2Ｆ、ＯＣＣｌＦ2、ＯＣＨＦ2、Ｏ
ＣＨＣｌＦ、（Ｏ）k−ＣＴ＝ＣＸ1Ｘ2（ｋは０又は１
を表し、Ｔ及びＸ1はそれぞれ相互に独立してＨ、Ｆ又
はＣｌを表し、Ｘ2はＦ又はＣｌを表す。）、Ｏ（Ｃ
Ｈ2）i（ＣＦ2）jＧ（ｉ及びｊは０、１又は２で且つ
（ｉ＋ｊ）が２、３又は４である数を表し、ＧはＨ、Ｆ
又はＣｌを表す。）、Ｒ”又はＯＲ”基を表す。Ｙ1〜
Ｙ6はＨ又はＦを表す。Ｒ'''はＲ”の定義と同じであ
る。上記Ｑのうち好ましくは、Ｆ、Ｃｌ，ＯＣＨＦ2、
ＯＣＦ3、ＣＦ3、Ｏ（ＣＨ2）i（ＣＦ2）jＧ（ｉ及びｊ
は０、１又は２で且つ（ｉ＋ｊ）が２、３又は４である
数を表し、ＧはＨ、Ｆ又はＣｌを表す。）又は炭素数５
以下のアルコキシ基である。
レン基、トランス−４−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−１，４−シクロヘキシレン基を表
す。ＱはＣＮ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ3、ＣＣｌＦ2、ＣＨＣｌ
Ｆ、ＯＣＦ3、ＯＣＨ2Ｆ、ＯＣＣｌＦ2、ＯＣＨＦ2、Ｏ
ＣＨＣｌＦ、（Ｏ）k−ＣＴ＝ＣＸ1Ｘ2（ｋは０又は１
を表し、Ｔ及びＸ1はそれぞれ相互に独立してＨ、Ｆ又
はＣｌを表し、Ｘ2はＦ又はＣｌを表す。）、Ｏ（Ｃ
Ｈ2）i（ＣＦ2）jＧ（ｉ及びｊは０、１又は２で且つ
（ｉ＋ｊ）が２、３又は４である数を表し、ＧはＨ、Ｆ
又はＣｌを表す。）、Ｒ”又はＯＲ”基を表す。Ｙ1〜
Ｙ6はＨ又はＦを表す。Ｒ'''はＲ”の定義と同じであ
る。上記Ｑのうち好ましくは、Ｆ、Ｃｌ，ＯＣＨＦ2、
ＯＣＦ3、ＣＦ3、Ｏ（ＣＨ2）i（ＣＦ2）jＧ（ｉ及びｊ
は０、１又は２で且つ（ｉ＋ｊ）が２、３又は４である
数を表し、ＧはＨ、Ｆ又はＣｌを表す。）又は炭素数５
以下のアルコキシ基である。
【００２９】液晶相中における本発明の光学活性シラシ
クロヘキサン化合物の割合は、１種又は２種以上を０．
０５〜５ｍｏｌ％、好ましくは０．２〜１ｍｏｌ％含有
される。更に好ましくは、光学活性シラシクロヘキサン
化合物０．０５〜５ｍｏｌ％に対し一般式（ＩＶ）〜
（ＩＸ）から選ばれる化合物を９５〜９９．５ｍｏｌ％
含有する組成物がよい。光学活性シラシクロヘキサン化
合物が添加されることで生じるらせんピッチは表示モー
ド、液晶セル設計により多様であり、また、ホスト液晶
組成物によっても異なるので、所望のらせんピッチは光
学活性シラシクロヘキサン化合物の添加量で制御され
る。
クロヘキサン化合物の割合は、１種又は２種以上を０．
０５〜５ｍｏｌ％、好ましくは０．２〜１ｍｏｌ％含有
される。更に好ましくは、光学活性シラシクロヘキサン
化合物０．０５〜５ｍｏｌ％に対し一般式（ＩＶ）〜
（ＩＸ）から選ばれる化合物を９５〜９９．５ｍｏｌ％
含有する組成物がよい。光学活性シラシクロヘキサン化
合物が添加されることで生じるらせんピッチは表示モー
ド、液晶セル設計により多様であり、また、ホスト液晶
組成物によっても異なるので、所望のらせんピッチは光
学活性シラシクロヘキサン化合物の添加量で制御され
る。
【００３０】また、液晶相には、着色ゲストーホスト系
を精製するための多色性染料あるいは誘電異方性、粘
度、ネマチック相の配向を変えるための添加剤を含むこ
とができる。
を精製するための多色性染料あるいは誘電異方性、粘
度、ネマチック相の配向を変えるための添加剤を含むこ
とができる。
【００３１】このようにして形成された液晶相は、所望
形状の電極を有する透明基板間に封入して液晶表示素子
として使用される。この素子は、必要に応じて各種アン
ダーコート、配向制御用オーバーコート、偏光板、フィ
ルター、反射層等を有してもよい。また、多層セルとし
たり、他の表示素子と組み合わせたり、半導体基板を用
いたり、あるいは光源を用いたりする種々のものが使用
できる。
形状の電極を有する透明基板間に封入して液晶表示素子
として使用される。この素子は、必要に応じて各種アン
ダーコート、配向制御用オーバーコート、偏光板、フィ
ルター、反射層等を有してもよい。また、多層セルとし
たり、他の表示素子と組み合わせたり、半導体基板を用
いたり、あるいは光源を用いたりする種々のものが使用
できる。
【００３２】また、液晶表示素子の駆動方式としては、
本発明の化合物のΔεが正又はゼロに近い場合はスーパ
ーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）方式、ツイステッ
ドネマチック（ＴＮ）方式、ゲスト−ホスト（ＧＨ）方
式に用いられ、Δεが負の場合はダイナミックスキャタ
リング（ＤＳ）方式、電界制御複屈折（ＥＣＢ）方式、
ゲスト−ホスト（ＧＨ）方式等、液晶表示素子の業界で
公知の方式を採用することができる。
本発明の化合物のΔεが正又はゼロに近い場合はスーパ
ーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）方式、ツイステッ
ドネマチック（ＴＮ）方式、ゲスト−ホスト（ＧＨ）方
式に用いられ、Δεが負の場合はダイナミックスキャタ
リング（ＤＳ）方式、電界制御複屈折（ＥＣＢ）方式、
ゲスト−ホスト（ＧＨ）方式等、液晶表示素子の業界で
公知の方式を採用することができる。
【００３３】
【実施例】以下、本発明の実施例を挙げてさらに詳しく
説明する。
説明する。
【００３４】［実施例１］ （Ｓ）−（−）−４−（トランス−４−（トランス−４
−ｎ−ペンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキ
シル）−１−（１−メチルヘプチルオキシ）−２，６−
ジフルオロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノール９．１ｇ（２０ｍｍｏｌ）、
（Ｒ）−（−）−２−オクタノール２．６ｇ（２０ｍｍ
ｏｌ）、トリフェニルホスフィン６．６ｇ（２５ｍｍｏ
ｌ）及びテトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」と言
う。）５０ｍｌの混合物にアゾジカルボン酸ジエチル
４．４ｇ（２５ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下し、２時間攪
拌した。反応混合物を常法により後処理した後、クロマ
トグラフィーにより精製して、４−（トランス−４−
（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−シラシクロヘ
キシル）シクロヘキシル）−１−（１−メチルヘプチル
オキシ）−２，６−ジフルオロベンゼン９．３ｇ（収率
８２％）を得た。 ＩＲ（液膜） νｍａｘ：２９２４，２８５６，１５８
５，１５１４，１２４０，１１１３，１０２４，９２
６，８４９ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：０．５−２．５（４６
Ｈ，ｍ），４．１−４．４（１Ｈ，ｍ），６．６−７．
０（２Ｈ），７．３−７．６（５Ｈ）ｐｐｍ
−ｎ−ペンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキ
シル）−１−（１−メチルヘプチルオキシ）−２，６−
ジフルオロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノール９．１ｇ（２０ｍｍｏｌ）、
（Ｒ）−（−）−２−オクタノール２．６ｇ（２０ｍｍ
ｏｌ）、トリフェニルホスフィン６．６ｇ（２５ｍｍｏ
ｌ）及びテトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」と言
う。）５０ｍｌの混合物にアゾジカルボン酸ジエチル
４．４ｇ（２５ｍｍｏｌ）を氷冷下で滴下し、２時間攪
拌した。反応混合物を常法により後処理した後、クロマ
トグラフィーにより精製して、４−（トランス−４−
（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−シラシクロヘ
キシル）シクロヘキシル）−１−（１−メチルヘプチル
オキシ）−２，６−ジフルオロベンゼン９．３ｇ（収率
８２％）を得た。 ＩＲ（液膜） νｍａｘ：２９２４，２８５６，１５８
５，１５１４，１２４０，１１１３，１０２４，９２
６，８４９ｃｍ-1 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ：０．５−２．５（４６
Ｈ，ｍ），４．１−４．４（１Ｈ，ｍ），６．６−７．
０（２Ｈ），７．３−７．６（５Ｈ）ｐｐｍ
【００３５】このもの１．１４ｇ（２．０ｍｍｏｌ）と
四塩化炭素１５ｍｌの混合物に室温で１．０Ｍの一塩化
ヨウ素の四塩化炭素溶液２．５ｍｌを加えて１時間攪拌
した。反応混合物を減圧濃縮して、４−（トランス−４
−（４−ｎ−ペンチル−４−クロロ−４−シラシクロヘ
キシル）シクロヘキシル）−１−（１−メチルヘプチル
オキシ）−２，６−ジフルオロベンゼン１．００ｇ（収
率９５％）を得た。
四塩化炭素１５ｍｌの混合物に室温で１．０Ｍの一塩化
ヨウ素の四塩化炭素溶液２．５ｍｌを加えて１時間攪拌
した。反応混合物を減圧濃縮して、４−（トランス−４
−（４−ｎ−ペンチル−４−クロロ−４−シラシクロヘ
キシル）シクロヘキシル）−１−（１−メチルヘプチル
オキシ）−２，６−ジフルオロベンゼン１．００ｇ（収
率９５％）を得た。
【００３６】このもの０．５３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を
水素化リチウムアルミニウム１００ｍｇとＴＨＦ２０ｍ
ｌの混合物に加え、−２０℃で１５分間攪拌した。反応
混合物を希塩酸にあけ、常法により後処理した。この粗
生成物はシクロヘキサン環に関してトランス体とシス体
の混合物であるので、これらをクロマトグラフィーによ
り分離して、トランス−トランス体の目的物０．３４ｇ
（収率７０％）を得た。 ＴSI＝４５℃ ＩＲ（ＫＢｒ ｄｉｓｃ） νｍａｘ：２９２４，２８
５２，２１００，１５８５，１５１４，１４４１，１３
３６，１２４０，１０２４，８８７，８４５，８１８ｃ
ｍ-1 ［α］26 D＝−６．３（ＣＨＣｌ3） （［α］26 D（旋光度）：測定温度２６℃、測定光源Ｎ
ａ−Ｄ線（５８９ｎｍ）） ＨＴＰ（Ｈｅｌｉｃａｌ Ｔｗｉｓｔ Ｐｏｗｅｒ）＝
＋１０．４（試料をメルク社製ＺＬＩ−２２９３に１０
％混ぜ、ＨＴＰを測定した。）
水素化リチウムアルミニウム１００ｍｇとＴＨＦ２０ｍ
ｌの混合物に加え、−２０℃で１５分間攪拌した。反応
混合物を希塩酸にあけ、常法により後処理した。この粗
生成物はシクロヘキサン環に関してトランス体とシス体
の混合物であるので、これらをクロマトグラフィーによ
り分離して、トランス−トランス体の目的物０．３４ｇ
（収率７０％）を得た。 ＴSI＝４５℃ ＩＲ（ＫＢｒ ｄｉｓｃ） νｍａｘ：２９２４，２８
５２，２１００，１５８５，１５１４，１４４１，１３
３６，１２４０，１０２４，８８７，８４５，８１８ｃ
ｍ-1 ［α］26 D＝−６．３（ＣＨＣｌ3） （［α］26 D（旋光度）：測定温度２６℃、測定光源Ｎ
ａ−Ｄ線（５８９ｎｍ）） ＨＴＰ（Ｈｅｌｉｃａｌ Ｔｗｉｓｔ Ｐｏｗｅｒ）＝
＋１０．４（試料をメルク社製ＺＬＩ−２２９３に１０
％混ぜ、ＨＴＰを測定した。）
【００３７】実施例１と同様にして以下の化合物を得
た。
た。
【００３８】［実施例２］ （Ｒ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−プ
ロピル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（１−メチルブチルオキシ）−２，６−ジフルオロ
ベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−プロピル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−ペンタノール
とから合成した。 ＴCS＝１７℃ ＴSCh＝４１℃ ＴChI＝６４℃ ＨＴＰ＝−１３．９（市販のＺＬＩ−２２９３（ＭＥＲ
ＣＫ）に試料を１０％混ぜて測定）
ロピル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（１−メチルブチルオキシ）−２，６−ジフルオロ
ベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−プロピル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−ペンタノール
とから合成した。 ＴCS＝１７℃ ＴSCh＝４１℃ ＴChI＝６４℃ ＨＴＰ＝−１３．９（市販のＺＬＩ−２２９３（ＭＥＲ
ＣＫ）に試料を１０％混ぜて測定）
【００３９】［実施例３］ （Ｒ）−（＋）−４−（トランス−４−（トランス−４
−ｎ−ペンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキ
シル）−１−（１−メチルヘプチルオキシ）−２，６−
ジフルオロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−オクタノール
とから合成した。 ＴSI＝４６℃ ＩＲ（ＫＢｒ ｄｉｓｃ） νｍａｘ：２９２４，２８
５２，２１００，１５８５，１５１４，１４４１，１３
３６，１２４０，１０２４，８８７，８４５，８１８ｃ
ｍ-1 ［α］25 D＝６．３（ＣＨＣｌ3） ＨＴＰ＝−１０．２（試料をメルク社製ＺＬＩ−２２９
３に１０％混ぜ、ＨＴＰを測定した。）
−ｎ−ペンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキ
シル）−１−（１−メチルヘプチルオキシ）−２，６−
ジフルオロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−オクタノール
とから合成した。 ＴSI＝４６℃ ＩＲ（ＫＢｒ ｄｉｓｃ） νｍａｘ：２９２４，２８
５２，２１００，１５８５，１５１４，１４４１，１３
３６，１２４０，１０２４，８８７，８４５，８１８ｃ
ｍ-1 ［α］25 D＝６．３（ＣＨＣｌ3） ＨＴＰ＝−１０．２（試料をメルク社製ＺＬＩ−２２９
３に１０％混ぜ、ＨＴＰを測定した。）
【００４０】［実施例４］ （Ｒ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−ヘ
プチルシクロヘキシル）−４−シラシクロヘキシル）−
１−（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオ
ロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロヘキシ
ル）−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−ノナノールと
から合成した。
プチルシクロヘキシル）−４−シラシクロヘキシル）−
１−（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオ
ロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロヘキシ
ル）−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−ノナノールと
から合成した。
【００４１】［実施例５］ （Ｓ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−オ
クチルシクロヘキシル）−４−シラシクロヘキシル）−
１−（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオ
ロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−ｎ−オクチルシクロヘキシ
ル）−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−ノナノールと
から合成した。
クチルシクロヘキシル）−４−シラシクロヘキシル）−
１−（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオ
ロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−ｎ−オクチルシクロヘキシ
ル）−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−ノナノールと
から合成した。
【００４２】［実施例６］ （Ｒ）−４−（４−（トランス−４−ｎ−プロピル−４
−メチル−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−
（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベ
ンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−プロピル−４−メチル−４−シラ
シクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフェ
ノールと（Ｓ）−２−ノナノールとから合成した。
−メチル−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−
（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベ
ンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−プロピル−４−メチル−４−シラ
シクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフェ
ノールと（Ｓ）−２−ノナノールとから合成した。
【００４３】［実施例７］ （Ｓ）−４−（４−（トランス−４−ｎ−ペンチル−４
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（１−メチル
オクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｒ）−２−ノナノールとから合成した。 ＴCI＝１４℃ ＴSI＝０℃ ［α］30 D＝−１１．３（ＣＨＣｌ3） ＨＴＰ＝＋９．４（試料をメルク社製ＺＬＩ−２２９３
に１０％混ぜ、ＨＴＰを測定した。）
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（１−メチル
オクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｒ）−２−ノナノールとから合成した。 ＴCI＝１４℃ ＴSI＝０℃ ［α］30 D＝−１１．３（ＣＨＣｌ3） ＨＴＰ＝＋９．４（試料をメルク社製ＺＬＩ−２２９３
に１０％混ぜ、ＨＴＰを測定した。）
【００４４】［実施例８］ （Ｓ）−４−（４−（トランス−４−ｎ−ヘプチル−４
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（１−メチル
オクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ヘプチル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｒ）−２−ノナノールとから合成した。
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（１−メチル
オクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ヘプチル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｒ）−２−ノナノールとから合成した。
【００４５】［実施例９］ （Ｒ）−４−（４−（トランス−４−（４−フルオロペ
ンチル）−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−
（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベ
ンゼンの製造 ４−（４−（４−フルオロペンチル）−４−フェニル−
４−シラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフル
オロフェノールと（Ｓ）−２−ノナノールとから合成し
た。
ンチル）−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−
（１−メチルオクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベ
ンゼンの製造 ４−（４−（４−フルオロペンチル）−４−フェニル−
４−シラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフル
オロフェノールと（Ｓ）−２−ノナノールとから合成し
た。
【００４６】［実施例１０］ （Ｒ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−プ
ロピル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（２−フルオロオクチルオキシ）−２，６−ジフル
オロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−プロピル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１
−オクタノールとから合成した。
ロピル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（２−フルオロオクチルオキシ）−２，６−ジフル
オロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−プロピル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１
−オクタノールとから合成した。
【００４７】［実施例１１］ （Ｓ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペ
ンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（２−フルオロオクチルオキシ）−２，６−ジフル
オロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−フルオロ−１
−オクタノールとから合成した。
ンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（２−フルオロオクチルオキシ）−２，６−ジフル
オロベンゼンの製造 ４−（トランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−フルオロ−１
−オクタノールとから合成した。
【００４８】［実施例１２］ （Ｓ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−ヘ
プチルシクロヘキシル）−４−フルオロ−４−シラシク
ロヘキシル）−１−（２−フルオロデシルオキシ）−
２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロヘキシ
ル）−４−フルオロ−４−シラシクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−フルオロ−１
−デカノールとから合成した。
プチルシクロヘキシル）−４−フルオロ−４−シラシク
ロヘキシル）−１−（２−フルオロデシルオキシ）−
２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロヘキシ
ル）−４−フルオロ−４−シラシクロヘキシル）−２，
６−ジフルオロフェノールと（Ｒ）−２−フルオロ−１
−デカノールとから合成した。
【００４９】［実施例１３］ （Ｒ）−４−（トランス−４−（トランス−４−（３−
メチルブチル）シクロヘキシル）−４−シラシクロヘキ
シル）−１−（２−フルオロデシルオキシ）−２，６−
ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−（３−メチルブチル）シク
ロヘキシル）−４−フェニル−４−シラシクロヘキシ
ル）−２，６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−フ
ルオロ−１−デカノールとから合成した。
メチルブチル）シクロヘキシル）−４−シラシクロヘキ
シル）−１−（２−フルオロデシルオキシ）−２，６−
ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（トランス−４−（３−メチルブチル）シク
ロヘキシル）−４−フェニル−４−シラシクロヘキシ
ル）−２，６−ジフルオロフェノールと（Ｓ）−２−フ
ルオロ−１−デカノールとから合成した。
【００５０】［実施例１４］ （Ｒ）−４−（４−（トランス−４−ｎ−プロピル−４
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオ
ロオクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製
造 ４−（４−（４−ｎ−プロピル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１−オクタノールと
から合成した。
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオ
ロオクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製
造 ４−（４−（４−ｎ−プロピル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１−オクタノールと
から合成した。
【００５１】［実施例１５］ （Ｒ）−４−（４−（トランス−４−ｎ−ペンチル−４
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオ
ロデシルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１−デカノールとか
ら合成した。
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオ
ロデシルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−シ
ラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフ
ェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１−デカノールとか
ら合成した。
【００５２】［実施例１６］ （Ｓ）−４−（４−（トランス−４−ｎ−ノニル−４−
シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオロ
オクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ノニル−４−フェニル−４−シラ
シクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフェ
ノールと（Ｒ）−２−フルオロ−１−オクタノールとか
ら合成した。
シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオロ
オクチルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 ４−（４−（４−ｎ−ノニル−４−フェニル−４−シラ
シクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジフルオロフェ
ノールと（Ｒ）−２−フルオロ−１−オクタノールとか
ら合成した。
【００５３】［実施例１７］ （Ｓ）−４−（４−（トランス−４−（４−フロロブチ
ル）−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２
−フルオロノニルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼ
ンの製造 ４−（４−（４−（４−フルオロブチル）−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジ
フルオロフェノールと（Ｒ）−３−フルオロ−１−ノナ
ノールとから合成した。
ル）−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２
−フルオロノニルオキシ）−２，６−ジフルオロベンゼ
ンの製造 ４−（４−（４−（４−フルオロブチル）−４−フェニ
ル−４−シラシクロヘキシル）フェニル）−２，６−ジ
フルオロフェノールと（Ｒ）−３−フルオロ−１−ノナ
ノールとから合成した。
【００５４】［実施例１８］ （Ｓ）−４−（トランス−４−ｎ−ヘプチル−４−シラ
シクロヘキシル）−１−（２−メチルブチル）−２，６
−ジフルオロベンゼンの製造 マグネシウム０．５ｇ（２１ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ５０
ｍｌの混合物に（Ｓ）−１−ブロモ−２−メチルブタン
３．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）を滴下してグリニヤー試薬を
得た。これを塩化亜鉛２．８ｇ（２０ｍｍｏｌ）のＴＨ
Ｆ溶液２０ｍｌに滴下して有機亜鉛試薬を得た。続い
て、この溶液をトリフルオロメタンスルホン酸（２，６
−ジフルオロ−４−（４−ｎ−ヘプチル−４−フェニル
−４−シラシクロヘキシル）フェニル）１０．７ｇ（２
０ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）
パラジウム（０）１００ｍｇと塩化リチウム５００ｍｇ
とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌの混合物に滴
下した。５０℃で８時間攪拌した。反応混合物を常法に
より後処理した後、クロマトグラフィーにより精製し
て、４−（４−ｎ−ヘプチル−４−フェニル−４−シラ
シクロヘキシル）−１−（２−メチルブチル）−２，６
−ジフルオロベンゼン６．４ｇ（収率７０％）を得た。
シクロヘキシル）−１−（２−メチルブチル）−２，６
−ジフルオロベンゼンの製造 マグネシウム０．５ｇ（２１ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ５０
ｍｌの混合物に（Ｓ）−１−ブロモ−２−メチルブタン
３．０ｇ（２０ｍｍｏｌ）を滴下してグリニヤー試薬を
得た。これを塩化亜鉛２．８ｇ（２０ｍｍｏｌ）のＴＨ
Ｆ溶液２０ｍｌに滴下して有機亜鉛試薬を得た。続い
て、この溶液をトリフルオロメタンスルホン酸（２，６
−ジフルオロ−４−（４−ｎ−ヘプチル−４−フェニル
−４−シラシクロヘキシル）フェニル）１０．７ｇ（２
０ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）
パラジウム（０）１００ｍｇと塩化リチウム５００ｍｇ
とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌの混合物に滴
下した。５０℃で８時間攪拌した。反応混合物を常法に
より後処理した後、クロマトグラフィーにより精製し
て、４−（４−ｎ−ヘプチル−４−フェニル−４−シラ
シクロヘキシル）−１−（２−メチルブチル）−２，６
−ジフルオロベンゼン６．４ｇ（収率７０％）を得た。
【００５５】このもの０．９１ｇ（２．０ｍｍｏｌ）と
四塩化炭素１５ｍｌの混合物に室温で１．０Ｍの一塩化
ヨウ素の四塩化炭素溶液２．５ｍｌを加えて１時間攪拌
した。反応混合物を減圧濃縮して、４−（４−ｎ−ヘプ
チル−４−クロロ−４−シラシクロヘキシル）−１−
（２−メチルブチル）−２，６−ジフルオロベンゼン
０．８０ｇ（収率９６％）を得た。
四塩化炭素１５ｍｌの混合物に室温で１．０Ｍの一塩化
ヨウ素の四塩化炭素溶液２．５ｍｌを加えて１時間攪拌
した。反応混合物を減圧濃縮して、４−（４−ｎ−ヘプ
チル−４−クロロ−４−シラシクロヘキシル）−１−
（２−メチルブチル）−２，６−ジフルオロベンゼン
０．８０ｇ（収率９６％）を得た。
【００５６】このもの０．４２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を
水素化リチウムアルミニウム１００ｍｇとＴＨＦ２０ｍ
ｌの混合物に加え、−２０℃で１５分間攪拌した。反応
混合物を希塩酸にあけ、常法により後処理した。この粗
生成物はシラシクロヘキサン環に関してトランス体とシ
ス体の混合物であるので、これらをクロマトグラフィー
により分離してトランス体の目的物０．３２ｇ（収率８
５％）を得た。
水素化リチウムアルミニウム１００ｍｇとＴＨＦ２０ｍ
ｌの混合物に加え、−２０℃で１５分間攪拌した。反応
混合物を希塩酸にあけ、常法により後処理した。この粗
生成物はシラシクロヘキサン環に関してトランス体とシ
ス体の混合物であるので、これらをクロマトグラフィー
により分離してトランス体の目的物０．３２ｇ（収率８
５％）を得た。
【００５７】実施例１８と同様にして以下の化合物を得
た。
た。
【００５８】［実施例１９］ （Ｓ）−４−（トランス−４−ｎ−ペンチル−４−シラ
シクロヘキシル）−１−（２−メチルブチル）−２，６
−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｓ）−１−ブロモ−２−メチルブタンとトリフルオロ
メタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４−ｎ
−ペンチル−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）
フェニル）とから合成した。
シクロヘキシル）−１−（２−メチルブチル）−２，６
−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｓ）−１−ブロモ−２−メチルブタンとトリフルオロ
メタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４−ｎ
−ペンチル−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）
フェニル）とから合成した。
【００５９】［実施例２０］ （Ｓ）−４−（トランス−４−ｎ−プロピル−４−シラ
シクロヘキシル）−１−（２−フルオロオクチル）−
２，６−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｓ）−１−ブロモ−２−フルオロオクタンとトリフル
オロメタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４
−ｎ−プロピル−４−フェニル−４−シラシクロヘキシ
ル）フェニル）とから合成した。
シクロヘキシル）−１−（２−フルオロオクチル）−
２，６−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｓ）−１−ブロモ−２−フルオロオクタンとトリフル
オロメタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４
−ｎ−プロピル−４−フェニル−４−シラシクロヘキシ
ル）フェニル）とから合成した。
【００６０】［実施例２１］ （Ｒ）−４−（トランス−４−（４−ペンテニル）−４
−シラシクロヘキシル）−１−（２−フルオロオクチ
ル）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｒ）−１−ブロモ−２−フルオロオクタンとトリフル
オロメタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４
−（４−ペンテニル）−４−フェニル−４−シラシクロ
ヘキシル）フェニル）とから合成した。
−シラシクロヘキシル）−１−（２−フルオロオクチ
ル）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｒ）−１−ブロモ−２−フルオロオクタンとトリフル
オロメタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４
−（４−ペンテニル）−４−フェニル−４−シラシクロ
ヘキシル）フェニル）とから合成した。
【００６１】［実施例２２］ （Ｒ）−４−（トランス−４−（５−メトキシペンチ
ル）−４−シラシクロヘキシル）−１−（２−フルオロ
オクチル）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｒ）−１−ブロモ−２−フルオロオクタンとトリフル
オロメタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４
−（５−メトキシペンチル）−４−フェニル−４−シラ
シクロヘキシル）フェニル）とから合成した。
ル）−４−シラシクロヘキシル）−１−（２−フルオロ
オクチル）−２，６−ジフルオロベンゼンの製造 （Ｒ）−１−ブロモ−２−フルオロオクタンとトリフル
オロメタンスルホン酸（２，６−ジフルオロ−４−（４
−（５−メトキシペンチル）−４−フェニル−４−シラ
シクロヘキシル）フェニル）とから合成した。
【００６２】［実施例２３］ （Ｓ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペ
ンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（１−メチルブチルオキシ）ベンゼンの製造 実施例１と同様にして、４−（トランス−４−（４−ｎ
−ペンチル−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）
シクロヘキシル）フェノールと（Ｒ）−２−ペンタノー
ルとから合成した。
ンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（１−メチルブチルオキシ）ベンゼンの製造 実施例１と同様にして、４−（トランス−４−（４−ｎ
−ペンチル−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）
シクロヘキシル）フェノールと（Ｒ）−２−ペンタノー
ルとから合成した。
【００６３】［実施例２４］ （Ｓ）−４−（トランス−４−（トランス−４−ｎ−ペ
ンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（２−メチルブチル）ベンゼンの製造 実施例１８と同様にして、（Ｓ）−１−ブロモ−２−メ
チルブタンとトリフルオロメタンスルホン酸（４−（ト
ランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−
シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニル）とか
ら合成した。
ンチル−４−シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）−
１−（２−メチルブチル）ベンゼンの製造 実施例１８と同様にして、（Ｓ）−１−ブロモ−２−メ
チルブタンとトリフルオロメタンスルホン酸（４−（ト
ランス−４−（４−ｎ−ペンチル−４−フェニル−４−
シラシクロヘキシル）シクロヘキシル）フェニル）とか
ら合成した。
【００６４】［実施例２５］ （Ｒ）−４−（４−（トランス−４−ｎ−ヘプチル−４
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオ
ロヘプチルオキシ）ベンゼンの製造 実施例１と同様にして、４−（４−（４−ｎ−ヘプチル
−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）フェニル）
フェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１−ヘプタノール
とから合成した。
−シラシクロヘキシル）フェニル）−１−（２−フルオ
ロヘプチルオキシ）ベンゼンの製造 実施例１と同様にして、４−（４−（４−ｎ−ヘプチル
−４−フェニル−４−シラシクロヘキシル）フェニル）
フェノールと（Ｓ）−２−フルオロ−１−ヘプタノール
とから合成した。
【００６５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
環構成要素としてＳｉを導入した新規な光学活性シラシ
クロヘキサン化合物を提供することができる。
環構成要素としてＳｉを導入した新規な光学活性シラシ
クロヘキサン化合物を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｋ 19/40 9279−4Ｈ Ｃ０９Ｋ 19/40 Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/13 ５００ // Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 荻原 勤 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の １ 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内 (72)発明者 金子 達志 新潟県中頸城郡頸城村大字西福島28番地の １ 信越化学工業株式会社合成技術研究所 内
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される光学活性シ
ラシクロヘキサン化合物。 【化１】 但し、Ｒは炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、炭素数
３〜８の分枝鎖状アルキル基、炭素数２〜７のアルコキ
シアルキル基、炭素数１〜１０のモノ又はジフルオロア
ルキル基又は炭素数２〜８のアルケニル基を表す。 【化２】 は１又は４位のケイ素がＨ、Ｆ、Ｃｌ又はＣＨ3の置換
基を持つトランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−４−シラ−１，４−シクロへキシレ
ン基を表すか又はトランス−１，４−シクロヘキシレン
基を表す。 【化３】 は１又は４位のケイ素がＨ、Ｆ、Ｃｌ又はＣＨ3の置換
基を持つトランス−１−シラ−１，４−シクロヘキシレ
ン基又はトランス−４−シラ−１，４−シクロへキシレ
ン基を表すかトランス−１，４−シクロヘキシレン基又
は１，４−フェニレン基を表し、該シラシクロヘキサン
化合物は少なくとも一つのトランス−１−シラ−１，４
−シクロヘキシレン基又はトランス−４−シラ−１，４
−シクロヘキシレン基を含む。ｎは０又は１を表す。Ｘ
は−ＣＨ2−又は−Ｏ−を表す。Ｚは１個以上のキラル
炭素原子を含有するキラル基を表す。Ｌ1、Ｌ2はそれぞ
れ独立してＨ又はＦを表す。 - 【請求項２】 請求項１に記載の光学活性シラシクロヘ
キサン化合物を含有することを特徴とする液晶組成物。 - 【請求項３】 請求項２に記載の液晶組成物を含有する
ことを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8239889A JPH09132581A (ja) | 1995-08-28 | 1996-08-22 | 光学活性シラシクロヘキサン化合物及びこれを含有する液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-242515 | 1995-08-28 | ||
| JP24251595 | 1995-08-28 | ||
| JP8239889A JPH09132581A (ja) | 1995-08-28 | 1996-08-22 | 光学活性シラシクロヘキサン化合物及びこれを含有する液晶組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09132581A true JPH09132581A (ja) | 1997-05-20 |
Family
ID=26534470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8239889A Pending JPH09132581A (ja) | 1995-08-28 | 1996-08-22 | 光学活性シラシクロヘキサン化合物及びこれを含有する液晶組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09132581A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009137848A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 液晶化合物 |
-
1996
- 1996-08-22 JP JP8239889A patent/JPH09132581A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009137848A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 液晶化合物 |
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