JPH09186432A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

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JPH09186432A
JPH09186432A JP35314395A JP35314395A JPH09186432A JP H09186432 A JPH09186432 A JP H09186432A JP 35314395 A JP35314395 A JP 35314395A JP 35314395 A JP35314395 A JP 35314395A JP H09186432 A JPH09186432 A JP H09186432A
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JP
Japan
Prior art keywords
resin layer
conductor
insulating resin
plating
roughened
Prior art date
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Pending
Application number
JP35314395A
Other languages
English (en)
Inventor
Kuniaki Sekiguchi
邦明 関口
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Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi AIC Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程を短くでき、容易にかつ安価に製造
できるプリント配線板の製造方法を提供すること。 【解決手段】 絶縁基板1の表面に紫外線硬化型の絶縁
樹脂層2を形成する工程と、この工程後に導体8を形成
する以外の部分に紫外線4を照射して前記の絶縁樹脂層
2を硬化する工程と、この工程後にこの絶縁樹脂層2の
前記導体8を形成する部分のみを粗面化する工程と、こ
の工程後に前記絶縁樹脂層2の粗面化部分にめっき触媒
5を付着する工程と、この工程後に無電解めっき処理を
して前記導体8を形成する工程とを行なうことを特徴と
するプリント配線板9の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプリント配線板の製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント配線板は一般的にサブト
ラクティブ法により製造している。この製造方法は、銅
張り絶縁基板を用い、表面に無電解めっきと電解めっき
を形成するとともにスルーホールめっきを形成し、その
後、導体回路以外の部分の銅をエッチングによって除去
して導体回路を形成する。そしてこの製造方法は、銅張
り絶縁基板を用いているため、回路と絶縁基板との密着
強度を確保するために特別な処理を必要とせず、また回
路は銅箔表面に電解めっきを設けているため信頼性が高
い長所がある。また、他の製造方法として、銅張りをし
ていない接着剤層を設けた絶縁基板を用い、無電解めっ
き処理をして導体回路を形成するアディティブ法があ
る。この製造方法は、必要な部分だけに無電解銅めっき
処理をして回路を形成すればよいため、製造工程が短く
なる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前者のサブト
ラクティブ法では、回路以外の不要な銅を除去しなけれ
ばならず、エッチング処理が必要で、製造工程が多くな
る欠点がある。また、後者のアディティブ法では、特殊
な接着剤層を設けた、めっき触媒入りの絶縁基板を用い
なければならず、材料コストが高い欠点がある。
【0004】本発明は、以上の欠点を改良し、製造工程
が短く、容易にかつ安価に製造できるプリント配線板の
製造方法を提供することを課題とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、絶縁基板の表
面に紫外線硬化型の絶縁樹脂層を形成する工程と、この
工程後に導体を形成する以外の部分に紫外線を照射して
前記の絶縁樹脂層を硬化する工程と、この工程後にこの
絶縁樹脂層の前記導体を形成する部分のみを粗面化する
工程と、この工程後に前記絶縁樹脂層の粗面化部分にめ
っき触媒を付着する工程と、この工程後に無電解めっき
処理をして前記導体を形成する工程とを行なうことを特
徴とするプリント配線板の製造方法である。
【0006】本発明によれば、銅張り絶縁基板を用いる
ことなく、回路状の導体を形成でき、エッチング処理や
それに付随する処理を必要とせず、製造が比較的容易に
なり、製造コストを低減できる。また、フルアディティ
ブ法に特有な絶縁基板を用いる必要がなく、一般的に用
いられている積層板をベースの絶縁基板に用いることが
でき、比較的安価なプリント配線板が得られる。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の絶縁基板としては、紙エ
ポキシ樹脂積層板や、紙フェノール樹脂積層板、ガラス
エポキシ樹脂積層板等を用いる。そしてこの絶縁基板の
表面に、カーテンコート法等によって紫外線硬化型の、
エポキシ樹脂やニトリルブタジェンゴム等を成分とする
絶縁樹脂を塗布して絶縁樹脂層を形成する。次に、この
絶縁樹脂層の表面に、導体の逆パターンネガフィルムを
当ててマスクとし、紫外線を照射する。紫外線を照射
後、粗化液を用いて絶縁樹脂層を粗化する。この際、紫
外線を照射した絶縁樹脂層の部分は硬化していて粗化さ
れず、マスクをして紫外線を照射しなかった未硬化の部
分が粗化される。粗化後、めっき触媒処理液を用いて絶
縁樹脂層の表面にめっき触媒を付着する。なお、めっき
触媒は、絶縁樹脂層の粗化されていない平滑な面には付
着することなく、粗化された面に引っ掛り付着する。め
っき触媒と付着後、硫酸銅やEDTA等を組成とする無
電解銅めっき液を用いて無電解銅めっき処理をして、め
っき触媒を付着した絶縁樹脂層の粗化面に銅めっきを析
出して導体を形成する。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1(イ)において、1は、絶縁基板であり、ガ
ラスエポキシ樹脂積層板E−67(日立化成工業株式会
社製商品名)を用いる。
【0009】そして、図1(ロ)に示す通り、この絶縁
基板1の両面に、紫外線硬化型の絶縁樹脂をカーテンコ
ート法によって塗布して、絶縁樹脂層2を形成する。こ
の紫外線硬化型の絶縁樹脂層2は、アクリル変性エポキ
シ樹脂50wt%と、ニトリルブタジェンゴム35wt%、
炭酸カルシウム10wt%、イミダゾール系硬化剤5wt%
とからなる。
【0010】次に、温度80℃で30分間乾燥した後、
図1(ハ)に示す通り、導体の逆パターンネガフィルム
をマスク3として、絶縁樹脂層2の表面に当て、超高圧
水銀灯を有する露光機を用い、1J/cm2 の光量で紫外
線4を絶縁樹脂層2に照射する。
【0011】紫外線4を照射後、絶縁基板1を膨潤用液
OPC−1050(奥野製薬工業株式会社製商品名)、
粗化液OPC−1200(奥野製薬工業株式会社商品
名)、中和液OPC−1300(奥野製薬工業株式会社
製商品名)に順次浸漬して、絶縁樹脂2の表面を粗化す
る。この際、図1(ニ)に示す通り、絶縁樹脂層2の紫
外線を照射した部分は粗化されず、マスク3によって照
射されなかった部分だけが粗化される。
【0012】粗化処理後、絶縁基板1を無電解めっき用
の触媒処理液HS−201B(日立化成工業株式会社製
商品名)6ml/l の濃度の液中に5分間浸漬し、めっき
触媒を付着する。この際、めっき触媒5は、図1(ホ)
に示す通り、絶縁樹脂層2の粗化面6のみに付着し、平
滑な面7には付着しない。
【0013】めっき触媒を付着後、絶縁基板1を温度7
0℃の無電解銅めっき液中に浸漬し、図1(ヘ)に示す
通り、粗化面6に銅めっきを析出し導体8を形成し、プ
リント配線板9とする。なお、無電解銅めっき液の組成
は、硫酸銅・五水和物0.04mol/lと、水酸化ナトリ
ウム0.05mol/l、37%ホルムアルデヒド水溶液
0.04mol/l、エチレンジアミン四酢酸0.15mol
/l、α、α’−ジピリジル30mg/l、ポリエチレング
リコール(分子量1000)1g/lとからなる。
【0014】
【発明の効果】以上の通り、本発明の製造方法によれ
ば、絶縁基板の表面に紫外線硬化型の絶縁樹脂層を形成
し、導体を形成する以外の部分を紫外線硬化し、この部
分を粗化し、めっき触媒を付着し、無電解めっき処理に
より導体を形成しているため、容易に製造でき安価なプ
リント配線板が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の製造工程の図を示す。
【符号の説明】
1…絶縁基板、 2…絶縁樹脂層、 4…紫外線、 5
…めっき触媒、6…粗化面、 8…導体、 9…プリン
ト配線板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基板の表面に紫外線硬化型の絶縁樹
    脂層を形成する工程と、この工程後に導体を形成する以
    外の部分に紫外線を照射して前記の絶縁樹脂層を硬化す
    る工程と、この工程後にこの絶縁樹脂層の前記導体を形
    成する部分のみを粗面化する工程と、この工程後に前記
    絶縁樹脂層の粗面化部分にめっき触媒を付着する工程
    と、この工程後に無電解めっき処理をして前記導体を形
    成する工程とを行なうことを特徴とするプリント配線板
    の製造方法。
JP35314395A 1995-12-28 1995-12-28 プリント配線板の製造方法 Pending JPH09186432A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015020332A1 (ko) * 2013-08-09 2015-02-12 주식회사 엘지화학 전자기파의 직접 조사에 의한 도전성 패턴 형성 방법과, 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015020332A1 (ko) * 2013-08-09 2015-02-12 주식회사 엘지화학 전자기파의 직접 조사에 의한 도전성 패턴 형성 방법과, 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체
US10344385B2 (en) 2013-08-09 2019-07-09 Lg Chem, Ltd. Method for forming conductive pattern by direct radiation of electromagnetic wave, and resin structure having conductive pattern thereon

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