JPH09190468A - パターン形成方法 - Google Patents
パターン形成方法Info
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- JPH09190468A JPH09190468A JP26847096A JP26847096A JPH09190468A JP H09190468 A JPH09190468 A JP H09190468A JP 26847096 A JP26847096 A JP 26847096A JP 26847096 A JP26847096 A JP 26847096A JP H09190468 A JPH09190468 A JP H09190468A
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- Japan
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- repeat
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- unit repeat
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- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
- G06T11/00—Two-dimensional [2D] image generation
- G06T11/10—Texturing; Colouring; Generation of textures or colours
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Image Generation (AREA)
- Fax Reproducing Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高速かつ簡素化された方法で、単位パターン
どうしのつなぎ目がなめらかな全体パターンを生成す
る。 【解決手段】 一つの単位リピート（１）内に繰り返し
可能な単位パターンを生成し、複数の単位パターンから
全体パターンを構成する。ある単位リピート（１）から
はみ出したモチーフ（１６）部分は、全体パターンの形
成時に複数の単位リピート（１）を互いにつなぎ合わせ
てオリジナルモチーフ（１６）が再形成されるよう、該
単位リピート（１）内に移動される。
どうしのつなぎ目がなめらかな全体パターンを生成す
る。 【解決手段】 一つの単位リピート（１）内に繰り返し
可能な単位パターンを生成し、複数の単位パターンから
全体パターンを構成する。ある単位リピート（１）から
はみ出したモチーフ（１６）部分は、全体パターンの形
成時に複数の単位リピート（１）を互いにつなぎ合わせ
てオリジナルモチーフ（１６）が再形成されるよう、該
単位リピート（１）内に移動される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ペーパープリント
または生地プリントの分野で特に用いられるパターン形
成方法に関する。
または生地プリントの分野で特に用いられるパターン形
成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】パーソナルコンピュータまたはワークス
テーションにおいてアートパターンや図面を生成するた
めの製図プログラムはすでに存在する。特に、布地プリ
ントの分野、ならびにカーペットプリントの場合、ある
オリジナル（単位）イメージから全体パターンを製造す
るのが一般的である。常に同じモチーフでオリジナル
（単位）イメージを何度も幾何学的に追加して形成され
る全体パターンによって、広範囲の領域を覆うことがで
きる。
テーションにおいてアートパターンや図面を生成するた
めの製図プログラムはすでに存在する。特に、布地プリ
ントの分野、ならびにカーペットプリントの場合、ある
オリジナル（単位）イメージから全体パターンを製造す
るのが一般的である。常に同じモチーフでオリジナル
（単位）イメージを何度も幾何学的に追加して形成され
る全体パターンによって、広範囲の領域を覆うことがで
きる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなプロセスでは、オリジナル（単位）イメージのエッ
ジどうしが接する点において、イメージがスムーズに連
続するようにつなげるのは困難である。そこで、オリジ
ナルパターンどうしが全体的にスムーズにつながってい
る全体パターンのイメージを確保するには、通常、手作
業によってそのイメージのつなぎ目を再修正しなければ
ならない。
うなプロセスでは、オリジナル（単位）イメージのエッ
ジどうしが接する点において、イメージがスムーズに連
続するようにつなげるのは困難である。そこで、オリジ
ナルパターンどうしが全体的にスムーズにつながってい
る全体パターンのイメージを確保するには、通常、手作
業によってそのイメージのつなぎ目を再修正しなければ
ならない。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、パターン形成
を単純化することを目的とする。
を単純化することを目的とする。
【０００５】前記目的は、請求項１のキャラクタライジ
ングパート（特徴部分）によって達成される。本発明の
効果的な改良については従属クレームに規定される。
ングパート（特徴部分）によって達成される。本発明の
効果的な改良については従属クレームに規定される。
【０００６】本発明によるパターン形成方法は、単位リ
ピートの内部に繰り返し可能な単位パターンを生成し、
複数の単位パターンから構成される全体パターンを形成
することを特徴とする。かかる方法において、単位リピ
ートからはみ出したモチーフの領域は、全体パターンの
形成時に単位リピートどうしをつなぎ合わせてオリジナ
ルモチーフが再形成できるように、その単位リピート内
に移動される。
ピートの内部に繰り返し可能な単位パターンを生成し、
複数の単位パターンから構成される全体パターンを形成
することを特徴とする。かかる方法において、単位リピ
ートからはみ出したモチーフの領域は、全体パターンの
形成時に単位リピートどうしをつなぎ合わせてオリジナ
ルモチーフが再形成できるように、その単位リピート内
に移動される。
【０００７】繰り返し可能な単位パターンは、好ましく
は、電子コンピュータを用いてモニタのスクリーン上で
作成され、電子メモリに一時的に記憶される。
は、電子コンピュータを用いてモニタのスクリーン上で
作成され、電子メモリに一時的に記憶される。
【０００８】こうして、パターン作成後に、あらかじめ
決められた単位パターン外にはみだしたモチーフ領域
は、スクリーン上の当該単位リピート内の領域に自動的
に移動することができる。上記はみだしたモチーフ領域
は移動先の領域で、基本幾何学的追加スキームによる追
加が可能となる。このプロセスはコンピュータによる補
助のもとで行われる。一般的には、パターン作成時の変
更または追加後に単位リピート外に位置するイメージ上
の全ての点は、当該単位リピート内部の対応するイメー
ジ位置に移動される。この場合、マウスのクリックによ
って、単位リピート外に位置するモチーフ領域をその単
位リピート内に移動させることもできる。ただし、これ
は、単位リピートの外部に位置するモチーフ領域に、あ
らかじめカーソルが移動されている場合である。
決められた単位パターン外にはみだしたモチーフ領域
は、スクリーン上の当該単位リピート内の領域に自動的
に移動することができる。上記はみだしたモチーフ領域
は移動先の領域で、基本幾何学的追加スキームによる追
加が可能となる。このプロセスはコンピュータによる補
助のもとで行われる。一般的には、パターン作成時の変
更または追加後に単位リピート外に位置するイメージ上
の全ての点は、当該単位リピート内部の対応するイメー
ジ位置に移動される。この場合、マウスのクリックによ
って、単位リピート外に位置するモチーフ領域をその単
位リピート内に移動させることもできる。ただし、これ
は、単位リピートの外部に位置するモチーフ領域に、あ
らかじめカーソルが移動されている場合である。
【０００９】本発明の効果的な改良によれば、第１の単
位リピート内の任意に選択された点から、他の単位リピ
ートの対応する点に向けられた少なくとも一つのベクト
ルが形成される。前記他の単位リピートには、前記第１
単位リピートにその一部が位置するモチーフがはみだし
ている。そして、第１単位リピート以外の単位リピート
内に位置するモチーフ領域は、各ベクトルと逆向きに各
ベクトルの大きさに基づいて移動する。ここで、形成さ
れるベクトルの数は、第１単位リピートとのモチーフが
はみ出した、第１単位リピートに近接する単位リピート
の数に一致する。
位リピート内の任意に選択された点から、他の単位リピ
ートの対応する点に向けられた少なくとも一つのベクト
ルが形成される。前記他の単位リピートには、前記第１
単位リピートにその一部が位置するモチーフがはみだし
ている。そして、第１単位リピート以外の単位リピート
内に位置するモチーフ領域は、各ベクトルと逆向きに各
ベクトルの大きさに基づいて移動する。ここで、形成さ
れるベクトルの数は、第１単位リピートとのモチーフが
はみ出した、第１単位リピートに近接する単位リピート
の数に一致する。
【００１０】この場合、モチーフの種類に応じて、モチ
ーフの移動は各ベクトルと逆方向に複数のステップで行
うことができる。また、モチーフの構成に応じ、各移動
ステップは異なる方向または同一方向に行われる。
ーフの移動は各ベクトルと逆方向に複数のステップで行
うことができる。また、モチーフの構成に応じ、各移動
ステップは異なる方向または同一方向に行われる。
【００１１】相互に近接する複数の単位リピートを形成
し、これらの単位リピートから一つを選択し、それ以外
の単位リピートにもはみ出しているモチーフ部分を選択
された単位リピート内に移動した後、コンピュータは、
選択された単位リピートの選択された点から、モチーフ
領域がはみ出しているその他の単位リピートの対応する
点に向かう各ベクトルを自動的に求めることができる。
これにより、選択された単位リピートの外部に位置する
モチーフの領域を、選択された単位リピート内に移動さ
せることができる。このように、繰り返し可能な単位パ
ターンの形成を可能な限り自動化することにより、パタ
ーン形成方法をかなり簡素化できる。
し、これらの単位リピートから一つを選択し、それ以外
の単位リピートにもはみ出しているモチーフ部分を選択
された単位リピート内に移動した後、コンピュータは、
選択された単位リピートの選択された点から、モチーフ
領域がはみ出しているその他の単位リピートの対応する
点に向かう各ベクトルを自動的に求めることができる。
これにより、選択された単位リピートの外部に位置する
モチーフの領域を、選択された単位リピート内に移動さ
せることができる。このように、繰り返し可能な単位パ
ターンの形成を可能な限り自動化することにより、パタ
ーン形成方法をかなり簡素化できる。
【００１２】本発明では、繰り返し可能な単位パターン
を電子メモリから繰り返し読み出すことにより全体パタ
ーンを形成できるので、全体パターンを非常に高速で形
成できる。
を電子メモリから繰り返し読み出すことにより全体パタ
ーンを形成できるので、全体パターンを非常に高速で形
成できる。
【００１３】また、コンピュータにおいて、上述のよう
な動作を達成するためには、コンピュータ内のメモリに
上記動作を達成するためのプログラムを記憶しておき、
このプログラムをコンピュータが実行することによって
実現される。従って、このプログラムを外部の記憶媒体
に記憶させたり、通信で他のコンピュータに移植するこ
ともできる。すなわち、本発明を実施するための装置は
これらプログラムを実行するコンピュータまたはプログ
ラムを記憶した媒体である。
な動作を達成するためには、コンピュータ内のメモリに
上記動作を達成するためのプログラムを記憶しておき、
このプログラムをコンピュータが実行することによって
実現される。従って、このプログラムを外部の記憶媒体
に記憶させたり、通信で他のコンピュータに移植するこ
ともできる。すなわち、本発明を実施するための装置は
これらプログラムを実行するコンピュータまたはプログ
ラムを記憶した媒体である。
【００１４】例えば、繰り返し可能な単位パターンは、
ステンシルブランクに移されて、そこに全体パターンを
形成することができる。
ステンシルブランクに移されて、そこに全体パターンを
形成することができる。
【００１５】ステンシルブランクは、感光層を備えたタ
イプでもよい。この場合、繰り返し可能な単位パターン
は、感光層の露光によりステンシルブランクに移動され
る。ここで、ステンシルブランク自体を、例えば平坦な
または円筒形のスクリーンとして設計してもよい。
イプでもよい。この場合、繰り返し可能な単位パターン
は、感光層の露光によりステンシルブランクに移動され
る。ここで、ステンシルブランク自体を、例えば平坦な
または円筒形のスクリーンとして設計してもよい。
【００１６】感光層の露光は、レーザからの光線によっ
て行われる。レーザは、電子メモリに記憶された繰り返
し可能な単位パターンのイメージデータに応じてオンオ
フされる。レーザ光線によって感光層が直接除去されま
たは蒸着されて、感光層の下に位置するスクリーンを露
出する。または、感光層が架橋可能なまたは重合化可能
な材料から構成される場合には、レーザ光線の補助によ
り、感光層の特定領域のみを硬化させることができる。
次の現像工程において、露出されない領域が剥がされて
除去される。
て行われる。レーザは、電子メモリに記憶された繰り返
し可能な単位パターンのイメージデータに応じてオンオ
フされる。レーザ光線によって感光層が直接除去されま
たは蒸着されて、感光層の下に位置するスクリーンを露
出する。または、感光層が架橋可能なまたは重合化可能
な材料から構成される場合には、レーザ光線の補助によ
り、感光層の特定領域のみを硬化させることができる。
次の現像工程において、露出されない領域が剥がされて
除去される。
【００１７】また、ステンシルブランクの感光層の露光
は、複数の繰り返し可能な単位パターンから構成される
全体パターンがあらかじめ移されたフィルムを用いても
行うことができる。
は、複数の繰り返し可能な単位パターンから構成される
全体パターンがあらかじめ移されたフィルムを用いても
行うことができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明を詳細に説明する。
明を詳細に説明する。
【００１９】図１は、４つの単位リピート１、すなわち
同一の単位パターンが繰り返された全体パターンの部分
を示している。これら単位リピートは、単位リピート高
さＨ及び単位リピート幅Ｂからなる四方形を有してい
る。さらに、隣接するコラム２どうしは、それぞれ垂直
方向に垂直オフセットＶずつずれている。ここで、垂直
方向に連続的に配置された複数の単位リピートの集合を
コラム２と呼ぶ。さらに、多数の単位リピートを水平及
び垂直方向に幾何学的に追加して生成されるパターンを
全体パターンという。図１に示されている、互いに隣接
して配置された４つの単位リピート１はこのような全体
パターンから取り出したものである。垂直オフセットＶ
は、単位リピート高さＨの必ずしも論理的ではない任意
の分数である。単位リピート幅は、Ｂによって示されて
いる。
同一の単位パターンが繰り返された全体パターンの部分
を示している。これら単位リピートは、単位リピート高
さＨ及び単位リピート幅Ｂからなる四方形を有してい
る。さらに、隣接するコラム２どうしは、それぞれ垂直
方向に垂直オフセットＶずつずれている。ここで、垂直
方向に連続的に配置された複数の単位リピートの集合を
コラム２と呼ぶ。さらに、多数の単位リピートを水平及
び垂直方向に幾何学的に追加して生成されるパターンを
全体パターンという。図１に示されている、互いに隣接
して配置された４つの単位リピート１はこのような全体
パターンから取り出したものである。垂直オフセットＶ
は、単位リピート高さＨの必ずしも論理的ではない任意
の分数である。単位リピート幅は、Ｂによって示されて
いる。
【００２０】全体パターン生成の概念としてはいくつか
の可能性がある。これらの概念の一例としては、限定数
の単位リピート１をまず垂直方向に追加していく。すな
わち、単位リピートをコピーし、それからつなぎ合わせ
る。この場合、各単位リピートはＨで表される量だけず
らされ、１単位リピートの下エッジ３が前の単位リピー
ト１の上エッジ４に一致するようにする。これにより、
まず、単位リピート１のコラム２に相当する部分パター
ンが生成される。次にこのコラム２全体をコピーして新
しいコラムを生成し、それを水平方向にＢずらし、さら
に垂直方向にＶずらす。この過程で、当該部分パターン
を９０゜回転させることもできる。その場合、垂直方向
のオフセットＶは垂直方向のずれとなり、上エッジに関
するオフセットとされる。
の可能性がある。これらの概念の一例としては、限定数
の単位リピート１をまず垂直方向に追加していく。すな
わち、単位リピートをコピーし、それからつなぎ合わせ
る。この場合、各単位リピートはＨで表される量だけず
らされ、１単位リピートの下エッジ３が前の単位リピー
ト１の上エッジ４に一致するようにする。これにより、
まず、単位リピート１のコラム２に相当する部分パター
ンが生成される。次にこのコラム２全体をコピーして新
しいコラムを生成し、それを水平方向にＢずらし、さら
に垂直方向にＶずらす。この過程で、当該部分パターン
を９０゜回転させることもできる。その場合、垂直方向
のオフセットＶは垂直方向のずれとなり、上エッジに関
するオフセットとされる。
【００２１】別の概念例によれば、隣接する単位リピー
ト１の位置が考慮され、隣り合う位置が想定できるよう
に、単位リピート１が移動させられたベクトル量を決定
する。ここで、１つの単位リピート１のコーナーポイン
トの一点から、すぐ隣の単位リピート１の対応コーナー
ポイントまでを示す２つの基本ベクトルａとｂが存在す
る、という事実が確立される。これらの基本ベクトルは
互いに重ならず、また互いに平行でもない。全体パター
ンに含まれるその他すべての単位リピート１について
は、第１の単位リピート１に関連して、以下の関係に対
応する移動ベクトルが示される。
ト１の位置が考慮され、隣り合う位置が想定できるよう
に、単位リピート１が移動させられたベクトル量を決定
する。ここで、１つの単位リピート１のコーナーポイン
トの一点から、すぐ隣の単位リピート１の対応コーナー
ポイントまでを示す２つの基本ベクトルａとｂが存在す
る、という事実が確立される。これらの基本ベクトルは
互いに重ならず、また互いに平行でもない。全体パター
ンに含まれるその他すべての単位リピート１について
は、第１の単位リピート１に関連して、以下の関係に対
応する移動ベクトルが示される。
【００２２】
【数１】 ここで、ｎ及びｍは、任意の整数を表す。
【００２３】図２において、基本ベクトルａ及びｂが再
び示されている。さらに、図２は、２つの負のベクトル
−ａと−ｂ、及びさらなる方法ステップに関連する合成
ベクトルａ＋ｂ，ａ−ｂ．−ａ−ｂ，−ａ＋ｂが示され
ている。これらすべてのベクトルが、本発明にしたがっ
て、イメージ内容または第１単位リピート１の単位パタ
ーンを生成する際に、対応関数を有する。特定的には、
図１に示した手順に従って複数の単位リピート１を幾何
学的に追加する際に、単位リピートのエッジにイメージ
干渉点が目立って現れないようにするために、第１単位
リピート１のドラフトの工程で、該単位リピートのエッ
ジから突き出たイメージ要素またはモチーフをコピー
し、上記ベクトルａ，−ａ，ｂ，−ｂ，ａ＋ｂ，ａ−
ｂ，−ａ−ｂ，−ａ＋ｂのうちのいずれかを用いて正確
に移動しなければならない。
び示されている。さらに、図２は、２つの負のベクトル
−ａと−ｂ、及びさらなる方法ステップに関連する合成
ベクトルａ＋ｂ，ａ−ｂ．−ａ−ｂ，−ａ＋ｂが示され
ている。これらすべてのベクトルが、本発明にしたがっ
て、イメージ内容または第１単位リピート１の単位パタ
ーンを生成する際に、対応関数を有する。特定的には、
図１に示した手順に従って複数の単位リピート１を幾何
学的に追加する際に、単位リピートのエッジにイメージ
干渉点が目立って現れないようにするために、第１単位
リピート１のドラフトの工程で、該単位リピートのエッ
ジから突き出たイメージ要素またはモチーフをコピー
し、上記ベクトルａ，−ａ，ｂ，−ｂ，ａ＋ｂ，ａ−
ｂ，−ａ−ｂ，−ａ＋ｂのうちのいずれかを用いて正確
に移動しなければならない。
【００２４】図３は、上記のどのベクトルが、全体パタ
ーンのどの周辺または隣接領域の移動ベクトルとして用
いられるかを示している。図３の中央に示されている単
位リピート１には、ある単位パターンが描かれている。
すなわち、デザイナーは、図形入力用の周辺装置（ディ
ジタイザ、マウスなど）を使ってコンピュータによりス
クリーン上に各イメージモチーフを描き、単位パターン
のドラフトを作成する。この際、単位リピートの境界線
は考慮されない。単位リピート１の大きさ及び形状につ
いては、前の方法ステップにおいて決められていなけれ
ばならい。なお、あるイメージポイントが固定または変
更された直後にこれを単位リピート１内の対応する位置
にコピーまたは移動するのが最も効果的ではあるが、こ
のようなコピーや移動は、単位リピートのエッジからは
み出したモチーフの詳細を生成してからでも行うことが
できる。ただし、このためには対応する動作モードを事
前に選択する必要がある。コマンドコードがそれぞれ入
力されると、次に、単位リピートのエッジ３〜６からは
み出したイメージモチーフがすべて、あらかじめ決めら
れた単位リピートの大きさとその追加システムにしたが
って、コピーされ移動される。また、エッジ３〜６から
はみ出したイメージモチーフをコピーするか、維持する
か、消去するかについては選択が可能である。図３には
さらに、単位リピート１を取り囲む以下の８つの外側面
積領域が示されている。すなわち、イメージの下エッジ
に隣接する下側部エッジ領域７、右下四分（quadrant）
領域８、イメージの右エッジに隣接する側部エッジ領域
９、右上四分領域１０、イメージの上エッジ４に隣接す
る上側部エッジ領域１１、左上四分領域１２、イメージ
の左エッジ５に隣接する上側部エッジ領域１３、及び左
下四分領域１４である。原則として、エッジ３〜６から
はみ出したモチーフ要素は、上記領域のいずれかにはみ
出し、これらの各領域が単位リピートに対応している。
ただし、モチーフ要素がこれら外側領域にはみ出すの
は、そのモチーフ要素があらかじめ決められた単位リピ
ート１より大きい場合に限られ、これもコンピュータが
エラーメッセージを出力することにより回避できる。す
なわち、このエラーメッセージを受けて、モチーフ要素
を小さくするよう選択したり、あるいは単位リピートが
拡大される。しかしながら、モチーフ要素が例えば複数
のリピート幅にまたがるよう意図される場合もある。こ
の場合、複数のモチーフ要素が、垂直オフセットＶずつ
互いにずれるように、高さＨの方向において狭くなるよ
う選択される。各面積領域７〜１４は、特定ベクトル
ａ，−ａ，ｂ，−ｂ，ａ＋ｂ，ａ−ｂ，−ａ−ｂ，−ａ
＋ｂのいずれかに関連している。最初のドラフトにおい
て、下側部エッジ領域７に位置したイメージ領域部分
は、ベクトルｂだけ移動されなければならない。同様
に、四分領域８に位置したイメージ領域部分はベクトル
−ａ＋ｂ移動される。その他の領域についても同様であ
る。各エッジ領域に関する移動については、表１に示さ
れている。
ーンのどの周辺または隣接領域の移動ベクトルとして用
いられるかを示している。図３の中央に示されている単
位リピート１には、ある単位パターンが描かれている。
すなわち、デザイナーは、図形入力用の周辺装置（ディ
ジタイザ、マウスなど）を使ってコンピュータによりス
クリーン上に各イメージモチーフを描き、単位パターン
のドラフトを作成する。この際、単位リピートの境界線
は考慮されない。単位リピート１の大きさ及び形状につ
いては、前の方法ステップにおいて決められていなけれ
ばならい。なお、あるイメージポイントが固定または変
更された直後にこれを単位リピート１内の対応する位置
にコピーまたは移動するのが最も効果的ではあるが、こ
のようなコピーや移動は、単位リピートのエッジからは
み出したモチーフの詳細を生成してからでも行うことが
できる。ただし、このためには対応する動作モードを事
前に選択する必要がある。コマンドコードがそれぞれ入
力されると、次に、単位リピートのエッジ３〜６からは
み出したイメージモチーフがすべて、あらかじめ決めら
れた単位リピートの大きさとその追加システムにしたが
って、コピーされ移動される。また、エッジ３〜６から
はみ出したイメージモチーフをコピーするか、維持する
か、消去するかについては選択が可能である。図３には
さらに、単位リピート１を取り囲む以下の８つの外側面
積領域が示されている。すなわち、イメージの下エッジ
に隣接する下側部エッジ領域７、右下四分（quadrant）
領域８、イメージの右エッジに隣接する側部エッジ領域
９、右上四分領域１０、イメージの上エッジ４に隣接す
る上側部エッジ領域１１、左上四分領域１２、イメージ
の左エッジ５に隣接する上側部エッジ領域１３、及び左
下四分領域１４である。原則として、エッジ３〜６から
はみ出したモチーフ要素は、上記領域のいずれかにはみ
出し、これらの各領域が単位リピートに対応している。
ただし、モチーフ要素がこれら外側領域にはみ出すの
は、そのモチーフ要素があらかじめ決められた単位リピ
ート１より大きい場合に限られ、これもコンピュータが
エラーメッセージを出力することにより回避できる。す
なわち、このエラーメッセージを受けて、モチーフ要素
を小さくするよう選択したり、あるいは単位リピートが
拡大される。しかしながら、モチーフ要素が例えば複数
のリピート幅にまたがるよう意図される場合もある。こ
の場合、複数のモチーフ要素が、垂直オフセットＶずつ
互いにずれるように、高さＨの方向において狭くなるよ
う選択される。各面積領域７〜１４は、特定ベクトル
ａ，−ａ，ｂ，−ｂ，ａ＋ｂ，ａ−ｂ，−ａ−ｂ，−ａ
＋ｂのいずれかに関連している。最初のドラフトにおい
て、下側部エッジ領域７に位置したイメージ領域部分
は、ベクトルｂだけ移動されなければならない。同様
に、四分領域８に位置したイメージ領域部分はベクトル
−ａ＋ｂ移動される。その他の領域についても同様であ
る。各エッジ領域に関する移動については、表１に示さ
れている。
【００２５】
【表１】 単位リピート１内のイメージモチーフの簡単な例が図４
に示されている。このモチーフは、円形領域１５と先の
ぎざぎざした星形１６でできている。このうち、円形領
域１５は完全に単位リピート１内部に位置するので、こ
のモチーフ要素はどの部分も切り離し及び移動の必要が
ない。一方、ぎざぎざの星形１６は、その一部がエッジ
領域７、１３、及び１４に位置している。表１の記載に
従い、これらの領域にはそれぞれａ，ｂ，ａ＋ｂのベク
トルが適用される。
に示されている。このモチーフは、円形領域１５と先の
ぎざぎざした星形１６でできている。このうち、円形領
域１５は完全に単位リピート１内部に位置するので、こ
のモチーフ要素はどの部分も切り離し及び移動の必要が
ない。一方、ぎざぎざの星形１６は、その一部がエッジ
領域７、１３、及び１４に位置している。表１の記載に
従い、これらの領域にはそれぞれａ，ｂ，ａ＋ｂのベク
トルが適用される。
【００２６】これら３つのベクトルａ，ｂ，ａ＋ｂが図
５に示されている。
５に示されている。
【００２７】図６には、単位リピート１のエッジからは
み出したモチーフ要素部分をコピーまたは移動して得ら
れた単位パターンが示されている。なお、単位リピート
１からはみ出したイメージ部分は、この図には示されて
いない。よって、図６のパターンは、単位リピート１の
内部に挿入される単位パターンである。このイメージモ
チーフは、円１５とぎざぎざの星１６である。円１５
は、ドラフトの段階ですでに単位リピートの内部に完全
な形で位置していた。一方、ぎざぎざの星１６は、はじ
めは単位リピート１のエッジからはみ出していて、この
星が位置する外側領域にしたがって何度もコピーされ移
動されて、最後に単位リピート１のエッジからはみ出し
たイメージ部分が切り離される。
み出したモチーフ要素部分をコピーまたは移動して得ら
れた単位パターンが示されている。なお、単位リピート
１からはみ出したイメージ部分は、この図には示されて
いない。よって、図６のパターンは、単位リピート１の
内部に挿入される単位パターンである。このイメージモ
チーフは、円１５とぎざぎざの星１６である。円１５
は、ドラフトの段階ですでに単位リピートの内部に完全
な形で位置していた。一方、ぎざぎざの星１６は、はじ
めは単位リピート１のエッジからはみ出していて、この
星が位置する外側領域にしたがって何度もコピーされ移
動されて、最後に単位リピート１のエッジからはみ出し
たイメージ部分が切り離される。
【００２８】図７には、図６に示した追加可能な単位パ
ターンを６つ組み合わせて生成した追加イメージが示さ
れている。
ターンを６つ組み合わせて生成した追加イメージが示さ
れている。
【００２９】単位リピート１内の単位パターンを生成す
るための多少修正された方法を、図８から図１１を参照
しながら説明する。なお、これらの図において、四角形
はかかる単位リピート１の大きさ及び形状を示してい
る。四角形の高さは単位リピートの高さＨに対応し、四
角形の幅は単位リピートの幅Ｂに対応する。単位リピー
ト１の幾何学的追加は次のように行われる。すなわち、
単位リピート１の上エッジ４が別の単位リピートの下エ
ッジ３に当たるようにおかれ、同様にその左エッジ５が
別の単位リピートの右エッジに当てられる。ただし、１
単位リピートの左下角部１７は、別の単位リピートの下
エッジ３から垂直オフセットＶ押し上げらる。
るための多少修正された方法を、図８から図１１を参照
しながら説明する。なお、これらの図において、四角形
はかかる単位リピート１の大きさ及び形状を示してい
る。四角形の高さは単位リピートの高さＨに対応し、四
角形の幅は単位リピートの幅Ｂに対応する。単位リピー
ト１の幾何学的追加は次のように行われる。すなわち、
単位リピート１の上エッジ４が別の単位リピートの下エ
ッジ３に当たるようにおかれ、同様にその左エッジ５が
別の単位リピートの右エッジに当てられる。ただし、１
単位リピートの左下角部１７は、別の単位リピートの下
エッジ３から垂直オフセットＶ押し上げらる。
【００３０】図８には、ドラフト段階で生成されたモチ
ーフ要素１８、１９及び２０が示されている。モチーフ
要素１８、１９及び２０の一部が単位リピート１のエッ
ジ４、５及び６からはみ出しているのがわかる。
ーフ要素１８、１９及び２０が示されている。モチーフ
要素１８、１９及び２０の一部が単位リピート１のエッ
ジ４、５及び６からはみ出しているのがわかる。
【００３１】図９に示されている第１のステップにおい
て、左エッジ５からはみ出たモチーフ要素部分がベクト
ルａによって右側に移動され、右エッジ６からはみ出た
モチーフ要素部分がベクトル−ａによって左側に移動さ
れる。
て、左エッジ５からはみ出たモチーフ要素部分がベクト
ルａによって右側に移動され、右エッジ６からはみ出た
モチーフ要素部分がベクトル−ａによって左側に移動さ
れる。
【００３２】図１０に示される次のステップにおいて、
下エッジ３から突き出たモチーフ要素部分がベクトルｂ
だけ上方に移される。さらに、上エッジ４を超えた部分
がベクトル−ｂだけ下方に移される。
下エッジ３から突き出たモチーフ要素部分がベクトルｂ
だけ上方に移される。さらに、上エッジ４を超えた部分
がベクトル−ｂだけ下方に移される。
【００３３】このようなモチーフ要素の処理結果を図１
１に示すことができる。図示されるこの単位パターン
は、幾何学的追加が可能であるが。このような幾何学的
追加性を得るために必要なのは、ａ，ｂ，−ａ，−ｂの
ベクトルだけである。
１に示すことができる。図示されるこの単位パターン
は、幾何学的追加が可能であるが。このような幾何学的
追加性を得るために必要なのは、ａ，ｂ，−ａ，−ｂの
ベクトルだけである。
【００３４】図１２の追加パターンは、図１１の単位リ
ピートの追加性を示したものである。単位パターンが描
かれた所望数の単位リピートが互いにつなぎ合わされ
る。各単位リピートの追加時には、単位リピートはベク
トルａ及びｂの整数倍移動される。このとき、追加によ
って単位パターンがとぎれることはない。
ピートの追加性を示したものである。単位パターンが描
かれた所望数の単位リピートが互いにつなぎ合わされ
る。各単位リピートの追加時には、単位リピートはベク
トルａ及びｂの整数倍移動される。このとき、追加によ
って単位パターンがとぎれることはない。
【００３５】これまでは常に、四角形が単位リピートの
基本形状であった。しかし、図１３、１４及び１５に示
されるように、単位リピートの基本形状として平行四辺
形または菱形が用いられた場合でも、特定の方法ステッ
プによって、同様に単位パターンを追加可能にすること
ができる。このためには、ベクトルａ及びｂは正確に選
択しなければない。ベクトルａは２成分により形成され
る。このうちの１成分は、追加後に隣接する単位リピー
ト１の１辺に完全に一致する、菱形（または四辺形）の
辺である。ベクトルａの第２の成分は、垂直オフセット
Ｖである。ただし、垂直オフセットＶが真に垂直に位置
するのは、イメージをさらに少し回転させた場合に限ら
れる。一方、ベクトルｂは、菱形の他の側辺に対応す
る。この辺は、ベクトルａの成分としてすでに用いられ
た辺に平行してはならない。したがって、ベクトルｂの
形成に用いられる菱形の側辺と、ベクトルａの成分とし
て用いられる菱形の側辺は、菱形の１つの角から出てい
なければならない。
基本形状であった。しかし、図１３、１４及び１５に示
されるように、単位リピートの基本形状として平行四辺
形または菱形が用いられた場合でも、特定の方法ステッ
プによって、同様に単位パターンを追加可能にすること
ができる。このためには、ベクトルａ及びｂは正確に選
択しなければない。ベクトルａは２成分により形成され
る。このうちの１成分は、追加後に隣接する単位リピー
ト１の１辺に完全に一致する、菱形（または四辺形）の
辺である。ベクトルａの第２の成分は、垂直オフセット
Ｖである。ただし、垂直オフセットＶが真に垂直に位置
するのは、イメージをさらに少し回転させた場合に限ら
れる。一方、ベクトルｂは、菱形の他の側辺に対応す
る。この辺は、ベクトルａの成分としてすでに用いられ
た辺に平行してはならない。したがって、ベクトルｂの
形成に用いられる菱形の側辺と、ベクトルａの成分とし
て用いられる菱形の側辺は、菱形の１つの角から出てい
なければならない。
【００３６】図１３には、あるイメージモチーフを有す
る単位リピート１が示されている。モチーフ要素２１は
エッジ４及び６からはみ出している。
る単位リピート１が示されている。モチーフ要素２１は
エッジ４及び６からはみ出している。
【００３７】図１４は、すでに設定されたコピー及び移
動の規則に従って追加可能な状態にされた単位パターン
を示している。
動の規則に従って追加可能な状態にされた単位パターン
を示している。
【００３８】図１５は、図１４の単位パターンを複数追
加した状態を示している。
加した状態を示している。
【００３９】幾何学的追加が可能であるという前提条件
で、単位リピートの基本形状としてその他の多角形を用
いることもできる。一般的には、このような多角形はす
べて四辺形（長方形、正方形、菱形、平行四辺形）であ
るが、特別な場合として正六角形でもよい。この場合、
イメージ要素の移動ベクトルとして３つの基本ベクトル
を決定しなければならない。
で、単位リピートの基本形状としてその他の多角形を用
いることもできる。一般的には、このような多角形はす
べて四辺形（長方形、正方形、菱形、平行四辺形）であ
るが、特別な場合として正六角形でもよい。この場合、
イメージ要素の移動ベクトルとして３つの基本ベクトル
を決定しなければならない。
【００４０】図１６は、正六角形の場合に３つの基本ベ
クトルがどのように決定されているか、及びこれらの基
本ベクトルを六角形の単位リピート外部に位置する隣接
領域とどのように関連づけるべきかを示している。各基
本ベクトルはいずれも六角形の一辺２３の中心を始点と
し、対向する辺２３の中心に向かって延びている。辺２
３に隣接する外部領域に突き出たすべてのイメージモチ
ーフ部分は、各エッジフィールド２５に向かうベクトル
ａ，ｂ，ｃ，−ａ，−ｂ，−ｃ分移動が必要である。エ
ッジフィールド２５は、各辺２３に隣接するフィールド
であり、辺２３と、辺２３の２つの端部点における角の
二等分線２４とによって形成されている。角二等分線２
４は、２つの互いに接し合う辺２３の形成する角度を２
等分する。
クトルがどのように決定されているか、及びこれらの基
本ベクトルを六角形の単位リピート外部に位置する隣接
領域とどのように関連づけるべきかを示している。各基
本ベクトルはいずれも六角形の一辺２３の中心を始点と
し、対向する辺２３の中心に向かって延びている。辺２
３に隣接する外部領域に突き出たすべてのイメージモチ
ーフ部分は、各エッジフィールド２５に向かうベクトル
ａ，ｂ，ｃ，−ａ，−ｂ，−ｃ分移動が必要である。エ
ッジフィールド２５は、各辺２３に隣接するフィールド
であり、辺２３と、辺２３の２つの端部点における角の
二等分線２４とによって形成されている。角二等分線２
４は、２つの互いに接し合う辺２３の形成する角度を２
等分する。
【００４１】図１７においては、ドラフトの過程で単位
リピートに書き込まれたモチーフ要素２６および２７が
示されている。なお、ここでは単位リピートは六角形で
ある。モチーフ要素２６は、辺２３を超えてエッジフィ
ールド２５に部分的にはみ出しているため、自動的に反
対側に移される。
リピートに書き込まれたモチーフ要素２６および２７が
示されている。なお、ここでは単位リピートは六角形で
ある。モチーフ要素２６は、辺２３を超えてエッジフィ
ールド２５に部分的にはみ出しているため、自動的に反
対側に移される。
【００４２】図１８には、ドラフト段階においてモチー
フ要素２６，２７がすでに移されている単位リピート１
を示し、図１９には幾何学的追加可能な単位パターンが
示されている。
フ要素２６，２７がすでに移されている単位リピート１
を示し、図１９には幾何学的追加可能な単位パターンが
示されている。
【００４３】そして、図２０には、図１９の単位パター
ンをつなぎ合わせた全体パターンが示されている。この
図から、正六角形の場合は、垂直オフセットＶがない
が、図１３から図１５に示されている菱形の場合を反映
していることがわかる。この菱形は、４つの互いに隣接
する六角形の同一種類の４点（例えば、中心点）によっ
て決定されている。この図から、これらの六角形は、そ
の中心点のすべてが直線上に並ぶように選択してはなら
ないことが容易に理解できる。
ンをつなぎ合わせた全体パターンが示されている。この
図から、正六角形の場合は、垂直オフセットＶがない
が、図１３から図１５に示されている菱形の場合を反映
していることがわかる。この菱形は、４つの互いに隣接
する六角形の同一種類の４点（例えば、中心点）によっ
て決定されている。この図から、これらの六角形は、そ
の中心点のすべてが直線上に並ぶように選択してはなら
ないことが容易に理解できる。
【００４４】さらに、原則的には、単位リピートのエッ
ジを多角形（平行四辺形、六角形など）にする必要もな
く、単位リピートのエッジは非線形の曲線でもよい。図
２１から図２７にはこのよう場合の例が示されている。
ジを多角形（平行四辺形、六角形など）にする必要もな
く、単位リピートのエッジは非線形の曲線でもよい。図
２１から図２７にはこのよう場合の例が示されている。
【００４５】図２１には、曲線によって囲われ、かつ幾
何学的追加の可能な単位リピート１の形成方法が示され
ている。まず、点３０と点３１の間に任意の曲線２８を
形成する。次に、この曲線２８を任意のベクトルｂ移動
させて単位リピートの反対側のエッジを形成する。つづ
いて、同様にほぼ任意の曲線２９を形成する。この曲線
の唯一の限定は、この一端が例えば曲線２８の終端など
のある終端から始まり、その他端は、移動により形成さ
れる第２曲線２８の対応する点（終端）３０に一致する
ことである。次に、曲線２９を、ベクトルｂと平行しな
いベクトルａだけ移動する。さらにここで、ベクトルｂ
は、曲線２９の１点が第２曲線２８の点（他の終端）３
１に一致するように選択されなければならない。２つの
曲線２８と２９によってこのように形成されたエッジ
は、ある面積領域をまだ完全には囲んでいない。そこ
で、エッジ曲線によって隙間なく囲まれた単位リピート
を得るためには、上の曲線２８の終端３１を超えて延び
る曲線２９の部分を切り離し、この切り離した端部が下
の曲線２８の終端３１に一致するようにこれを移動す
る。こうして、これらの曲線の組み合わせにより、単位
リピート１に相当する面積領域が囲まれる。図２２に
は、この単位リピートを追加して形成された追加イメー
ジが示されている。ただし、これにはイメージモチーフ
はまだ挿入されていない。
何学的追加の可能な単位リピート１の形成方法が示され
ている。まず、点３０と点３１の間に任意の曲線２８を
形成する。次に、この曲線２８を任意のベクトルｂ移動
させて単位リピートの反対側のエッジを形成する。つづ
いて、同様にほぼ任意の曲線２９を形成する。この曲線
の唯一の限定は、この一端が例えば曲線２８の終端など
のある終端から始まり、その他端は、移動により形成さ
れる第２曲線２８の対応する点（終端）３０に一致する
ことである。次に、曲線２９を、ベクトルｂと平行しな
いベクトルａだけ移動する。さらにここで、ベクトルｂ
は、曲線２９の１点が第２曲線２８の点（他の終端）３
１に一致するように選択されなければならない。２つの
曲線２８と２９によってこのように形成されたエッジ
は、ある面積領域をまだ完全には囲んでいない。そこ
で、エッジ曲線によって隙間なく囲まれた単位リピート
を得るためには、上の曲線２８の終端３１を超えて延び
る曲線２９の部分を切り離し、この切り離した端部が下
の曲線２８の終端３１に一致するようにこれを移動す
る。こうして、これらの曲線の組み合わせにより、単位
リピート１に相当する面積領域が囲まれる。図２２に
は、この単位リピートを追加して形成された追加イメー
ジが示されている。ただし、これにはイメージモチーフ
はまだ挿入されていない。
【００４６】図２３においては、正確な繰り返し移動に
必要な、合成ベクトル（derived combination vector）
ａ＋ｂ，ａ−ｂ，ｂ−ａ，−ａ−ｂ，ａ−２ｂ，２ｂ−
ａがどのようにして形成されているかが示されている。
必要な、合成ベクトル（derived combination vector）
ａ＋ｂ，ａ−ｂ，ｂ−ａ，−ａ−ｂ，ａ−２ｂ，２ｂ−
ａがどのようにして形成されているかが示されている。
【００４７】図２４には、単位リピート１を囲むエッジ
領域３４から４３、及びこれらの領域に関連する移動ベ
クトルが示されている。単位リピートのエッジからはみ
出してエッジ領域３４〜４３に到達しているモチーフ要
素４４はすべて、コピーされて各エッジフィールドに関
連する移動ベクトルだけ移動されている。
領域３４から４３、及びこれらの領域に関連する移動ベ
クトルが示されている。単位リピートのエッジからはみ
出してエッジ領域３４〜４３に到達しているモチーフ要
素４４はすべて、コピーされて各エッジフィールドに関
連する移動ベクトルだけ移動されている。
【００４８】図２５では、あるモチーフ要素に関して上
記の場合を示す。モチーフ要素４６（魚）は、閉じられ
たエッジ曲線４５に完全に囲まれている。一方、モチー
フ要素４７（巻き貝）はドラフトの工程で、図２５に示
したエッジ曲線４５に囲まれた領域にはみ出したため
に、ドラフト時にベクトルａだけ移動されている。同様
に、モチーフ要素４８もドラフトの工程でエッジ曲線４
５に囲まれた領域にはみ出し、そのためにコピーされて
ベクトルｂだけ移動されている。ドラフトの形成後に
は、エッジ曲線４５内に存在するイメージポイントだけ
が単位リピートに用いられる。これが、図２６に示され
ている単位パターンに相当する。
記の場合を示す。モチーフ要素４６（魚）は、閉じられ
たエッジ曲線４５に完全に囲まれている。一方、モチー
フ要素４７（巻き貝）はドラフトの工程で、図２５に示
したエッジ曲線４５に囲まれた領域にはみ出したため
に、ドラフト時にベクトルａだけ移動されている。同様
に、モチーフ要素４８もドラフトの工程でエッジ曲線４
５に囲まれた領域にはみ出し、そのためにコピーされて
ベクトルｂだけ移動されている。ドラフトの形成後に
は、エッジ曲線４５内に存在するイメージポイントだけ
が単位リピートに用いられる。これが、図２６に示され
ている単位パターンに相当する。
【００４９】図２７は、複数回コピーされ、コピーのた
びに、ベクトルｍｘａ，ｎｘｂ（ｍ及びｎは整数）だけ
幾何学的追加に対応する方法で移動させられた単位パタ
ーンが形成した追加イメージを示している。
びに、ベクトルｍｘａ，ｎｘｂ（ｍ及びｎは整数）だけ
幾何学的追加に対応する方法で移動させられた単位パタ
ーンが形成した追加イメージを示している。
【００５０】さらに、図２８には、六角形の単位リピー
トの基本構造を用いて、任意の所望される境界曲線によ
っても単位リピートを構成できることが示されている。
このような単位リピートの形成のためには、正六角形の
辺４９を任意のエッジ曲線４９ａに置き換えなければな
らない。このとき、任意のエッジ曲線４９ａの始点及び
終点は、もとの六角形の辺４９の各対応点４９ｂに一致
しなければならない。さらに、互いに対向する六角形の
平行辺の各組は、同じエッジ曲線によって置き換えなけ
ればならない。
トの基本構造を用いて、任意の所望される境界曲線によ
っても単位リピートを構成できることが示されている。
このような単位リピートの形成のためには、正六角形の
辺４９を任意のエッジ曲線４９ａに置き換えなければな
らない。このとき、任意のエッジ曲線４９ａの始点及び
終点は、もとの六角形の辺４９の各対応点４９ｂに一致
しなければならない。さらに、互いに対向する六角形の
平行辺の各組は、同じエッジ曲線によって置き換えなけ
ればならない。
【００５１】図２９から３１においては、モチーフ要素
５０の長さ方向が、単位リピート１の単位リピート幅Ｂ
を超えて複数のＢの長さにわたって突き出している場合
が示されている。このように、モチーフ要素５０は、図
中に部分的に示された、鎖線５２によって枠決めされて
いる複数の隣接する単位リピート５１に突き出してい
る。これらの隣接する単位リピート５１は、単位リピー
ト１を複数回コピーし、ベクトル−ａずつ複数回移動さ
せて得られたものである。ここで、追加可能な単位リピ
ートのデザインを得るために、別の単位リピート５１に
はみ出した各モチーフ要素部分を、別々にもとの単位リ
ピート１に戻さなければならない。このような戻し移動
のためには、単位リピート１から別の単位リピート５１
の対応点までのベクトルと同じ大きさで逆向きのベクト
ルを用いる必要がある。
５０の長さ方向が、単位リピート１の単位リピート幅Ｂ
を超えて複数のＢの長さにわたって突き出している場合
が示されている。このように、モチーフ要素５０は、図
中に部分的に示された、鎖線５２によって枠決めされて
いる複数の隣接する単位リピート５１に突き出してい
る。これらの隣接する単位リピート５１は、単位リピー
ト１を複数回コピーし、ベクトル−ａずつ複数回移動さ
せて得られたものである。ここで、追加可能な単位リピ
ートのデザインを得るために、別の単位リピート５１に
はみ出した各モチーフ要素部分を、別々にもとの単位リ
ピート１に戻さなければならない。このような戻し移動
のためには、単位リピート１から別の単位リピート５１
の対応点までのベクトルと同じ大きさで逆向きのベクト
ルを用いる必要がある。
【００５２】図３０には、このようにして得られた単位
リピート１のデザイン（単位パターン）が示されてい
る。
リピート１のデザイン（単位パターン）が示されてい
る。
【００５３】図３１には、多数の単位パターンの幾何学
的追加によって得られた全体パターンのより大きな部分
が示されている。ここで、すでに繰り返し説明したベク
トルａとｂとが用いられ、単位リピートが幾何学的に追
加、すなわち互いにつなぎ合わされる。
的追加によって得られた全体パターンのより大きな部分
が示されている。ここで、すでに繰り返し説明したベク
トルａとｂとが用いられ、単位リピートが幾何学的に追
加、すなわち互いにつなぎ合わされる。
【００５４】図３２には、これまで説明してきた方法が
適用される装置が示されている。原則として、少なくと
も一つの単位リピートから構成されるデザイン内容は、
ディジタル化されて大規模メモリ５８に記憶される。製
図内容に関する情報は、図示されないデータネットワー
クラインを介して制御コンピュータ５９にあらかじめ送
られている。ここでは、表面をラッカーで完全にコート
したスクリーンステンシル６０が全体パターンの出力媒
体として選択されている。スクリーンステンシル６０
は、２つの駆動コーン６３と６６の間でレーザ彫刻機６
１上にクランプされている。右側の駆動コーン６３は、
図示されない電子モータによって、主軸台６２を介して
駆動される。パルス送信機６４は、回転に対して剛的に
右側の駆動コーン６３に接続されていて、テンプレート
の円周方向の進行に対応する複数のパルスを、パルスラ
イン７９を介して制御コンピュータ５９に送る。左側の
駆動コーン６６は、心押し台６５に回転自在に取り付け
られ、スクリーンステンシル６０の他端を支持する。心
押し台６５はスクリーンステンシル６０の長さ方向軸と
平行するガイド６７上を移動することができ、ステンシ
ルの長さに調節が可能である。やはりステンシル６０の
長さ方向軸に平行して配置され、マシンベッドに固定さ
れた別のガイド６９上を、スライド６８がスピンドル７
０を用いて移動する。このスライド６８が、軸７３の方
向にレーザビーム７４を発するレーザ７１を支持してい
る。このレーザビーム７４は、ミラー７２によって偏光
され、偏光されたレーザビーム７４が光学系７５によっ
てステンシル６０の表面上に収束される。こうして得ら
れた焦点７６が、ステンシル６０の表面を覆っているラ
ッカーに作用する。レーザ７１から長波長の熱照射が発
せられる場合には、ラッカーは除去される。あるいは、
ラッカーが感光性で、レーザ７１の波長がこのラッカー
の反応範囲にある場合には、ラッカーはその組成に応じ
て硬化するか傷を付けられるかのいずれかである。そし
て、硬化されないまたは傷つけられたラッカー部分が後
の現像プロセスにおいて分離される。隙間を最小限に抑
えたパターンイメージを得るために、ステンシル６０の
表面の露光は、ステンシル６０の回転時に焦点によって
形成された跡（tracks）どうしが互いにできる限り近く
に位置するように実行されなければならない。レーザ７
１は、スライド６８とともに、スピンドル７０によって
動かされる。スピンドル７０は、ステッピングモータ７
７によって回転する。制御コンピュータ５９は、ライン
８１を介して正確なステッピングパルスの出力を保証す
る。ここで、図示されないが、ステッピングモータ７７
の最終駆動のために論理的ステッピングパルスからパワ
ーパルスへの変換を確保するパルスコンバータが設けら
れているのは当然である。
適用される装置が示されている。原則として、少なくと
も一つの単位リピートから構成されるデザイン内容は、
ディジタル化されて大規模メモリ５８に記憶される。製
図内容に関する情報は、図示されないデータネットワー
クラインを介して制御コンピュータ５９にあらかじめ送
られている。ここでは、表面をラッカーで完全にコート
したスクリーンステンシル６０が全体パターンの出力媒
体として選択されている。スクリーンステンシル６０
は、２つの駆動コーン６３と６６の間でレーザ彫刻機６
１上にクランプされている。右側の駆動コーン６３は、
図示されない電子モータによって、主軸台６２を介して
駆動される。パルス送信機６４は、回転に対して剛的に
右側の駆動コーン６３に接続されていて、テンプレート
の円周方向の進行に対応する複数のパルスを、パルスラ
イン７９を介して制御コンピュータ５９に送る。左側の
駆動コーン６６は、心押し台６５に回転自在に取り付け
られ、スクリーンステンシル６０の他端を支持する。心
押し台６５はスクリーンステンシル６０の長さ方向軸と
平行するガイド６７上を移動することができ、ステンシ
ルの長さに調節が可能である。やはりステンシル６０の
長さ方向軸に平行して配置され、マシンベッドに固定さ
れた別のガイド６９上を、スライド６８がスピンドル７
０を用いて移動する。このスライド６８が、軸７３の方
向にレーザビーム７４を発するレーザ７１を支持してい
る。このレーザビーム７４は、ミラー７２によって偏光
され、偏光されたレーザビーム７４が光学系７５によっ
てステンシル６０の表面上に収束される。こうして得ら
れた焦点７６が、ステンシル６０の表面を覆っているラ
ッカーに作用する。レーザ７１から長波長の熱照射が発
せられる場合には、ラッカーは除去される。あるいは、
ラッカーが感光性で、レーザ７１の波長がこのラッカー
の反応範囲にある場合には、ラッカーはその組成に応じ
て硬化するか傷を付けられるかのいずれかである。そし
て、硬化されないまたは傷つけられたラッカー部分が後
の現像プロセスにおいて分離される。隙間を最小限に抑
えたパターンイメージを得るために、ステンシル６０の
表面の露光は、ステンシル６０の回転時に焦点によって
形成された跡（tracks）どうしが互いにできる限り近く
に位置するように実行されなければならない。レーザ７
１は、スライド６８とともに、スピンドル７０によって
動かされる。スピンドル７０は、ステッピングモータ７
７によって回転する。制御コンピュータ５９は、ライン
８１を介して正確なステッピングパルスの出力を保証す
る。ここで、図示されないが、ステッピングモータ７７
の最終駆動のために論理的ステッピングパルスからパワ
ーパルスへの変換を確保するパルスコンバータが設けら
れているのは当然である。
【００５５】そして、このようにして得られたステンシ
ル６５を用いて、布地等のプリントが行われる。
ル６５を用いて、布地等のプリントが行われる。
【００５６】本発明の応用は、以上の実施形態例に限定
されるものではない。全体パターンは、例えばレーザダ
イオードに露光されるフィルム上に出力することもでき
る。それ以外の場合には、生成されるパターンの全体的
なビジュアルイメージを得るために、全体パターンはモ
ニタ８３のスクリーン８４上にのみ出力される。モニタ
８３は、制御コンピュータ５９に駆動される。
されるものではない。全体パターンは、例えばレーザダ
イオードに露光されるフィルム上に出力することもでき
る。それ以外の場合には、生成されるパターンの全体的
なビジュアルイメージを得るために、全体パターンはモ
ニタ８３のスクリーン８４上にのみ出力される。モニタ
８３は、制御コンピュータ５９に駆動される。
【００５７】
【発明の効果】上記のように、本発明によれば、相互に
近接する複数の単位リピートを形成し、これらの単位リ
ピートから一つを選択し、それ以外の単位リピートにも
はみ出しているモチーフ部分を選択された単位リピート
内に移動した後に、コンピュータが、選択された単位リ
ピートの選択された点から、モチーフ領域がはみ出して
いるその他の単位リピートの対応する点に向かう各ベク
トルを自動的に求めることができる。これにより、選択
された単位リピートの外部に位置するモチーフの領域
を、選択された単位リピート内に移動させることができ
る。このように、繰り返し可能な単位パターンの形成を
可能な限り自動化することで、パターン形成方法をかな
り簡素化できる。
近接する複数の単位リピートを形成し、これらの単位リ
ピートから一つを選択し、それ以外の単位リピートにも
はみ出しているモチーフ部分を選択された単位リピート
内に移動した後に、コンピュータが、選択された単位リ
ピートの選択された点から、モチーフ領域がはみ出して
いるその他の単位リピートの対応する点に向かう各ベク
トルを自動的に求めることができる。これにより、選択
された単位リピートの外部に位置するモチーフの領域
を、選択された単位リピート内に移動させることができ
る。このように、繰り返し可能な単位パターンの形成を
可能な限り自動化することで、パターン形成方法をかな
り簡素化できる。
【００５８】さらに、本発明では、繰り返し可能な単位
パターンを電子メモリから繰り返し読み出すことにより
全体パターンを形成できるので、全体パターンを非常に
高速で形成できる。しかも、このように形成された全体
パターンは、オリジナルパターンどうしのつなぎ目が非
常になめらかである。
パターンを電子メモリから繰り返し読み出すことにより
全体パターンを形成できるので、全体パターンを非常に
高速で形成できる。しかも、このように形成された全体
パターンは、オリジナルパターンどうしのつなぎ目が非
常になめらかである。
【図１】 ４つの単位リピートを有する全体パターンを
示す図であり、他の単位リピートにはみ出したイメージ
モチーフが示されている。
示す図であり、他の単位リピートにはみ出したイメージ
モチーフが示されている。
【図２】 図１によるイメージ構成の移動ベクトルを示
す図である。
す図である。
【図３】 選択された単位リピート及び近接する単位リ
ピートにまで延びたモチーフ領域の関連する移動ベクト
ルを示す図である。
ピートにまで延びたモチーフ領域の関連する移動ベクト
ルを示す図である。
【図４】 ２つのイメージモチーフのうち、一つが隣接
する単位リピートにまで延びている単位リピートを示す
図である。
する単位リピートにまで延びている単位リピートを示す
図である。
【図５】 図４のイメージ構成の移動ベクトルを示す図
である。
である。
【図６】 図４のイメージ構成の繰り返し可能な単位パ
ターンを示す図である。
ターンを示す図である。
【図７】 図６にしたがって構成された複数の繰り返し
可能な単位パターンから構成される全体パターンを示す
図である。
可能な単位パターンから構成される全体パターンを示す
図である。
【図８】 近接する単位リピートに到達する複数のモチ
ーフを有するさらなる単位パターンを示す図である。
ーフを有するさらなる単位パターンを示す図である。
【図９】 図８の単位リピート外部に位置するモチーフ
領域の異なる方向への移動を示した図である。
領域の異なる方向への移動を示した図である。
【図１０】 図８の単位リピート外部に位置するモチー
フ領域の異なる方向への移動を示した図である。
フ領域の異なる方向への移動を示した図である。
【図１１】 移動によって得られた繰り返し可能な単位
パターンを示す図である。
パターンを示す図である。
【図１２】 図１１の単位パターンを複数互いに結合し
て構成される全体パターンを示す図である。
て構成される全体パターンを示す図である。
【図１３】 他の単位リピートにはみ出したモチーフを
有する偏菱形の単位リピートを示す図である。
有する偏菱形の単位リピートを示す図である。
【図１４】 図１３のイメージ構成から得られた繰り返
し可能な単位パターンを示す図である。
し可能な単位パターンを示す図である。
【図１５】 図１４の繰り返し可能な単位パターンを複
数繰り返して構成された全体パターンを示す図である。
数繰り返して構成された全体パターンを示す図である。
【図１６】 六方形の単位リピートを示す図である。
【図１７】 隣接する単位リピートまで延びた複数のモ
チーフを含む図１６の単位リピートを示す図である。
チーフを含む図１６の単位リピートを示す図である。
【図１８】 隣接する単位リピートに延びたモチーフの
領域の移動を説明する図である。
領域の移動を説明する図である。
【図１９】 移動後に得られた繰り返し可能な単位パタ
ーンを示す図である。
ーンを示す図である。
【図２０】 図１９の単位パターンを複数つないで構成
した全体パターンを示す図である。
した全体パターンを示す図である。
【図２１】 波形の境界線を有する単位リピートの形成
方法を示す図である。
方法を示す図である。
【図２２】 図２１の単位リピートを複数組み合わせて
構成されるリピートの構成を示す図である。
構成されるリピートの構成を示す図である。
【図２３】 図２２のリピート構成に関連する移動ベク
トルを示す図である。
トルを示す図である。
【図２４】 隣接する単位リピートにはみ出したモチー
フを有する選択された単位リピート、及び関連する移動
ベクトルを示す図である。
フを有する選択された単位リピート、及び関連する移動
ベクトルを示す図である。
【図２５】 隣接する単位リピートにはみ出したモチー
フを有する、図２４の選択された単位リピートの一例を
示す図である。
フを有する、図２４の選択された単位リピートの一例を
示す図である。
【図２６】 図２５の構成から得られた繰り返し可能な
単位パターンを示す図である。
単位パターンを示す図である。
【図２７】 図２６の単位パターンを複数互いにつない
で構成される全体パターンを示す図である。
で構成される全体パターンを示す図である。
【図２８】 六方形の基本構成を有する複数の単位リピ
ートからなる構成を示す図である。
ートからなる構成を示す図である。
【図２９】 モチーフが一方向において複数の単位リピ
ートにまたがっているイメージ構成を示す図である。
ートにまたがっているイメージ構成を示す図である。
【図３０】 図２９のイメージ構成から得られる繰り返
し可能な単位パターンを示す図である。
し可能な単位パターンを示す図である。
【図３１】 図３０の繰り返し可能な単位パターンを複
数つないで形成される全体パターンを示す図である。
数つないで形成される全体パターンを示す図である。
【図３２】 本発明による方法を実施するための装置を
示す図である。
示す図である。
１ 単位リピート、２ コラム、３〜６ エッジ、７〜
１４ エッジ領域、１８〜２１，２６〜２７，４４，４
６〜４８，５０ モチーフ要素、２３ 辺、２４ 角二
等分線、２５，３４〜４３ エッジフィールド、２８，
２９ 曲線、３０，３１ 点、４５ エッジ曲線、５８
大規模メモリ、５９ 制御コンピュータ、６０ スク
リーンステンシル、７１ レーザ、８３ モニタ、８４
スクリーン。
１４ エッジ領域、１８〜２１，２６〜２７，４４，４
６〜４８，５０ モチーフ要素、２３ 辺、２４ 角二
等分線、２５，３４〜４３ エッジフィールド、２８，
２９ 曲線、３０，３１ 点、４５ エッジ曲線、５８
大規模メモリ、５９ 制御コンピュータ、６０ スク
リーンステンシル、７１ レーザ、８３ モニタ、８４
スクリーン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０６Ｔ 11/00 Ｈ０４Ｎ 1/23 １０３Ｚ Ｈ０４Ｎ 1/23 １０３ 9365−5Ｈ Ｇ０６Ｆ 15/72 ３５０
Claims (11)
- 【請求項１】 一つの単位リピート（１）内に繰り返し
可能な単位パターンを生成し、複数の単位パターンから
全体パターンを構成することを特徴とするパターン形成
方法であって、ある単位リピート（１）からはみ出した
モチーフ（１６）領域は、全体パターンの形成時に複数
の単位リピート（１）が互いにつなぎ合わされてオリジ
ナルモチーフ（１６）が再形成されるよう、該単位リピ
ート（１）内に移動されるパターン形成方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の方法において、第１の
単位リピート（１）内の任意に選択された点から、他の
単位リピートの対応点に向けられた少なくとも一つのベ
クトルを形成し、前記第１単位リピート（１）にその一
部が位置するモチーフは前記他の単位リピート内に突き
出していること、及び第１単位リピート以外の単位リピ
ート内に位置するモチーフ領域は、前記各ベクトルと逆
向きに各ベクトルの大きさに基づいて移動されることを
特徴とする方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の方法において、前記モ
チーフ領域の移動は、各ベクトルと逆向きに、複数のス
テップで行われることを特徴とする方法。 - 【請求項４】 請求項２に記載の方法において、前記移
動の各ステップは異なる方向において行われることを特
徴とする方法。 - 【請求項５】 請求項２に記載の方法において、前記移
動の各ステップは同一方向において行われることを特徴
とする方法。 - 【請求項６】 請求項１から５のいずれかに記載の方法
において、前記繰り返し可能な単位パターンは、電子コ
ンピュータ（５９）を用いてモニタ（８３）のスクリー
ン（８４）上で生成され、電子メモリ（５８）中に一時
的に記憶されることを特徴とする方法。 - 【請求項７】 請求項６に記載の方法において、前記繰
り返し可能な単位パターンを電子メモリ（５８）から繰
り返し読み出すことにより全体パターンを形成すること
を特徴とする方法。 - 【請求項８】 請求項７に記載の方法において、前記繰
り返し可能な単位パターンをステンシルブランク（６
０）に移動し、全体パターンをそこに形成することを特
徴とする方法。 - 【請求項９】 請求項８に記載の方法において、繰り返
し可能な単位パターンのステンシルブランク（６０）へ
の移動は、ステンシルブランク（６０）の感光層の露光
により行われることを特徴とする方法。 - 【請求項１０】 請求項９に記載の方法において、感光
層の露光は、電子メモリ（５８）に記憶された繰り返し
可能な単位パターンのイメージデータに応じてオンオフ
されるレーザ（７１）からの光線によって行われること
を特徴とする方法。 - 【請求項１１】 請求項９に記載の方法において、感光
層の露光は、複数の繰り返し可能な単位パターンで構成
される全体パターンがあらかじめ移動されたフィルムを
介して行われることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT95116134.8 | 1995-10-12 | ||
| EP95116134A EP0769761A1 (de) | 1995-10-12 | 1995-10-12 | Musterbildungsverfahren |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09190468A true JPH09190468A (ja) | 1997-07-22 |
| JP2919391B2 JP2919391B2 (ja) | 1999-07-12 |
Family
ID=8219711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26847096A Expired - Lifetime JP2919391B2 (ja) | 1995-10-12 | 1996-10-09 | パターン形成方法およびその装置 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP0769761A1 (ja) |
| JP (1) | JP2919391B2 (ja) |
| CN (1) | CN1152157A (ja) |
| AU (1) | AU6439296A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009110368A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Brother Ind Ltd | 画像処理プログラム |
| WO2010053049A1 (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-14 | 株式会社島精機製作所 | リピート柄の作成方法と作成装置及び作成プログラム |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0845756A3 (de) * | 1996-11-27 | 1999-07-14 | EAT Elektronische Ateliertechnik Textil GmbH | Verfahren zur Darstellung eines rapportierenden Musters und zugehörige Darstellungseinrichtung |
| US6437791B1 (en) * | 1999-06-11 | 2002-08-20 | Creative Technology Ltd. | Method and apparatus for supporting texture patterns larger than supported natively by a graphics chip |
| FR2809664B1 (fr) * | 2000-05-31 | 2002-11-29 | Jacques Laurent Scheffer | Procede d'impression en continu, dispositif de mise en oeuvre et rouleau imprime par ce procede |
| US6801210B2 (en) | 2001-07-12 | 2004-10-05 | Vimatix (Bvi) Ltd. | Method and apparatus for image representation by geometric and brightness modeling |
| US6760483B1 (en) * | 2000-10-13 | 2004-07-06 | Vimatix (Bvi) Ltd. | Method and apparatus for image analysis and processing by identification of characteristic lines and corresponding parameters |
| US20040174361A1 (en) * | 2000-10-13 | 2004-09-09 | Yosef Yomdin | Geometric and brightness modeling of images |
| WO2002056289A1 (en) * | 2001-01-09 | 2002-07-18 | Yitzchak Irving Twersky | Improved apparatus and methods for replacing decorative images with text and/or graphical patterns |
| EP1288850B1 (en) * | 2001-08-31 | 2007-04-25 | Hewlett-Packard Company | Step and repeat printing of pattern data |
| US20050063596A1 (en) * | 2001-11-23 | 2005-03-24 | Yosef Yomdin | Encoding of geometric modeled images |
| JP4133996B2 (ja) | 2004-10-08 | 2008-08-13 | 株式会社ソニー・コンピュータエンタテインメント | テクスチャ作成方法 |
| US20100079474A1 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-01 | Microsoft Corporation | Methods for rendering source content of a file for display on a destination figure |
| GB2466056A (en) * | 2008-12-11 | 2010-06-16 | Nick Fiddes | Rendering repeating textile patterns |
| US8587610B2 (en) * | 2008-12-12 | 2013-11-19 | Microsoft Corporation | Rendering source content for display |
| CN101436305B (zh) * | 2008-12-16 | 2012-07-04 | 北大方正集团有限公司 | 绘制符号花边的方法和装置 |
| CN101833777B (zh) * | 2010-03-23 | 2012-08-22 | 浙江大学 | 基于数学函数的实时的大理石纹釉图案生成方法 |
| US9721878B2 (en) * | 2012-09-28 | 2017-08-01 | Intel Corporation | High density second level interconnection for bumpless build up layer (BBUL) packaging technology |
| WO2018015500A1 (en) | 2016-07-21 | 2018-01-25 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | System and process for mounting a printing plate on a carrier |
| CN111225798B (zh) * | 2017-08-24 | 2022-09-23 | 埃斯科绘图成像有限责任公司 | 印版节段安装系统和方法 |
| CN115115729B (zh) * | 2022-06-21 | 2024-04-30 | 浙江理工大学 | 一种基于球谐函数的纺织品图案单花型生成方法 |
| ES2987635A1 (es) * | 2023-01-16 | 2024-11-15 | Waixo Fashion & Digital Solutions S L | Metodo para generar un patron de repeticion en dos dimensiones |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02183253A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-07-17 | Samsung Electron Devices Co Ltd | スクリーンマスクの製造方法 |
| EP0535987A2 (en) * | 1991-10-04 | 1993-04-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Geometric pattern generating and printing system |
| JPH05100403A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 抽象柄製版システム及び印刷物 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4545086A (en) * | 1976-05-17 | 1985-10-08 | Milliken Research Corporation | Pattern designs printed with computer controlled pattern dyeing device |
| US4209780A (en) * | 1978-05-02 | 1980-06-24 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Coded aperture imaging with uniformly redundant arrays |
| JP2837743B2 (ja) * | 1990-06-27 | 1998-12-16 | 富士通株式会社 | 荷電粒子ビーム露光方法およびそれに用いるステンシルマスク |
| US5211692A (en) * | 1990-08-28 | 1993-05-18 | Haresh Lalvani | Metamorphic tiling patterns based on zonohedra |
| US5194969A (en) * | 1990-12-04 | 1993-03-16 | Pixar | Method for borderless mapping of texture images |
| JP3111639B2 (ja) * | 1991-05-31 | 2000-11-27 | 新日本製鐵株式会社 | 連続模様印刷システム |
| JPH07111742B2 (ja) * | 1991-10-01 | 1995-11-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 図形の変形方法及び装置 |
| JPH07111740B2 (ja) * | 1991-10-01 | 1995-11-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 平面均等分割模様生成方法及び装置 |
| JP2625600B2 (ja) * | 1991-10-31 | 1997-07-02 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 図形移動変形方法及び装置 |
| ES1019801Y (es) * | 1991-12-31 | 1993-01-01 | Llistosella Vidal Francisco J. | Pieza para recubrimiento de suelos y paredes. |
| US6147688A (en) * | 1993-06-28 | 2000-11-14 | Athena Design Systems, Inc. | Method and apparatus for defining and selectively repeating unit image cells |
| US5751293A (en) * | 1994-08-24 | 1998-05-12 | Nippon Telegraph And Telephone Corp. | Pattern generation method and apparatus for automatic generation of continuous tile patterns along any arbitrary side |
| US5481841A (en) * | 1994-10-04 | 1996-01-09 | Osborn; John A. L. | Variably assemblable figurative tile set for covering surfaces |
-
1995
- 1995-10-12 EP EP95116134A patent/EP0769761A1/de not_active Ceased
-
1996
- 1996-08-30 AU AU64392/96A patent/AU6439296A/en not_active Abandoned
- 1996-10-09 JP JP26847096A patent/JP2919391B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1996-10-11 US US08/730,666 patent/US6121975A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-10-14 CN CN96120317.XA patent/CN1152157A/zh active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02183253A (ja) * | 1988-11-17 | 1990-07-17 | Samsung Electron Devices Co Ltd | スクリーンマスクの製造方法 |
| EP0535987A2 (en) * | 1991-10-04 | 1993-04-07 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Geometric pattern generating and printing system |
| JPH05100403A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 抽象柄製版システム及び印刷物 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009110368A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Brother Ind Ltd | 画像処理プログラム |
| US8320016B2 (en) | 2007-10-31 | 2012-11-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image processing method for fast fill-in of a figure and computer readable medium therefor |
| US8472077B2 (en) | 2007-10-31 | 2013-06-25 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image processing method for fast fill-in of a figure and computer readable medium therefor |
| WO2010053049A1 (ja) * | 2008-11-04 | 2010-05-14 | 株式会社島精機製作所 | リピート柄の作成方法と作成装置及び作成プログラム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2919391B2 (ja) | 1999-07-12 |
| CN1152157A (zh) | 1997-06-18 |
| US6121975A (en) | 2000-09-19 |
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