JPH09192572A - 回転カップ式液体塗布装置 - Google Patents
回転カップ式液体塗布装置Info
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- JPH09192572A JPH09192572A JP8004477A JP447796A JPH09192572A JP H09192572 A JPH09192572 A JP H09192572A JP 8004477 A JP8004477 A JP 8004477A JP 447796 A JP447796 A JP 447796A JP H09192572 A JPH09192572 A JP H09192572A
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- JP
- Japan
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- cup
- inner cup
- space
- lid
- type liquid
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0448—Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 回転カップ式液体塗布装置において、インナ
ーカップの回転を停止したときの脈動を抑制する簡単な
構造がない。 【解決手段】 回転カップ式液体塗布装置のインナーカ
ップ３の外周部に、インナーカップの内側空間とアウタ
ーカップ２の内側空間とを絞り部１６，１７等を介して
連通せしめるバッファ空間Ｓを形成した。
ーカップの回転を停止したときの脈動を抑制する簡単な
構造がない。 【解決手段】 回転カップ式液体塗布装置のインナーカ
ップ３の外周部に、インナーカップの内側空間とアウタ
ーカップ２の内側空間とを絞り部１６，１７等を介して
連通せしめるバッファ空間Ｓを形成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はガラス基板や半導体
ウェーハ等の被処理物の表面に被膜形成用の塗布液等を
供給する回転カップ式液体塗布装置に関する。
ウェーハ等の被処理物の表面に被膜形成用の塗布液等を
供給する回転カップ式液体塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】スピンナーにて回転せしめられるインナ
ーカップ、この外側に配置されるアウターカップ、更に
はこれらそれぞれのカップの上面を閉じる蓋体を備えた
回転カップ式液体塗布装置として、特開平７−１３２２
６３号公報に開示されるものが知られている。
ーカップ、この外側に配置されるアウターカップ、更に
はこれらそれぞれのカップの上面を閉じる蓋体を備えた
回転カップ式液体塗布装置として、特開平７−１３２２
６３号公報に開示されるものが知られている。
【０００３】この先行技術は、インナーカップ用蓋体に
通孔を形成し、この通孔の部分に弁体を設け、更にイン
ナーカップ用蓋体及びアウターカップ用蓋体を持上げる
昇降部材にも通孔を形成した構成になっており、その作
用は、回転塗布後に蓋体を開けるに先立って、弁体を開
とし、通孔を介してインナーカップとインナーカップ用
蓋体との間に形成される減圧された密閉空間内にガス
（空気）を導入して外部との圧力差を小さくし、蓋体を
開けたときにカップ外で浮遊している塵がカップ内に流
入するのを防止するものである。
通孔を形成し、この通孔の部分に弁体を設け、更にイン
ナーカップ用蓋体及びアウターカップ用蓋体を持上げる
昇降部材にも通孔を形成した構成になっており、その作
用は、回転塗布後に蓋体を開けるに先立って、弁体を開
とし、通孔を介してインナーカップとインナーカップ用
蓋体との間に形成される減圧された密閉空間内にガス
（空気）を導入して外部との圧力差を小さくし、蓋体を
開けたときにカップ外で浮遊している塵がカップ内に流
入するのを防止するものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した構造にするこ
とにより、回転塗布中にインナーカップと蓋体との間の
空間が減圧状態になることに起因する不利を解消できる
のであるが、蓋体等に特殊形状の通孔を形成し、更には
弁体も必要になり、構造が複雑になる。
とにより、回転塗布中にインナーカップと蓋体との間の
空間が減圧状態になることに起因する不利を解消できる
のであるが、蓋体等に特殊形状の通孔を形成し、更には
弁体も必要になり、構造が複雑になる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明は、スピンナーにて回転せしめられるとともに板状
被処理物がセットされるインナーカップと、このインナ
ーカップの外側に配置されるとともにインナーカップか
らのドレインを受けるアウターカップと、前記インナー
カップの上面を覆うインナーカップ用蓋体と、前記アウ
ターカップの上面を覆うアウターカップ用蓋体とを備え
た回転カップ式液体塗布装置において、前記インナーカ
ップの外周部にインナーカップの内側空間とアウターカ
ップの内側空間とを連通するバッファ空間を形成した。
発明は、スピンナーにて回転せしめられるとともに板状
被処理物がセットされるインナーカップと、このインナ
ーカップの外側に配置されるとともにインナーカップか
らのドレインを受けるアウターカップと、前記インナー
カップの上面を覆うインナーカップ用蓋体と、前記アウ
ターカップの上面を覆うアウターカップ用蓋体とを備え
た回転カップ式液体塗布装置において、前記インナーカ
ップの外周部にインナーカップの内側空間とアウターカ
ップの内側空間とを連通するバッファ空間を形成した。
【０００６】尚、前記バッファ空間とインナーカップの
内側空間及びアウターカップの内側空間とは、絞り部を
介して連通せしめることが好ましい。
内側空間及びアウターカップの内側空間とは、絞り部を
介して連通せしめることが好ましい。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る
回転カップ式液体塗布装置の全体断面図、図２は同回転
カップ式液体塗布装置の要部拡大断面図である。
図面に基づいて説明する。ここで、図１は本発明に係る
回転カップ式液体塗布装置の全体断面図、図２は同回転
カップ式液体塗布装置の要部拡大断面図である。
【０００８】回転カップ式液体塗布装置はベース１上に
環状のアウターカップ２を固定し、このアウターカップ
２内側にインナーカップ３を配置し、このインナーカッ
プ３の中央部にチャック４を設け、更にインナーカップ
３上面を蓋体５で、アウターカップ２上面を蓋体６で閉
じるようにしている。
環状のアウターカップ２を固定し、このアウターカップ
２内側にインナーカップ３を配置し、このインナーカッ
プ３の中央部にチャック４を設け、更にインナーカップ
３上面を蓋体５で、アウターカップ２上面を蓋体６で閉
じるようにしている。
【０００９】前記アウターカップ２は上半体２ａと下半
体２ｂからなり、これら半体２ａ，２ｂを組み付けた状
態で環状の液回収通路２ｃが形成され、上半体２ａには
インナーカップ３の外周縁に向けて洗浄液を噴出するノ
ズル７を取り付け、更に上半体２ａの上面にはＯリング
８を嵌め付けている。
体２ｂからなり、これら半体２ａ，２ｂを組み付けた状
態で環状の液回収通路２ｃが形成され、上半体２ａには
インナーカップ３の外周縁に向けて洗浄液を噴出するノ
ズル７を取り付け、更に上半体２ａの上面にはＯリング
８を嵌め付けている。
【００１０】また、前記Ｏリング８に対し閉じ状態で密
着するアウターカップ用蓋体６はアーム９に取り付けら
れ、更にアウターカップ用蓋体６の中央部に形成した開
口１０で前記インナーカップ用蓋体５のボス部１１を落
とし蓋状に保持している。即ち、アーム９を上昇するこ
とで、アウターカップ用蓋体６が上昇すると、開口１０
にインナーカップ用蓋体５のボス部１１上縁部が係止
し、インナーカップ用蓋体５も上昇し、逆にアーム９を
下降せしめると、先ずインナーカップ用蓋体５がインナ
ーカップ３上面を閉じ、次いでアーム９とアウターカッ
プ用蓋体６が下降してアウターカップ２上面を閉じる。
着するアウターカップ用蓋体６はアーム９に取り付けら
れ、更にアウターカップ用蓋体６の中央部に形成した開
口１０で前記インナーカップ用蓋体５のボス部１１を落
とし蓋状に保持している。即ち、アーム９を上昇するこ
とで、アウターカップ用蓋体６が上昇すると、開口１０
にインナーカップ用蓋体５のボス部１１上縁部が係止
し、インナーカップ用蓋体５も上昇し、逆にアーム９を
下降せしめると、先ずインナーカップ用蓋体５がインナ
ーカップ３上面を閉じ、次いでアーム９とアウターカッ
プ用蓋体６が下降してアウターカップ２上面を閉じる。
【００１１】尚、インナーカップ３の外周部上面には凹
凸部１２が形成され、インナーカップ用蓋体５の外周部
下面には前記凹凸部１２に対応する凹凸部１３が形成さ
れ、凹凸部１２の凹部にＯリング１４を設け、このＯリ
ング１４を凹凸部１３の中央の凸部１５のテーパ面に押
し付けてＯリング１４に多少のうねりがあっても密着状
態を保てるようにしている。
凸部１２が形成され、インナーカップ用蓋体５の外周部
下面には前記凹凸部１２に対応する凹凸部１３が形成さ
れ、凹凸部１２の凹部にＯリング１４を設け、このＯリ
ング１４を凹凸部１３の中央の凸部１５のテーパ面に押
し付けてＯリング１４に多少のうねりがあっても密着状
態を保てるようにしている。
【００１２】更に、前記インナーカップ３の外周部には
インナーカップの内側空間とアウターカップの内側空間
とを連通するバッファ空間Ｓを形成している。このバッ
ファ空間Ｓは一定の断面積で環状をなし、インナーカッ
プの内側空間、即ち塗布空間とは絞り部１６を介して連
通し、アウターカップの内側空間、即ち液回収通路２ｃ
とは絞り部１７を介して連通している。
インナーカップの内側空間とアウターカップの内側空間
とを連通するバッファ空間Ｓを形成している。このバッ
ファ空間Ｓは一定の断面積で環状をなし、インナーカッ
プの内側空間、即ち塗布空間とは絞り部１６を介して連
通し、アウターカップの内側空間、即ち液回収通路２ｃ
とは絞り部１７を介して連通している。
【００１３】以上において、アーム９を上昇させ、アウ
ターカップ２及びインナーカップ３の上面を開放し、チ
ャック４上にガラス基板や半導体ウェーハ等の被処理物
Ｗをセットし、この状態で図示しないノズルから被処理
物Ｗ上面の中心に塗布液を滴下し、この後アーム９を下
降し、蓋体５，６を被せた後にチャック４とインナーカ
ップ３とを一体的に回転せしめ、遠心力により塗布液を
被処理物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
ターカップ２及びインナーカップ３の上面を開放し、チ
ャック４上にガラス基板や半導体ウェーハ等の被処理物
Ｗをセットし、この状態で図示しないノズルから被処理
物Ｗ上面の中心に塗布液を滴下し、この後アーム９を下
降し、蓋体５，６を被せた後にチャック４とインナーカ
ップ３とを一体的に回転せしめ、遠心力により塗布液を
被処理物Ｗの表面に均一に拡散塗布する。
【００１４】このとき、インナーカップ３と蓋体５で囲
まれる空間内の空気は遠心力により、バッファ空間Ｓを
介してインナーカップ３外に放出され、インナーカップ
３と蓋体５で囲まれる空間内は減圧状態となっている。
まれる空間内の空気は遠心力により、バッファ空間Ｓを
介してインナーカップ３外に放出され、インナーカップ
３と蓋体５で囲まれる空間内は減圧状態となっている。
【００１５】以上の如くして、被処理物Ｗの表面に塗布
液を塗布したならば、インナーカップ３の回転を停止す
る。すると、遠心力がなくなり、インナーカップ３と蓋
体５で囲まれる空間内は減圧状態となっているので、外
部からバッファ空間Ｓを介してインナーカップ３の内側
空間に空気が流れ込む。
液を塗布したならば、インナーカップ３の回転を停止す
る。すると、遠心力がなくなり、インナーカップ３と蓋
体５で囲まれる空間内は減圧状態となっているので、外
部からバッファ空間Ｓを介してインナーカップ３の内側
空間に空気が流れ込む。
【００１６】そして、このときバッファ空間Ｓとインナ
ーカップ３の内側空間及びアウターカップの内側空間と
の間は絞り部１６，１７となっているので、インナーカ
ップ３の内側空間で乱流が生じることなく、インナーカ
ップ３の内側空間内の圧力が上昇し、被処理物Ｗの表面
の塗布液（塗膜）表面に波状のうねり等が生じるのを防
止できる。
ーカップ３の内側空間及びアウターカップの内側空間と
の間は絞り部１６，１７となっているので、インナーカ
ップ３の内側空間で乱流が生じることなく、インナーカ
ップ３の内側空間内の圧力が上昇し、被処理物Ｗの表面
の塗布液（塗膜）表面に波状のうねり等が生じるのを防
止できる。
【００１７】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、
回転カップ式液体塗布装置のインナーカップの外周部
に、インナーカップの内側空間とアウターカップの内側
空間とを絞り部等を介して連通せしめるバッファ空間を
形成したので、インナーカップの回転を停止したとき
に、インナーカップの外側の空気は直接インナーカップ
内に戻らず、一旦バッファ空間に受け入れられる。した
がって、簡単な構造によってインナーカップ内への塵の
流入を防ぐことができ、更には脈動による被処理物表面
の塗膜への悪影響を排除できる。
回転カップ式液体塗布装置のインナーカップの外周部
に、インナーカップの内側空間とアウターカップの内側
空間とを絞り部等を介して連通せしめるバッファ空間を
形成したので、インナーカップの回転を停止したとき
に、インナーカップの外側の空気は直接インナーカップ
内に戻らず、一旦バッファ空間に受け入れられる。した
がって、簡単な構造によってインナーカップ内への塵の
流入を防ぐことができ、更には脈動による被処理物表面
の塗膜への悪影響を排除できる。
【図１】本発明に係る回転カップ式液体塗布装置の全体
断面図
断面図
【図２】同回転カップ式液体塗布装置の要部拡大断面図
２…アウターカップ、３…インナーカップ、４…チャッ
ク、５…インナーカップ用蓋体、６…アウターカップ用
蓋体、７…ノズル、１０…開口、１１…ボス部、１６，
１７…絞り部、Ｓ…バッファ空間、Ｗ…板状被処理物。
ク、５…インナーカップ用蓋体、６…アウターカップ用
蓋体、７…ノズル、１０…開口、１１…ボス部、１６，
１７…絞り部、Ｓ…バッファ空間、Ｗ…板状被処理物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮本 英典 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 スピンナーにて回転せしめられるととも
に板状被処理物がセットされるインナーカップと、この
インナーカップの外側に配置されるとともにインナーカ
ップからのドレインを受けるアウターカップと、前記イ
ンナーカップの上面を覆うインナーカップ用蓋体と、前
記アウターカップの上面を覆うアウターカップ用蓋体と
を備えた回転カップ式液体塗布装置において、前記イン
ナーカップの外周部にはインナーカップの内側空間とア
ウターカップの内側空間とを連通するバッファ空間が形
成されていることを特徴とする回転カップ式液体塗布装
置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の回転カップ式液体塗布
装置において、前記バッファ空間とインナーカップの内
側空間及びアウターカップの内側空間とは、絞り部を介
して連通していることを特徴とする回転カップ式液体塗
布装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00447796A JP3707849B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 回転カップ式液体塗布装置 |
| US08/783,988 US5879457A (en) | 1996-01-16 | 1997-01-14 | Rotating cup coating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00447796A JP3707849B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 回転カップ式液体塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09192572A true JPH09192572A (ja) | 1997-07-29 |
| JP3707849B2 JP3707849B2 (ja) | 2005-10-19 |
Family
ID=11585200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00447796A Expired - Fee Related JP3707849B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 回転カップ式液体塗布装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5879457A (ja) |
| JP (1) | JP3707849B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG71808A1 (en) * | 1997-07-04 | 2000-04-18 | Tokyo Electron Ltd | Centrifugal coating apparatus with detachable outer cup |
| DE19906398B4 (de) * | 1999-02-16 | 2004-04-29 | Steag Hamatech Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten |
| JP4025030B2 (ja) * | 2001-04-17 | 2007-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板の処理装置及び搬送アーム |
| DE102004019731A1 (de) * | 2004-04-20 | 2005-11-10 | Sse Sister Semiconductor Equipment Gmbh | Vorrichtung zum Drehbelacken von Substraten |
| US10022745B2 (en) * | 2013-08-01 | 2018-07-17 | Veeco Precision Surface Processing Llc | Apparatus for dual speed spin chuck |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3730134A (en) * | 1970-12-17 | 1973-05-01 | F Kadi | Pneumatic wafer spinner and control for same |
| FR2277650A1 (fr) * | 1974-07-12 | 1976-02-06 | Essilor Int | Machine pour l'usinage d'une lentille ophtalmique |
| US4640846A (en) * | 1984-09-25 | 1987-02-03 | Yue Kuo | Semiconductor spin coating method |
| JPH0669545B2 (ja) * | 1987-11-23 | 1994-09-07 | タツモ株式会社 | 塗布装置 |
| US5042421A (en) * | 1989-07-25 | 1991-08-27 | Manhattan R&D, Inc. | Rotatable vacuum chuck with magnetic means |
| JP2591555B2 (ja) * | 1991-12-20 | 1997-03-19 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置 |
| US5439519A (en) * | 1992-04-28 | 1995-08-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Solution applying apparatus |
| JP3121177B2 (ja) * | 1993-06-30 | 2000-12-25 | 東京応化工業株式会社 | 回転カップ式塗布装置 |
| JP3182013B2 (ja) * | 1992-12-02 | 2001-07-03 | 東京応化工業株式会社 | 回転カップ式塗布装置 |
-
1996
- 1996-01-16 JP JP00447796A patent/JP3707849B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-14 US US08/783,988 patent/US5879457A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5879457A (en) | 1999-03-09 |
| JP3707849B2 (ja) | 2005-10-19 |
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