JPH09197857A - セラミックヒータ及び加熱装置 - Google Patents
セラミックヒータ及び加熱装置Info
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- JPH09197857A JPH09197857A JP648496A JP648496A JPH09197857A JP H09197857 A JPH09197857 A JP H09197857A JP 648496 A JP648496 A JP 648496A JP 648496 A JP648496 A JP 648496A JP H09197857 A JPH09197857 A JP H09197857A
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- JP
- Japan
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- ceramic substrate
- ceramic
- electrical contacts
- heating device
- ceramic heater
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 セラミック基板の搬送途中や加熱装置の組み
立て途中でのセラミック基板の破損を防ぐことができる
セラミックヒータ及び加熱装置の提供。 【構成】 長板状に形成されたセラミック基板2と、該
セラミック基板2上の長手方向両端部6a,6b近傍に
それぞれ設けられた電気的接点4a,4bと、該電気的
接点4a,4bを介して電力の供給を受けて発熱する線
状の抵抗発熱体3と、該抵抗発熱体3を覆うように形成
されたガラス層5を含んで構成される長板状のセラミッ
クヒータ1において、前記セラミック基板2の前記電気
的接点4a,4bを除く全面を前記ガラス層5で覆う。
本発明によれば、セラミック基板2の機械的強度がガラ
ス層5によって高められるため、該セラミック基板2の
搬送途中や加熱装置の組み立て途中でセラミックに或る
程度の機械的ストレスが加わっても、セラミック基板2
の破損が防がれてその耐久性向上が図られる。
立て途中でのセラミック基板の破損を防ぐことができる
セラミックヒータ及び加熱装置の提供。 【構成】 長板状に形成されたセラミック基板2と、該
セラミック基板2上の長手方向両端部6a,6b近傍に
それぞれ設けられた電気的接点4a,4bと、該電気的
接点4a,4bを介して電力の供給を受けて発熱する線
状の抵抗発熱体3と、該抵抗発熱体3を覆うように形成
されたガラス層5を含んで構成される長板状のセラミッ
クヒータ1において、前記セラミック基板2の前記電気
的接点4a,4bを除く全面を前記ガラス層5で覆う。
本発明によれば、セラミック基板2の機械的強度がガラ
ス層5によって高められるため、該セラミック基板2の
搬送途中や加熱装置の組み立て途中でセラミックに或る
程度の機械的ストレスが加わっても、セラミック基板2
の破損が防がれてその耐久性向上が図られる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複写機やレーザビ
ームプリンタ等の画像形成装置の定着装置に好適に使用
される加熱装置とこれに使用されるセラミックヒータに
関する。
ームプリンタ等の画像形成装置の定着装置に好適に使用
される加熱装置とこれに使用されるセラミックヒータに
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、複写機やレーザビームプリンタ等
の画像形成装置の定着装置に装着される加熱装置とし
て、セラミックヒータを用いたものが知られている。斯
かる加熱装置の従来例を図5及び図6に示す。
の画像形成装置の定着装置に装着される加熱装置とし
て、セラミックヒータを用いたものが知られている。斯
かる加熱装置の従来例を図5及び図6に示す。
【0003】即ち、図5は従来の加熱装置の斜視図、図
6(a)は同加熱装置のセラミックヒータの平面図、図
6(b)は同セラミックヒータの側断面図であり、この
加熱装置は、長板状のセラミックヒータ1を固定台7の
表面に接着剤によって固定して構成されている。そし
て、セラミックヒータ1は、セラミック基板2上に、電
力の供給を受けて発熱する抵抗発熱体3と長手方向両端
部6a,6b近傍に設けられた電気的接点4a,4b及
び抵抗発熱体3を覆うガラス層5を配して構成されてい
る。
6(a)は同加熱装置のセラミックヒータの平面図、図
6(b)は同セラミックヒータの側断面図であり、この
加熱装置は、長板状のセラミックヒータ1を固定台7の
表面に接着剤によって固定して構成されている。そし
て、セラミックヒータ1は、セラミック基板2上に、電
力の供給を受けて発熱する抵抗発熱体3と長手方向両端
部6a,6b近傍に設けられた電気的接点4a,4b及
び抵抗発熱体3を覆うガラス層5を配して構成されてい
る。
【0004】ところで、複写機等の画像形成部において
は、感光ドラム上に形成されたトナー像が転写材に転写
され、この未定着のトナー像を担持した転写材が定着装
置に搬送される。そして、定着装置では、加熱装置のセ
ラミックヒータ1の加熱によって転写材上のトナー像を
溶融してこれを転写材上に固着させることにより、トナ
ー像を転写材上に定着させることが行われる。このと
き、加熱装置の抵抗発熱体3への供給電力は制御装置に
よって制御され、セラミックヒータ1の温度は定着に好
適な温度に温調される。
は、感光ドラム上に形成されたトナー像が転写材に転写
され、この未定着のトナー像を担持した転写材が定着装
置に搬送される。そして、定着装置では、加熱装置のセ
ラミックヒータ1の加熱によって転写材上のトナー像を
溶融してこれを転写材上に固着させることにより、トナ
ー像を転写材上に定着させることが行われる。このと
き、加熱装置の抵抗発熱体3への供給電力は制御装置に
よって制御され、セラミックヒータ1の温度は定着に好
適な温度に温調される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の加熱装置においては、固定台7に固定する前のセラ
ミック基板2は機械的ストレスに弱く、該セラミック基
板2の搬送途中や加熱装置の組み立て途中でセラミック
に加わる機械的ストレスによりセラミック基板2が破損
するという問題があった。
来の加熱装置においては、固定台7に固定する前のセラ
ミック基板2は機械的ストレスに弱く、該セラミック基
板2の搬送途中や加熱装置の組み立て途中でセラミック
に加わる機械的ストレスによりセラミック基板2が破損
するという問題があった。
【0006】本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
で、その目的とする処は、セラミック基板の搬送途中や
加熱装置の組み立て途中でのセラミック基板の破損を防
ぐことができるセラミックヒータ及び加熱装置を提供す
ることにある。
で、その目的とする処は、セラミック基板の搬送途中や
加熱装置の組み立て途中でのセラミック基板の破損を防
ぐことができるセラミックヒータ及び加熱装置を提供す
ることにある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記目的を達成するた
め、請求項1記載の発明は、長板状に形成されたセラミ
ック基板と、該セラミック基板上の長手方向両端部近傍
にそれぞれ設けられた電気的接点と、該電気的接点を介
して電力の供給を受けて発熱する線状の抵抗発熱体と、
該抵抗発熱体を覆うように形成されたガラス層を含んで
構成される長板状のセラミックヒータにおいて、前記セ
ラミック基板の前記電気的接点を除く全面を前記ガラス
層で覆ったことを特徴とする。
め、請求項1記載の発明は、長板状に形成されたセラミ
ック基板と、該セラミック基板上の長手方向両端部近傍
にそれぞれ設けられた電気的接点と、該電気的接点を介
して電力の供給を受けて発熱する線状の抵抗発熱体と、
該抵抗発熱体を覆うように形成されたガラス層を含んで
構成される長板状のセラミックヒータにおいて、前記セ
ラミック基板の前記電気的接点を除く全面を前記ガラス
層で覆ったことを特徴とする。
【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記セラミック基板の前記抵抗発熱体が設
けられている面とは反対の面も前記ガラス層で覆ったこ
とを特徴とする。
明において、前記セラミック基板の前記抵抗発熱体が設
けられている面とは反対の面も前記ガラス層で覆ったこ
とを特徴とする。
【0009】請求項3記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記電気的接点の少なくとも1つを前記セ
ラミック基板の全幅に亘って形成したことを特徴とす
る。
明において、前記電気的接点の少なくとも1つを前記セ
ラミック基板の全幅に亘って形成したことを特徴とす
る。
【0010】請求項4記載の発明は、長板状に形成され
たセラミック基板と、該セラミック基板上の長手方向両
端部近傍にそれぞれ設けられた電気的接点と、該電気的
接点を介して電力の供給を受けて発熱する線状の抵抗発
熱体と、該抵抗発熱体を覆うように形成されたガラス層
を含んで構成される長板状のセラミックヒータを固定台
の表面に接着して成る加熱装置において、前記セラミッ
クヒータのセラミック基板の電気的接点を除く全面をガ
ラス層で覆ったことを特徴とする。
たセラミック基板と、該セラミック基板上の長手方向両
端部近傍にそれぞれ設けられた電気的接点と、該電気的
接点を介して電力の供給を受けて発熱する線状の抵抗発
熱体と、該抵抗発熱体を覆うように形成されたガラス層
を含んで構成される長板状のセラミックヒータを固定台
の表面に接着して成る加熱装置において、前記セラミッ
クヒータのセラミック基板の電気的接点を除く全面をガ
ラス層で覆ったことを特徴とする。
【0011】請求項5記載の発明は、請求項4記載の発
明において、前記セラミックヒータのセラミック基板の
抵抗発熱体が設けられている面とは反対の面もガラス層
で覆ったことを特徴とする。
明において、前記セラミックヒータのセラミック基板の
抵抗発熱体が設けられている面とは反対の面もガラス層
で覆ったことを特徴とする。
【0012】請求項6記載の発明は、請求項4記載の発
明において、前記セラミックヒータの電気的接点の少な
くとも1つをセラミック基板の全幅に亘って形成したこ
とを特徴とする。
明において、前記セラミックヒータの電気的接点の少な
くとも1つをセラミック基板の全幅に亘って形成したこ
とを特徴とする。
【0013】従って、本発明によれば、セラミックヒー
タのセラミック基板の電気的接点を除く全面をガラス層
で覆い、或はセラミックヒータの電気的接点の少なくと
も1つをセラミック基板の全幅に亘って形成したため、
セラミック基板の機械的強度が高められ、該セラミック
基板の搬送途中や加熱装置の組み立て途中でセラミック
に或る程度の機械的ストレスが加わっても、セラミック
基板の破損が防がれてその耐久性向上が図られる。
タのセラミック基板の電気的接点を除く全面をガラス層
で覆い、或はセラミックヒータの電気的接点の少なくと
も1つをセラミック基板の全幅に亘って形成したため、
セラミック基板の機械的強度が高められ、該セラミック
基板の搬送途中や加熱装置の組み立て途中でセラミック
に或る程度の機械的ストレスが加わっても、セラミック
基板の破損が防がれてその耐久性向上が図られる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。
図面に基づいて説明する。
【0015】<実施の形態1>図1は本発明の実施の形
態1に係る加熱装置の斜視図、図2(a)は同加熱装置
のセラミックヒータの平面図、図2(b)は同セラミッ
クヒータの側断面図である。
態1に係る加熱装置の斜視図、図2(a)は同加熱装置
のセラミックヒータの平面図、図2(b)は同セラミッ
クヒータの側断面図である。
【0016】加熱装置は、長板状のセラミックヒータ1
を固定台7の表面に接着剤によって固定して構成されて
いる。
を固定台7の表面に接着剤によって固定して構成されて
いる。
【0017】上記セラミックヒータ1は、長板状のセラ
ミック基板2と、該セラミック基板2上にその長手方向
に沿って配置された線状の抵抗発熱体3と、同セラミッ
ク基板2上の長手方向両端部6a,6b近傍に設置され
た電気的接点4a,4bと、電気的接点4a,4bを除
く全面に配置されたガラス層5とで構成されている。
ミック基板2と、該セラミック基板2上にその長手方向
に沿って配置された線状の抵抗発熱体3と、同セラミッ
ク基板2上の長手方向両端部6a,6b近傍に設置され
た電気的接点4a,4bと、電気的接点4a,4bを除
く全面に配置されたガラス層5とで構成されている。
【0018】而して、本実施の形態においては、上述の
ようにセラミック基板2の電気的接点4a,4bを除く
全面がガラス層5によって被覆されるため、セラミック
基板2の機械的強度がガラス層5によって高められ、該
セラミック基板2の搬送途中や加熱装置の組み立て途中
でセラミックに或る程度の機械的ストレスが加わって
も、セラミック基板2の破損を防ぐことができ、その耐
久性向上を図ることができる。
ようにセラミック基板2の電気的接点4a,4bを除く
全面がガラス層5によって被覆されるため、セラミック
基板2の機械的強度がガラス層5によって高められ、該
セラミック基板2の搬送途中や加熱装置の組み立て途中
でセラミックに或る程度の機械的ストレスが加わって
も、セラミック基板2の破損を防ぐことができ、その耐
久性向上を図ることができる。
【0019】<実施の形態2>次に、本発明の実施の形
態2を図3に基づいて説明する。尚、図3(a)は本発
明の実施の形態2に係る加熱装置のセラミックヒータの
平面図、図3(b)は同セラミックヒータの側断面図、
図3(c)は同セラミックヒータの底面図であり、本図
においては図2において示したと同一要素には同一符号
を付している。
態2を図3に基づいて説明する。尚、図3(a)は本発
明の実施の形態2に係る加熱装置のセラミックヒータの
平面図、図3(b)は同セラミックヒータの側断面図、
図3(c)は同セラミックヒータの底面図であり、本図
においては図2において示したと同一要素には同一符号
を付している。
【0020】本実施の形態では、ガラス層5をセラミッ
ク基板2の抵抗発熱体3を設けている面とは反対の面に
も設けている。即ち、セラミック基板2の抵抗発熱体3
を設けている面とは反対の面(以下、裏面と称す)に
は、図3(c)に示すように、電気的接点4cとサーミ
スタ8が設けられており、ガラス層5は裏面の電気的接
点4cとサーミスタ8を除く全面を覆うように設けられ
ている。尚、サーミスタ8はセラミックヒータ1の温度
を検出する検出手段であって、温度に対応してそれ自体
の抵抗値が変化するものである。
ク基板2の抵抗発熱体3を設けている面とは反対の面に
も設けている。即ち、セラミック基板2の抵抗発熱体3
を設けている面とは反対の面(以下、裏面と称す)に
は、図3(c)に示すように、電気的接点4cとサーミ
スタ8が設けられており、ガラス層5は裏面の電気的接
点4cとサーミスタ8を除く全面を覆うように設けられ
ている。尚、サーミスタ8はセラミックヒータ1の温度
を検出する検出手段であって、温度に対応してそれ自体
の抵抗値が変化するものである。
【0021】而して、本実施の形態においては、セラミ
ック基板2の両面がガラス層5によって被覆されるた
め、セラミック基板2の機械的強度が更に高められ、セ
ラミック基板2の搬送途中や加熱装置の組み立て途中に
おける該セラミック基板2の破損を更に確実に防ぐこと
ができる。
ック基板2の両面がガラス層5によって被覆されるた
め、セラミック基板2の機械的強度が更に高められ、セ
ラミック基板2の搬送途中や加熱装置の組み立て途中に
おける該セラミック基板2の破損を更に確実に防ぐこと
ができる。
【0022】<実施の形態3>次に、本発明の実施の形
態3を図4に基づいて説明する。尚、図4(a)は本発
明の実施の形態3に係る加熱装置のセラミックヒータの
平面図、図4(b)は同セラミックヒータの側断面図で
あり、本図においても図2に示したと同一要素には同一
符号を付している。
態3を図4に基づいて説明する。尚、図4(a)は本発
明の実施の形態3に係る加熱装置のセラミックヒータの
平面図、図4(b)は同セラミックヒータの側断面図で
あり、本図においても図2に示したと同一要素には同一
符号を付している。
【0023】本実施の形態においても、実施の形態1と
同様にセラミック基板2の電気的接点4a,4bを除く
全面がガラス層5によって被覆されているが、2つの電
気的接点4aの一方の横方向長さが拡大されるととも
に、他方の電気的接点4bの幅寸法が拡大されてセラミ
ック基板2の全幅に亘って形成され、しかも、この電気
的接点4bはセラミック基板2の両面に設けられてい
る。
同様にセラミック基板2の電気的接点4a,4bを除く
全面がガラス層5によって被覆されているが、2つの電
気的接点4aの一方の横方向長さが拡大されるととも
に、他方の電気的接点4bの幅寸法が拡大されてセラミ
ック基板2の全幅に亘って形成され、しかも、この電気
的接点4bはセラミック基板2の両面に設けられてい
る。
【0024】而して、本実施の形態においては、セラミ
ック基板2はガラス層5と長さ及び幅寸法が拡大された
電気的接点4a,4bによってその機械的強度が高めら
れるため、該セラミック基板2の破損が防がれ、その耐
久性向上が図られる。
ック基板2はガラス層5と長さ及び幅寸法が拡大された
電気的接点4a,4bによってその機械的強度が高めら
れるため、該セラミック基板2の破損が防がれ、その耐
久性向上が図られる。
【0025】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、セラミックヒータのセラミック基板の電気的接
点を除く全面をガラス層で覆い、或はセラミックヒータ
の電気的接点の少なくとも1つをセラミック基板の全幅
に亘って形成したため、セラミック基板の機械的強度が
高められ、該セラミック基板の搬送途中や加熱装置の組
み立て途中でセラミックに或る程度の機械的ストレスが
加わっても、セラミック基板の破損が防がれてその耐久
性向上が図られるという効果が得られる。
よれば、セラミックヒータのセラミック基板の電気的接
点を除く全面をガラス層で覆い、或はセラミックヒータ
の電気的接点の少なくとも1つをセラミック基板の全幅
に亘って形成したため、セラミック基板の機械的強度が
高められ、該セラミック基板の搬送途中や加熱装置の組
み立て途中でセラミックに或る程度の機械的ストレスが
加わっても、セラミック基板の破損が防がれてその耐久
性向上が図られるという効果が得られる。
【図1】本発明の実施の形態1に係る加熱装置の斜視図
である。
である。
【図2】(a)は本発明の実施の形態1に係る加熱装置
のセラミックヒータの平面図、(b)は同セラミックヒ
ータの側断面図である。
のセラミックヒータの平面図、(b)は同セラミックヒ
ータの側断面図である。
【図3】(a)は本発明の実施の形態2に係る加熱装置
のセラミックヒータの平面図、(b)は同セラミックヒ
ータの側断面図、(c)は同セラミックヒータの底面図
である。
のセラミックヒータの平面図、(b)は同セラミックヒ
ータの側断面図、(c)は同セラミックヒータの底面図
である。
【図4】(a)は本発明の実施の形態3に係る加熱装置
のセラミックヒータの平面図、(b)は同セラミックヒ
ータの側断面図である。
のセラミックヒータの平面図、(b)は同セラミックヒ
ータの側断面図である。
【図5】従来の加熱装置の斜視図である。
【図6】(a)は従来の加熱装置のセラミックヒータの
平面図、(b)は同セラミックヒータの側断面図であ
る。
平面図、(b)は同セラミックヒータの側断面図であ
る。
1 セラミックヒータ 2 セラミック基板 3 抵抗発熱体 4a〜4c 電気的接点 5 ガラス層 7 固定台
Claims (6)
- 【請求項1】 長板状に形成されたセラミック基板と、
該セラミック基板上の長手方向両端部近傍にそれぞれ設
けられた電気的接点と、該電気的接点を介して電力の供
給を受けて発熱する線状の抵抗発熱体と、該抵抗発熱体
を覆うように形成されたガラス層を含んで構成される長
板状のセラミックヒータにおいて、 前記セラミック基板の前記電気的接点を除く全面を前記
ガラス層で覆ったことを特徴とするセラミックヒータ。 - 【請求項2】 前記セラミック基板の前記抵抗発熱体が
設けられている面とは反対の面も前記ガラス層で覆った
ことを特徴とする請求項1記載のセラミックヒータ。 - 【請求項3】 前記電気的接点の少なくとも1つを前記
セラミック基板の全幅に亘って形成したことを特徴とす
る請求項1記載のセラミックヒータ。 - 【請求項4】 長板状に形成されたセラミック基板と、
該セラミック基板上の長手方向両端部近傍にそれぞれ設
けられた電気的接点と、該電気的接点を介して電力の供
給を受けて発熱する線状の抵抗発熱体と、該抵抗発熱体
を覆うように形成されたガラス層を含んで構成される長
板状のセラミックヒータを固定台の表面に接着して成る
加熱装置において、 前記セラミックヒータのセラミック基板の電気的接点を
除く全面をガラス層で覆ったことを特徴とする加熱装
置。 - 【請求項5】 前記セラミックヒータのセラミック基板
の抵抗発熱体が設けられている面とは反対の面もガラス
層で覆ったことを特徴とする請求項4記載の加熱装置。 - 【請求項6】 前記セラミックヒータの電気的接点の少
なくとも1つをセラミック基板の全幅に亘って形成した
ことを特徴とする請求項4記載の加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP648496A JPH09197857A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | セラミックヒータ及び加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP648496A JPH09197857A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | セラミックヒータ及び加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09197857A true JPH09197857A (ja) | 1997-07-31 |
Family
ID=11639761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP648496A Pending JPH09197857A (ja) | 1996-01-18 | 1996-01-18 | セラミックヒータ及び加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09197857A (ja) |
-
1996
- 1996-01-18 JP JP648496A patent/JPH09197857A/ja active Pending
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