JPH09204048A - 親水性を付与する層を有する、アルミニウムまたはその合金からなる基材、およびその基材の製造法 - Google Patents

親水性を付与する層を有する、アルミニウムまたはその合金からなる基材、およびその基材の製造法

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JPH09204048A
JPH09204048A JP31351296A JP31351296A JPH09204048A JP H09204048 A JPH09204048 A JP H09204048A JP 31351296 A JP31351296 A JP 31351296A JP 31351296 A JP31351296 A JP 31351296A JP H09204048 A JPH09204048 A JP H09204048A
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Michael Brenk
ミヒャエル、ブレンク
Werner Riedel
ウェルナー、リーデル
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    • C25D11/02—Anodisation
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 すぐれた親水性付与特性を有するオフセット
印刷印刷板用基材の提供。 【解決手段】 機械的および／または電気化学的に粗面
化され、必要であれば、陽極酸化されたアルミニウムま
たはその合金からなる基材に、１工程製法で、親水性付
与層を水溶液で施す。親水性付与層は、２種類の成分を
含んでなり、その一方が塩基性および酸性の根源部を有
する重合体に属し、他方がアミノ酸からなる群に属す
る。この親水性を付与した基材に放射線感応性層を施す
ことにより記録材料が形成され、その記録材料から印刷
板が製造される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、塩基性および酸性の根源部を有
する少なくとも１種の重合体を含んでなる親水性付与層
を有する、機械的および／または電気化学的に粗面化さ
れ、必要であれば、陽極酸化されたアルミニウムまたは
その合金からなる基材、および該基材の製造法に関す
る。
【０００２】オフセット印刷板用の基材は感光層（複写
層）を備えており、その感光層を使用し、写真製版法に
より印刷画像が形成される。印刷画像を形成した後、基
材はその印刷画像部分および同時に、画像のない部分
（非画像部分）に、平版印刷工程のための親水性の画像
背景を形成する。
【０００３】その様な基材に適当な基材はアルミニウ
ム、鋼、銅、黄銅または亜鉛であるが、プラスチックフ
ィルムまたは紙も含まれる。印刷板の分野では、アルミ
ニウムおよびその合金の有用性が確立している。原材料
の表面は、公知の方法により機械的、化学的および／ま
たは電気化学的に粗面化され、必要であれば、陽極酸化
される。しかし、その様な基材用の前処理は、下記の必
要条件を満たすには十分ではない。
【０００４】（１） 感光層の、露光後に比較的可溶性
になる部分は、親水性の非画像部分を形成させるため
に、現像の際に基材から容易に、且つ完全に除去され
る。必要がある。感光層は一般的に強く着色されるの
で、基材に付着している層の残留物はすべて汚れとして
検出される。その結果、印刷板はこれらの場所で「スカ
ミング」を示すことがある。
【０００５】露光および現像の後、印刷板を修正し、好
ましくない画像部分を除去しなければならないことがよ
くある。こうして剥き出しにされた非画像部分は、現像
により剥き出しにされた非画像部分と、色および明度に
おいて差があるべきではない。画像部分の面積の比率
を、画像部分と非画像部分の間の明度の差の平均により
測定する測定機器が使用できるためには、均一な明度が
必要である。
【０００６】修正により形成された非画像部分と、通常
の現像工程の際に形成された非画像部分の間の好ましく
ない明度の差は、修正コントラストと呼ばれる。
【０００７】（２） 非画像部分で剥き出しにされた基
材は、平版印刷工程の際に水を迅速に、永久的に吸着す
る必要があるのに充分な親水性を持つ（該水が脂肪性の
印刷インクをはじく）。
【０００８】（３） 露光前の感光層およびその層の露
光後の印刷部分は、基材から剥離してはならない。
【０００９】通常、基材は、水を十分に吸着しないの
で、さらに親水性が付与される。親水性を付与する薬剤
は、好ましくない反応を避け、密着性を損なわない様
に、個々の感光層に合わせて調製しなければならない。
【０００１０】感光層、現像剤溶液または修正剤によ
り、親水性を付与する公知の方法には、多かれ少なかれ
欠点がある。例えば、良好な現像性および親水性を与え
るアルカリ金属のケイ酸塩で処理した後は、比較的長い
貯蔵期間の後には感光層の劣化を覚悟しなければならな
い。水溶性の重合体で基材を処理する場合、それらの、
特にポジ型層の現像に主として使用されている様な水性
アルカリ現像剤に対する、良好な溶解性が、親水性付与
作用を著しく低下させる。スルホ基を含む重合体の場
合、顕著な悪影響は、遊離の陰イオン系酸官能基がネガ
型感光層のジアゾ陽イオンと相互作用し得るので、現像
後、保持されるジアゾ化合物のために非画像部分の上に
著しい汚れが検出されることである。重合体状アクリル
酸誘導体で処理する場合、明らかな欠点は、汚れを阻止
できる使用形態、すなわち０．１〜１０g/lの溶液で、
それらの物質は非常に粘度が高く、基材の表面から過剰
分を取り除くには大変な手間がかかる。汚れの形成に特
に敏感なのは、レーザーによる画像形成に使用され（Ｅ
Ｐ−Ａ ０３６４７３５明細書）、重合体状バインダ
ー、フリーラジカル重合可能で少なくとも１個の重合性
基をを有する化合物、および光還元性の染料、放射線に
より開裂し得るトリハロメチル化合物および光反応開始
剤としてメタロセン化合物を含む感光性の高い層であ
る。したがって、非画像部分で層の成分が後にまったく
残らない親水性基材が非常に好ましい。
【００１１】ＤＥ−Ｃ １１３４０９３（＝ＵＳ−Ａ
３，２７６，８６８）およびＵＳ−Ａ ４，１５３，４
６１各明細書には、ホスホン酸、特にポリビニルホスホ
ン酸またはビニルホスホン酸とアクリル酸および酢酸ビ
ニルの共重合体、で基材に親水性を付与できることが開
示されている。ホスホン酸の塩が適当であることも記載
されている。しかし、このことはあまり詳細に説明され
ていない。
【００１２】ＥＰ−Ａ ００６９３２０（＝ＵＳ−Ａ
４，４２７，７６５）明細書は、平版印刷用のアルミニ
ウム基材に親水性を付与する方法が記載されており、そ
こではポリビニルホスホン酸、ポリビニルスルホン酸、
ポリビニルメチルホスホン酸の塩、および他の、少なく
とも２価の金属陽イオンを有するポリビニル化合物が使
用されている。
【００１３】ＥＰ−Ａ ０１９０６４３明細書によれ
ば、アクリルアミドイソブチレンホスホン酸の単独重合
体またはアクリルアミドイソブチレンホスホン酸とアク
リルアミドの共重合体で、またはこの単独重合体または
共重合体と２価または多価陽イオンの塩で、基材を被覆
している。この被覆には、完成した印刷板が非画像部分
で良好な親水性を示し、汚れが少ないという利点があ
る。
【００１４】ＥＰ−Ａ ０４９０２３１明細書には、−
（ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｎ（Ｘ）−）n−型の構造要素を含
むポリエチレンイミンで、または−（ＣＨ2 −ＣＨ（Ｎ
Ｙ1Ｙ2 ）−）n −型の構造要素を含むポリビニルイミ
ンで、印刷板基材を処理する方法が記載されている（こ
こでＸ、Ｙ1 およびＹ2 は、必要に応じてＣ置換された
スルホメチル基またはホスホノメチル基である）。しか
し、この方法でも、最適な結果は得られていない。
【００１５】以前に公開されていないＤＥ ４４２３１
４０．７明細書には、第一工程でＥＰ−Ａ ０４９０２
３１明細書に記載されている物質で操作し、第二工程で
他のホスホン酸化合物で操作する方法が記載されてい
る。この方法は、２工程で経費のかかる手順で行なわな
ければならないという欠点がある。
【００１６】本発明の目的は、下記のオフセット印刷印
刷板用の基材を提供することである。非常に良い親水性
付与特性を有し、すべての感光層に等しく適しており、
長期間の貯蔵中に、親水性を付与する薬剤と感光層の間
の反応により感光層が損なわれることがなく、感光層の
印刷部分に対する密着性が非常に良く、技術的に簡単に
製造できる。
【００１７】この目的は、塩基性および酸性の根源部を
有する少なくとも１種の重合体を含んでなる親水性付与
層を有する、機械的および／または電気化学的に粗面化
され、必要であれば陽極酸化された、アルミニウムまた
はその合金の基材であって、親水性付与層が２成分の混
合物を含んでなり、該２成分の一方がアミノ酸からなる
群に属し、他方が塩基性および酸性の根源部を有する重
合体に属することを特徴とする基材により達成される。
【００１８】基材の他の実施態様は請求項２〜７に記載
されている。
【００１９】基材の製造は、一工程製法において、親水
性を付与する、２成分を含む層が、水溶液で、機械的お
よび／または電気化学的に粗面化され、必要であれば陽
極酸化された、アルミニウムまたはその合金の基材に塗
布されることを特徴とする。その他の製法工程は請求項
９〜１３に記載されている。
【００２０】親水性付与層は、対応する溶液を噴霧する
ことにより塗布することができる。この溶液中の親水性
付与化合物の濃度は広い範囲内で変えることができる
が、濃度が０．１〜２０ g/l、好ましくは０．３〜５ g
/l、である溶液が特に有利であることが確認されてい
る。上記の量は、両方の成分に当てはまる。
【００２１】親水性付与層を塗布した後、その物質を洗
い流し、過剰の親水性付与剤を除去することができる。
親水性の付与は、２０〜９５℃の温度で行なうことがで
きるが、３０〜６５℃の温度が好ましい。被覆されるべ
き物質は、一般的に噴霧するか、または１秒間〜５分間
浸漬することにより塗布される。処理時間が１秒間未満
では不利であるが、５分間より長くても不利ではない。
【００２２】親水性付与工程の後、被覆された基材を温
度１００〜１３０℃で乾燥させるのが有利である。
【００２３】親水性を付与するために加えた物質が実際
に基材表面上に吸着されたことを確認するために、表面
感応性の測定方法、例えばＥＤＸ（エネルギー分散性Ｘ
線(Energy Dispersive X-ray) ）、Auger 電子分光法、
ＳＩＭＳ（二次イオン質量分光法(Secondary Ion Mass
Spectroscopy) ）、およびその他を使用することができ
る。しかし、少量の物質でも著しい親水性付与効果があ
るので、塗布された親水性被覆の重量測定には問題があ
る。その上、親水性付与剤は基材表面に比較的強く付着
する。しかし、塗布される量はいずれの場合も０．５ m
g/dm2 未満であり、恐らく０．２５ mg/dm2 未満であろ
う。最少量は約０．０２ mg/dm2 未満である。
【００２４】変性ポリエチレンイミンおよび変性ポリビ
ニルアミン、およびそれらの製造法はＥＰ−Ａ ０４９
０２３１明細書に記載されている。原則的にこれらの物
質は、対応する未変性前駆物質から、ホスホノメチル化
および／またはスルホメチル化により製造される。
【００２５】次いで、本発明による基材を各種の感光性
混合物で被覆することができる。原則的に、像様露光に
続く現像および／または定着の後に陽画像または陰画像
を与える被覆を形成するすべての混合物が適当である。
非画像部分において、印刷板として適当な材料はその優
れた親水性を保持し、汚れは事実上検出されない。
【００２６】本発明は、親水性が付与され、放射線感応
性層で被覆された、アルミニウムまたはその合金の基材
を有する記録材料にも関する。
【００２７】下記の諸例により本発明を説明するが、こ
れらの例は本発明を限定するものではない。この目的に
は、下記の粗面化され、陽極酸化された印刷板を使用す
る。
【００２８】タイプ１ 厚さ０．３mmの光沢圧延されたアルミニウム（ＤＩＮ材
料No. ３．０２５５）を５０〜７０℃の２％濃度ＮａＯ
Ｈ洗浄水溶液で脱脂した。次いで、ＨＮＯ3 含有電解液
中、交流で表面を電気化学的に粗面化した。表面粗さの
Ｒz 値は６μmであった。続いて、硫酸を含む電解液中
で陽極酸化を行なった。酸化物層の重量は約３．０ g/m
2 であった。
【００２９】タイプ２ 厚さ０．３mmの光沢圧延されたアルミニウム（ＤＩＮ材
料No. ３．０５１５）を５０〜７０℃の２％濃度ＮａＯ
Ｈ洗浄水溶液で脱脂した。次いで、塩酸含有電解液中、
交流で表面を電気化学的に粗面化した。表面粗さのＲz
値は６μm であった。続いて、硫酸を含む電解液中で陽
極酸化を行なった。酸化物層の重量は約２．０ g/m2 で
あった。
【００３０】タイプ３ 厚さ０．２mmの光沢圧延されたアルミニウム（ＤＩＮ材
料No. ３．０２５５）を５０〜７０℃の２％濃度ＮａＯ
Ｈ洗浄水溶液で脱脂し、次いで、研磨材（例えば石英粉
末またはアルミナ）で機械的に粗面化した。表面粗さの
Ｒz 値は４μmであった。続いて、リン酸を含む電解液
中で陽極酸化を行なった。酸化物層の重量は約０．９ g
/m2 であった。
【００３１】タイプ４ 基材をタイプ２で説明した様に処理したが、酸化物層重
量が１．５ g/m2 になるまで陽極酸化した。
【００３２】下記の諸例により、本発明の基材の利点を
例示する。表１に示す親水性付与Ａ* 〜Ｄ* は比較実験
に使用したのに対し、本発明の基材はＥにより親水性付
与した。
【００３３】塩基性および酸性の根源部を含む重合体の
塩基性根源部は、第１級、第２級または第３級アミノ基
であるのに対し、酸性根源部はカルボキシル、ホスホノ
またはスルホ基である。重合体のpHは４〜９、特に４．
５〜７．５、である。親水性付与層の一成分は、例えば
スルホ−またはホスホノメチル化したポリエチレンイミ
ンおよびポリビニルアミンからなる群から選択する。こ
の成分は、置換されたアミノアクリレート、ビニルピロ
リドンおよびビニルイミダゾールからなる群から選択さ
れた共重合体またはターポリマーでもよい。親水性付与
層のもう一つの成分は、例えば単塩基性アミノ酸、例え
ばグリシン、アミノヘキサン酸、アミノ安息香酸、ジア
ミノ安息香酸およびロイシン、からなる群から選択す
る。その他の添加剤は、例６〜３４の場合、Ｎ〜Ｓの文
字で表す。
【００３４】表１ 親水性付与 Ａ* なし Ｂ* ポリビニルホスホン酸（２ g/l、７５℃、pH２）で Ｃ* Ｎ−ホスホノメチルポリエチレンイミン（１ g/l、６５℃、pH４．５）で Ｄ* 最初にＣ）、次いでＢ）Ｅ 本発明により、Ｃ* と同様に、さらに溶液中にグリシン１ g/l
【００３５】例１ タイプ２の基材を表１により親水性付与し、下記の混合
物を含んでなるポジ型ジアゾ層で被覆した。５．００重
量％の、ＤＩＮ５３７８３／５３２４０によるヒドロキ
シル価が４２０であり、ＧＰＣによる重量平均値が６０
００（ポリスチレン標準）であるクレゾール／キシレノ
ール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂、１．２０重量
％の、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スル
ホニルクロライド１．５モルと２，３，４−トリヒドロ
キシベンゾフェノン１モルのエステル、０．１５重量％
の１，２−ナフトキノンジアジド−２−ジアジド−４−
スルホニルクロライド、０．０５重量％のビクトリアス
カイブルー（Ｃ．Ｉ． ４４０４５）および合計して１
００重量％になる量の、メチルエチルケトンおよびポリ
エチレングリコールモノメチルエーテル（４０／６０）
を含んでなる溶剤混合物。
【００３６】被覆された基材を１２５℃で１分間乾燥さ
せた。被膜の重量は２．４ g/m2 であった。次いで、突
出部の平均高さが４μm になる様に、放射線感応性層上
に曇り溶液（ビニルスルホン酸、アクリル酸エチルおよ
びスチレンのターポリマーの２０％濃度水溶液）を静電
気的に吹き付けた。
【００３７】これらの板を、真空焼枠中で排気してテス
トフラットと接触させ、現像後にフィルムエッジを除去
するための高露光に相当するＵＧＲＡオフセット試験ウ
ェッジでオープンステップ４が得られる様に、１１０cm
の距離で、ハロゲン化金属ドーピングした５kW水銀蒸気
ランプで露光した。
【００３８】現像装置（Hoechst AG製のＶＡ８６）中、
２０℃で、ケイ酸カリウム現像剤（総アルカリ含有量
０．５モル/l、Ｋ2 Ｏ：ＳｉＯ2 比＝１：１．２、以
下、「現像剤タイプ１」と呼ぶ）を使用し、処理速度
１．４m/分で現像した。
【００３９】現像剤１リットルあたり４ m2 の記録材料
（画像画分２５％）を処理した後の、残留層汚れの発生
を検査した。結果は表２に示す通りである。
【００４０】例２ タイプ１の基材を表１にしたがって親水性付与し、下記
の混合物を含んでなる反転ポジ型層を施した。４．８０
重量％の、ＤＩＮ５３７８３／５３２４０によるヒドロ
キシル価が４２０であり、ＧＰＣによる重量平均値が６
０００であるクレゾール／キシレノール／ホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂、１．０５重量％の、１，２−ナフ
トキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロライド
３．４モルと２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒ
ドロキシ−５，５’−ジベンゾイルしフェニルメタン１
モルのエステル、０．５重量％の２−（４−スチリルフ
ェニル）−４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリア
ジン、０．１０重量％のクリスタルバイオレット（Ｃ．
Ｉ． ４２５５５）、１．００重量％の、平均粒子径
３．９μm のシリカ充填材、０．１０重量％の、ジメチ
ルシロキサン単位およびエチレンオキシド単位を含んで
なる界面活性剤および合計して１００重量％になる量
の、テトラヒドロフランおよびプロピレングリコールモ
ノメチルエーテル（５５／４５）を含んでなる溶剤混合
物。
【００４１】被覆された基材を１２５℃で１分間乾燥さ
せた。被膜の重量は１．８ g/m2 であった。次いで、こ
の基材を下記の様に処理した。 １．例１と同様に焼枠中で試験原画を通して６０秒間露
光。 ２．連続加熱炉中、１３５℃で６０秒間加熱。 ３．循環空気で１０秒間冷却。 ４．連続装置中、原画なしに、２４０ワットの放射力を
有するＵＶ−Ａ蛍光ランプで３０秒間均一露光。 ５．例１と同様の装置中、処理速度１．２m/分で現像。
【００４２】現像は、ＤＥ−Ａ ４０２７２９９明細書
による、総アルカリ含有量０．８モル/l（Ｎａ2 Ｏ：Ｓ
ｉＯ2 比＝１：１）およびポリグリコール−１０００−
ジカルボン酸含有量０．６重量％のケイ酸ナトリウム現
像剤（以下、「現像剤タイプ２」と呼ぶ）で行なった。
【００４３】現像剤１リットルあたり４ m2 の記録材料
（画像画分２５％）を処理した後の、残留層汚れの発生
を検査した。結果は表２に示す通りである。
【００４４】例３ タイプ４の基材を、表１に記載する５種類の後処理にか
け、下記の組成物を有するネガ型層を施した。２．５重
量％の、平均分子量Ｍw が２４，０００（ＧＰＣ）であ
る、メタクリル酸（２０重量％）、メタクリル酸メチル
（３０重量％）およびモノメタクリル酸グリセリル（５
０重量％）の共重合体、０．５重量％の、スルホン酸メ
シチレンとして沈殿する、３−メトキシジフェニルアミ
ン−４−ジアゾニウム硫酸塩１モルと４，４’−ビスメ
トキシメチルジフェニルエーテルのジアゾニウム塩重縮
合物、０．０９重量％のビクトリアスカイブルーＦＧＡ
（ベーシックブルー８１）、０．０７重量％のフェニル
ホスホン酸、０．１重量％の、０．１重量％の、平均粒
子径３μm のシリカ充填材、および合計して１００重量
％になる量の、テトラヒドロフランおよびエチレングリ
コールモノメチルエーテル（４０／６０）を含んでなる
溶剤混合物。
【００４５】被覆された基材を乾燥トンネル中、１２０
℃で乾燥させた。乾燥層の重量は１．４ g/m2 であっ
た。再現層を写真ネガの下で、５kWのハロゲン化金属ラ
ンプで３５秒間露光し、摩擦素子を有する現像機械中、
２３℃で、下記の溶液で現像した。５重量％のラウリル
硫酸ナトリウム、２重量％のフェノキシエタノール、１
重量％のメタケイ酸ナトリウム・５Ｈ2 Ｏ、および９２
重量％の水。
【００４６】現像剤１リットルあたり４ m2 を処理した
後の、残留層汚れの発生を検査した。ここでも、本発明
による基材の工程Ｅによる親水性付与処理はより有利で
あり、より簡単に実行できることが立証された。
【００４７】例４ タイプ３の基材を、表１により親水性付与し、下記の溶
液で被覆した。３．１重量％の２，５−ビス−（４−ジ
エチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾー
ル、３．１重量％の、軟化点２１０℃を有する、スチレ
ンと無水マレイン酸の共重合体、０．０２重量％のRhod
amin(R) FB（Ｃ．Ｉ． ４５１７０）および合計して１
００重量％になる量のエチレングリコールモノメチルエ
ーテル次いで連続乾燥加熱炉中、１２０℃で乾燥させ
た。この層を暗所でコロナを使用して４５０Ｖに負に帯
電させ、帯電した板をプロセスカメラ中で像様露光し、
次いで、０．６重量％の硫酸マグネシウム分散液および
１．４重量％ペンタエリスリトール樹脂エステルの、沸
点範囲１８５〜２１０℃のイソパラフィン混合物９８重
量％の溶液を含んでなる電子写真懸濁液現像剤で現像し
た。過剰の現像剤液体を除去した後、トナーを定着させ
下記の溶液中２４℃、処理速度１．４m/分でデラミネー
ションした。エタノールアミン１０重量％、プロピレン
グリコールモノフェニルエーテル１０重量％、Ｋ2 ＨＰ
Ｏ4 ２重量％および合計して１００重量％になる量の水
からなる溶液。その後、板を強力な水噴射で洗浄し、デ
ラミネーション剤の残留を除去した。デラミネーション
剤１リットルあたり１０ m2 を処理した後の、残留層汚
れの発生を検査した。
【００４８】例５ タイプ１の基材を表１にしたがって親水性付与し、下記
の組成を有する溶液を、それぞれの場合に層重量が２．
５ g/m2 になる様にスピンコーティングにより塗布し
た。１０．７重量％の、例３に記載のターポリマー溶
液、５．３重量％のトリエチレングリコールジメタクリ
レート、０．１５重量％のオラソールブルー（Ｃ．Ｉ．
５０３１５）、０．１５重量％のエオシン、アルコー
ル可溶性（Ｃ．Ｉ． ４６３８６）、０．１１重量％の
２，４−ビストリクロロメチル−６−（４−スチリルフ
ェニル）−ｓ−トリアジン、０．２３重量％のジシクロ
ペンタジエニルチタンビスペンタフルオロフェニル、４
２重量％のブタノールおよび合計して１００重量％にな
る量の酢酸ブチル。
【００４９】乾燥後、板をポリビニルアルコールで被覆
し、露光および現像した。
【００５０】例１〜５の記録材料を下記の様に濃度計に
より評価した（入射光濃度計、マゼンタまたはシアンフ
ィルター）。 ＋ 残留層汚れなし、濃度計測定値＜０．０１ ０ 僅かな残留層汚れ、濃度計測定値０．０１〜０．０
２ − 残留層汚れあり、濃度計測定値＞０．０２表２ 親水性 例の評価 １ ２ ３ ４ ５ Ａ* − − − − − Ｂ* ０ ０ ０ ０ ０ Ｃ* ０ ０ ０ ０ ０ Ｄ* ０ ０ ０ ０ ０Ｅ ＋ ＋ ＋ ＋ ＋
【００５１】例および比較例 例６〜３４は、本発明による基材の、表１のＡ〜Ｄによ
り親水性付与した比較例Ｖ６〜Ｖ３７に対する優位性を
示す。この表に示す条件により製造した記録材料を下記
の様に試験した。
【００５２】１．汚れの測定 非画像部分の反射は、被覆されていない基材の試料、お
よび被覆、露光および現像後の非画像部分の両方で可視
領域で測定した。この目的には、Datacolor 製の２チャ
ネル同時分光計MCS512を使用した。測定の結果を、ＣＩ
Ｅ（CommissionInternational de l'Eclairage, Public
ation No. 15)による基材表面の明度Ｌ* を計算するの
に使用した。これらの計算の詳細はＤＩＮ標準６１７４
（１９７９）および５０３３（１９７０）に記載されて
いる。この場合、発光体Ｄ６５を使用し、ＣＩＥによる
推奨に対して、２°オブザーバーで計算した。被覆され
ていない基材のこの明度Ｌ* は、下記の表５および６の
６欄に記載されている通りである。実際には、色度座標
ａ* およびｂ* もこの計算で自動的に得られるが、ここ
で問題とする印刷板の基材に対する試験では明度Ｌ* の
値と対応するので、これらの座標は考慮に入れない。こ
れらの計算の後、被覆前の明度と、被覆、露光および現
像後の非画像部分の明度の差ｄＬ* １を計算した。感光
層は実際には暗色を有する（明るい灰色の基材表面と比
較して）ので、好ましくない層の残留物は非画像部分に
おける黒い汚れとして知覚し得る。被覆、露光および現
像後の非画像部分の明度は、被覆前の明度より小さいで
あろう。差の計算により正の数値ｄＬ* １が得られる
が、この値が大きい程、好ましくない汚れが著しいこと
になる。この値ｄＬ* １は表５および６の７欄に示す通
りである。
【００５３】観測者の経験および目の感度により、汚れ
は大体０．８の測定値から目に見える。汚れは常に印刷
板の外見上の欠点となり、この理由だけからも、購入者
の苦情につながることがある。汚れの程度が非常に大き
い場合、非画像部分に大量の層残留物がある徴候であ
り、場合によっては、特に少量の湿し水を計量する場合
（これが望ましいことが多い）には、好ましくないスカ
ミングを生じることがある。この場合、汚れの正確な値
を示すことはできない。
【００５４】２．修正コントラストの測定 印刷板の非画像部分を市販の修正剤で処理し、次いで明
度を、修正区域および未修正区域で測定した。ここで
も、差ｄＬ* ２を計算した。この差が０から大きく異な
る場合、すなわちその差が０．５〜１の範囲内にある場
合、修正剤が表面から層残留物をさらに除去できたか、
または非画像部分自体の表面を攻撃し、損傷を与えたの
である。
【００５５】３．親水性の測定 手動のゴムローラーで印刷板の非画像部分に印刷インク
を塗布し、希釈したリン酸の中に入れ、希釈リン酸が非
画像部分からインクを除去する時間を測定した。基材が
良好な親水性を有する場合、この時間は３０秒間を超え
てはならない。希釈リン酸は、印刷工程で使用する一般
的に酸性の湿し水を模擬している。
【００５６】比較例Ｖ６〜Ｖ３７ タイプ１および２の基材を陽極酸化し、浸漬浴中で５秒
間親水性付与処理した。それらの条件は表３に示す通り
である。親水性付与処理の種類は下記の表３〜６の２欄
に記載した通りである。そこに示す記号は表１に示す記
号と対応している。親水性付与処理の後、板を例１に記
載の溶液で被覆し、露光し、上記の現像装置ＶＡ８６
中、タイプ１および２の現像剤で現像した。
【００５７】表３ 番号 親水性付 基材 現像剤 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ タイプ タイプ Ｌ* ｄＬ* １ ｄＬ* ２ ｓ Ｖ６ Ｂ* １ １ 78.33 1.33 1.39 15 Ｖ７ Ｃ* １ １ 78.33 1.02 1.13 15 Ｖ８ Ｄ* １ １ 78.28 0.33 0.17 5 Ｖ９ Ｂ* １ １ 78.25 2.15 2.02 15 Ｖ10 Ｃ* １ １ 78.37 1.24 1.34 5 Ｖ11 Ｄ* １ １ 78.37 0.24 0.54 5 Ｖ12 Ｂ* １ ２ 78.33 2.24 1.83 5 Ｖ13 Ｃ* １ ２ 78.00 1.92 2.12 5 Ｖ14 Ｄ* １ ２ 78.39 0.43 0.41 15 Ｖ15 Ｂ* ２ １ 79.10 3.01 1.72 15 Ｖ16 Ｃ* ２ １ 79.03 1.75 1.43 15Ｖ17 Ｄ* ２ １ 79.04 0.30 0.54 5
【００５８】表３により、本発明にしたがって製造され
なかった印刷板は、非画像部分で十分に良好な親水性を
有しているが、著しい汚れを有しているか、または修正
剤による攻撃を受けて、非画像部分における変色を起こ
しているか、またはそれらの両方の現象を示しているこ
とが分かる。２種類の異なった基材および２種類の異な
った現像剤を使用したが、表中に記載した組合せのどれ
も、すべての特性に対して良好な結果を与えることはで
きなかった。親水性付与処理自体は、ある程度良好な結
果を与えるが、これは２工程処理であり、技術的に不利
である。
【００５９】タイプ２の基材を使用して表４の記録材料
を製造した。これらの記録材料を、本発明にしたがわな
い親水性付与処理、すなわち１成分としてホスホノメチ
ル化ポリイミンおよび他の添加剤を含む水溶液に浸漬、
を行なった。ポリイミンの濃度はすべての場合で１ g/l
であった。第二成分の種類および処理温度は以下に示す
通りである。
【００６０】本発明にしたがわない添加剤の例 Ｆ ６０℃でフタル酸 Ｇ ６５℃でマレイン酸 Ｈ ６５℃でリンゴ酸 Ｉ ５５℃でジオキサオクタン酸 Ｊ ５５℃でリンゴ酸 Ｋ ６０℃でニコチン酸 Ｌ ６０℃でフマル酸 Ｍ ５５℃で乳酸
【００６１】表４ 番号 親水性付 濃度 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ g/l Ｌ* ｄＬ* １ ｄＬ* ２ ｓ Ｖ18 Ｆ 2.0 77.83 1.08 1.64 5 Ｖ19 Ｇ 2.0 77.94 1.66 1.24 15 Ｖ20 Ｈ 2.0 77.95 0.96 1.32 5 Ｖ21 Ｉ 2.0 77.52 0.93 1.21 5 Ｖ22 Ｊ 2.0 79.60 0.81 0.44 5 Ｖ23 Ｋ 2.0 78.07 2.13 1.76 5 Ｖ24 Ｌ 2.0 79.41 0.88 1.69 5 Ｖ25 Ｍ 2.0 79.54 0.97 1.78 5 Ｖ26 Ｆ 5.0 79.60 0.55 0.95 15 Ｖ27 Ｇ 1.0 78.06 0.77 0.57 15 Ｖ28 Ｈ 5.0 78.95 1.56 1.01 5 Ｖ29 Ｉ 5.0 79.02 2.20 0.85 5 Ｖ30 Ｊ 5.0 79.10 2.09 0.63 5 Ｖ31 Ｋ 5.0 78.07 0.12 1.11 15 Ｖ32 Ｌ 5.0 77.83 0.12 1.41 5 Ｖ33 Ｍ 5.0 78.88 2.01 1.55 5 Ｖ34 Ｍ 1.0 78.27 2.53 1.34 5 Ｖ35 Ｍ 0.2 28.97 2.08 1.73 15 Ｖ36 Ｍ 10.0 79.01 2.42 1.75 5Ｖ37 Ｍ 20.0 78.92 2.22 1.21 5
【００６２】これらの印刷板の場合、すべて非画像部分
では良好な親水性を有するが、汚れおよび／または修正
コントラストに関して測定した値は好ましくない。
【００６３】例６〜３４ 表５には、タイプ２の基材で得た結果を、表６にはタイ
プ４の基材で得た結果が示されている。これらの基材
を、本発明による親水性付与処理、すなわち１成分とし
てホスホノメチル化ポリイミンおよび他の添加剤として
アミノ酸を含む水溶液に浸漬、を行なった。ポリイミン
の濃度を「濃度１」として、第二成分を「濃度２」とし
て表示する。第二成分の種類および処理温度は以下に示
す通りである。浸漬時間はほとんどの場合５秒間であ
る。１５秒間〜数分間の浸漬時間は同じ効果を有する。
しかし、浸漬時間は１秒間より短くすべきではない。
【００６４】本発明による他の添加剤の例 Ｎ ２−アミノアジピン酸 Ｏ アミノプロピオン酸 Ｐ フェニルグリシン Ｑ アミノヘキサン酸 Ｒ ジアミノ安息香酸 Ｓ メチルグルタミン酸
【００６５】表５ タイプ２の基材による実験 番号 親水性付 温度 濃度１ 濃度２ 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ ℃ g/l g/l Ｌ* dL* １ dL* ２ ｓ 6 Ｅ 40 5.0 0.5 78.9 -0.20 0.00 15 7 Ｅ 50 5.0 0.5 78.5 -0.24 0.05 5 8 Ｅ 60 5.0 0.5 78.3 -0.51 0.06 15 9 Ｅ 40 2.0 0.5 78.4 -0.14 0.20 5 10 Ｅ 50 2.0 0.5 78.3 -0.46 0.24 5 11 Ｅ 60 2.0 0.5 77.9 0.55 0.01 5 12 Ｅ 40 1.0 1.0 77.7 0.22 0.06 5 13 Ｅ 50 1.0 1.0 78.1 0.23 0.15 5 14 Ｅ 60 1.0 1.0 77.6 -0.41 0.41 5 15 Ｅ 40 0.5 1.0 77.8 -0.16 0.55 5 16 Ｅ 50 0.5 1.0 78.9 -0.14 0.27 5 17 Ｅ 60 0.5 1.0 77.9 0.12 0.22 5 18 Ｅ 40 0.2 1.0 77.6 0.11 0.59 15 19 Ｅ 50 0.2 1.0 78.1 0.03 0.55 1520 Ｅ 60 0.2 1.0 77.8 -0.07 0.61 15
【００６６】表６ タイプ４の基材による実験 番号 親水性付 温度 濃度１ 濃度２ 明度 汚れ 修正コン 親水性 与処理 トラスト タイプ ℃ g/l g/l Ｌ* dL* １ dL* ２ ｓ 21 Ｅ 40 2.0 4.0 78.5 0.09 0.45 5 22 Ｅ 50 2.0 4.0 78.5 0.65 0.32 5 23 Ｅ 60 2.0 4.0 78.4 0.45 0.30 5 24 Ｅ 40 1.0 2.0 78.0 0.50 0.32 5 25 Ｅ 50 1.0 2.0 78.7 0.24 0.16 5 26 Ｅ 60 1.0 2.0 77.7 0.37 0.07 5 27 Ｅ 40 1.0 1.0 78.3 0.21 0.50 5 28 Ｅ 50 1.0 1.0 78.3 0.19 0.49 5 29 Ｅ 60 1.0 1.0 78.4 0.34 0.50 15 30 Ｅ 40 0.5 1.0 78.4 0.27 0.43 5 31 Ｅ 50 0.5 1.0 78.4 0.23 0.43 5 32 Ｅ 60 0.5 1.0 78.0 0.43 0.40 5 33 Ｅ 50 0.5 1.0 78.3 0.50 0.34 534 Ｅ 60 0.5 1.0 78.9 0.45 0.32 5
【００６７】すべての場合で汚れおよび修正コントラス
トに関して良好な値が達成されている。負の数値は、現
像工程で、感光層が除去されただけではなく、基材表面
も洗浄されたことを意味し、これは利点と考えるべきで
ある。親水性も他の場合と同様に良好である。

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】塩基性および酸性の根源部を有する少なく
    とも１種の重合体を含んでなる親水性付与層を有する、
    機械的および／または電気化学的に粗面化され、必要で
    あれば陽極酸化された、アルミニウムまたはその合金の
    基材であって、この親水性付与層が２成分の混合物を含
    んでなり、この２成分の一方がアミノ酸からなる群に属
    し、他方が塩基性および酸性の根源部を有する重合体に
    属することを特徴とする基材。
  2. 【請求項２】塩基性および酸性の根源部を含む重合体の
    塩基性根源部が、第１級、第２級または第３級アミノ基
    であり、酸性根源部がカルボキシル、ホスホノまたはス
    ルホ基である、請求項１に記載の基材。
  3. 【請求項３】塩基性および酸性の根源部を有する重合体
    のpHが４〜９である、請求項１または２に記載の基材。
  4. 【請求項４】塩基性および酸性の根源部を有する重合体
    のpHが４．５〜７．５である、請求項３に記載の基材。
  5. 【請求項５】一方の成分が、スルホメチル化またはホス
    ホノメチル化されたポリエチレンイミンおよびポリビニ
    ルアミンからなる群から選択される、請求項１に記載の
    基材。
  6. 【請求項６】一方の成分が、置換されたアミノアクリレ
    ート、ビニルピロリドンおよびビニルイミダゾールから
    なる群から選択された共重合体またはターポリマーであ
    る、請求項１に記載の基材。
  7. 【請求項７】他方の成分が、単塩基性アミノ酸、例えば
    グリシン、アミノヘキサン酸、アミノ安息香酸、ジアミ
    ノ安息香酸およびロイシン、からなる群から選択され
    る、請求項１に記載の基材。
  8. 【請求項８】一工程製法において、２成分を含む親水性
    付与層を、水溶液で、機械的および／または電気化学的
    に粗面化され、必要であれば陽極酸化された、アルミニ
    ウムまたはその合金の基材に塗布されることを特徴とす
    る請求項１〜７のいずれか１項に記載の基材の製造法。
  9. 【請求項９】親水性付与層が、水溶液の噴霧または水溶
    液中への浸漬により塗布される、請求項８に記載の方
    法。
  10. 【請求項１０】親水性付与が、温度２０〜９５℃、特に
    ３０〜６５℃、の親水性付与層で行なわれる、請求項８
    または９に記載の方法。
  11. 【請求項１１】親水性付与層の水溶液の濃度が０．１〜
    ５０ g/l、特に０．３〜５ g/l、である、請求項８また
    は９に記載の方法。
  12. 【請求項１２】親水性付与層を塗布した後、過剰の親水
    性付与層を洗い流し、次いで被覆した基材を温度１００
    〜１３０℃で乾燥させる、請求項８〜１０のいずれか１
    項に記載の方法。
  13. 【請求項１３】基材上への噴霧時間または基材の浸漬時
    間が１秒間〜５分間である、請求項９に記載の方法。
  14. 【請求項１４】請求項８〜１３のいずれか１項に記載の
    方法により親水性付与され、放射線感応性層で被覆され
    たアルミニウムまたはその合金の基材を有する記録材
    料。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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ZA6807938B (ja) 1967-12-04
DE3126636A1 (de) 1981-07-06 1983-01-27 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Hydrophilierte traegermaterialien fuer offsetdruckplatten, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE3569703D1 (en) * 1984-01-17 1989-06-01 Fuji Photo Film Co Ltd Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer
DE3504331A1 (de) 1985-02-08 1986-08-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Hydrophilierte traegermaterialien fuer offsetdruckplatten, ein verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
DE3832032A1 (de) 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE4039920A1 (de) 1990-12-14 1992-06-17 Basf Ag Neue polyethylenimin- und polyvinylamin-derivate, mit diesen derivaten beschichtete traegermaterialien auf der basis von aluminium sowie deren verwendung zur herstellung von offsetdruckplatten
JPH06247070A (ja) * 1993-02-25 1994-09-06 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム支持体

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