JPH09208525A - サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法 - Google Patents
サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法Info
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- JPH09208525A JPH09208525A JP1334896A JP1334896A JPH09208525A JP H09208525 A JPH09208525 A JP H09208525A JP 1334896 A JP1334896 A JP 1334896A JP 1334896 A JP1334896 A JP 1334896A JP H09208525 A JPH09208525 A JP H09208525A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】新規なサリチル酸エステル誘導体及びその製造
法、特に紫外線照射による光開始剤としての機能と紫外
線吸収剤としての機能の2つの機能を発現する物として
有用なサリチル酸エステル誘導体とその製法を提供す
る。 【解決手段】サリチル酸のフェニルエステルの−OH基
をアクリル酸ハライドと反応させて得られるフェニル−
2−アクリロイルオキシベンゾエ−トは新規な化合物で
あり、かつ紫外線照射による光開始剤としての機能と紫
外線吸収剤としての機能の2つの機能を発現する物とし
て有用である。
法、特に紫外線照射による光開始剤としての機能と紫外
線吸収剤としての機能の2つの機能を発現する物として
有用なサリチル酸エステル誘導体とその製法を提供す
る。 【解決手段】サリチル酸のフェニルエステルの−OH基
をアクリル酸ハライドと反応させて得られるフェニル−
2−アクリロイルオキシベンゾエ−トは新規な化合物で
あり、かつ紫外線照射による光開始剤としての機能と紫
外線吸収剤としての機能の2つの機能を発現する物とし
て有用である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なサリチル酸
フェニル誘導体及びその製造法に関する。
フェニル誘導体及びその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、紫外線照射による光開始剤として
機能を有する化合物としては、ベンゾフェノン系化合物
(4−ヒドロキシベンゾフェノン)、ベンゾインアルキ
ルエ−テル系化合物、アントラキノン系化合物、ケタ−
ル系化合物、チオキサントン系化合物、が知られてい
る。しかしながら、これらの化合物は紫外線吸収剤とし
ての機能を有していない。
機能を有する化合物としては、ベンゾフェノン系化合物
(4−ヒドロキシベンゾフェノン)、ベンゾインアルキ
ルエ−テル系化合物、アントラキノン系化合物、ケタ−
ル系化合物、チオキサントン系化合物、が知られてい
る。しかしながら、これらの化合物は紫外線吸収剤とし
ての機能を有していない。
【0003】また、紫外線吸収剤としての機能を有する
化合物としては、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾ
フェノン系化合物(2−ヒドロキシベンゾフェノン)、
ベンゾトリアゾ−ル系化合物、ベンゾエ−ト系化合物、
シアノアクリレ−ト系化合物が知られている。しかしな
がら、これらの化合物は紫外線による光開始剤としての
機能を有していない。
化合物としては、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾ
フェノン系化合物(2−ヒドロキシベンゾフェノン)、
ベンゾトリアゾ−ル系化合物、ベンゾエ−ト系化合物、
シアノアクリレ−ト系化合物が知られている。しかしな
がら、これらの化合物は紫外線による光開始剤としての
機能を有していない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規なサリ
チル酸エステル誘導体及びその製造法、特に紫外線照射
による光開始剤としての機能と紫外線吸収剤としての機
能の2つの機能を発現する物質として有用なサリチル酸
エステル誘導体とその製法を提供することを目的とする
ものである。
チル酸エステル誘導体及びその製造法、特に紫外線照射
による光開始剤としての機能と紫外線吸収剤としての機
能の2つの機能を発現する物質として有用なサリチル酸
エステル誘導体とその製法を提供することを目的とする
ものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、鋭意研究した結果、本発明を完成させた。 すなわ
ち、本発明のうち請求項1記載の発明は、一般式
(1):
め、鋭意研究した結果、本発明を完成させた。 すなわ
ち、本発明のうち請求項1記載の発明は、一般式
(1):
【化3】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示されるサリチル酸フェニル誘導体であ
る。ここで、一般式(1)において、Rとして用いられ
るアルキル基としては、メチル基、エチル基等が例示で
きる。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基等
が例示できる。
シ基を表す)で示されるサリチル酸フェニル誘導体であ
る。ここで、一般式(1)において、Rとして用いられ
るアルキル基としては、メチル基、エチル基等が例示で
きる。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基等
が例示できる。
【0006】本発明の一般式(1)で示されるサリチル
酸フェニル誘導体は、紫外線照射による光開始剤として
の機能と紫外線吸収剤としての機能の2つの機能を有す
る。かかる2機能の発現は、該誘導体が紫外線照射によ
り紫外線を吸収して、一般式(3):
酸フェニル誘導体は、紫外線照射による光開始剤として
の機能と紫外線吸収剤としての機能の2つの機能を有す
る。かかる2機能の発現は、該誘導体が紫外線照射によ
り紫外線を吸収して、一般式(3):
【化4】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示される化合物及び一般式(4):
シ基を表す)で示される化合物及び一般式(4):
【化5】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示される化合物に光フリ−ス転位して、
前者が光開始剤としての機能をそして後者が紫外線吸収
剤としての機能を夫々発揮することによると考えられ
る。
シ基を表す)で示される化合物に光フリ−ス転位して、
前者が光開始剤としての機能をそして後者が紫外線吸収
剤としての機能を夫々発揮することによると考えられ
る。
【0007】加えて、本発明に係るサリチル酸フェニル
誘導体は、種々の重合性オリゴマ−、モノマ−との相溶
性に優れている。その結果、この誘導体は、塗料、成形
材料等の成分として好適に使用でき、光開始剤として作
用すると共に、硬化後は紫外線吸収剤としても作用す
る。
誘導体は、種々の重合性オリゴマ−、モノマ−との相溶
性に優れている。その結果、この誘導体は、塗料、成形
材料等の成分として好適に使用でき、光開始剤として作
用すると共に、硬化後は紫外線吸収剤としても作用す
る。
【0008】また、請求項2記載の発明は、Rが水素原
子である請求項1記載のサリチル酸フェニル誘導体であ
ることを特徴とする。
子である請求項1記載のサリチル酸フェニル誘導体であ
ることを特徴とする。
【0009】これは、請求項1記載のサリチル酸フェニ
ル誘導体のRが水素原子である場合であり、新規化合物
であると共に、前記光開始剤と紫外線吸収剤の2つの機
能を有する。
ル誘導体のRが水素原子である場合であり、新規化合物
であると共に、前記光開始剤と紫外線吸収剤の2つの機
能を有する。
【0010】また、請求項3記載の発明は、一般式
(2):
(2):
【化6】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示される化合物をアクリル酸ハライドと
反応させることを特徴とする請求項1記載のサリチル酸
フェニル誘導体の製造法である。
シ基を表す)で示される化合物をアクリル酸ハライドと
反応させることを特徴とする請求項1記載のサリチル酸
フェニル誘導体の製造法である。
【0011】この発明は、新規なサリチル酸フェニル誘
導体の製造法であり、新規である。ここで、一般式
(2)において、Rとして用いられるアルキル基として
は、メチル基、エチル基等が、アルコキシ基としてはメ
トキシ基、エトキシ基等が例示できる。
導体の製造法であり、新規である。ここで、一般式
(2)において、Rとして用いられるアルキル基として
は、メチル基、エチル基等が、アルコキシ基としてはメ
トキシ基、エトキシ基等が例示できる。
【0012】
【実施の形態】以下、本発明の実施の形態について説明
する。
する。
【0013】本発明の一般式(1)で示されるサリチル
酸フェニル誘導体としては、フェニル−2−アクリロイ
ルオキシベンゾエ−ト、フェニル−2−アクロリイルオ
キシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−アクリ
ロイルオキシ−4−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2
−アクリロイルオキシ−5−メチルベンゾエ−ト、フェ
ニル−2−アクリロイルオキシ−3−メトキシベンゾエ
−ト等が例示される。本発明に係るこれらのサルチル酸
フェニル誘導体は、フェニル−2−ヒドロキシベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−3−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−4−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−3−メトキシベンゾ
エ−ト等の一般式(2)で示される化合物のそれぞれ
を、アルカリ又は第3級アミン存在下に、アクリル酸ハ
ライドと反応させることにより得ることができる。
酸フェニル誘導体としては、フェニル−2−アクリロイ
ルオキシベンゾエ−ト、フェニル−2−アクロリイルオ
キシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−アクリ
ロイルオキシ−4−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2
−アクリロイルオキシ−5−メチルベンゾエ−ト、フェ
ニル−2−アクリロイルオキシ−3−メトキシベンゾエ
−ト等が例示される。本発明に係るこれらのサルチル酸
フェニル誘導体は、フェニル−2−ヒドロキシベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−3−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−4−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−3−メトキシベンゾ
エ−ト等の一般式(2)で示される化合物のそれぞれ
を、アルカリ又は第3級アミン存在下に、アクリル酸ハ
ライドと反応させることにより得ることができる。
【0014】アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等が、第3級アミンとしては、トリエチル
アミン、ピリジン等が、アクリル酸ハライドとしてはア
クリル酸クロリド、アクリル酸ブロミド等が例示され
る。
酸化カリウム等が、第3級アミンとしては、トリエチル
アミン、ピリジン等が、アクリル酸ハライドとしてはア
クリル酸クロリド、アクリル酸ブロミド等が例示され
る。
【0015】反応は、前記一般式(2)で示される化合
物とアルカリ水溶液との混合溶液又は該一般式(2)で
示される化合物と第3級アミンと有機溶剤との混合溶液
を0〜5℃に維持しながら、その中にアクリル酸ハライ
ドを滴下して行えばよい。一般式(2)で示される化合
物1モルに対し、アクリル酸ハライドは1〜2モル、ア
ルカリ又は第3級アミンは1〜2モルのモル比で使用さ
れる。有機溶剤としては、トルエン、テトラヒドロフラ
ン等を使用すればよい。
物とアルカリ水溶液との混合溶液又は該一般式(2)で
示される化合物と第3級アミンと有機溶剤との混合溶液
を0〜5℃に維持しながら、その中にアクリル酸ハライ
ドを滴下して行えばよい。一般式(2)で示される化合
物1モルに対し、アクリル酸ハライドは1〜2モル、ア
ルカリ又は第3級アミンは1〜2モルのモル比で使用さ
れる。有機溶剤としては、トルエン、テトラヒドロフラ
ン等を使用すればよい。
【0016】このようにして製造された、フェニル−2
−アクリロイルオキシベンゾエ−ト、フェニル−2−ア
クリロイルオキシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル
−2−アクリロイルオキシ−4−メチルベンゾエ−ト、
フェニル−2−アクリロイルオキシ−5−メチルベンゾ
エ−ト、フェニル−2−アクリロイルオキシ−3−メト
キシベンゾエ−ト等のサリチル酸フェニル誘導体は、前
記2機能を有すると共に、種々の重合性オリゴマ−、モ
ノマ−等との相溶性にも優れている。
−アクリロイルオキシベンゾエ−ト、フェニル−2−ア
クリロイルオキシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル
−2−アクリロイルオキシ−4−メチルベンゾエ−ト、
フェニル−2−アクリロイルオキシ−5−メチルベンゾ
エ−ト、フェニル−2−アクリロイルオキシ−3−メト
キシベンゾエ−ト等のサリチル酸フェニル誘導体は、前
記2機能を有すると共に、種々の重合性オリゴマ−、モ
ノマ−等との相溶性にも優れている。
【0017】したがって、塗料、成形材料等の成分とし
て好適に使用でき、前記2機能を備えた製品を提供でき
る。
て好適に使用でき、前記2機能を備えた製品を提供でき
る。
【0018】なお、上記重合性オリゴマ−、モノマ−の
具体例としては、下記の物質を示すことができる。
具体例としては、下記の物質を示すことができる。
【0019】1)ウレタンアクリレ−トオリゴマ−:例
えば、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−トとヘキサ
メチレンジイソシアネ−トとの付加反応により得られる
ウレタンアクリレ−トオリゴマ−である。
えば、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−トとヘキサ
メチレンジイソシアネ−トとの付加反応により得られる
ウレタンアクリレ−トオリゴマ−である。
【0020】2)ポリエステルアクリレ−トオリゴマ
−:例えば、アクリル酸とフタル酸、アジピン酸等の多
価カルボン酸とペンタエリスリト−ル、ジエチレングリ
コ−ル等の多価アルコ−ルとを共エステル化して得られ
るポリエステルアクリレ−トオリゴマ−である。
−:例えば、アクリル酸とフタル酸、アジピン酸等の多
価カルボン酸とペンタエリスリト−ル、ジエチレングリ
コ−ル等の多価アルコ−ルとを共エステル化して得られ
るポリエステルアクリレ−トオリゴマ−である。
【0021】3)エポキシアクリレ−トオリゴマ−:例
えば、ビスフェノ−ルAジグリシジルエ−テルとアクリ
ル酸との付加反応で得られるエポキシアクリレ−トオリ
ゴマ−である。
えば、ビスフェノ−ルAジグリシジルエ−テルとアクリ
ル酸との付加反応で得られるエポキシアクリレ−トオリ
ゴマ−である。
【0022】4)アクリレ−トモノマ−:例えば、アク
リロイルオキシ基を1個以上有するアクリレ−トモノマ
−、即ち、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、ヒドロキシ
プロピルアクリレ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジア
クリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、ポ
リアルキレングリコ−ルジアクリレ−ト、ネオペンチル
グリコ−ルジアクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパント
リアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−
ト、ペンタエリスリト−ルテトラアクリレ−ト、ジペン
タエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト等である。
リロイルオキシ基を1個以上有するアクリレ−トモノマ
−、即ち、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、ヒドロキシ
プロピルアクリレ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジア
クリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、ポ
リアルキレングリコ−ルジアクリレ−ト、ネオペンチル
グリコ−ルジアクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパント
リアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−
ト、ペンタエリスリト−ルテトラアクリレ−ト、ジペン
タエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト等である。
【0023】
【実施例】次に、実施例をもって、本発明をさらに具体
的に説明する。以下、「部」は「重量部」を意味する。
的に説明する。以下、「部」は「重量部」を意味する。
【0024】実施例:フェニル−2−アクリロイルオキ
シベンゾエ−トの製造 撹拌機、温度計、均圧管付き滴下ロ−トを備えた1リッ
トル丸底フラスコ内に、フェニル−2−ヒドロキシベン
ゾエ−ト64.2部、トリエチルアミン33.3部、及
びトルエン642部を仕込み、氷浴中0〜5℃において
撹拌しながらアクリル酸クロライド29.9部を、滴下
ロ−トより30分かけて滴下した。滴下後、2時間撹拌
を続けつつ反応させた。反応終了後、反応液を5%炭酸
ナトリウム水溶液500部で2回洗浄した。静置分液し
たトルエン層に無水硫酸マグネシウムを30部加え、一
昼夜放置後、無水硫酸マグネシウムを濾過した。続い
て、減圧下、40〜50℃でトルエンを除去し、粗反応
生成物70.5部を得た。次いでシクロヘキサン300
を加えて再結晶し目的の生成物64.3部(収率80
%)を得た。
シベンゾエ−トの製造 撹拌機、温度計、均圧管付き滴下ロ−トを備えた1リッ
トル丸底フラスコ内に、フェニル−2−ヒドロキシベン
ゾエ−ト64.2部、トリエチルアミン33.3部、及
びトルエン642部を仕込み、氷浴中0〜5℃において
撹拌しながらアクリル酸クロライド29.9部を、滴下
ロ−トより30分かけて滴下した。滴下後、2時間撹拌
を続けつつ反応させた。反応終了後、反応液を5%炭酸
ナトリウム水溶液500部で2回洗浄した。静置分液し
たトルエン層に無水硫酸マグネシウムを30部加え、一
昼夜放置後、無水硫酸マグネシウムを濾過した。続い
て、減圧下、40〜50℃でトルエンを除去し、粗反応
生成物70.5部を得た。次いでシクロヘキサン300
を加えて再結晶し目的の生成物64.3部(収率80
%)を得た。
【0025】該生成物の融点(溶け終り)は100.5
℃であり、下記の分光学的デ−タより、目的のフェニル
−2−アクリロイルオキシベンゾエ−トであることを確
認した。
℃であり、下記の分光学的デ−タより、目的のフェニル
−2−アクリロイルオキシベンゾエ−トであることを確
認した。
【0026】1H−NMRスペクトル(溶媒CDC
l3 、TMS内部基準) δ値(ppm):6.00(t,1H)、6.39
(d,2H)、7.00〜7.76(m,8H)、8.
12〜8.25(dd,1H) IRスペクトル(KBr) ν(cm1 ):3080(C−H)、1736(C=
O)、1633、1605、1483及び1446(C
=C)、1298、1246、1136及び1051
(C−O−C) 応用例 実施例で得たフェニル−2−アクリロイルオキシベンゾ
エ−ト5部、UA−306H(共栄社油脂工業(株)製
ウレタンアクリレ−トオリゴマ−)40部、EB−18
30(ダイセルUCB(株)製ポリエステルアクリレ−
トオリゴマ−)30部、A−400(新中村化学工業
(株)製ポリエチレングリコ−ル#400ジアクリレ−
ト)25部からなる組成物に、イソプロピルアルコ−ル
と酢酸ブチルとエチルセロソルブから成る混合溶剤(溶
剤組成の重量比:40/40/20)150部を加え、
不揮発分が40重量%になるように調整した。その調整
液を2mmの厚さのポリカ−ボネ−トシ−トにバ−N
o.16のバ−を使用してバ−コ−トし被膜を形成さ
せ、60℃で3分間乾燥させた。その後、当該シ−トを
空気中にて高圧水銀灯(アイグラフィックス社製、アイ
キュア−UE021−403C、500V、H02−L
41(2))を用いて100mmの距離から120W/
cm,5秒間紫外線を照射した。紫外線照射後の被膜の
硬度(鉛筆硬度)及び耐候性試験結果を表1に示す。
l3 、TMS内部基準) δ値(ppm):6.00(t,1H)、6.39
(d,2H)、7.00〜7.76(m,8H)、8.
12〜8.25(dd,1H) IRスペクトル(KBr) ν(cm1 ):3080(C−H)、1736(C=
O)、1633、1605、1483及び1446(C
=C)、1298、1246、1136及び1051
(C−O−C) 応用例 実施例で得たフェニル−2−アクリロイルオキシベンゾ
エ−ト5部、UA−306H(共栄社油脂工業(株)製
ウレタンアクリレ−トオリゴマ−)40部、EB−18
30(ダイセルUCB(株)製ポリエステルアクリレ−
トオリゴマ−)30部、A−400(新中村化学工業
(株)製ポリエチレングリコ−ル#400ジアクリレ−
ト)25部からなる組成物に、イソプロピルアルコ−ル
と酢酸ブチルとエチルセロソルブから成る混合溶剤(溶
剤組成の重量比:40/40/20)150部を加え、
不揮発分が40重量%になるように調整した。その調整
液を2mmの厚さのポリカ−ボネ−トシ−トにバ−N
o.16のバ−を使用してバ−コ−トし被膜を形成さ
せ、60℃で3分間乾燥させた。その後、当該シ−トを
空気中にて高圧水銀灯(アイグラフィックス社製、アイ
キュア−UE021−403C、500V、H02−L
41(2))を用いて100mmの距離から120W/
cm,5秒間紫外線を照射した。紫外線照射後の被膜の
硬度(鉛筆硬度)及び耐候性試験結果を表1に示す。
【0027】比較応用例1 フェニル−2−アクリロイルオキシベンゾエ−トを加え
なかった以外は応用例と同様にして、被膜を形成し紫外
線照射を行った。その結果を表1に示す。
なかった以外は応用例と同様にして、被膜を形成し紫外
線照射を行った。その結果を表1に示す。
【0028】比較応用例2 応用例で使用したフェニル−2−アクリロイルオキシベ
ンゾエ−トの代わりに光開始剤としてイルガキュア−1
84(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)
を使用した以外は、応用例と同様にして、硬化被膜を形
成し耐候性試験を行った。その結果を表1に示す。
ンゾエ−トの代わりに光開始剤としてイルガキュア−1
84(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)
を使用した以外は、応用例と同様にして、硬化被膜を形
成し耐候性試験を行った。その結果を表1に示す。
【0029】
【表1】 表1の応用例より本発明に係るサリチル酸フェニル誘導
体は紫外線照射により硬化被膜を与えること、すなわ
ち、光開始剤としての機能を有するものであることがわ
かる。また、本発明に係るサリチル酸フェニル誘導体を
使用した応用例の硬化被膜が、比較応用例2の硬化被膜
に比し、耐候性試験による黄変が抑制されていることか
ら、本発明の化合物は紫外線吸収剤としての機能を有す
るものであることがわかる。
体は紫外線照射により硬化被膜を与えること、すなわ
ち、光開始剤としての機能を有するものであることがわ
かる。また、本発明に係るサリチル酸フェニル誘導体を
使用した応用例の硬化被膜が、比較応用例2の硬化被膜
に比し、耐候性試験による黄変が抑制されていることか
ら、本発明の化合物は紫外線吸収剤としての機能を有す
るものであることがわかる。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(1): 【化1】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示されるサリチル酸フェニル誘導体。 - 【請求項2】 Rが水素原子である請求項1記載のサリ
チル酸フェニル誘導体。 - 【請求項3】 一般式(2): 【化2】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示される化合物をアクリル酸ハライドと
反応させることを特徴とする請求項1記載のサリチル酸
フェニル誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1334896A JPH09208525A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1334896A JPH09208525A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09208525A true JPH09208525A (ja) | 1997-08-12 |
Family
ID=11830614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1334896A Pending JPH09208525A (ja) | 1996-01-29 | 1996-01-29 | サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
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|---|---|
| JP (1) | JPH09208525A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009110496A1 (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | (メタ)アクリレート化合物、これを用いた硬化性組成物、光ナノインプリント用組成物、並びにこれらの硬化性組成物の硬化物およびその製造方法 |
| US20210002396A1 (en) * | 2018-05-04 | 2021-01-07 | Align Technology, Inc. | Polymerizable monomers and method of polymerizing the same |
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-
1996
- 1996-01-29 JP JP1334896A patent/JPH09208525A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009110496A1 (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-11 | 富士フイルム株式会社 | (メタ)アクリレート化合物、これを用いた硬化性組成物、光ナノインプリント用組成物、並びにこれらの硬化性組成物の硬化物およびその製造方法 |
| JP2009215179A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | (メタ)アクリレート化合物、これを用いた硬化性組成物、光ナノインプリント用組成物、並びにこれらの硬化性組成物の硬化物およびその製造方法 |
| US8282872B2 (en) | 2008-03-07 | 2012-10-09 | Fujifilm Corporation | (Meth)acrylate compound, curable composition using the same, curable composition for photo-nanoimprints, cured product of curable composition and method for manufacturing cured product |
| US12029623B2 (en) | 2015-07-07 | 2024-07-09 | Align Technology, Inc. | Dental materials using thermoset polymers |
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| US12152092B2 (en) * | 2018-05-04 | 2024-11-26 | Align Technology, Inc. | Polymerizable monomers and method of polymerizing the same |
| US12215223B2 (en) | 2019-10-31 | 2025-02-04 | Align Technology, Inc. | Crystallizable resins |
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