JPH09208525A - サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法 - Google Patents

サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法

Info

Publication number
JPH09208525A
JPH09208525A JP1334896A JP1334896A JPH09208525A JP H09208525 A JPH09208525 A JP H09208525A JP 1334896 A JP1334896 A JP 1334896A JP 1334896 A JP1334896 A JP 1334896A JP H09208525 A JPH09208525 A JP H09208525A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phenyl
formula
phenyl salicylate
salicylate derivative
compound represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1334896A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuho Mukai
哉須浦 向井
Takuhiko Jinno
卓彦 神野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koei Chemical Co Ltd
Original Assignee
Koei Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koei Chemical Co Ltd filed Critical Koei Chemical Co Ltd
Priority to JP1334896A priority Critical patent/JPH09208525A/ja
Publication of JPH09208525A publication Critical patent/JPH09208525A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】新規なサリチル酸エステル誘導体及びその製造
法、特に紫外線照射による光開始剤としての機能と紫外
線吸収剤としての機能の2つの機能を発現する物として
有用なサリチル酸エステル誘導体とその製法を提供す
る。 【解決手段】サリチル酸のフェニルエステルの−OH基
をアクリル酸ハライドと反応させて得られるフェニル−
2−アクリロイルオキシベンゾエ−トは新規な化合物で
あり、かつ紫外線照射による光開始剤としての機能と紫
外線吸収剤としての機能の2つの機能を発現する物とし
て有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なサリチル酸
フェニル誘導体及びその製造法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、紫外線照射による光開始剤として
機能を有する化合物としては、ベンゾフェノン系化合物
(4−ヒドロキシベンゾフェノン)、ベンゾインアルキ
ルエ−テル系化合物、アントラキノン系化合物、ケタ−
ル系化合物、チオキサントン系化合物、が知られてい
る。しかしながら、これらの化合物は紫外線吸収剤とし
ての機能を有していない。
【0003】また、紫外線吸収剤としての機能を有する
化合物としては、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾ
フェノン系化合物(2−ヒドロキシベンゾフェノン)、
ベンゾトリアゾ−ル系化合物、ベンゾエ−ト系化合物、
シアノアクリレ−ト系化合物が知られている。しかしな
がら、これらの化合物は紫外線による光開始剤としての
機能を有していない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規なサリ
チル酸エステル誘導体及びその製造法、特に紫外線照射
による光開始剤としての機能と紫外線吸収剤としての機
能の2つの機能を発現する物質として有用なサリチル酸
エステル誘導体とその製法を提供することを目的とする
ものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
め、鋭意研究した結果、本発明を完成させた。 すなわ
ち、本発明のうち請求項1記載の発明は、一般式
(1):
【化3】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示されるサリチル酸フェニル誘導体であ
る。ここで、一般式(1)において、Rとして用いられ
るアルキル基としては、メチル基、エチル基等が例示で
きる。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基等
が例示できる。
【0006】本発明の一般式(1)で示されるサリチル
酸フェニル誘導体は、紫外線照射による光開始剤として
の機能と紫外線吸収剤としての機能の2つの機能を有す
る。かかる2機能の発現は、該誘導体が紫外線照射によ
り紫外線を吸収して、一般式(3):
【化4】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示される化合物及び一般式(4):
【化5】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示される化合物に光フリ−ス転位して、
前者が光開始剤としての機能をそして後者が紫外線吸収
剤としての機能を夫々発揮することによると考えられ
る。
【0007】加えて、本発明に係るサリチル酸フェニル
誘導体は、種々の重合性オリゴマ−、モノマ−との相溶
性に優れている。その結果、この誘導体は、塗料、成形
材料等の成分として好適に使用でき、光開始剤として作
用すると共に、硬化後は紫外線吸収剤としても作用す
る。
【0008】また、請求項2記載の発明は、Rが水素原
子である請求項1記載のサリチル酸フェニル誘導体であ
ることを特徴とする。
【0009】これは、請求項1記載のサリチル酸フェニ
ル誘導体のRが水素原子である場合であり、新規化合物
であると共に、前記光開始剤と紫外線吸収剤の2つの機
能を有する。
【0010】また、請求項3記載の発明は、一般式
(2):
【化6】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
シ基を表す)で示される化合物をアクリル酸ハライドと
反応させることを特徴とする請求項1記載のサリチル酸
フェニル誘導体の製造法である。
【0011】この発明は、新規なサリチル酸フェニル誘
導体の製造法であり、新規である。ここで、一般式
(2)において、Rとして用いられるアルキル基として
は、メチル基、エチル基等が、アルコキシ基としてはメ
トキシ基、エトキシ基等が例示できる。
【0012】
【実施の形態】以下、本発明の実施の形態について説明
する。
【0013】本発明の一般式(1)で示されるサリチル
酸フェニル誘導体としては、フェニル−2−アクリロイ
ルオキシベンゾエ−ト、フェニル−2−アクロリイルオ
キシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2−アクリ
ロイルオキシ−4−メチルベンゾエ−ト、フェニル−2
−アクリロイルオキシ−5−メチルベンゾエ−ト、フェ
ニル−2−アクリロイルオキシ−3−メトキシベンゾエ
−ト等が例示される。本発明に係るこれらのサルチル酸
フェニル誘導体は、フェニル−2−ヒドロキシベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−3−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−4−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンゾエ
−ト、フェニル−2−ヒドロキシ−3−メトキシベンゾ
エ−ト等の一般式(2)で示される化合物のそれぞれ
を、アルカリ又は第3級アミン存在下に、アクリル酸ハ
ライドと反応させることにより得ることができる。
【0014】アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等が、第3級アミンとしては、トリエチル
アミン、ピリジン等が、アクリル酸ハライドとしてはア
クリル酸クロリド、アクリル酸ブロミド等が例示され
る。
【0015】反応は、前記一般式(2)で示される化合
物とアルカリ水溶液との混合溶液又は該一般式(2)で
示される化合物と第3級アミンと有機溶剤との混合溶液
を0〜5℃に維持しながら、その中にアクリル酸ハライ
ドを滴下して行えばよい。一般式(2)で示される化合
物1モルに対し、アクリル酸ハライドは1〜2モル、ア
ルカリ又は第3級アミンは1〜2モルのモル比で使用さ
れる。有機溶剤としては、トルエン、テトラヒドロフラ
ン等を使用すればよい。
【0016】このようにして製造された、フェニル−2
−アクリロイルオキシベンゾエ−ト、フェニル−2−ア
クリロイルオキシ−3−メチルベンゾエ−ト、フェニル
−2−アクリロイルオキシ−4−メチルベンゾエ−ト、
フェニル−2−アクリロイルオキシ−5−メチルベンゾ
エ−ト、フェニル−2−アクリロイルオキシ−3−メト
キシベンゾエ−ト等のサリチル酸フェニル誘導体は、前
記2機能を有すると共に、種々の重合性オリゴマ−、モ
ノマ−等との相溶性にも優れている。
【0017】したがって、塗料、成形材料等の成分とし
て好適に使用でき、前記2機能を備えた製品を提供でき
る。
【0018】なお、上記重合性オリゴマ−、モノマ−の
具体例としては、下記の物質を示すことができる。
【0019】1)ウレタンアクリレ−トオリゴマ−:例
えば、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−トとヘキサ
メチレンジイソシアネ−トとの付加反応により得られる
ウレタンアクリレ−トオリゴマ−である。
【0020】2)ポリエステルアクリレ−トオリゴマ
−:例えば、アクリル酸とフタル酸、アジピン酸等の多
価カルボン酸とペンタエリスリト−ル、ジエチレングリ
コ−ル等の多価アルコ−ルとを共エステル化して得られ
るポリエステルアクリレ−トオリゴマ−である。
【0021】3)エポキシアクリレ−トオリゴマ−:例
えば、ビスフェノ−ルAジグリシジルエ−テルとアクリ
ル酸との付加反応で得られるエポキシアクリレ−トオリ
ゴマ−である。
【0022】4)アクリレ−トモノマ−:例えば、アク
リロイルオキシ基を1個以上有するアクリレ−トモノマ
−、即ち、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、ヒドロキシ
プロピルアクリレ−ト、1,6−ヘキサンジオ−ルジア
クリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、ポ
リアルキレングリコ−ルジアクリレ−ト、ネオペンチル
グリコ−ルジアクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパント
リアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−
ト、ペンタエリスリト−ルテトラアクリレ−ト、ジペン
タエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト等である。
【0023】
【実施例】次に、実施例をもって、本発明をさらに具体
的に説明する。以下、「部」は「重量部」を意味する。
【0024】実施例:フェニル−2−アクリロイルオキ
シベンゾエ−トの製造 撹拌機、温度計、均圧管付き滴下ロ−トを備えた1リッ
トル丸底フラスコ内に、フェニル−2−ヒドロキシベン
ゾエ−ト64.2部、トリエチルアミン33.3部、及
びトルエン642部を仕込み、氷浴中0〜5℃において
撹拌しながらアクリル酸クロライド29.9部を、滴下
ロ−トより30分かけて滴下した。滴下後、2時間撹拌
を続けつつ反応させた。反応終了後、反応液を5%炭酸
ナトリウム水溶液500部で2回洗浄した。静置分液し
たトルエン層に無水硫酸マグネシウムを30部加え、一
昼夜放置後、無水硫酸マグネシウムを濾過した。続い
て、減圧下、40〜50℃でトルエンを除去し、粗反応
生成物70.5部を得た。次いでシクロヘキサン300
を加えて再結晶し目的の生成物64.3部(収率80
%)を得た。
【0025】該生成物の融点(溶け終り)は100.5
℃であり、下記の分光学的デ−タより、目的のフェニル
−2−アクリロイルオキシベンゾエ−トであることを確
認した。
【0026】1H−NMRスペクトル(溶媒CDC
3 、TMS内部基準) δ値(ppm):6.00(t,1H)、6.39
(d,2H)、7.00〜7.76(m,8H)、8.
12〜8.25(dd,1H) IRスペクトル(KBr) ν(cm1 ):3080(C−H)、1736(C=
O)、1633、1605、1483及び1446(C
=C)、1298、1246、1136及び1051
(C−O−C) 応用例 実施例で得たフェニル−2−アクリロイルオキシベンゾ
エ−ト5部、UA−306H(共栄社油脂工業(株)製
ウレタンアクリレ−トオリゴマ−)40部、EB−18
30(ダイセルUCB(株)製ポリエステルアクリレ−
トオリゴマ−)30部、A−400(新中村化学工業
(株)製ポリエチレングリコ−ル#400ジアクリレ−
ト)25部からなる組成物に、イソプロピルアルコ−ル
と酢酸ブチルとエチルセロソルブから成る混合溶剤(溶
剤組成の重量比:40/40/20)150部を加え、
不揮発分が40重量%になるように調整した。その調整
液を2mmの厚さのポリカ−ボネ−トシ−トにバ−N
o.16のバ−を使用してバ−コ−トし被膜を形成さ
せ、60℃で3分間乾燥させた。その後、当該シ−トを
空気中にて高圧水銀灯(アイグラフィックス社製、アイ
キュア−UE021−403C、500V、H02−L
41(2))を用いて100mmの距離から120W/
cm,5秒間紫外線を照射した。紫外線照射後の被膜の
硬度(鉛筆硬度)及び耐候性試験結果を表1に示す。
【0027】比較応用例1 フェニル−2−アクリロイルオキシベンゾエ−トを加え
なかった以外は応用例と同様にして、被膜を形成し紫外
線照射を行った。その結果を表1に示す。
【0028】比較応用例2 応用例で使用したフェニル−2−アクリロイルオキシベ
ンゾエ−トの代わりに光開始剤としてイルガキュア−1
84(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)
を使用した以外は、応用例と同様にして、硬化被膜を形
成し耐候性試験を行った。その結果を表1に示す。
【0029】
【表1】 表1の応用例より本発明に係るサリチル酸フェニル誘導
体は紫外線照射により硬化被膜を与えること、すなわ
ち、光開始剤としての機能を有するものであることがわ
かる。また、本発明に係るサリチル酸フェニル誘導体を
使用した応用例の硬化被膜が、比較応用例2の硬化被膜
に比し、耐候性試験による黄変が抑制されていることか
ら、本発明の化合物は紫外線吸収剤としての機能を有す
るものであることがわかる。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1): 【化1】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
    シ基を表す)で示されるサリチル酸フェニル誘導体。
  2. 【請求項2】 Rが水素原子である請求項1記載のサリ
    チル酸フェニル誘導体。
  3. 【請求項3】 一般式(2): 【化2】 (但し、式中、Rは水素原子、アルキル基又はアルコキ
    シ基を表す)で示される化合物をアクリル酸ハライドと
    反応させることを特徴とする請求項1記載のサリチル酸
    フェニル誘導体の製造法。
JP1334896A 1996-01-29 1996-01-29 サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法 Pending JPH09208525A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1334896A JPH09208525A (ja) 1996-01-29 1996-01-29 サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1334896A JPH09208525A (ja) 1996-01-29 1996-01-29 サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09208525A true JPH09208525A (ja) 1997-08-12

Family

ID=11830614

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1334896A Pending JPH09208525A (ja) 1996-01-29 1996-01-29 サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09208525A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009110496A1 (ja) * 2008-03-07 2009-09-11 富士フイルム株式会社 (メタ)アクリレート化合物、これを用いた硬化性組成物、光ナノインプリント用組成物、並びにこれらの硬化性組成物の硬化物およびその製造方法
US20210002396A1 (en) * 2018-05-04 2021-01-07 Align Technology, Inc. Polymerizable monomers and method of polymerizing the same
US12029623B2 (en) 2015-07-07 2024-07-09 Align Technology, Inc. Dental materials using thermoset polymers
US12042353B2 (en) 2018-05-04 2024-07-23 Align Technology, Inc. Curable composition for use in a high temperature lithography-based photopolymerization process and method of producing crosslinked polymers therefrom
US12215223B2 (en) 2019-10-31 2025-02-04 Align Technology, Inc. Crystallizable resins

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009110496A1 (ja) * 2008-03-07 2009-09-11 富士フイルム株式会社 (メタ)アクリレート化合物、これを用いた硬化性組成物、光ナノインプリント用組成物、並びにこれらの硬化性組成物の硬化物およびその製造方法
JP2009215179A (ja) * 2008-03-07 2009-09-24 Fujifilm Corp (メタ)アクリレート化合物、これを用いた硬化性組成物、光ナノインプリント用組成物、並びにこれらの硬化性組成物の硬化物およびその製造方法
US8282872B2 (en) 2008-03-07 2012-10-09 Fujifilm Corporation (Meth)acrylate compound, curable composition using the same, curable composition for photo-nanoimprints, cured product of curable composition and method for manufacturing cured product
US12029623B2 (en) 2015-07-07 2024-07-09 Align Technology, Inc. Dental materials using thermoset polymers
US20210002396A1 (en) * 2018-05-04 2021-01-07 Align Technology, Inc. Polymerizable monomers and method of polymerizing the same
US12042353B2 (en) 2018-05-04 2024-07-23 Align Technology, Inc. Curable composition for use in a high temperature lithography-based photopolymerization process and method of producing crosslinked polymers therefrom
US12152092B2 (en) * 2018-05-04 2024-11-26 Align Technology, Inc. Polymerizable monomers and method of polymerizing the same
US12215223B2 (en) 2019-10-31 2025-02-04 Align Technology, Inc. Crystallizable resins

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5594510B2 (ja) 9,10−ビス(置換カルボニルオキシ)アントラセン化合物及びそれを含有する光ラジカル重合開始剤。
JP2514804B2 (ja) 共重合性光開始剤
KR20160119224A (ko) 비스옥심 에스테르 광개시제, 및 그의 제조방법과 용도
WO2014109303A1 (ja) アントラセン化合物及びその光重合増感剤としての用途
JP6695567B2 (ja) 9,10−ビス{2−(置換アミノカルボニルオキシ)アルコキシ}アントラセン化合物、その製造法及びその用途
JP2014031346A (ja) 9,10−ビス(2−アシルオキシアルコキシ)アントラセン化合物、その製造法及びその用途
JP2764324B2 (ja) ポリカーボネートアクリレート樹脂またはポリカーボネートメタクリレート樹脂の製造方法
JPH09208525A (ja) サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法
JPS62201859A (ja) 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法
JPH03247618A (ja) 紫外線硬化型耐熱性ウレタンアクリレート
JP2018002630A (ja) 光重合増感剤
JP6004784B2 (ja) 新規な四価アルコールのエステル
JPS5867702A (ja) 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法
CN105199018B (zh) 肟酯类光引发剂及其制备和应用
JP5564824B2 (ja) アントラセン−9,10−ジエーテル化合物、その製造法及びその重合物
JP2009280546A (ja) 9,10−エタノアントラセン骨格を有する新規なジ(メタ)アクリレート化合物及びその製造法
JPH1072404A (ja) ソルビトールの(メタ)アクリル酸エステル及びその製法
JP2000154169A (ja) (メタ)アクリル酸エステルならびにその製造方法
JPH0569096B2 (ja)
JP3888163B2 (ja) 変性(メタ)アクリレート化合物
JP2514455B2 (ja) 分子内に二重結合と三重結合を含有するカ―ボネ―ト化合物
JP5177374B2 (ja) (メタ)アクリル酸エステルおよびその製造方法
JPH10259202A (ja) サイクロデキストリンの(メタ)アクリル酸エステルの製法及びサイクロデキストリンの(メタ)アクリル酸エステル
TWI648249B (zh) 反應促進劑、以及使用其之胺甲酸乙酯化合物、硫基胺甲酸乙酯化合物、醯胺化合物或尿素化合物之製造方法
JP4929663B2 (ja) 重合性化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Effective date: 20060914

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20061010

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061207

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070109