JPS5867702A - 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents
光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5867702A JPS5867702A JP16776381A JP16776381A JPS5867702A JP S5867702 A JPS5867702 A JP S5867702A JP 16776381 A JP16776381 A JP 16776381A JP 16776381 A JP16776381 A JP 16776381A JP S5867702 A JPS5867702 A JP S5867702A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- group
- derivative
- polyvinyl acetate
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 title claims abstract description 21
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 title claims abstract description 20
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 claims abstract description 24
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Chemical class CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims abstract description 7
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims abstract description 6
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims abstract description 6
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 claims description 10
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- -1 2,2-dimethoxyethyl cinnamide Chemical class 0.000 abstract description 25
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract description 15
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 abstract description 13
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 abstract description 5
- WOGITNXCNOTRLK-VOTSOKGWSA-N (e)-3-phenylprop-2-enoyl chloride Chemical compound ClC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WOGITNXCNOTRLK-VOTSOKGWSA-N 0.000 abstract description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 4
- QKWWDTYDYOFRJL-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxyethanamine Chemical compound COC(CN)OC QKWWDTYDYOFRJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 125000002485 formyl group Chemical class [H]C(*)=O 0.000 abstract 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 abstract 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229940113088 dimethylacetamide Drugs 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 5-Nitroacenaphthene Chemical compound C1CC2=CC=CC3=C2C1=CC=C3[N+](=O)[O-] CUARLQDWYSRQDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 6
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- SKACCCDFHQZGIA-UHFFFAOYSA-N n-(4-nitronaphthalen-1-yl)acetamide Chemical compound C1=CC=C2C(NC(=O)C)=CC=C([N+]([O-])=O)C2=C1 SKACCCDFHQZGIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 4
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 3
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004847 absorption spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 2
- IAHOUQOWMXVMEH-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trinitroaniline Chemical compound NC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O IAHOUQOWMXVMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LILXDMFJXYAKMK-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,1-diethoxyethane Chemical compound CCOC(CBr)OCC LILXDMFJXYAKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrachloro-3',6'-dihydroxy-2',4',5',7'-tetraiodospiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C(C(=C(Cl)C(Cl)=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 IICCLYANAQEHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100356682 Caenorhabditis elegans rho-1 gene Proteins 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- SKZKKFZAGNVIMN-UHFFFAOYSA-N Salicilamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1O SKZKKFZAGNVIMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UATOFRZSCHRPBG-UHFFFAOYSA-N acetamide;hydrate Chemical compound O.CC(N)=O UATOFRZSCHRPBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229940047583 cetamide Drugs 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- FATAVLOOLIRUNA-UHFFFAOYSA-N formylmethyl Chemical group [CH2]C=O FATAVLOOLIRUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011907 photodimerization Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- IWHVCHNCTHGORM-UHDJGPCESA-M potassium;(e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 IWHVCHNCTHGORM-UHDJGPCESA-M 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229930187593 rose bengal Natural products 0.000 description 1
- 229940081623 rose bengal Drugs 0.000 description 1
- STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N rose bengal A Natural products O1C(=O)C(C(=CC=C2Cl)Cl)=C2C21C1=CC(I)=C(O)C(I)=C1OC1=C(I)C(O)=C(I)C=C21 STRXNPAVPKGJQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- APEJMQOBVMLION-VOTSOKGWSA-N trans-cinnamamide Chemical compound NC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 APEJMQOBVMLION-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N vanillin Chemical compound COC1=CC(C=O)=CC=C1O MWOOGOJBHIARFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N vanillin Natural products COC1=CC(O)=CC(C=O)=C1 FGQOOHJZONJGDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012141 vanillin Nutrition 0.000 description 1
Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光により不溶化する新規なポリビニルアルコ
ール誘導体及びその製造方法に関するものであり、さら
に詳しくいえば、低い感光性官能基含有率でも高感度を
示し、フォトレジスト、感光性ビヒクル、酵素固定用基
材などとして使用しつる新規な光不溶化性ポリビニルア
ルコール誘導体及びその製造方法に関するものである。
ール誘導体及びその製造方法に関するものであり、さら
に詳しくいえば、低い感光性官能基含有率でも高感度を
示し、フォトレジスト、感光性ビヒクル、酵素固定用基
材などとして使用しつる新規な光不溶化性ポリビニルア
ルコール誘導体及びその製造方法に関するものである。
近年、感光性樹脂はフォトレジストとして、例えば平版
、曲板、グラビアなどの製版用画像レジスト、プリント
配線、集積回路、シャドーマスクなどの腐食加工用レジ
スト、あるいは感光性塗料フェスやガラスの接着剤など
として広く用いられており、またフォトレジスト用に限
らす、塗料や印刷インキの感光性ビヒクル、感光性樹脂
曲板や樹脂板の母型用基材、あるいは酵素固定用基材な
どとして用いられている。
、曲板、グラビアなどの製版用画像レジスト、プリント
配線、集積回路、シャドーマスクなどの腐食加工用レジ
スト、あるいは感光性塗料フェスやガラスの接着剤など
として広く用いられており、またフォトレジスト用に限
らす、塗料や印刷インキの感光性ビヒクル、感光性樹脂
曲板や樹脂板の母型用基材、あるいは酵素固定用基材な
どとして用いられている。
従来、感光性樹脂としてはアジF基、シンナモイル基、
アクリロイル基などの感光性官能基を有するも・のが知
られているoしかしながら、これらの感光性官能基は低
感度であるために樹脂中に多量導入することが必要であ
って、通常重合体の繰り返し単位当り50〜100モル
係の割合で導入せねばならず、このためコスト高となる
欠点を有しており、必ずしも満足しうるものではない。
アクリロイル基などの感光性官能基を有するも・のが知
られているoしかしながら、これらの感光性官能基は低
感度であるために樹脂中に多量導入することが必要であ
って、通常重合体の繰り返し単位当り50〜100モル
係の割合で導入せねばならず、このためコスト高となる
欠点を有しており、必ずしも満足しうるものではない。
本発明者らは、このような従来の感光性樹脂のもつ欠点
を克服した新規な光不溶化性化合物を開ることにより、
その目的を達成しうろことを見出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った0 すなわち、本発明は、完全けん化又は部分けん化された
ポリ酢酸ビニルの繰り返し単位の一部が、一般式 (式中のRはアルキレン基又はフェニレン基、Xは酸素
原子又はイミノ基、nは1又は2の整数である) で示される単位で置換された構造を有する光不溶化性ポ
リビニルアルコール誘導体、及び完全けん化又は部分け
ん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式 (式中のR,X及びnは前記と同し意味をもっ)で示さ
れるアルデヒド又はそのアセタール誘導体を反応させて
、完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルの繰
り返し単位の一部が、一般式(+)で示される単位で置
換された構造を有する光不溶化性ポリビニルアルコール
誘導体を製造する方法、並びに完全けん化又は部分けん
化されたポリ酢酸ビニルの繰り返し単位の一部が、一般
式(1)で示される単位及び一般式 (式中のMは水素原子又はアルカリ金属原子でありフェ
ニル基は場合により不活性核置換基を有することがある
) で示される単位で置換された構造を有する光不溶(14
ポリビニルアルコ一ル誘導体、及び完全けん化又は部分
けん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式(n)で示され
るアルデヒド又はそのアセタール誘導体と、一般式 (式中のMは前記と同じ意味をもち、フェニル基は場合
により不活性核置換基を有することがある)で示される
ベンズアルデヒド又はそのアセタール誘導体とを反応さ
せて、完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニル
の繰り返し単位の一部が、一般式(1)で示される単位
及び一般式(恥で示される単位で置換された構造を有す
る光不溶化性ポリビニルアルコール誘導体を製造する方
法を提供するものである。
を克服した新規な光不溶化性化合物を開ることにより、
その目的を達成しうろことを見出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った0 すなわち、本発明は、完全けん化又は部分けん化された
ポリ酢酸ビニルの繰り返し単位の一部が、一般式 (式中のRはアルキレン基又はフェニレン基、Xは酸素
原子又はイミノ基、nは1又は2の整数である) で示される単位で置換された構造を有する光不溶化性ポ
リビニルアルコール誘導体、及び完全けん化又は部分け
ん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式 (式中のR,X及びnは前記と同し意味をもっ)で示さ
れるアルデヒド又はそのアセタール誘導体を反応させて
、完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルの繰
り返し単位の一部が、一般式(+)で示される単位で置
換された構造を有する光不溶化性ポリビニルアルコール
誘導体を製造する方法、並びに完全けん化又は部分けん
化されたポリ酢酸ビニルの繰り返し単位の一部が、一般
式(1)で示される単位及び一般式 (式中のMは水素原子又はアルカリ金属原子でありフェ
ニル基は場合により不活性核置換基を有することがある
) で示される単位で置換された構造を有する光不溶(14
ポリビニルアルコ一ル誘導体、及び完全けん化又は部分
けん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式(n)で示され
るアルデヒド又はそのアセタール誘導体と、一般式 (式中のMは前記と同じ意味をもち、フェニル基は場合
により不活性核置換基を有することがある)で示される
ベンズアルデヒド又はそのアセタール誘導体とを反応さ
せて、完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニル
の繰り返し単位の一部が、一般式(1)で示される単位
及び一般式(恥で示される単位で置換された構造を有す
る光不溶化性ポリビニルアルコール誘導体を製造する方
法を提供するものである。
本発明において原料として用いるけん化されたポリ酢酸
ビニルは、完全けん化されたものはもちろん、部分けん
化されたものも使用しうるが、水溶性を高めるために一
部未けん化のアセチル基を含有するものが好ましく、特
にアセチル基の含有−率が30モル係未満のものを用い
ることが望ましいO したがって、本発明の光不溶化性ポリビニルアルコール
誘導体は、一般式 (式中のR,X及びnは前記と同じ意味をもち、R1は
水素原子又はアセチル基若しくはその両方、k及び1は
自然数である) 又は一般式 (式中のR,Ri、X%に、l及びnは前記と同じ意味
をもち、mは自然数であ勺、スルホン酸基を有するフェ
ニル基は場合によシネ活性核置換基を有することがある
) で示される。
ビニルは、完全けん化されたものはもちろん、部分けん
化されたものも使用しうるが、水溶性を高めるために一
部未けん化のアセチル基を含有するものが好ましく、特
にアセチル基の含有−率が30モル係未満のものを用い
ることが望ましいO したがって、本発明の光不溶化性ポリビニルアルコール
誘導体は、一般式 (式中のR,X及びnは前記と同じ意味をもち、R1は
水素原子又はアセチル基若しくはその両方、k及び1は
自然数である) 又は一般式 (式中のR,Ri、X%に、l及びnは前記と同じ意味
をもち、mは自然数であ勺、スルホン酸基を有するフェ
ニル基は場合によシネ活性核置換基を有することがある
) で示される。
また、本発明に用いる完全けん化又は部分けん化された
ポリ酢酸ビニルは、平均重合度が200〜3000の範
囲のものが適当であり、特に目的とする化合物の取り扱
いなどの点から平均重合度が500〜2000の範囲の
ものが好適である。
ポリ酢酸ビニルは、平均重合度が200〜3000の範
囲のものが適当であり、特に目的とする化合物の取り扱
いなどの点から平均重合度が500〜2000の範囲の
ものが好適である。
本発明において感光性官能基を導入するために用いる一
般式(It)で表わされる化合物としては、例えば次に
示す化合物などが挙げられる。
般式(It)で表わされる化合物としては、例えば次に
示す化合物などが挙げられる。
(1)N−(フォルミルメチル)シンナミド(2)N−
(フォルミルメチル)シンナミリデンアセタミド (3) (フォルミルメチル)シンナマート(4)
4−フオルミルブチルシンナマート(5) フォル
ミルメチルシンナミリデンアセテート (6) 2−メトキシ−4−フオルミルフエヨルシン
ナマート (7) p−フォルミルフェニルシンナミリデンアセ
テート (s)(p−フォルミルフェニル)シンナマートこれら
化合物中に存在するフェニル基は、所望に応じ置換基、
例えばアルキル基、メトキシ基、シアン基及びニトロ基
などで置換されていてもよい0 また、上記化合物のアセタール誘導体も感光性官能基導
入成分として用いることができる0このアセタール誘導
体としては、例えばこれらアルデヒドのジメチルアセタ
ールやジエチルアセタールなどが挙げられる。
(フォルミルメチル)シンナミリデンアセタミド (3) (フォルミルメチル)シンナマート(4)
4−フオルミルブチルシンナマート(5) フォル
ミルメチルシンナミリデンアセテート (6) 2−メトキシ−4−フオルミルフエヨルシン
ナマート (7) p−フォルミルフェニルシンナミリデンアセ
テート (s)(p−フォルミルフェニル)シンナマートこれら
化合物中に存在するフェニル基は、所望に応じ置換基、
例えばアルキル基、メトキシ基、シアン基及びニトロ基
などで置換されていてもよい0 また、上記化合物のアセタール誘導体も感光性官能基導
入成分として用いることができる0このアセタール誘導
体としては、例えばこれらアルデヒドのジメチルアセタ
ールやジエチルアセタールなどが挙げられる。
これらのアルデヒドやアセタール誘導体はケイ皮酸又は
ケイ皮酸クロリドと、例えば2,2−ジエトキシエチル
プロミド又はアミノアセトアルテヒドジメチルアセター
ルなどから容易に製造しうる。
ケイ皮酸クロリドと、例えば2,2−ジエトキシエチル
プロミド又はアミノアセトアルテヒドジメチルアセター
ルなどから容易に製造しうる。
また、本発明には、目的とする光不溶化性ポリビニルア
ルコール誘導体の水溶性を増加させるために、完全けん
化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルに感光性官能基
を導入する以外に、一般式(財)で示されるベンズアル
デヒド又はそのアセタール誘導体を用いてスルホン酸基
を導入することも包含される。この一般式収)で示され
る化合物として、例えばナトリウム−2−メトキシ−4
−フォルミルベンゼンスルホネートなどが用いられる。
ルコール誘導体の水溶性を増加させるために、完全けん
化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルに感光性官能基
を導入する以外に、一般式(財)で示されるベンズアル
デヒド又はそのアセタール誘導体を用いてスルホン酸基
を導入することも包含される。この一般式収)で示され
る化合物として、例えばナトリウム−2−メトキシ−4
−フォルミルベンゼンスルホネートなどが用いられる。
次に本発明の製造方法について説明する。
すなわち、前記の一般式(V)で示される本発明の光不
溶化性ポリビニルアルコール誘導体は、完全けん化又は
部分けん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式(n)で示
されるアルデヒド又はそのアセタール誘導体を反応させ
る′ことによって得られる。この反応は酸触媒の存在下
に、水又は含水有機溶媒中で行うのが有利である。
溶化性ポリビニルアルコール誘導体は、完全けん化又は
部分けん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式(n)で示
されるアルデヒド又はそのアセタール誘導体を反応させ
る′ことによって得られる。この反応は酸触媒の存在下
に、水又は含水有機溶媒中で行うのが有利である。
酸触媒については特に制限はなく、無機酸及び有機酸の
いずれでもよいが、水に対する溶解性や取り扱いの点か
らリン酸及び硫酸が好ましい。
いずれでもよいが、水に対する溶解性や取り扱いの点か
らリン酸及び硫酸が好ましい。
この反応において、アルデヒド又はそのアセタール誘導
体は完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニル中
のビニルアルコール単位当り0.1〜30モル係の割合
で使用するのが好ましく、また、反応溶媒中の完全けん
化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニル濃度は1〜10
重量係の範囲が好適である。
体は完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニル中
のビニルアルコール単位当り0.1〜30モル係の割合
で使用するのが好ましく、また、反応溶媒中の完全けん
化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニル濃度は1〜10
重量係の範囲が好適である。
また、反応温度及び反応時間については、エステル結合
やアミド結合が加水分解されないような条件を選ぶこと
が必要であって、この条件は使用するアルデヒドの種類
によって異なるが、一般に反応温度は室温〜ioo℃の
範囲が適当であり、反応時間は2〜30時間程度である
。
やアミド結合が加水分解されないような条件を選ぶこと
が必要であって、この条件は使用するアルデヒドの種類
によって異なるが、一般に反応温度は室温〜ioo℃の
範囲が適当であり、反応時間は2〜30時間程度である
。
得られた反応終了液は、そのままの状態で高感度の感光
液として使用しうるし、また目的生成物を固形物として
分離する・必要がある場合は、アセトンやメタノールな
どの貧溶媒中に反応終了液を注加し、生じた沈殿物を分
離したのち、アルコールなどで洗浄してか(減圧乾燥す
ればよい。
液として使用しうるし、また目的生成物を固形物として
分離する・必要がある場合は、アセトンやメタノールな
どの貧溶媒中に反応終了液を注加し、生じた沈殿物を分
離したのち、アルコールなどで洗浄してか(減圧乾燥す
ればよい。
また、前記の一般式(Vl)で示される本発明の光不溶
化性ポリビニルアルコール誘導体は、完全けん化又は部
分けん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式(n)で示さ
れるアルデヒド又はそのアセタール誘導体と一般式(1
v)で示されるベンズアルデヒドそのアセタール誘導体
とを、前記と同様な方法で反応させることによって得ら
れる。この際、一般式収)で示されるベンズアルデヒド
又はそのアセタール誘導体は、完全けん化又は部分けん
化されたポリ酢酸ビニル中のビニルアルコール単位当り
1〜lOモル係の割合で使用するのが好ましい。このよ
うにして得られた生成物は水溶性の大きな光不溶化性ポ
リビニルアルコール誘導体である。
化性ポリビニルアルコール誘導体は、完全けん化又は部
分けん化されたポリ酢酸ビニルに、一般式(n)で示さ
れるアルデヒド又はそのアセタール誘導体と一般式(1
v)で示されるベンズアルデヒドそのアセタール誘導体
とを、前記と同様な方法で反応させることによって得ら
れる。この際、一般式収)で示されるベンズアルデヒド
又はそのアセタール誘導体は、完全けん化又は部分けん
化されたポリ酢酸ビニル中のビニルアルコール単位当り
1〜lOモル係の割合で使用するのが好ましい。このよ
うにして得られた生成物は水溶性の大きな光不溶化性ポ
リビニルアルコール誘導体である。
本発明の光不溶化性ポリビニルアルコール体は、感光性
官能基の含有率が繰り返し単位当り0、1〜30モル係
という低い範囲においても、それ自体紫外光に対して十
分な感度を有しているが、適当な増感剤を添加すること
によって、さらに感光領域を可視部まで拡げることがで
きる。
官能基の含有率が繰り返し単位当り0、1〜30モル係
という低い範囲においても、それ自体紫外光に対して十
分な感度を有しているが、適当な増感剤を添加すること
によって、さらに感光領域を可視部まで拡げることがで
きる。
この増感剤としては、感光性官能基がシンナモイル基で
ある場合には、例えばN−アセチル−4−ニトロ−1−
ナフチルアミン、■,2−ペンツアントラキノン、ピク
ラミド、5−ニトロアセナフテン、3−メチル−l−ジ
アザ−1,9−ベンズアントロン− ミヒラーズケトン
などが、また、g光性官能基がシンナミIJデン基であ
る場合には、例エバエリスロシン、ローズベンガルなど
が挙ケラれる。これら増感剤は反応終了液、又は精製し
た光不溶化性ポリビニルアルコール誘導体を適当な溶媒
に溶かした溶液に添加すればよい。この添加量は必要と
する感度に応じて適当に選びうるが、少な過ぎると感度
が低くなり、また多過ぎてもそれ以上の感度は望めず無
駄であるため、感光性官能基に対して20〜60モル係
の範囲であるこ゛とが望ましい。
ある場合には、例えばN−アセチル−4−ニトロ−1−
ナフチルアミン、■,2−ペンツアントラキノン、ピク
ラミド、5−ニトロアセナフテン、3−メチル−l−ジ
アザ−1,9−ベンズアントロン− ミヒラーズケトン
などが、また、g光性官能基がシンナミIJデン基であ
る場合には、例エバエリスロシン、ローズベンガルなど
が挙ケラれる。これら増感剤は反応終了液、又は精製し
た光不溶化性ポリビニルアルコール誘導体を適当な溶媒
に溶かした溶液に添加すればよい。この添加量は必要と
する感度に応じて適当に選びうるが、少な過ぎると感度
が低くなり、また多過ぎてもそれ以上の感度は望めず無
駄であるため、感光性官能基に対して20〜60モル係
の範囲であるこ゛とが望ましい。
増感剤を加えた本発明の光不溶化性ポリビニルアルコー
ル誘導体は、5−ニトロアセナフテンによって増感され
たポリケイ皮酸ビニルと同等ないし数倍の感光速度を示
す。すなわち、本発明の光不溶化性ポリビニルアルコー
ル誘導体は、従来品に比べて感光性官能基の導入率が低
く、かつ増感剤の添加量が少ないにもかかわらず、十分
に高い感度を示し経済的に極めて価値の高いものである
。
ル誘導体は、5−ニトロアセナフテンによって増感され
たポリケイ皮酸ビニルと同等ないし数倍の感光速度を示
す。すなわち、本発明の光不溶化性ポリビニルアルコー
ル誘導体は、従来品に比べて感光性官能基の導入率が低
く、かつ増感剤の添加量が少ないにもかかわらず、十分
に高い感度を示し経済的に極めて価値の高いものである
。
したがって、このものはフォトレジストや感光性ビヒク
ルとして有用であるばかりでなく、架橋反応が光二量化
反応であって特異的に進行するこ−とから、酵素、生体
細胞断片、微生物などの生体基づき、光照射によって特
性が向上する接着剤やバインダー、塗料暴利などとして
用いることもてきる。
ルとして有用であるばかりでなく、架橋反応が光二量化
反応であって特異的に進行するこ−とから、酵素、生体
細胞断片、微生物などの生体基づき、光照射によって特
性が向上する接着剤やバインダー、塗料暴利などとして
用いることもてきる。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明する。
参考例12,2−ジメト−;′・シエチルンンナ弁卒ミ
ドの製造 ケイ皮酸クロリド50(ugをクロロホルム5 meに
溶解し、氷冷下にかき捷ぜながらこれに、アミノアセタ
ルデヒドジメチルアセタール630〜をクロロホルム5
mlに溶解した溶液を滴加する。滴加終了後室温にて1
時間かきまぜたのち、水約1ornlを加えて抽出する
。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、クロロホルムを
留去して得られた残留分をヘキサンから再結晶して、無
色針状結晶の2,2−ジメトキシエチルシンナムアミド
649〜を得た。
ドの製造 ケイ皮酸クロリド50(ugをクロロホルム5 meに
溶解し、氷冷下にかき捷ぜながらこれに、アミノアセタ
ルデヒドジメチルアセタール630〜をクロロホルム5
mlに溶解した溶液を滴加する。滴加終了後室温にて1
時間かきまぜたのち、水約1ornlを加えて抽出する
。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、クロロホルムを
留去して得られた残留分をヘキサンから再結晶して、無
色針状結晶の2,2−ジメトキシエチルシンナムアミド
649〜を得た。
このものは mp 70.5〜71.5℃、λmax
(メタノール) : 272nm、 ε= 1952
0であった。
(メタノール) : 272nm、 ε= 1952
0であった。
参考例24,4−ジメトキシブチルシンナメートの製造
ケイ皮酸カリウム9 、3 t 及0:4−り、ロー1
,1−ジフトキンブタン6.lfiジメチルポルムアミ
ド3〇−中に加え、約120℃の油浴上で14時間かき
まぜながら加熱する。冷却後過剰のケイ皮酸カリウム及
び生成した塩化カリウムをろ別したのち、ろ液を水中に
注いで酢酸エチルで抽出する。
,1−ジフトキンブタン6.lfiジメチルポルムアミ
ド3〇−中に加え、約120℃の油浴上で14時間かき
まぜながら加熱する。冷却後過剰のケイ皮酸カリウム及
び生成した塩化カリウムをろ別したのち、ろ液を水中に
注いで酢酸エチルで抽出する。
有機層を乾燥後・酢酸エチルを留去して得られた残留分
を減圧蒸留して、4,4−ジメトキシブチル/ンナメ−
)5.3fを得た。
を減圧蒸留して、4,4−ジメトキシブチル/ンナメ−
)5.3fを得た。
このものは bp 110〜114℃/ 1 mm H
g 、λmax(メタノール) : 275nmx
ε−24000であった。
g 、λmax(メタノール) : 275nmx
ε−24000であった。
参考例a 2−メトキシ−4−フォルミルフェニルシ
ンナメートの製造。
ンナメートの製造。
バニリンのカリウム塩1.97をクローポルム10−中
に注ぎ、水冷下にかきまぜながらこれに、ケイ皮酸クロ
リド1.66 Fをクロロホルム10meに溶解した溶
液を滴加する。滴加終了後室温にて:(時間かきまぜた
のち、10係炭酸ナトリウム水溶液20−を加えて抽出
する。有機層を乾燥後、クロロホルムを留去して得られ
た残留分をヘキサンから再結晶して、無色リン片状結晶
の2−メトキシ−4−フォルミルフェニルシンナメート
2.382を得た。
に注ぎ、水冷下にかきまぜながらこれに、ケイ皮酸クロ
リド1.66 Fをクロロホルム10meに溶解した溶
液を滴加する。滴加終了後室温にて:(時間かきまぜた
のち、10係炭酸ナトリウム水溶液20−を加えて抽出
する。有機層を乾燥後、クロロホルムを留去して得られ
た残留分をヘキサンから再結晶して、無色リン片状結晶
の2−メトキシ−4−フォルミルフェニルシンナメート
2.382を得た。
このものはmp 92〜93℃、λmax (メタノー
ル) : 281 nm、 ε−39000であった。
ル) : 281 nm、 ε−39000であった。
参考例42.2−ジメトキシエチル7ンナミリテンアセ
タミドの製造 シンナミリテンアセチルクロリド481〜を塩化メチレ
ン10m1に溶解し、氷冷下にかき捷せながらこれに、
アミノアセタルデヒドジメチルアセタ−ル525■の塩
化メチレン10m1溶液を滴加する。
タミドの製造 シンナミリテンアセチルクロリド481〜を塩化メチレ
ン10m1に溶解し、氷冷下にかき捷せながらこれに、
アミノアセタルデヒドジメチルアセタ−ル525■の塩
化メチレン10m1溶液を滴加する。
滴加終了後室温にて3時間かきまぜたのち、本釣20−
加えす抽出する。有機層を乾燥後塩化メチレンを留去し
て得られた残留分をヘキサンから再結晶して、2,2−
ジメトキシエチルシンナミリデンアセタミド547■を
得た。
加えす抽出する。有機層を乾燥後塩化メチレンを留去し
て得られた残留分をヘキサンから再結晶して、2,2−
ジメトキシエチルシンナミリデンアセタミド547■を
得た。
このものはm9105〜106℃、λmax (メタノ
ール) : 304nm% ε−22360であった。
ール) : 304nm% ε−22360であった。
実施例1
85係けん化ポリ酢酸ビニル(平均重合度1700)j
1ζ怜5重量係水溶液2.1tに酢酸0.5ml、ジメ
チルアセタミド” 0 、5 m/及びリン酸0.22
を加え、これ“に参考例1で得られた2、2−ジメトキ
シエチルシンナムアミド70.5 mgの酢酸0.5−
及びジメチルアセタミド0.5ml溶液を滴加し、約8
0〜90℃にて27時間かきまぜた。
1ζ怜5重量係水溶液2.1tに酢酸0.5ml、ジメ
チルアセタミド” 0 、5 m/及びリン酸0.22
を加え、これ“に参考例1で得られた2、2−ジメトキ
シエチルシンナムアミド70.5 mgの酢酸0.5−
及びジメチルアセタミド0.5ml溶液を滴加し、約8
0〜90℃にて27時間かきまぜた。
このようにして得られた反応液に、増感剤としてN−ア
セチル−4−二トロー1−ナフチルアミンを感光性官能
基に対して1.4当量加えた。この溶液をアルミニウム
板に塗布し、ネガフィルムを介してキセノンランプで露
光し、次いでこれをメチルセロソルブ、水、ジメチルア
セタミドの混合溶媒中で現像するとアルミニウム板上に
明瞭な画像が得られた。
セチル−4−二トロー1−ナフチルアミンを感光性官能
基に対して1.4当量加えた。この溶液をアルミニウム
板に塗布し、ネガフィルムを介してキセノンランプで露
光し、次いでこれをメチルセロソルブ、水、ジメチルア
セタミドの混合溶媒中で現像するとアルミニウム板上に
明瞭な画像が得られた。
このものは、5−ニトロアセナフテンで゛増感されたポ
リケイ皮酸ビニルに対して約3倍の感度を示した。
リケイ皮酸ビニルに対して約3倍の感度を示した。
実施例2
85%げん化ポリ酢酸ビニル(平均重合度+700)の
5重量%の水溶液2.N7に酢酸0.5 ml 、ジメ
チルアセタミドQ 、 5 ml及びリン酸0.2.9
を加え、これに参考例4で得た2、2−ジメトキシエチ
ルシンナミリテンアセタミド+0.41n9及び2−メ
トキシ−4−フォルミルベンゼンスルホン酸ナトリウム
5.8 m9を酢酸0.5ml及びジメチルアセタミド
0.5mlの混合溶媒に溶解した溶液を加え、約80〜
90℃にて25時間かきまぜた。
5重量%の水溶液2.N7に酢酸0.5 ml 、ジメ
チルアセタミドQ 、 5 ml及びリン酸0.2.9
を加え、これに参考例4で得た2、2−ジメトキシエチ
ルシンナミリテンアセタミド+0.41n9及び2−メ
トキシ−4−フォルミルベンゼンスルホン酸ナトリウム
5.8 m9を酢酸0.5ml及びジメチルアセタミド
0.5mlの混合溶媒に溶解した溶液を加え、約80〜
90℃にて25時間かきまぜた。
こe“ようにして得られた反応液に、増感剤として工I
J %ロジン35,2m9を加えてアルミニウム板に塗
布し、ネガフィルムを介してキセノンランプで露光した
。次いでこれを温水で現像したところ鮮明7よ画像を有
するアルミニウム板が得られた。
J %ロジン35,2m9を加えてアルミニウム板に塗
布し、ネガフィルムを介してキセノンランプで露光した
。次いでこれを温水で現像したところ鮮明7よ画像を有
するアルミニウム板が得られた。
このものの5−ニトロアセナフテンで増感されたポリケ
イ皮酸ビニルに対する相対感度は鉤棒であった。
イ皮酸ビニルに対する相対感度は鉤棒であった。
実施例3
85%けん化ポリ酢酸ビニル(平均重合度1700)の
5重量%水溶液2,1.9に酢酸0 、5 ml、ジメ
チルアセタミド0.5ml及びリン酸0,2.!i’を
加え、これニ2,2−ジェトキシエチルシンナメート5
2.8〜の酢酸o、5mt及びジメチルアセタミド0.
5 ml溶液を加え、約80〜90″CMて25時間が
きまぜた。
5重量%水溶液2,1.9に酢酸0 、5 ml、ジメ
チルアセタミド0.5ml及びリン酸0,2.!i’を
加え、これニ2,2−ジェトキシエチルシンナメート5
2.8〜の酢酸o、5mt及びジメチルアセタミド0.
5 ml溶液を加え、約80〜90″CMて25時間が
きまぜた。
このようにして得られた反応液に増感剤としてN−アセ
チル−4−ニトロ−1−ナフチルアミンを感光性官能基
に対して0.4当量カnえたのち、アルミニウム板に塗
布し、ネガフィルムを介してキセノンランプで露光した
。次いでこれを水、ジメチルアセタミド、酢酸の混合溶
媒中で現像すると鮮明な画像を有するアルミニウム板が
得られた。
チル−4−ニトロ−1−ナフチルアミンを感光性官能基
に対して0.4当量カnえたのち、アルミニウム板に塗
布し、ネガフィルムを介してキセノンランプで露光した
。次いでこれを水、ジメチルアセタミド、酢酸の混合溶
媒中で現像すると鮮明な画像を有するアルミニウム板が
得られた。
このものの5−ニトロアセナフテンで増感されたポリケ
イ皮酸ビニルに対する相対感度は約1.5倍であった。
イ皮酸ビニルに対する相対感度は約1.5倍であった。
また、感光性官能基の含有率を紫外線吸収スペクトル分
析法によって調べたところ約1.7モル%であった。
析法によって調べたところ約1.7モル%であった。
実施例4
99%けん化ポリ酢酸ビニル(平均重合度2000)の
6.7重量%水溶液1.6gに酢酸0.5 ml!、ジ
メチルアセタミド0.5ml及びリン20.29を加え
、これに参考例2で得た4、4−ジメトキシプチルシ/
ナメート52.smyの酢酸0.5ml及びジメチルア
セタミド] ml溶液を加え、約50〜60℃にて6時
間かきまぜた。
6.7重量%水溶液1.6gに酢酸0.5 ml!、ジ
メチルアセタミド0.5ml及びリン20.29を加え
、これに参考例2で得た4、4−ジメトキシプチルシ/
ナメート52.smyの酢酸0.5ml及びジメチルア
セタミド] ml溶液を加え、約50〜60℃にて6時
間かきまぜた。
このようにして得られた反応液に増感剤としてN−アセ
チル−4−ニトロ−1〜ナフチルアミンを感光性官能基
て対して0.4当量加えたのち、アルミニウム板に塗布
し、ネガフィルム、を介してキセノンランプで露光した
。次いで水、メチルセロソルブ、ジメチルアセタミドの
混合溶媒中で現像すると鮮明な画像を有するアルミニウ
ム板が得られた。
チル−4−ニトロ−1〜ナフチルアミンを感光性官能基
て対して0.4当量加えたのち、アルミニウム板に塗布
し、ネガフィルム、を介してキセノンランプで露光した
。次いで水、メチルセロソルブ、ジメチルアセタミドの
混合溶媒中で現像すると鮮明な画像を有するアルミニウ
ム板が得られた。
このものの5−ニトロアセナフテンで増感されたポリケ
イ皮酸ビニルに対する相対感度は約6倍で・あった。ま
た、感光性官能基の含有率を紫外線吸収スペクトル分析
法によって調べたところ約5モル%であった。
イ皮酸ビニルに対する相対感度は約6倍で・あった。ま
た、感光性官能基の含有率を紫外線吸収スペクトル分析
法によって調べたところ約5モル%であった。
特許出願人 工業技術院長 石板誠−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■ 完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルの
繰り返し単位の一部が、一般式(式中のRはアルキレン
基又はフェニレン基、Xは酸素原子又はイミノ基、nは
l又は2の整数である) で示される単位で置換された構造を有する光不溶化性ポ
リビニルアルコール誘導体。 2 完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルに
、一般式 (式中のRはアルキレン基又はフェニレン基、Xは酸素
原子又はイミノ基、nは1又は2の整数である) で示されるアルデヒド又はそのアセタール誘導体を反応
させることを特徴とする、完全けん化又は部分けん化さ
れたポリ酢酸ビニルの繰シ返し単位の一部が、一般式 (式中のR,X及びnは前記と同じ意味をもつ)で示さ
れる単位で置換された構造を有する光不溶化性ポリビニ
ルアルコール誘導体の製造方法。 3 完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルの
繰り返し単位の一部が、一般式(式中のRはアルキレン
基又はフェニレン基・Xは酸素原子又はイミノ基、nは
l又は2の整数である) で示される単位及び (式中めMは水素原子又゛はアルカリ金属原子であり、
フェニル基は場合により不活性核置換基を有することが
ある) で示される学位で置換された構造を有する光不溶化性ポ
リビニルアルコール誘導体。 4 完全けん化又は部分けん化されたポリ酢酸ビニルに
、一般式 (式中のRはアルキレン基又はフェニレン基、Xは酸素
原子又はイミノ基、nは1又は2の整数である) で示されるアルデヒド又はそのアセタール誘導体と、一
般式 (式中のMは水素原子又はアルカリ金属原子であり、フ
ェニル基は場合により不活性核置換基を有することがあ
る) で示されるベンズアルデヒド又はそのアセタール誘導体
とを反応させることを特徴とする、完全けん化又は部分
けん化されたポリ酢酸ビニ/Lの繰り返し単位の一部が
、一般式 (式中のR,X及びnは前記と同じ意味をもつ)で示さ
れる単位及び一般式 (式中のMは前記と同じ意味をもち、フェニル基は場合
により不活性核置換基を有することがある) で示される単位で置換された構造を有する光不溶化性ポ
リビニルアルコール誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16776381A JPS5939441B2 (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16776381A JPS5939441B2 (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5867702A true JPS5867702A (ja) | 1983-04-22 |
| JPS5939441B2 JPS5939441B2 (ja) | 1984-09-22 |
Family
ID=15855639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16776381A Expired JPS5939441B2 (ja) | 1981-10-19 | 1981-10-19 | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5939441B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5326669A (en) * | 1992-05-04 | 1994-07-05 | Ulano Corporation | Photosensitive compositions |
| US5360864A (en) * | 1992-05-04 | 1994-11-01 | Ulano Corporation | Process for preparation of photosensitive composition |
| WO1996024078A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers containing salt structures |
| WO1996024077A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers containing photoinitiators |
| WO1996024073A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers containing urethane groups |
| WO1996024074A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers |
| CN109180515A (zh) * | 2018-08-17 | 2019-01-11 | 苏利制药科技江阴有限公司 | 一种n-[2-羟基-2-(4-甲氧基苯基)乙基]肉桂酰胺的合成方法 |
-
1981
- 1981-10-19 JP JP16776381A patent/JPS5939441B2/ja not_active Expired
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5326669A (en) * | 1992-05-04 | 1994-07-05 | Ulano Corporation | Photosensitive compositions |
| US5360864A (en) * | 1992-05-04 | 1994-11-01 | Ulano Corporation | Process for preparation of photosensitive composition |
| WO1996024078A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers containing salt structures |
| WO1996024077A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers containing photoinitiators |
| WO1996024073A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers containing urethane groups |
| WO1996024074A1 (en) * | 1995-02-03 | 1996-08-08 | Novartis Ag | Crosslinked polymers |
| JPH10513124A (ja) * | 1995-02-03 | 1998-12-15 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | ウレタン基を含む架橋されたポリマー |
| JPH10513410A (ja) * | 1995-02-03 | 1998-12-22 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | 塩構造を含む架橋されたポリマー |
| JPH10513408A (ja) * | 1995-02-03 | 1998-12-22 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | 架橋されたポリマー |
| AU700857B2 (en) * | 1995-02-03 | 1999-01-14 | Novartis Ag | Crosslinked polymers containing urethane groups |
| CN109180515A (zh) * | 2018-08-17 | 2019-01-11 | 苏利制药科技江阴有限公司 | 一种n-[2-羟基-2-(4-甲氧基苯基)乙基]肉桂酰胺的合成方法 |
| CN109180515B (zh) * | 2018-08-17 | 2021-04-06 | 苏利制药科技江阴有限公司 | 一种n-[2-羟基-2-(4-甲氧基苯基)乙基]肉桂酰胺的合成方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5939441B2 (ja) | 1984-09-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0424348B2 (ja) | ||
| US4451613A (en) | Ethylenically-unsaturated dextrin oligomers | |
| JPH035739B2 (ja) | ||
| US5240811A (en) | Photogenerated polycarbodiimides from poly(tetrazole-5-thiones) and use in the preparation of coatings and deep-UV photoresists | |
| JPS5939441B2 (ja) | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 | |
| US4701497A (en) | Process for producing novel photosensitive resins | |
| JPS62201859A (ja) | 新規なオキシムエステル化合物及びその合成法 | |
| JPH11228534A (ja) | オキシカルボニルメチル基を有する新規なスルホニウム塩化合物 | |
| US3890150A (en) | Photosensitive compositions including aromatic bis-acrylic derivatives | |
| CN106966958A (zh) | 一种光引发剂含双咔唑的环己二甲酮肟乙酸酯,制备方法及其应用 | |
| JP4390237B2 (ja) | 感光性化合物及び感光性樹脂 | |
| JPS5869208A (ja) | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 | |
| CN106966959A (zh) | 光引发剂双咔唑酮肟乙酸酯类化合物的制备方法及其应用 | |
| JPS6023138B2 (ja) | ロイコ染料混合物 | |
| JPH09208525A (ja) | サリチル酸フェニル誘導体及びその製造法 | |
| US2861057A (en) | 3-and 4-(alpha-cyanocinnamido) phthalates of hydroxyl-containing polymers | |
| JPH06211759A (ja) | 4,4’−ジアミノベンゾフェノン誘導体 | |
| JPH0356243B2 (ja) | ||
| JP3004948B2 (ja) | ポリヒドロキシスチレン誘導体を調製する方法 | |
| JP2003192649A (ja) | カリックスアレーン誘導体およびその製造方法 | |
| JPS5910721B2 (ja) | 光不溶化性ポリビニルアルコ−ル誘導体の製造方法 | |
| JPH08127572A (ja) | 反応性基含有型ハロゲン置換メチルオキサジアゾール化合物 | |
| US3822293A (en) | Process for the preparation of 3-(3'-carboalkoxy-4'-acetoxy-1'-naphthyl)-3-(4"-hydroxy-1"-naphthyl)naphthalide | |
| JPH07267942A (ja) | ビス〔3−(4−置換クマリル)〕ケトン化合物および光増感剤 | |
| EP0435261B1 (en) | 4-Carbonyl-substituted coumarin compound |