JPH09210909A - レーザ光を用いた計測装置 - Google Patents
レーザ光を用いた計測装置Info
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- JPH09210909A JPH09210909A JP8019925A JP1992596A JPH09210909A JP H09210909 A JPH09210909 A JP H09210909A JP 8019925 A JP8019925 A JP 8019925A JP 1992596 A JP1992596 A JP 1992596A JP H09210909 A JPH09210909 A JP H09210909A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000001499 laser induced fluorescence spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000010606 normalization Methods 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
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- Radiation Pyrometers (AREA)
- Measuring Temperature Or Quantity Of Heat (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】LIFを用い測定場での被測定分子の濃度、温
度を高精度計測する。 【解決手段】シート状のレーザ光24を出力して測定場26
の被計測分子に照射するビームエキスパンダ23と、レー
ザ光24の照射により上記被測定分子が発する蛍光を入射
して蛍光強度を測定するCCDカメラ30と、上記ビーム
エキスパンダ23と上記測定場26の間に設け、レーザ光24
の一部を分岐するビームスプリッタ25と、蛍光物質が塗
布されたガラス板27に上記ビームスプリッタ25で分岐さ
れたレーザ光24を入射し、該蛍光物質から発せられる蛍
光強度を測定する検出器28と、この検出器28で得た蛍光
強度により上記CCDカメラ30で得た測定場26での被測
定分子が発する蛍光強度を正規化して出力するコンピュ
ータ32とを備える。
度を高精度計測する。 【解決手段】シート状のレーザ光24を出力して測定場26
の被計測分子に照射するビームエキスパンダ23と、レー
ザ光24の照射により上記被測定分子が発する蛍光を入射
して蛍光強度を測定するCCDカメラ30と、上記ビーム
エキスパンダ23と上記測定場26の間に設け、レーザ光24
の一部を分岐するビームスプリッタ25と、蛍光物質が塗
布されたガラス板27に上記ビームスプリッタ25で分岐さ
れたレーザ光24を入射し、該蛍光物質から発せられる蛍
光強度を測定する検出器28と、この検出器28で得た蛍光
強度により上記CCDカメラ30で得た測定場26での被測
定分子が発する蛍光強度を正規化して出力するコンピュ
ータ32とを備える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ誘起蛍光法
を用いて2次元温度や濃度の計測等を行なうレーザ光を
用いた計測装置に関する。
を用いて2次元温度や濃度の計測等を行なうレーザ光を
用いた計測装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ誘起蛍光法(以下「LIF」と略
称する)は、被測定分子が有している吸収線と同一の周
波数を持つレーザ光で測定場を照射し、濃度、温度計測
に必要な信号光を得る手法である。
称する)は、被測定分子が有している吸収線と同一の周
波数を持つレーザ光で測定場を照射し、濃度、温度計測
に必要な信号光を得る手法である。
【0003】従来のLIFを用いた2次元濃度計測装置
の概略構成を図2に示す。同図で励起用パルスレーザ1
は色素レーザなどの波長可変レーザ2を発振させて、被
測定分子の電子エネルギ差に対応した波長のレーザ光を
出射させる。このレーザ光は、ビームエキスパンダ3に
てシート状にされた後、測定場8に入射される。
の概略構成を図2に示す。同図で励起用パルスレーザ1
は色素レーザなどの波長可変レーザ2を発振させて、被
測定分子の電子エネルギ差に対応した波長のレーザ光を
出射させる。このレーザ光は、ビームエキスパンダ3に
てシート状にされた後、測定場8に入射される。
【0004】この測定場8に照射されたレーザ光7によ
り励起された被測定分子から生じた蛍光は、レンズ4で
集光されてCCDカメラ5で撮像、計測される。このと
き、励起用パルスレーザ1からCCDカメラ5へレーザ
の発振と撮像の同期をとるための同期ライン6が配設さ
れる。
り励起された被測定分子から生じた蛍光は、レンズ4で
集光されてCCDカメラ5で撮像、計測される。このと
き、励起用パルスレーザ1からCCDカメラ5へレーザ
の発振と撮像の同期をとるための同期ライン6が配設さ
れる。
【0005】上記被測定分子の濃度と測定場8での蛍光
強度は比例するため、被測定分子の濃度は蛍光強度によ
り決定されるが、同時に該蛍光強度はレーザ光7の強度
にも比例するため、レーザ光7が照射されている計測領
域におけるレーザ光強度分布の補正を行なう必要が生じ
る。
強度は比例するため、被測定分子の濃度は蛍光強度によ
り決定されるが、同時に該蛍光強度はレーザ光7の強度
にも比例するため、レーザ光7が照射されている計測領
域におけるレーザ光強度分布の補正を行なう必要が生じ
る。
【0006】そして、従来よりレーザ光7の強度分布を
測定する方法としては、空気からのレーリ散乱光(レー
ザ光と同波長の分子散乱光)を利用する方法や、あるい
は図3に示すようにビームエキスパンダ3の後段にレー
ザ光7の一部を分岐するビームスプリッタ11を設け
て、このビームスプリッタ11で分岐したレーザ光7を
フィルタ12により撮影のための都合のよい輝度に減衰
させた後にCCDカメラ13で撮像してその輝度から強
度を検知する方法等があった。
測定する方法としては、空気からのレーリ散乱光(レー
ザ光と同波長の分子散乱光)を利用する方法や、あるい
は図3に示すようにビームエキスパンダ3の後段にレー
ザ光7の一部を分岐するビームスプリッタ11を設け
て、このビームスプリッタ11で分岐したレーザ光7を
フィルタ12により撮影のための都合のよい輝度に減衰
させた後にCCDカメラ13で撮像してその輝度から強
度を検知する方法等があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
光強度の測定を行なうに際して、上記測定場からのレー
リ散乱光を利用する方法では、測定場に空気などのバッ
ファガスを導入する必要があり、被測定分子を導入しな
がらレーザ光強度分布を求めることができなかった。
光強度の測定を行なうに際して、上記測定場からのレー
リ散乱光を利用する方法では、測定場に空気などのバッ
ファガスを導入する必要があり、被測定分子を導入しな
がらレーザ光強度分布を求めることができなかった。
【0008】また、上記図3で示したビームスプリッタ
11によりレーザ光7を分岐し、分岐されたレーザ光を
直接CCDカメラ13で計測する方法では、CCDカメ
ラ13の計測部で干渉などの問題を生じ、誤差が発生し
やすいという傾向があった。
11によりレーザ光7を分岐し、分岐されたレーザ光を
直接CCDカメラ13で計測する方法では、CCDカメ
ラ13の計測部で干渉などの問題を生じ、誤差が発生し
やすいという傾向があった。
【0009】本発明は上記のような実情に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、被測定分子を導入
しながらレーザ光の強度分布を高い精度で測定すること
により、結果として測定場での被測定分子の濃度、温度
を高い精度で計測することが可能なレーザ光を用いた計
測装置を提供することにある。
たもので、その目的とするところは、被測定分子を導入
しながらレーザ光の強度分布を高い精度で測定すること
により、結果として測定場での被測定分子の濃度、温度
を高い精度で計測することが可能なレーザ光を用いた計
測装置を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、シー
ト状のレーザ光を出力して測定場の被計測分子に照射す
るビームエキスパンダと、レーザ光の照射により上記被
測定分子が発する蛍光を入射して蛍光強度を測定する第
1の計測手段と、上記ビームエキスパンダと上記測定場
の間に設け、レーザ光の一部を分岐するビームスプリッ
タと、蛍光物質が塗布されたガラス板に上記ビームスプ
リッタで分岐されたレーザ光を入射し、該蛍光物質から
発せられる蛍光強度を測定する第2の計測手段と、この
第2の計測手段で得た蛍光強度により上記第1の測定手
段で得た測定場での被測定分子が発する蛍光強度を正規
化する正規化手段とを備えたものである。
ト状のレーザ光を出力して測定場の被計測分子に照射す
るビームエキスパンダと、レーザ光の照射により上記被
測定分子が発する蛍光を入射して蛍光強度を測定する第
1の計測手段と、上記ビームエキスパンダと上記測定場
の間に設け、レーザ光の一部を分岐するビームスプリッ
タと、蛍光物質が塗布されたガラス板に上記ビームスプ
リッタで分岐されたレーザ光を入射し、該蛍光物質から
発せられる蛍光強度を測定する第2の計測手段と、この
第2の計測手段で得た蛍光強度により上記第1の測定手
段で得た測定場での被測定分子が発する蛍光強度を正規
化する正規化手段とを備えたものである。
【0011】このような構成とすることにより、上記正
規化手段でレーザ光強度分布の補正を行なって被測定分
子の蛍光強度を求めることができるため、被測定分子の
濃度や温度などをきわめて高い精度で計測することがで
きる。
規化手段でレーザ光強度分布の補正を行なって被測定分
子の蛍光強度を求めることができるため、被測定分子の
濃度や温度などをきわめて高い精度で計測することがで
きる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の一形態に係
るレーザ光を用いた計測装置について図面を参照して説
明する。図1はその概略構成を例示するもので、励起用
パルスレーザ21が色素レーザなどの波長可変レーザ2
2を発振させ、被測定分子の電子エネルギ差に対応した
波長のレーザ光を出射させる。
るレーザ光を用いた計測装置について図面を参照して説
明する。図1はその概略構成を例示するもので、励起用
パルスレーザ21が色素レーザなどの波長可変レーザ2
2を発振させ、被測定分子の電子エネルギ差に対応した
波長のレーザ光を出射させる。
【0013】この波長可変レーザ22から出射されたレ
ーザ光24は、ビームエキスパンダ23にてシート状に
された後、ビームスプリッタ25にてその一部が予め設
定された一定の割合で分岐され、残ったレーザ光がその
まま測定場26へ、分岐されたレーザ光が蛍光物質を塗
布したガラス板27へそれぞれ入射される。
ーザ光24は、ビームエキスパンダ23にてシート状に
された後、ビームスプリッタ25にてその一部が予め設
定された一定の割合で分岐され、残ったレーザ光がその
まま測定場26へ、分岐されたレーザ光が蛍光物質を塗
布したガラス板27へそれぞれ入射される。
【0014】このガラス板27は、例えばCCDライン
センサでなる検出器28に対して取付けられたものであ
り、検出器28はガラス板27に塗布された蛍光物質か
ら発生する蛍光の強度を、レーザ光24の強度分布を表
わすものとして検出する。
センサでなる検出器28に対して取付けられたものであ
り、検出器28はガラス板27に塗布された蛍光物質か
ら発生する蛍光の強度を、レーザ光24の強度分布を表
わすものとして検出する。
【0015】一方、上記測定場26に照射されたレーザ
光24により励起された被測定分子から生じた蛍光は、
レンズ29で集光されてCCDカメラ30で撮像、計測
される。
光24により励起された被測定分子から生じた蛍光は、
レンズ29で集光されてCCDカメラ30で撮像、計測
される。
【0016】しかるに、上記検出器28及びCCDカメ
ラ30に対して上記励起用パルスレーザ21から同期ラ
イン31が配設され、この同期ライン31を介してレー
ザの発振と検出、撮像の同期をとるための信号が送達さ
れる。
ラ30に対して上記励起用パルスレーザ21から同期ラ
イン31が配設され、この同期ライン31を介してレー
ザの発振と検出、撮像の同期をとるための信号が送達さ
れる。
【0017】そして、検出器28で検出されたレーザ光
24の強度分布に応じた蛍光強度、及びCCDカメラ3
0で得られた測定場8での蛍光強度は共にコンピュータ
32に送られる。
24の強度分布に応じた蛍光強度、及びCCDカメラ3
0で得られた測定場8での蛍光強度は共にコンピュータ
32に送られる。
【0018】コンピュータ32では、CCDカメラ30
で得た測定場26での被測定分子が発する蛍光強度を検
出器28で得た蛍光強度を用いて正規化演算することで
CCDカメラ30の出力に対する補正を実行し、その演
算結果から測定場26における被計測分子の濃度または
温度を求めて表示出力する。
で得た測定場26での被測定分子が発する蛍光強度を検
出器28で得た蛍光強度を用いて正規化演算することで
CCDカメラ30の出力に対する補正を実行し、その演
算結果から測定場26における被計測分子の濃度または
温度を求めて表示出力する。
【0019】上記のような構成にあって、励起用パルス
レーザ21が波長可変レーザ22を励振してレーザ光を
出射させる一方、同期ライン31を介して検出器28、
及びCCDカメラ30に同期信号を送出し、ガラス板2
7に塗布された蛍光物質から発生する蛍光の強度、及び
上記測定場26に照射されたレーザ光24により励起さ
れた被測定分子から生じた蛍光の強度をそれぞれ検出さ
せ、コンピュータ32へ送出させる。
レーザ21が波長可変レーザ22を励振してレーザ光を
出射させる一方、同期ライン31を介して検出器28、
及びCCDカメラ30に同期信号を送出し、ガラス板2
7に塗布された蛍光物質から発生する蛍光の強度、及び
上記測定場26に照射されたレーザ光24により励起さ
れた被測定分子から生じた蛍光の強度をそれぞれ検出さ
せ、コンピュータ32へ送出させる。
【0020】コンピュータ32は、検出器28で得た蛍
光強度を除数としてCCDカメラ30で得た測定場26
での被測定分子が発する蛍光強度を除算する正規化演算
を実行し、その商を測定場26における被計測分子の濃
度または温度として表示出力する。
光強度を除数としてCCDカメラ30で得た測定場26
での被測定分子が発する蛍光強度を除算する正規化演算
を実行し、その商を測定場26における被計測分子の濃
度または温度として表示出力する。
【0021】この場合、ガラス板27に塗布された蛍光
物質から発生する蛍光の強度を除数としたのは、該蛍光
強度がレーザ光24の強度分布に比例しているからであ
り、このような除数を用いて測定場26での被測定分子
が発する蛍光強度に対する除算を行なうことで、レーザ
光24の強度分布に基づいた正規化を施した、きわめて
高い精度で測定場26での被測定分子の濃度あるいは温
度を計測することができるようになるものである。
物質から発生する蛍光の強度を除数としたのは、該蛍光
強度がレーザ光24の強度分布に比例しているからであ
り、このような除数を用いて測定場26での被測定分子
が発する蛍光強度に対する除算を行なうことで、レーザ
光24の強度分布に基づいた正規化を施した、きわめて
高い精度で測定場26での被測定分子の濃度あるいは温
度を計測することができるようになるものである。
【0022】
【発明の効果】以上に述べた如く本発明によれば、被測
定分子を導入しながらレーザ光の強度分布を高い精度で
測定することにより、結果として測定場での被測定分子
の濃度、温度を高い精度で計測することが可能なレーザ
光を用いた計測装置を提供することができる。
定分子を導入しながらレーザ光の強度分布を高い精度で
測定することにより、結果として測定場での被測定分子
の濃度、温度を高い精度で計測することが可能なレーザ
光を用いた計測装置を提供することができる。
【図1】本発明の実施の一形態に係る計測装置の概略構
成を例示する図。
成を例示する図。
【図2】一般的なレーザ誘起蛍光法を用いた2次元濃度
計測装置の概略構成を示す図。
計測装置の概略構成を示す図。
【図3】図2に組合わせてレーザ光の強度分布を測定す
る構成を示した図。
る構成を示した図。
21…励起用パルスレーザ 22…波長可変レーザ 23…ビームエキスパンダ 24…レーザ光 25…ビームスプリッタ 26…測定場 27…ガラス板 28…検出器 29…レンズ 30…CCDカメラ 31…同期ライン 32…コンピュータ
Claims (1)
- 【請求項1】 シート状のレーザ光を出力して測定場の
被計測分子に照射するビームエキスパンダと、 レーザ光の照射により上記被測定分子が発する蛍光を入
射して蛍光強度を測定する第1の計測手段と、 上記ビームエキスパンダと上記測定場の間に設け、レー
ザ光の一部を分岐するビームスプリッタと、 蛍光物質が塗布されたガラス板に上記ビームスプリッタ
で分岐されたレーザ光を入射し、該蛍光物質から発せら
れる蛍光強度を測定する第2の計測手段と、 この第2の計測手段で得た蛍光強度により上記第1の測
定手段で得た測定場での被測定分子が発する蛍光強度を
正規化する正規化手段とを具備したことを特徴とするレ
ーザ光を用いた計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8019925A JPH09210909A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | レーザ光を用いた計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8019925A JPH09210909A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | レーザ光を用いた計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09210909A true JPH09210909A (ja) | 1997-08-15 |
Family
ID=12012810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8019925A Pending JPH09210909A (ja) | 1996-02-06 | 1996-02-06 | レーザ光を用いた計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09210909A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11173918A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-07-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 燃焼器内の温度分布計測装置 |
| JP2008208419A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Phyzchemix Corp | 真空処理装置及びその処理終了点の検出方法 |
| JP2014507014A (ja) * | 2011-02-14 | 2014-03-20 | ヨーロピアン・モレキュラー・バイオロジー・ラボラトリー(イー・エム・ビー・エル) | 光パッド顕微鏡 |
| EP2567202A4 (en) * | 2010-03-23 | 2018-01-03 | Ophir-Spiricon, LLC. | Beam scattering laser monitor |
| JP2019002698A (ja) * | 2017-06-12 | 2019-01-10 | 株式会社ジェイテクト | 温度測定装置及び温度測定方法 |
-
1996
- 1996-02-06 JP JP8019925A patent/JPH09210909A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11173918A (ja) * | 1997-12-12 | 1999-07-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 燃焼器内の温度分布計測装置 |
| JP2008208419A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Phyzchemix Corp | 真空処理装置及びその処理終了点の検出方法 |
| EP2567202A4 (en) * | 2010-03-23 | 2018-01-03 | Ophir-Spiricon, LLC. | Beam scattering laser monitor |
| JP2014507014A (ja) * | 2011-02-14 | 2014-03-20 | ヨーロピアン・モレキュラー・バイオロジー・ラボラトリー(イー・エム・ビー・エル) | 光パッド顕微鏡 |
| US10908403B2 (en) | 2011-02-14 | 2021-02-02 | European Molecular Biology Laboratory (Embl) | Light-pad microscope for high-resolution 3D fluorescence imaging and 2D fluctuation spectroscopy |
| JP2019002698A (ja) * | 2017-06-12 | 2019-01-10 | 株式会社ジェイテクト | 温度測定装置及び温度測定方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030729 |