JPH09212856A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属薄膜磁気記録媒体のドロップアウトを減
少させ、表面処理によるスクラッチ傷の発生を簡易な構
造で効果的に防止する。 【解決手段】 非磁性支持体２上に斜め蒸着により金属
磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、
非磁性支持体２の走行方向（図中Ｙ方向）に対して略々
垂直方向（図中Ｘ方向）にラッピング処理を施すように
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上に
斜め蒸着により金属磁性薄膜を磁性層として形成してな
る磁気記録媒体の製造方法の技術分野に属し、特に、非
磁性支持体の表面処理や磁性層の表面処理に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、磁気記録媒体としては、酸化
物磁性粉末あるいは合金磁性粉末等の粉末磁性材料を塩
化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル樹脂、
ウレタン樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機結合剤中に分
散せしめた磁性塗料を非磁性支持体上に塗布、乾燥する
ことにより作成される塗布型の磁気記録媒体が広く使用
されている。

【０００３】これに対して、ビデオテープレコーダー
（ＶＴＲ）等の分野においては、高画質化を図るため
に、高密度磁気記録化が一層強く要求されており、これ
に対応する磁気記録媒体として、Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｃ
ｏ−Ｃｒ系合金、Ｃｏ−Ｏ系等の金属磁性材料を、メッ
キや真空薄膜形成技術（真空蒸着法やスパッタリング
法、イオンプレーティング法等）によってポリエステル
フィルムやポリアミド、ポリイミドフィルム等の非磁性
支持体上に磁性層として直接被着した、いわゆる強磁性
金属薄膜塗布型の磁気記録媒体が提案され注目を集めて
いる。

【０００４】そして、この強磁性金属薄膜塗布型の磁気
記録媒体においては、電磁変換特性を向上させ、より大
きな出力を得ることが出来るようにするために、磁性層
である強磁性金属薄膜を形成する場合、磁性材料を斜め
に蒸着する斜め蒸着が提案され実用化されている。この
ような金属薄膜媒体は、磁気特性的な優位さ故に今後の
高密度磁気記録媒体の主流となると考えられる。

【０００５】ところで、この斜め蒸着によって成膜され
る磁性層は、通常２００ｎｍ程度と非常に薄いために非
磁性支持体上の付着物や形状変形などが磁気ヘッドとの
接触を妨げ、当たり不良やドロップアウトなどになるい
ため、非磁性支持体の製造工程や蒸着工程などにおける
付着物の発生や寝押しなどによる形状変形には細心の注
意が払われてきた。

【０００６】しかし、蒸着プロセスにおける磁性材料の
微小粉塵などを完全に除去することはできず、蒸着工程
における微小な熱負けの発生や蒸着装置内の微小な粉塵
などが付着したドロップアウトを問題のないレベルまで
少なくすることはできなかった。特に、この熱負けは磁
気記録層の部分的な特性劣化を生じ、当たり不良や、い
わゆるドロップアウトの原因となる。

【０００７】このドロップアウト対策として、本願出願
人は、既に、特開昭６３−１６７４２５号公報や特開平
２−７２２５号公報に示されるような磁性層表面にラッ
ピング処理を施す方法を提案している。このラッピング
処理は、蒸着テープ原反の表面に付着したゴミや異物
を、蒸着テープ原反の走行方と同じ方向に研摩力の強い
ラッピングテープを摺接させることにより除去するもの
である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の方
法は、蒸着テープ原反の走行方と同じ方向にラッピング
テープを摺接させてラッピング処理を施すものである。

【０００９】しかしながら、このような従来方法では、
蒸着テープ原反の送り速度に比べて、ラッピングテープ
等の送り速度が桁違いに遅いため、ラッピングテープに
付着した蒸着テープ原反の異物やゴミ等が、逆に、蒸着
テープ原反に傷をつけてしまう弊害があった。

【００１０】また、従来のラッピング処理の方法では、
蒸着テープ原反の走行方と同じ方向に送り速度を変えて
走行させるものであるために、ラッピングテープ等に付
着した異物が蒸着テープ原反の長さ方向にかなりの長さ
で傷つけてしまう問題があった。

【００１１】そこで、このような事態を改善するため
に、ラッピング処理時の条件設定等においてさまざまな
工夫がなされてきた。例えば、ラッピングテープの走行
方向を蒸着テープ原反に対して斜め方向に走行させるこ
とにより、スクラッチ傷の発生を抑える試みが、その一
つである。

【００１２】しかし、従来方法を前提として工夫したも
のは、いずれも充分な効果は発揮されていない。他方、
従来方法を大幅に変更して、仮に、充分な効果が発揮さ
れるとしても、装置が大型化複雑化してコストが高くな
ることは好ましいものではない。

【００１３】特に、近年の磁気記録システムの高密度記
録（短波長記録化）、ディジタル記録化に伴い、磁気記
録媒体にこの厳しい要求に応える必要があるが、従来の
ものでは、かかる要求に充分な効果を発揮することはで
きなかった。

【００１４】そこで、本発明は、このような実情に鑑み
て提案されたものであって、金属薄膜磁気記録媒体のド
ロップアウトを減少させ、表面処理によるスクラッチ傷
の発生を簡易な構造で効果的に防止することができる磁
気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、上記課題を解決し目的を達成するために、
非磁性支持体上に斜め蒸着により金属磁性薄膜を形成す
る磁気記録媒体の製造方法において、非磁性支持体の走
行方向に対して略々垂直方向にラッピングすることを特
徴とする。

【００１６】また、ラッピングテープの裏面側から圧縮
空気を吹き付けることを特徴とする。

【００１７】また、非磁性支持体の走行方向に対して略
々垂直方向にラッピング処理した後、非磁性支持体の走
行方向と同じ方向にラッピング処理を施すことを特徴と
する。

【００１８】また、ラッピングテープによるラッピング
処理が非磁性支持体に金属磁性薄膜が被着形成された後
に施されることを特徴とする。

【００１９】本発明は、非磁性支持体の走行方向に対し
て略々垂直方向にラッピング処理を施すものであるた
め、強磁性金属薄膜磁気記録媒体の表面処理が良好に行
え、蒸着テープ原反の走行方と同じ方向にラッピングテ
ープを摺接させる従来方法のように、ラッピングテープ
に付着した蒸着テープ原反の異物やゴミ等が、逆に、蒸
着テープ原反に傷をつけてしまうようなことがなくな
る。

【００２０】また、非磁性支持体の走行方向に対して略
々垂直方向にラッピング処理を施すことにより、従来方
法のように、ラッピングテープ等に付着した異物が蒸着
テープ原反の長さ方向にかなりの長さで傷つけてしまう
ようなことがなくなる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を具体的な実施の形
態を図面に基づいて説明する。

【００２２】磁気記録媒体の製造装置 本発明の装置を使用して製造される磁気記録媒体は、強
磁性金属薄膜型の磁気記録媒体、特に、斜め蒸着法によ
り強磁性金属薄膜を被着形成した磁気記録媒体である。

【００２３】そこで、本実施の形態にかかる磁気記録媒
体の製造装置は、図１に示すように、内部が真空状態と
なされた真空室１内に、テープ状の非磁性支持体２が、
図中時計回り方向に定速回転する送りロール３から図中
の反時計回り方向に定速回転するようになされた巻取り
ロール４に順次走行するようになされている。

【００２４】これら送りロール３と巻取りロール４との
中途部には、非磁性支持体２を図中下方に引き出すよう
に設けられるとともに、上記各ロール３，４の径よりも
大きな径となされた冷却キャン５が図中時計回り方向に
定速回転するように設けられている。

【００２５】尚、上記送りロール３、巻取りロール４、
及び、冷却キャン５は、それぞれ非磁性支持体２の幅と
略同じ長さからなる円筒状をなすものであり、また、冷
却キャン５には、内部に図示しない冷却装置が設けら
れ、上記非磁性支持体２の温度上昇による変形等を抑制
し得るようになされている。

【００２６】したがって、非磁性支持体２は、送りロー
ル３から順次送り出され、さらに上記冷却キャン５の周
面を通過し、巻取りロール４に巻取られていくようにな
されている。尚、上記送りロール３と記冷却キャン５と
の間及び該冷却キャン５と上記巻取りロール４との問に
はそれぞれガイドロール６、７が配設され、送りロール
３から冷却キャン５及び該冷却キャン５から券取りロー
ル４に亘って走行する非磁性支持体２に所定のテンショ
ンをかけ、該非磁性支持体２が円滑に走行するようにな
されている。

【００２７】また、上記真空室１内には、上記冷却キャ
ン５の下方に収納容器８が設けられ、この収納容器８内
に金属磁性材料９が充填されている。また、冷却キャン
５の側方には、電子ビーム銃等によって構成される加熱
手段１０が設けられている。

【００２８】この加熱手段１０は、収納容器８内に充填
された金属磁性材料９を加熱蒸発させるものであり、加
熱手段１０によって蒸発した金属磁性材料９は、冷却キ
ャン５の周面を定速走行する非磁性支持体２上に磁性層
として被着形成されるようになされている。

【００２９】また、冷却キャン５と収納容器８との間で
あって該冷却キャン５の近傍には、シャッタ１１が配設
されている。このシャッタ１１は、上記冷却キャン５の
周面を定速走行する非磁性支持体２の所定領域を覆う形
で形成され、このシャッタ１２により上記蒸発せしめら
れた金属磁性材料９が非磁性支持体２に対して所定の角
度範囲で斜めに蒸着されるようになっている。

【００３０】そして特に、本磁気記録媒体の製造装置
は、上記ガイドロール７から巻き取りロール４に亘って
走行する非磁性支持体２の磁性層表面にラッピング処理
を施す第１の研摩装置１２と、必要に応じて更にラッピ
ング処理が施される第２の研摩装置２１が設けられてい
る。

【００３１】まず、第１の研摩装置１２は、簡易な構造
で効率的なラッピング処理を施すもので、上記ガイドロ
ール７と巻取りロール４の間に設けられている。そし
て、この第１の研摩装置１２は、図２に示すように、ガ
イドロール１８からガイドロール１９に亘って走行する
非磁性支持体２に対して垂直方向に設けられている。

【００３２】すなわち、この第１の研摩装置１２は、ラ
ッピングテープ１４が、ラッピングテープ送りロール１
５からラッピングテープ巻き取りロール１６に固定部材
１３，１３を介して巻き取られるようになされており、
非磁性支持体２の走行方向（図中矢印Ｙ方向）に対して
垂直方向（図中矢印Ｘ方向）に摺接するようにラッピン
グテープ１４が配されて構成されている。

【００３３】また、ラッピングテープ１４の裏面側に
は、吹き付け手段２０が設けられている。この吹き付け
手段２０は、圧縮空気を吹き付けることにより、よりラ
ッピング処理の効果をもたせるようにするためのもので
ある。

【００３４】したがって、非磁性支持体２に金属磁性薄
膜が被着形成された後、上記構成の研摩装置１２、２１
により、非磁性支持体２の磁性層表面に付着した蒸着時
のスプラッシュ物や塵埃が除去されるようになってい
る。そして、上記第１の研摩装置１２の構成は、従来の
非磁性支持体２に対して同じ方向にラッピングテープ２
３を摺接させるものを横方向に配すれば良いために、構
成が簡単であり、設置スペースもあまりとらないため
に、既存の設備にも容易に導入することができる。

【００３５】ここで、ラッピングテープ１４の幅は、１
０ｍｍに裁断したものを使用した。また、ラッピングテ
ープ１４の送り速度は、研摩時の傷の発生しにくい速度
を選択すればよいが、本実施の形態のように、従来の速
度に比べスクラッチ傷の長さが短くなるため比較的早い
速度に設定したほうが好ましい。

【００３６】次に、本装置では、上記ガイドロール７か
ら巻き取りロール４に亘って走行する非磁性支持体２の
磁性層表面にラッピング処理を施すラッピングロール２
２が配された第２の研摩装置２１が設けられている。た
だし、この第２の研摩装置は、上記第１の研摩装置１２
により、非磁性支持体２の磁性層表面に付着した蒸着時
のスプラッシュ物や塵埃が除去される場合には、必ずし
も使用しなくとも良いものである。

【００３７】この第２の研摩装置２１は、上記第１の研
摩装置１２によりラッピング処理が施されたが、この第
１の研摩装置１２だけでは充分でない場合にラッピング
処理が施されるもので、第１の研摩装置１２からの延長
線上、すなわちインラインにて設けられている。

【００３８】この第２の研摩装置２１は、図２に示すよ
うに、上記ガイドロール７と巻取りロール４の間に設け
られているが、第１の研摩装置１２と異なり、非磁性支
持体２に対して同じ方向にラッピングテープ２３を摺接
させるものである。このラッピングテープ２３は、上記
ラッピングロール２２の近傍に配されたラッピングテー
プ送りロール２４に多数巻き回され順次上記ラッピング
テープ２３に走行し、さらに上記ラッピングロール２２
の近傍に配されたラッピングテープ巻き取りロール２５
に巻き取られるようにされている。

【００３９】磁気記録媒体の製造方法 このような構成の磁気記録媒体の製造装置により、Ｃｏ
−Ｎｉ合金等の強磁性金属材料を斜め方向から真空蒸着
し、非磁性支持体２に対して強磁性金属薄膜よりなる磁
性層を形成する。

【００４０】ここで、斜め蒸着する強磁性金属薄膜材料
しては、通常の蒸着テ−プに使用されるものであれば如
何なるものであってもよい。例示すれば、Ｆｅ，Ｃｏ，
Ｎｉなどの強磁性金属、Ｆｅ−Ｃｏ，Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ
−Ｃｏ−Ｎｉ，Ｆｅ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ｃｕ，Ｃｏ−Ａｕ，
Ｃｏ−Ｐｔ，Ｆｅ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｃｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｃｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ，Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ
−Ｃｒ等の強磁性合金が挙げられる。金属磁性層は、こ
れらの単層膜であってもよいし多層膜であってもよい。
さらに多層膜の場合には、各層間の付着力向上、並びに
抗磁力の制御等のため、中間層を設けてもよい。また、
磁性層表面近傍が耐蝕性改善等のために酸化物となって
いてもよい。

【００４１】金属磁性層形成の手段としては、真空下で
強磁性金属材料を加熱蒸発させ非磁性支持体上に被着さ
せる真空蒸着法や、強磁性金属材料の蒸発を放電中で行
うイオンプレーティング法、アルゴンを主成分とする雰
囲気中でグロー放電を越こし生じたアルゴンイオンでタ
ーゲット表面の原子をたたき出すスパッタ法等、いわゆ
るＰＶＤ技術によればよい。

【００４２】また、上記非磁性支持体上に形成された強
磁性金属材料上には保護膜が形成されていても良いが、
この材料としては、通常の金属磁性薄膜として使用され
るものであれば如何なるものであっても良い。例示すれ
ば、ＣｒＯ₂ ，Ａｌ₂Ｏ₃，ＢＮ，Ｃｏ酸化物，ＭｇＯ，
ＳｉＯ₂，Ｓｉ₃Ｏ₄，ＳｉＮｘ，ＳｉＣ，ＳｉＮ−Ｓｉ
Ｏ₂，ＺｒＯ₂，ＴｉＯ₂，ＴｉＣ等が挙げられる。これ
らの単層膜であってもよいし多層膜や金属との複合膜で
あってもよい。

【００４３】また、非磁性支持体としては、通常この種
の磁気記録媒体の非磁性支持体として用いられるもので
あれば何れも使用可能であり、例示すれば、ポリエステ
ル類，ポリアミド類，ポリオレフィン類，セルロース誘
導体，ビニル系樹脂，ポリイミド類，ポリアミド類，ポ
リカーボネート等に代表されるような高分子材料からな
る支持体が挙げられる。

【００４４】また、結合剤としても、通常この種の磁気
記録媒体の非磁性支持体として用いられるものであれば
何れも使用可能であり、例示すれば、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体，塩化ビニル−プロピオン酸共重合体，
塩化ビニル酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体等の
塩化ビニル系樹脂や、ポリエステルポリウレタン、ポリ
エーテルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン
等のポリウレタン樹脂等が挙げられる。

【００４５】もちろん、本発明にかかる磁気記録媒体の
構成は、これに限定されるものではなく、本発明の要旨
を逸脱しない範囲での変更、例えば必要に応じてバック
コート層を形成したり、非磁性支持体上に下塗層を形成
したり、潤滑剤、防錆剤などの層を形成することは何等
差し支えない。この場合、バックコート層に含まれる非
磁性顔料、樹脂結合剤、或いは、潤滑剤、防錆剤層に含
まれる材料としては従来公知のものがいずれも使用する
ことができる。

【００４６】次に、非磁性支持体２の裏面にバックコー
ト層を成膜する際に、第１の研摩装置１２の非磁性支持
体２の走行方向に対して垂直方向に摺接するラッピング
テープ１４によりラッピング処理を行う。

【００４７】すなわち、非磁性支持体２に金属磁性薄膜
が被着形成された後、上記構成の研摩装置１２により、
非磁性支持体２の磁性層表面に付着した蒸着時のスプラ
ッシュ物や塵埃を除去する。この際、吹き付け手段２０
により、圧縮空気を吹き付けるようにしても良い。

【００４８】そして、上記第１の研摩装置１２による除
去だけで不十分な場合は、第２の研摩装置２１のラッピ
ングテープ２３により、今度は、非磁性支持体２の走行
方向と同じ方向にラッピング処理を施す。

【００４９】その結果、巻き取りロール４により順次磁
気記録媒体が巻き取られても非磁性支持体２の磁性層表
面に付着した塵埃は、既に巻き取られた非磁性支持体２
上に形成された磁性層に付着することがなくなった。し
たがって、蒸着テープ原反の走行方と同じ方向にラッピ
ングテープを摺接させる従来方法のように、ラッピング
テープに付着した蒸着テープ原反の異物やゴミ等が、逆
に、蒸着テープ原反に傷をつけてしまうようなことがな
くなる。

【００５０】また、非磁性支持体の走行方向に対して垂
直方向に摺接するラッピングテープを配したことによ
り、従来方法のように、ラッピングテープ等に付着した
異物が蒸着テープ原反の長さ方向にかなりの長さで傷つ
けてしまうようなことがなくなった。

【００５１】なお、本実施の形態では、非磁性支持体２
の磁性層表面にラッピング処理を施す構成を採用したも
ので説明したが、本発明は上記実施の形態に限定される
ものではなく、例えば非磁性支持体２の表面をラッピン
グ処理を施すものでもよいし、さらに非磁性支持体２の
表面と磁性層の表面との両面をラッピング処理を施すよ
うにしたものであっても良い。

【００５２】実験 本発明者等は、上記磁気記録媒体の製造装置により、表
１に示す磁気記録媒体を製造した。

【００５３】

【表１】

【００５４】そして、この磁気記録媒体の製造の過程に
おいて、上記製造装置により、ラッピング処理を以下に
説明する種々の方法で行い、それらの磁気記録媒体のス
クラッチ傷の発生とドロップアウト量（個／分）を測定
した。

【００５５】ここで、ドロップアウトの測定は、ソニー
製ＥＶ−Ｓ９００改造機を用い、再生出力レベルから表
２に示す条件の出力落ちをドロップアウトとして、１０
分間測定を行い１分間当たりのドロップアウト数を求め
た。

【００５６】また、スクラッチ傷の有無の確認は、裁断
前の蒸着テープ原反を全長３０００ｍに亘って表面検査
を目視にて行った。そして、このときのスクラッチ傷の
大きさを、長さ１ｍ以上のものと、１ｍより小さいもの
とに区別した。

【００５７】実験に使用したラッピングテープは、非磁
性支持体として１５μｍ厚のポリエンエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）ベースを用い平均粒径３μｍの酸化ア
ルミニウム粒子をウレタンバインダーで混合し、５μｍ
の塗布厚で作製した。なお、研摩粒子としては、酸化ア
ルミニウムの他、カーボン、酸化ジルコニウム、酸化ク
ロム、ＳｉＯ₂などが使用可能である。

【００５８】実施例１ 実施例１として、蒸着テープ原反の送り速度は、１５０
／分、また、ラッピングテープ１４の送り速度は、０．
２ｍ／分の条件で行った。そして、磁性層表面にトップ
コートを施し、所定のテープ幅に裁断して実施例１のテ
ープを作製した。この実施例１の場合の効果の確認を行
うために表面処理後の磁性層表面を目視観察しスクラッ
チ傷の発生の有無を確認した。その結果を表２に示す。
なお、この実施例１では、吹き付け手段２０による吹き
付けや、第２の研摩装置２１によるラッピング処理は施
されていない。

【００５９】

【表２】

【００６０】実施例２ 実施例２として、実施例１のラッピング処理を施す時、
より蒸着テープ原反との密着性を高めるために、ラッピ
ングテープ１４の裏面から吹き付け手段２０により、圧
縮空気を吹き付け、よりラッピングの効果をもたせるよ
うにしてラッピング処理を施して実施例２のテープを作
製した。

【００６１】なお、実施例１と同様、蒸着テープ原反の
送り速度は、１５０／分、また、ラッピングテープの送
り速度は、０．２ｍ／分の条件で行った。そして、実施
例２の効果の確認を行うために表面処理後の磁性層表面
を目視観察しスクラッチ傷の発生の有無を確認した。そ
の結果を表２に示す。なお、この実施例２では、第２の
研摩装置２１によるラッピング処理は施されていない。

【００６２】実施例３ 実施例１と同じ条件で同じラッピング処理をした後に、
いわゆるインラインにて配された第２の研摩装置２１に
より、さらに、従来と同じ蒸着テープ原反の走行方と同
じ方向にラッピングテープ１４を摺接させてラッピング
処理を施した。

【００６３】比較例１ 比較例１として、蒸着テープ原反の走行方と同じ方向に
ラッピングテープを摺接させる従来方法により、ラッピ
ング処理したものを比較例１とした。すなわち、本装置
では、第２の研摩装置によるラッピング処理のみを施し
たものを比較例１とした。この場合のラッピング処理
は、磁性層の柱状構造の成長方向に沿って行った。

【００６４】なお、蒸着テープ原反の送り速度は、実施
例１と同様、１５０／分、また、ラッピングテープ１４
の送り速度は０．２ｍ／分の条件で行った。そして、効
果の確認を行うために表面処理後の磁性層表面を目視観
察しスクラッチ傷の発生の有無を確認した。

【００６５】その後に、磁性層表面にトップコートを施
し、所定のテープ幅に裁断して比較例テープ１を作製し
た。その結果を表２に示す。

【００６６】比較例２ 比較例テープ２として、ラッピング処理を施さない比較
例２のテープを作製した。

【００６７】実験結果の検討 まず、表２から明らかなように、第２の研摩装置２１の
みを使用して、従来と同じ蒸着テープ原反の走行方と同
じ方向にラッピングテープを摺接させてラッピング処理
のみを施した比較例１は、ラッピング処理を施さなかっ
た比較例２に比べ、−１０ｄＢ３μｓｅｃ、−１０ｄＢ
１０μｓｅｃのような比較的小さなドロップアウトの低
減効果は大きい。しかし、−１６ｄＢ１０μｓｅｃのよ
うなスクラッチ傷に起因する大きなドロップアウトの低
減効果は約１／２と小さい。

【００６８】また、比較例１は、ラッピング処理を施す
ことにより、スクラッチ傷の発生もあり、従来方法によ
るラッピング処理としては比較的良好な条件であっても
一長一短がある。これでは、現在実用化されている民生
用ディジタルＶＴＲのような高密度記録のシステムに要
求されるエラーレートの要求は、まだ不十分である。

【００６９】これに対して、実施例１によれば、スクラ
ッチ傷の発生が比較例１に比べ著しく良好な結果が得ら
れた。すなわち、実施例１は、比較例１と比して、スク
ラッチ傷が長さ１ｍ以上のものも１ｍより小さいものも
大幅に減少していることがわかる。

【００７０】また、ドロップアウトについては、−１０
ｄＢ３μｓｅｃ、−１０ｄＢ１０μｓｅｃのような比較
的小さなドロップアウトは、比較例１と同様かそれ以上
の効果が得られ、−１６ｄＢ１０μｓｅｃのような大き
なドロップアウトは、比較例１よりも著しく良好な結果
が得られた。

【００７１】そして、ラッピングテープ１４の裏面から
圧縮空気を吹き付けた実施例２、実施例１と従来方法と
の組み合わせをした実施例３においては、実施例１の場
合よりもより効果が大きいことがわかる。

【００７２】したがって、本実施の形態の装置により製
造すれば、金属薄膜磁気記録媒体のドロップアウトを減
少させ、表面処理によるスクラッチ傷の発生を効果的に
防止することができることがわかる。そして、実施例１
〜３によれば、現在実用化されている民生用ディジタル
ＶＴＲのような高密度記録のシステムに要求されるエラ
ーレートの要求が満たされることとなる。

【００７３】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非
磁性支持体の走行方向に対して垂直方向に摺接するラッ
ピングテープが配されているため、強磁性金属薄膜磁気
記録媒体の表面処理が良好に行え、蒸着テープ原反の走
行方と同じ方向にのみラッピングテープを摺接させる従
来方法のように、ラッピングテープに付着した蒸着テー
プ原反の異物やゴミ等が、逆に、蒸着テープ原反に傷を
つけてしまうようなことがなくなる。

【００７４】また、非磁性支持体の走行方向に対して垂
直方向に摺接するラッピングテープを配したことによ
り、従来方法のように、ラッピングテープ等に付着した
異物が蒸着テープ原反の長さ方向にかなりの長さで傷つ
けてしまうようなことがなくなる。

【００７５】したがって、本発明の方法によれば、金属
薄膜磁気記録媒体のドロップアウトを減少させ、表面処
理によるスクラッチ傷の発生を簡易な構造で効果的に防
止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態の磁気記録媒体の製造装置
を示す模式図である。

【図２】上記製造装置の研摩装置の斜視図である。

【符号の説明】

２ 非磁性支持体（ベースフィルム） ４ 巻き取りロール ５ 冷却キャン １２ 第１の研摩装置 １４ ラッピングテープ ２０ 吹き付け手段 ２１ 第２の研摩装置

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に斜め蒸着により金属磁
   性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、 非磁性支持体の走行方向に対して略々垂直方向にラッピ
   ング処理を施すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方
   法。
2. 【請求項２】 ラッピングテープの裏面側から圧縮空気
   を吹き付けることを特徴とする請求項１記載の磁気記録
   媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 非磁性支持体の走行方向に対して略々垂
   直方向にラッピング処理を施した後、非磁性支持体の走
   行方向と同じ方向にラッピング処理を施すことを特徴と
   する請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 ラッピングテープによるラッピング処理
   が非磁性支持体に金属磁性薄膜が被着形成された後に施
   されることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の
   製造方法。