JPH09128751A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH09128751A JPH09128751A JP28067795A JP28067795A JPH09128751A JP H09128751 A JPH09128751 A JP H09128751A JP 28067795 A JP28067795 A JP 28067795A JP 28067795 A JP28067795 A JP 28067795A JP H09128751 A JPH09128751 A JP H09128751A
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- Japan
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- thin film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁性薄膜を構成してなる磁性粒子の配向性の
向上を図り、良好な電磁変換特性を得ることができる。 【解決手段】 非磁性支持体上に真空薄膜形成技術によ
り強磁性金属薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に
おいて、上記強磁性金属薄膜を形成する際に、移動走行
する上記非磁性支持体を支持してなる冷却キャンの内部
に永久磁石を設置する。
向上を図り、良好な電磁変換特性を得ることができる。 【解決手段】 非磁性支持体上に真空薄膜形成技術によ
り強磁性金属薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に
おいて、上記強磁性金属薄膜を形成する際に、移動走行
する上記非磁性支持体を支持してなる冷却キャンの内部
に永久磁石を設置する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上に
真空薄膜形成技術により強磁性金属薄膜からなる磁性層
を成膜する際に用いて好適な磁気記録媒体の製造方法に
関する。
真空薄膜形成技術により強磁性金属薄膜からなる磁性層
を成膜する際に用いて好適な磁気記録媒体の製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばビデオテープレコーダ等の磁気記
録の分野においては、高密度化が一層強く要求されてお
り、これに対応する磁気記録媒体として、金属、或いは
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｏ等の強磁性
金属材料を、メッキや真空薄膜形成技術（真空蒸着法や
スパッタリング法、イオンプレーティング法等）によっ
てポリエステルフィルムやポリアミド、ポリイミドフィ
ルム等の非磁性支持体上に直接被着せしめて磁性層を形
成する、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案
され注目を集めている。
録の分野においては、高密度化が一層強く要求されてお
り、これに対応する磁気記録媒体として、金属、或いは
Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｏ等の強磁性
金属材料を、メッキや真空薄膜形成技術（真空蒸着法や
スパッタリング法、イオンプレーティング法等）によっ
てポリエステルフィルムやポリアミド、ポリイミドフィ
ルム等の非磁性支持体上に直接被着せしめて磁性層を形
成する、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案
され注目を集めている。
【０００３】この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、抗
磁力や角形比等に優れ、磁性層の厚みを極めて薄くでき
る為、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さく短波
長での電磁変換特性に優れるばかりでなく、磁性層中に
非磁性材であるバインダーを混入する必要がないため磁
性材料の充填密度を高めることができる等、数々の利点
を有している。即ち、この金属磁性薄膜型の磁気記録媒
体は、磁気特性的な優位さ故に高密度磁気記録の主流に
なると考えられる。
磁力や角形比等に優れ、磁性層の厚みを極めて薄くでき
る為、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さく短波
長での電磁変換特性に優れるばかりでなく、磁性層中に
非磁性材であるバインダーを混入する必要がないため磁
性材料の充填密度を高めることができる等、数々の利点
を有している。即ち、この金属磁性薄膜型の磁気記録媒
体は、磁気特性的な優位さ故に高密度磁気記録の主流に
なると考えられる。
【０００４】かかる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体にお
いて、中でも真空蒸着法によって磁性層が形成される蒸
着テープは、高生産効率と安定した特性が得られるため
に、既にハイバンド８ミリ用テープやディジタルマイク
ロテープ（ＮＴテープ）等として商品化されている。
いて、中でも真空蒸着法によって磁性層が形成される蒸
着テープは、高生産効率と安定した特性が得られるため
に、既にハイバンド８ミリ用テープやディジタルマイク
ロテープ（ＮＴテープ）等として商品化されている。
【０００５】この蒸着テープにおいては、電磁変換特性
を向上させ、より高出力化を図るために、磁性層を形成
する際に、磁性層を構成する磁性材料を非磁性支持体の
表面に対して斜め方向から蒸着させる、いわゆる斜方蒸
着法が使用されている。
を向上させ、より高出力化を図るために、磁性層を形成
する際に、磁性層を構成する磁性材料を非磁性支持体の
表面に対して斜め方向から蒸着させる、いわゆる斜方蒸
着法が使用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】かかる蒸着テープ等の
磁気記録媒体は、高密度記録用媒体として有望である
が、今後更なる出力の向上、ノイズの低減が求められて
いる。出力の向上やノイズの低減を図る方法としては、
例えば蒸着により形成された磁性層を構成してなる磁性
粒子の配向性を向上させる方法がある。
磁気記録媒体は、高密度記録用媒体として有望である
が、今後更なる出力の向上、ノイズの低減が求められて
いる。出力の向上やノイズの低減を図る方法としては、
例えば蒸着により形成された磁性層を構成してなる磁性
粒子の配向性を向上させる方法がある。
【０００７】しかしながら、現在の蒸着テープの磁気特
性の角形比は高くてもせいぜい８０％程度であり、より
一層の向上が望まれているが、従来の技術では著しい向
上は期待できない。
性の角形比は高くてもせいぜい８０％程度であり、より
一層の向上が望まれているが、従来の技術では著しい向
上は期待できない。
【０００８】そこで、本発明は、このような実情に鑑み
て提案されたものであって、磁性薄膜を構成してなる磁
性粒子の配向性の向上を図り、良好な電磁変換特性を得
ることが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する事を
目的とする。
て提案されたものであって、磁性薄膜を構成してなる磁
性粒子の配向性の向上を図り、良好な電磁変換特性を得
ることが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する事を
目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上述の目
的を達成せんものと鋭意研究の結果、蒸着装置内に配設
される冷却キャン内部の表面近傍に永久磁石を設置して
成膜を行うことにより、磁性粒子の配向性に優れた磁性
薄膜が形成され、媒体としての出力特性が向上すること
を見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
的を達成せんものと鋭意研究の結果、蒸着装置内に配設
される冷却キャン内部の表面近傍に永久磁石を設置して
成膜を行うことにより、磁性粒子の配向性に優れた磁性
薄膜が形成され、媒体としての出力特性が向上すること
を見い出し、本発明を完成するに至ったものである。
【００１０】即ち、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、非磁性支持体上に真空薄膜形成技術により強磁性金
属薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上
記強磁性金属薄膜を形成する際に、移動走行する上記非
磁性支持体を支持してなる冷却キャンの内部に永久磁石
を設置することを特徴とするものである。
は、非磁性支持体上に真空薄膜形成技術により強磁性金
属薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、上
記強磁性金属薄膜を形成する際に、移動走行する上記非
磁性支持体を支持してなる冷却キャンの内部に永久磁石
を設置することを特徴とするものである。
【００１１】また、永久磁石が冷却キャンの表面近傍に
設置されてなることを特徴とする。
設置されてなることを特徴とする。
【００１２】本発明が適用される磁気記録媒体として
は、非磁性支持体上に真空薄膜形成技術により強磁性金
属薄膜が磁性層として形成される、いわゆる金属磁性薄
膜型の磁気記録媒体が挙げられる。
は、非磁性支持体上に真空薄膜形成技術により強磁性金
属薄膜が磁性層として形成される、いわゆる金属磁性薄
膜型の磁気記録媒体が挙げられる。
【００１３】上記金属磁性薄膜型の磁気記録媒体におい
て、上記非磁性支持体や強磁性金属薄膜を構成する強磁
性材料等は従来よりこの種の磁気記録媒体において使用
されているものがいずれも使用可能であり、特に限定さ
れるものではない。
て、上記非磁性支持体や強磁性金属薄膜を構成する強磁
性材料等は従来よりこの種の磁気記録媒体において使用
されているものがいずれも使用可能であり、特に限定さ
れるものではない。
【００１４】上記磁性層は、これら強磁性材料からなる
強磁性金属薄膜の単層膜であっても良いし、多層膜であ
っても良い。
強磁性金属薄膜の単層膜であっても良いし、多層膜であ
っても良い。
【００１５】また、上記非磁性支持体と上記強磁性金属
薄膜間、或いは多層膜の場合には、各層間の付着力の向
上、並びに抗磁力の制御等のために、下地層、又は中間
層を設けても良い。更に、例えば磁性層表面近傍が耐食
性の改善等のために酸化物となっていても良い。
薄膜間、或いは多層膜の場合には、各層間の付着力の向
上、並びに抗磁力の制御等のために、下地層、又は中間
層を設けても良い。更に、例えば磁性層表面近傍が耐食
性の改善等のために酸化物となっていても良い。
【００１６】この強磁性金属薄膜を形成する手段として
は、真空下で上述の強磁性金属材料を加熱蒸発させ上記
非磁性支持体上に被着せしめる真空蒸着法が好適であ
る。
は、真空下で上述の強磁性金属材料を加熱蒸発させ上記
非磁性支持体上に被着せしめる真空蒸着法が好適であ
る。
【００１７】本発明においては、この強磁性金属薄膜を
形成する際に、移動走行する上記非磁性支持体を支持し
てなる冷却キャンの内部に永久磁石を設置し、上記強磁
性金属薄膜の成膜直後に該強磁性金属薄膜に磁場を印加
する。これにより、上記強磁性金属薄膜を構成してなる
磁性粒子の配向性が向上し、良好な出力特性が得られ
る。
形成する際に、移動走行する上記非磁性支持体を支持し
てなる冷却キャンの内部に永久磁石を設置し、上記強磁
性金属薄膜の成膜直後に該強磁性金属薄膜に磁場を印加
する。これにより、上記強磁性金属薄膜を構成してなる
磁性粒子の配向性が向上し、良好な出力特性が得られ
る。
【００１８】上記永久磁石としては、サマリウムコバル
トが好適であるが、この他ネオジボロン等が使用可能で
あり、特に限定されるものではない。
トが好適であるが、この他ネオジボロン等が使用可能で
あり、特に限定されるものではない。
【００１９】勿論、本発明が適用される磁気記録媒体の
構成としては、これに限定されるものではなく、本発明
の要旨を逸脱しない範囲での変更、例えば必要に応じて
バックコート層を形成したり、上記非磁性支持体上に下
塗り層を形成したり、潤滑剤層等の各種層を形成するこ
とはなんら差し支えない。この場合、上記バックコート
層に含まれる非磁性顔料、樹脂結合剤、或いは上記潤滑
剤層に含まれる材料等としては、従来公知のものがいず
れも使用可能である。
構成としては、これに限定されるものではなく、本発明
の要旨を逸脱しない範囲での変更、例えば必要に応じて
バックコート層を形成したり、上記非磁性支持体上に下
塗り層を形成したり、潤滑剤層等の各種層を形成するこ
とはなんら差し支えない。この場合、上記バックコート
層に含まれる非磁性顔料、樹脂結合剤、或いは上記潤滑
剤層に含まれる材料等としては、従来公知のものがいず
れも使用可能である。
【００２０】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例により説明す
るが、本発明がこの実施例に限定されるものでないこと
は言うまでもない。
るが、本発明がこの実施例に限定されるものでないこと
は言うまでもない。
【００２１】先ず、本実施例において作製した磁気テー
プの磁性層を形成する際に使用した連続巻取り式真空蒸
着装置の構成について説明する。
プの磁性層を形成する際に使用した連続巻取り式真空蒸
着装置の構成について説明する。
【００２２】この連続巻取り式真空蒸着装置は、図１に
示すように、内部が所定の真空度（ここでは、１０-2Ｐ
ａ）に保たれた真空槽１内において、被処理体であるテ
ープ状の非磁性支持体４が、図１中の反時計回り方向に
定速回転する送りロール２から反時計回り方向に定速回
転する巻き取りロール３に向かって順次走行するように
なされている。
示すように、内部が所定の真空度（ここでは、１０-2Ｐ
ａ）に保たれた真空槽１内において、被処理体であるテ
ープ状の非磁性支持体４が、図１中の反時計回り方向に
定速回転する送りロール２から反時計回り方向に定速回
転する巻き取りロール３に向かって順次走行するように
なされている。
【００２３】これら送りロール２側から巻き取りロール
３側に亘って上記非磁性支持体４が走行する中途部に
は、該非磁性支持体４を図１中左方に引き出すように設
けられるとともに、上記各ロール２，３の径よりも大径
となされた冷却キャン５が図１中時計回り方向に定速回
転するように設けられている。
３側に亘って上記非磁性支持体４が走行する中途部に
は、該非磁性支持体４を図１中左方に引き出すように設
けられるとともに、上記各ロール２，３の径よりも大径
となされた冷却キャン５が図１中時計回り方向に定速回
転するように設けられている。
【００２４】この冷却キャン５は、内部に設けられた冷
却手段（図示せず。）により所定の温度（ここでは−２
０℃とした。）に冷却されるような構成を有しており、
該冷却キャン５の外周面に沿って走行される上記非磁性
支持体４が蒸着時の熱により変形するのを防止するよう
になされている。
却手段（図示せず。）により所定の温度（ここでは−２
０℃とした。）に冷却されるような構成を有しており、
該冷却キャン５の外周面に沿って走行される上記非磁性
支持体４が蒸着時の熱により変形するのを防止するよう
になされている。
【００２５】これら送りロール２、巻き取りロール３及
び冷却キャン５は、それぞれ上記非磁性支持体４の幅と
略同じ長さからなる円筒状をなすものである。
び冷却キャン５は、それぞれ上記非磁性支持体４の幅と
略同じ長さからなる円筒状をなすものである。
【００２６】従って、この真空蒸着装置においては、上
記非磁性支持体４が、上記送りロール２から順次送り出
され、上記冷却キャン５の外周面に沿って通過し、更に
上記巻き取りロール３に巻き取られていくようになされ
ている。
記非磁性支持体４が、上記送りロール２から順次送り出
され、上記冷却キャン５の外周面に沿って通過し、更に
上記巻き取りロール３に巻き取られていくようになされ
ている。
【００２７】また、上記冷却キャン５の下方には、内部
に強磁性材料７が充填されたるつぼ６が配設されてい
る。
に強磁性材料７が充填されたるつぼ６が配設されてい
る。
【００２８】一方、上記真空槽１の頭部には、加熱手段
として電子銃１０が外付けされており、該電子銃１０よ
り発せられる電子ビーム１１が上記るつぼ６内の強磁性
材料（ここではＣｏ100 を用いた。）７上に照射され加
熱溶融せしめられるようになされている。そして、この
るつぼ６より蒸発せしめられた蒸気流Ｘは、上記冷却キ
ャン５の外周面に沿って走行する非磁性支持体４上に蒸
着され、磁性層として形成されるようになされている。
として電子銃１０が外付けされており、該電子銃１０よ
り発せられる電子ビーム１１が上記るつぼ６内の強磁性
材料（ここではＣｏ100 を用いた。）７上に照射され加
熱溶融せしめられるようになされている。そして、この
るつぼ６より蒸発せしめられた蒸気流Ｘは、上記冷却キ
ャン５の外周面に沿って走行する非磁性支持体４上に蒸
着され、磁性層として形成されるようになされている。
【００２９】ここで、上記冷却キャン５の表面近傍の内
部には、少なくとも上記蒸気流Ｘが被着される上記非磁
性支持体４に対向するように永久磁石１２が配設され
る。
部には、少なくとも上記蒸気流Ｘが被着される上記非磁
性支持体４に対向するように永久磁石１２が配設され
る。
【００３０】この永久磁石１２は、上記冷却キャン５の
中心軸に取り付けられた支持棒１３により支持されてお
り、上記冷却キャン５の回転にかかわらず一定の位置に
あるように設置される。
中心軸に取り付けられた支持棒１３により支持されてお
り、上記冷却キャン５の回転にかかわらず一定の位置に
あるように設置される。
【００３１】この永久磁石１２には、図示しない磁界発
生装置により磁場が印加される。これにより、上記非磁
性支持体４上に蒸着形成された上記強磁性材料７からな
る磁性薄膜の成膜直後に磁場を印加することによって該
磁性薄膜を構成してなる磁性粒子の配向性を向上し、得
られる媒体の再生出力を著しく向上することができる。
生装置により磁場が印加される。これにより、上記非磁
性支持体４上に蒸着形成された上記強磁性材料７からな
る磁性薄膜の成膜直後に磁場を印加することによって該
磁性薄膜を構成してなる磁性粒子の配向性を向上し、得
られる媒体の再生出力を著しく向上することができる。
【００３２】このような永久磁石１２として、本実施例
ではサマリウムコバルトを使用したが、これに限定され
るものではなく、この他に例えばネオジボロン等が使用
可能である。
ではサマリウムコバルトを使用したが、これに限定され
るものではなく、この他に例えばネオジボロン等が使用
可能である。
【００３３】また、上記冷却キャン５とるつぼ６との間
で、上記冷却キャン５の近傍には、得られる強磁性金属
薄膜の粒子の微細化を図るために導入される酸素ガスの
酸素ガス導入口８が配設される。そして、この酸素ガス
導入口８の導入口より酸素ガスが上記磁性層上に供給さ
れる。
で、上記冷却キャン５の近傍には、得られる強磁性金属
薄膜の粒子の微細化を図るために導入される酸素ガスの
酸素ガス導入口８が配設される。そして、この酸素ガス
導入口８の導入口より酸素ガスが上記磁性層上に供給さ
れる。
【００３４】なお、上記酸素ガス導入口８の下方には、
該酸素ガス導入口８が設けられた領域と該酸素ガス導入
口８の下方側の領域（上記るつぼ６が設けられた領域）
とを分断する如く遮蔽マスク９が配設されており、上記
酸素ガス導入口８から導入される酸素ガスが該酸素ガス
導入口８の下方側の領域に拡散するのを防止するように
なされている。
該酸素ガス導入口８が設けられた領域と該酸素ガス導入
口８の下方側の領域（上記るつぼ６が設けられた領域）
とを分断する如く遮蔽マスク９が配設されており、上記
酸素ガス導入口８から導入される酸素ガスが該酸素ガス
導入口８の下方側の領域に拡散するのを防止するように
なされている。
【００３５】また、この遮蔽マスク９は、上記冷却キャ
ン５の外周面に沿って移動走行される上記非磁性支持体
４の巻き取りロール３側の一部を被う形で配設され、該
遮蔽マスク９で被われる領域の上記非磁性支持体４上に
は上記るつぼ６より蒸発せしめられた蒸気流Ｘが被着し
ないようにされることで上記非磁性支持体４に対する上
記蒸気流Ｘの入射角が規制される。
ン５の外周面に沿って移動走行される上記非磁性支持体
４の巻き取りロール３側の一部を被う形で配設され、該
遮蔽マスク９で被われる領域の上記非磁性支持体４上に
は上記るつぼ６より蒸発せしめられた蒸気流Ｘが被着し
ないようにされることで上記非磁性支持体４に対する上
記蒸気流Ｘの入射角が規制される。
【００３６】そこで、このような構成を有するの真空蒸
着装置を用い、実際に、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）からなるベースフィルム上に下記の条件にて
斜め蒸着を行ってＣｏ膜を形成し、強磁性金属薄膜の単
層膜からなる磁性層を膜厚が２００ｎｍとなるように形
成した。
着装置を用い、実際に、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）からなるベースフィルム上に下記の条件にて
斜め蒸着を行ってＣｏ膜を形成し、強磁性金属薄膜の単
層膜からなる磁性層を膜厚が２００ｎｍとなるように形
成した。
【００３７】＜蒸着時の条件＞ 蒸気流の入射角θ：非磁性支持体の法線方向から９０〜
４５゜ 非磁性支持体の送り速度：２５ｍ／分 磁性層の厚み：２００ｎｍ 酸素ガス導入量：５００ｃｃ／分 次いで、図２に示すように、上記ベースフィルムの磁性
層形成面の反対面側にバックコート層を設けた。
４５゜ 非磁性支持体の送り速度：２５ｍ／分 磁性層の厚み：２００ｎｍ 酸素ガス導入量：５００ｃｃ／分 次いで、図２に示すように、上記ベースフィルムの磁性
層形成面の反対面側にバックコート層を設けた。
【００３８】続いて、所定の防錆剤を用いて防錆処理を
施した後、上記磁性層表面に潤滑剤を塗布して潤滑剤層
を形成した。
施した後、上記磁性層表面に潤滑剤を塗布して潤滑剤層
を形成した。
【００３９】更に、得られた幅広のベースフィルムを８
ｍｍ幅にスリットしてサンプルテープを作製した。
ｍｍ幅にスリットしてサンプルテープを作製した。
【００４０】このようにして作製したサンプルテープに
ついて、上記真空蒸着装置に使用される永久磁石として
発生する磁場の大きさの異なるものを用いた場合におけ
る磁気特性及び電磁変換特性をそれぞれ評価した。この
結果を下記表１に示す。
ついて、上記真空蒸着装置に使用される永久磁石として
発生する磁場の大きさの異なるものを用いた場合におけ
る磁気特性及び電磁変換特性をそれぞれ評価した。この
結果を下記表１に示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】表１は、各サンプルテープの磁性層成膜時
における冷却キャン表面での磁場の強さと、磁気特性及
び電磁変換特性を示すものである。
における冷却キャン表面での磁場の強さと、磁気特性及
び電磁変換特性を示すものである。
【００４３】なお、磁場の強さは、ガウスメーターによ
り上記冷却キャンの表面に垂直な方向に測定した値を表
す。
り上記冷却キャンの表面に垂直な方向に測定した値を表
す。
【００４４】磁気特性は、試料振動型測定器で測定し、
媒体の長さ方向且つ面内方向の測定値により評価した。
媒体の長さ方向且つ面内方向の測定値により評価した。
【００４５】電磁変換特性は、ソニー社製のハイバンド
８ミリビデオデッキ；ＥＶ−Ｓ９００（商品名）を改造
したものを用い、相対速度３．８ｍ／秒、記録周波数７
ＭＨｚとした時の再生出力を測定した。この時、記録電
流は、各サンプルテープについて最も高い再生出力が得
られる値に設定した。
８ミリビデオデッキ；ＥＶ−Ｓ９００（商品名）を改造
したものを用い、相対速度３．８ｍ／秒、記録周波数７
ＭＨｚとした時の再生出力を測定した。この時、記録電
流は、各サンプルテープについて最も高い再生出力が得
られる値に設定した。
【００４６】表１に示すように、冷却キャン表面の磁場
が０．５ｍＴ以上のときに、角形比及び再生出力の向上
が著しいことが判った。
が０．５ｍＴ以上のときに、角形比及び再生出力の向上
が著しいことが判った。
【００４７】なお、本実施例では、上記冷却キャンの表
面に磁場を発生させるために、上記冷却キャン内部の表
面近傍に永久磁石を固定したが、上記冷却キャンの内部
全面に該冷却キャンと同期して回転するように永久磁石
を配置しても同様の効果が得られると考えられる。
面に磁場を発生させるために、上記冷却キャン内部の表
面近傍に永久磁石を固定したが、上記冷却キャンの内部
全面に該冷却キャンと同期して回転するように永久磁石
を配置しても同様の効果が得られると考えられる。
【００４８】また、本実施例では、磁性層としてＣｏ膜
を使用したが、上述のように蒸着直後に磁場を印加して
磁性薄膜の配向性を向上させることは、これに限定され
るものではなく、Ｃｏ膜の他に、例えばＦｅ，Ｎｉ等の
金属やＣｏ−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系合金、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ系合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系合金等からな
る面内磁化記録金属磁性膜や、Ｃｏ−Ｃｒ系合金薄膜、
Ｃｏ−Ｏ系薄膜等の垂直磁化記録金属磁性薄膜を使用し
た場合においても、極めて有効であることが容易に考え
られる。
を使用したが、上述のように蒸着直後に磁場を印加して
磁性薄膜の配向性を向上させることは、これに限定され
るものではなく、Ｃｏ膜の他に、例えばＦｅ，Ｎｉ等の
金属やＣｏ−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系合金、Ｆ
ｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ系合金、Ｆｅ−
Ｃｏ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系合金等からな
る面内磁化記録金属磁性膜や、Ｃｏ−Ｃｒ系合金薄膜、
Ｃｏ−Ｏ系薄膜等の垂直磁化記録金属磁性薄膜を使用し
た場合においても、極めて有効であることが容易に考え
られる。
【００４９】なお、蒸着工程において磁石を用いること
は、既にいくつかの方法が知られているが、その目的は
上記遮蔽マスクに付着した磁性金属の落下防止、或い
は、冷却キャン表面の金属粉の除去であり、それらの設
置位置では本発明の効果である蒸着層の配向性の向上は
決して実現不可能であることが、本実施例からも明らか
であり、本発明とは、その目的もその構成も大きく相違
するものである。
は、既にいくつかの方法が知られているが、その目的は
上記遮蔽マスクに付着した磁性金属の落下防止、或い
は、冷却キャン表面の金属粉の除去であり、それらの設
置位置では本発明の効果である蒸着層の配向性の向上は
決して実現不可能であることが、本実施例からも明らか
であり、本発明とは、その目的もその構成も大きく相違
するものである。
【００５０】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
においては、非磁性支持体上に真空蒸着法により強磁性
金属薄膜からなる磁性層を形成する際に、蒸着装置内に
配設される冷却キャンの内部の表面近傍に永久磁石を配
置しているので、上記非磁性支持体上に蒸着形成される
磁性薄膜の成膜直後に磁場を印加して該磁性薄膜を構成
してなる磁性粒子の配向性を向上させることができる。
従って、本発明によれば、優れた電磁変換特性を有する
磁気記録媒体を提供することができる。
においては、非磁性支持体上に真空蒸着法により強磁性
金属薄膜からなる磁性層を形成する際に、蒸着装置内に
配設される冷却キャンの内部の表面近傍に永久磁石を配
置しているので、上記非磁性支持体上に蒸着形成される
磁性薄膜の成膜直後に磁場を印加して該磁性薄膜を構成
してなる磁性粒子の配向性を向上させることができる。
従って、本発明によれば、優れた電磁変換特性を有する
磁気記録媒体を提供することができる。
【図１】本発明を適用して磁気テープを製造する際に使
用した真空蒸着装置の一構成例を示す模式図である。
用した真空蒸着装置の一構成例を示す模式図である。
【図２】本発明を適用して製造される磁気テープの製造
工程を説明するための製造工程フローチャートである。
工程を説明するための製造工程フローチャートである。
１ 真空槽 ２ 送りロール ３ 巻き取りロール ４ 非磁性支持体 ５ 冷却キャン ６ るつぼ ７ 強磁性材料 ８ 酸素ガス導入口 ９ 遮蔽マスク １０ 電子銃 １１ 電子ビーム １２ 永久磁石 １３ 支持棒
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武田 勉 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 非磁性支持体上に真空薄膜形成技術によ
り強磁性金属薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に
おいて、 上記強磁性金属薄膜を形成する際に、移動走行する上記
非磁性支持体を支持してなる冷却キャンの内部に永久磁
石を設置することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。 - 【請求項２】 永久磁石が冷却キャンの表面近傍に設置
されてなることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28067795A JPH09128751A (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28067795A JPH09128751A (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09128751A true JPH09128751A (ja) | 1997-05-16 |
Family
ID=17628400
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28067795A Withdrawn JPH09128751A (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09128751A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008075164A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 巻取式真空蒸着方法及び装置 |
-
1995
- 1995-10-27 JP JP28067795A patent/JPH09128751A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008075164A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 巻取式真空蒸着方法及び装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030107 |